JP4480411B2 - トンネル接合体およびトンネル接合体を用いたメモリ - Google Patents
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松山公秀、「磁性ランダムアクセスメモリー(MRAM)の課題と可能性」、応用物理 vol.69、No.9, pp.1074-1079, 2000. R. Scheuerlein, W. Gallagher, S. Parkin, A. Lee, S. Ray, R. Robertazzia, and W. Reohr, IEEE Intl. Solid-State Circuit Corf. (ISSCC2000) Dig. of Tech. Papers, pp.128, 2000.
本発明の第1の実施形態に係るトンネル接合体は、中空部が設けられて成る第1の磁性層と、この第1の磁性層と異なる磁化特性を有する第2の磁性層と、これらの第1および第2の磁性層の間に積層されて介在するトンネル絶縁層とから構成されている。
まず、本実施形態において、中空部を備える第1の磁性層の例として適用が想定される磁性体リングについて説明する。
次に、以上説明した磁化特性を有する磁性体リング1を第1の磁性層として構成されるトンネル接合体について説明する。
図10は、トンネル接合体100を構成する磁性体電極11(磁性体リング1)に3つの論理値に対応する情報を書き込む際、ワード線51に流す電流によって発生する磁場の方向と大きさ(これを書き込みレベルと称する)を示すものである。なお、以下の説明では、図9の+x方向(紙面裏側から手前向き)に加える電流と磁場の向きを正の向きと定義する。
磁性体電極11は、充分強い正の磁場(書き込みレベル)B1によりオニオン状態O1、すなわちメモリ状態“1”を書き込むことができる。
また、それぞれ正および負の中間的な磁場である磁場(書き込みレベル)B2およびB3により、ボルテクス状態V、すなわちメモリ状態“0”を書き込むことができる。
加えて、充分強い負の磁場(書き込みレベル)B4により、オニオン状態O2、すなわちメモリ状態“−1”を書き込むことができる。
次に、上記の如く書き込まれた不揮発性メモリ状態の読み出しスキームについて説明する。
同様にして、トンネル抵抗変化ΔRがほぼゼロの場合(ΔR〜0)は、磁性体電極11のメモリ状態が“0”の状態を、抵抗変化ΔRが負の場合(ΔR<0)は、磁性体電極11のメモリ状態が“−1”であったことをそれぞれ読み出すことができる。
図14は、本発明の第2の実施形態に係るトンネル接合体の構成を示す図である。同図に示すトンネル接合体200は、トンネル絶縁層25を介してトンネル接合を形成する二つの磁性体電極21および23が同一の形状、すなわち前述した磁性体リング1によって構成されることを特徴とする。図15は、図14のY−Y線断面図であり、この図からも明らかなように、二つの磁性体リング1の形状は同一である。
本実施形態においては、互いに異なる磁化特性を有する磁性体リング1を更に多重に積層することによってトンネル接合体を構成することも可能である。
以上、本発明を実施する上で最良と思われる形態を説明してきたが、本発明は、上述した実施の形態にその適用範囲が限定されると理解されるべきではない。
3 半導体ホール素子
11、13、21、23、31、33、37、41、43 磁性体電極
15、25、35、39、45 トンネル絶縁層
51 ワード線
53 絶縁層
100、200、300、400 トンネル接合体
O1、O2 オニオン状態
V ボルテクス状態
Claims (5)
- 互いに異なる磁化特性を有する複数の磁性層がトンネル接合されて成るトンネル接合体であって、
前記複数の磁性層のうち少なくとも一つの磁性層が、中空部を備えることによって磁化の方向が全体として一定方向に向かう流れを形成している第1のオニオン状態と磁化の方向が全体として前記一定方向とは反対方向に向かう流れを形成している第2のオニオン状態と磁化の方向が前記中空部に沿って渦状に回転しているボルテクス状態の3つの離散的な磁化状態を有し、
前記トンネル接合体が3つ以上の論理値をとること
を特徴とするトンネル接合体。 - 中空部を備えることによって磁化の方向が全体として一定方向に向かう流れを形成している第1のオニオン状態と磁化の方向が全体として前記一定方向とは反対方向に向かう流れを形成している第2のオニオン状態と磁化の方向が前記中空部に沿って渦状に回転しているボルテクス状態の3つの離散的な磁化状態を有する第1の磁性層と、
この第1の磁性層と異なる磁化特性を有する第2の磁性層と、
前記第1および第2の磁性層の間に介在するトンネル絶縁層と
から成り、
3つ以上の論理値をとることを特徴とするトンネル接合体。 - 前記第2の磁性層は、前記第1の磁性層と同一形状をなすことを特徴とする請求項2記載のトンネル接合体。
- 前記中空部を備える磁性層は、回転対称な軸を少なくとも一つ有する形状をなすことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のトンネル接合体。
- 請求項1乃至4のいずれか1項記載のトンネル接合体がマトリックス状に配置され、当該マトリックスの同一行および同一列に対応する位置に配置されたトンネル接合体同士がそれぞれ接続されて成ることを特徴とするトンネル接合体を用いたメモリ。
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