JP4446280B2 - マイクロリソグラフ処理に対する放射線ビーム特性を制御する方法及びシステム - Google Patents
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Description
本発明は、マイクロリソグラフ加工素材に向けられた放射線の特性を制御する方法及び装置を説明する。用語「マイクロリソグラフ加工素材」は、加工素材上及び/又は加工素材内に、マイクロリソグラフ技術を使用して、サブミクロン回路又は構成要素、データ記憶素子又は層、バイア又は導電線、微小光学的形態、微小機械的形態、及び/又は微小生物学的形態が製造されるか又は製造することができる加工素材を含むように全体を通して使用される。これらの実施形態のどれにおいても、加工素材は、セラミックを含む適切な材料で形成され、以下に限定されるものではないが、金属、誘電材料、及びフォトレジストを含む他の材料の層及び/又は他の構造を支持することができる。
本発明のいくつかの実施形態の多くの具体的な詳細が、これらの実施形態を完全に理解するために以下の説明と図1−6に示されている。しかし、当業者は、本発明に実施形態を追加することができ、以下に説明する詳細のいくつかがなくても本発明を実施することができることを理解するであろう。
146a 第1の適応要素
146b 第2の適応要素
170 コントローラ
Claims (21)
- マイクロリソグラフ加工素材に向けられた放射線の特性を制御するための装置であって、
マイクロリソグラフ加工素材を担持するように位置決めされた支持面を有する加工素材支持体と、
振幅分布、位相分布、及び偏光分布を有する放射線ビームを、前記加工素材支持体に向いた放射線経路に沿う方向に向けるように位置決めされた放射線源と、
前記放射線ビームの一部分を受け取って、該放射線ビームの前記位相分布、及び前記偏光分布の少なくとも1つを変えるために1つの状態から複数の利用可能な他の状態のいずれかに変わるように各々が構成された複数の独立制御可能な要素を有する、前記放射線源と前記加工素材支持体の間の前記放射線経路に位置決めされた適応構造体と、
前記適応構造体と前記加工素材支持体との間に配置されたレチクルと、
前記1つの状態から前記複数の他の状態の前記1つに変わるように前記適応構造体の前記要素に指示するために前記適応構造体に作動的に連結したコントローラと、
を含み、
前記適応構造体は、各アレイが前記放射線経路と交差して該放射線経路にほぼ直角の2つの直交する方向に延びる、電気的アドレス可能要素の第1、第2、及び第3のアレイを含み、
前記第1のアレイの前記要素は、第1の電気信号を受信し、状態を変えて前記放射線ビームの前記振幅分布を変更するように構成されており、
前記第2のアレイの前記要素は、第2の電気信号を受信し、状態を変えて前記放射線ビームの前記位相分布を変更するように構成されており、
前記第3のアレイの前記要素は、第3の電気信号を受信し、状態を変えて前記放射線ビームの偏光分布を変更するように構成されている、
ことを特徴とする装置。 - マイクロリソグラフ加工素材に向けられた放射線の特性を制御するための装置であって、
マイクロリソグラフ加工素材を担持するように位置決めされた支持面を有する加工素材支持体と、
振幅分布、位相分布、及び偏光分布を有する放射線ビームを、前記加工素材支持体に向いた放射線経路に沿う方向に向けるように位置決めされた放射線源と、
前記放射線ビームの一部分を受け取って、該放射線ビームの前記位相分布、及び前記偏光分布の少なくとも1つを変えるために1つの状態から複数の利用可能な他の状態のいずれかに変わるように各々が構成された複数の独立制御可能な要素を有する、前記放射線源と前記加工素材支持体の間の前記放射線経路に位置決めされた適応構造体と、
前記適応構造体と前記加工素材支持体との間に配置されたレチクルと、
前記1つの状態から前記複数の他の状態の前記1つに変わるように前記適応構造体の前記要素に指示するために前記適応構造体に作動的に連結したコントローラと、
を含み、
前記適応構造体は、各アレイが前記放射線経路と交差して該放射線経路にほぼ直角の2つの直交する方向に延びる、独立に電気的アドレス可能な要素の少なくとも第1及び第2のアレイを含み、
前記第1のアレイの前記要素は、第1の電気信号を受信し、状態を変えて前記放射線ビームの前記振幅分布、前記位相分布、及び前記偏光分布のうちの1つを変更するように構成されており、
前記第2のアレイの前記要素は、第2の電気信号を受信し、状態を変えて前記放射線ビームの前記振幅分布、前記位相分布、及び前記偏光分布のうちの別の1つを変更するように構成されている、
ことを特徴とする装置。 - 振幅分布、位相分布、及び偏光分布を有する放射線ビームの特性を制御する適応構造体であって、
前記放射線ビームを受け取るような大きさにされ、位置決めされた入口開口と、
前記放射線ビームを放射するような大きさにされ、位置決めされた出口開口と、
複数の独立制御可能な要素を含む、前記入口開口と前記出口開口との間の放射線経路に沿って連続した位置に位置決めされた、少なくとも2つの適応部分と、
含み、各適応部分は、前記放射線ビームの一部分を受け取って、該放射線ビームの前記位相分布、及び前記偏光分布の少なくとも1つを変えるために、1つの状態から複数の利用可能な他の状態のいずれかに変わるように構成された
ことを特徴とする適応構造体。 - 前記1つの状態から前記複数の他の状態のうちの1つに変わるように、前記個々の適応部分の要素に指示するために、該適応部分に作動的に連結したコントローラ、
をさらに含むことを特徴とする請求項3に記載の適応構造体。 - 前記コントローラは、前記個々の適応部分の前記要素の各々に電気的に結合され、各要素の状態を1つの状態から複数の利用可能な他の状態のいずれかに独立に変えるために、各要素に可変電圧を印加するように構成された
ことを特徴とする請求項4に記載の適応構造体。 - 前記各適応部分は、各々が前記コントローラに連結した複数のファラデー回転子要素を含み、
前記コントローラは、各ファラデー回転子要素の状態を1つの状態から複数の利用可能な他の状態のいずれかに変えるために、各ファラデー回転子要素に可変電圧を独立に印加するように構成されており、各ファラデー回転子要素は、前記1つの状態にある時に第1の偏光で放射線を伝達し、前記他の状態のいずれかにある時に対応する複数の他の偏光で放射線を伝達する
ことを特徴とする請求項4に記載の適応構造体。 - 前記各適応部分は、各々が前記コントローラに連結した石英からなる複数のピクセル要素を含み、
前記コントローラは、各ピクセル要素の状態を1つの状態から複数の利用可能な他の状態のいずれかに変えるために、各ピクセル要素に可変電圧を独立に印加するように構成されており、各ピクセル要素は、前記1つの状態にある時に第1の位相で放射線を伝達し、前記他の状態のいずれかにある時に対応する複数の他の位相で放射線を伝達する
ことを特徴とする請求項4に記載の適応構造体。 - 前記適応部分の前記要素は、前記状態の各々において、非時間変動性伝達率を有することを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記適応部分は各々、列と行のアレイに配置された複数の電気的アドレス可能要素を含むことを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記適応構造体が3つの適応部分を含み、前記第1の適応部分は、電気的アドレス可能要素の第1のアレイを含み、前記第2の適応部分は、電気的アドレス可能要素の第2のアレイを含み、前記第3の適応部分は、電気的アドレス可能要素の第3のアレイを含み、各アレイが、前記放射線経路と交差して、該放射線経路にほぼ直角の2つの直交する方向に延び、
前記第1のアレイの前記要素は、第1の電気信号を受信し、状態を変えて、前記放射線ビームの前記振幅分布を変更するように位置決めされ、
前記第2のアレイの前記要素は、第2の電気信号を受信し、状態を変えて、前記放射線ビームの前記位相分布を変更するように位置決めされ、
前記第3のアレイの前記要素は、第3の電気信号を受信し、状態を変えて、前記放射線ビームの前記偏光分布を変更するように位置決めされる
ことを特徴とする請求項3に記載の適応構造体。 - 前記複数の利用可能な他の状態は、他の状態のほぼ連続的なスペクトルを含むことを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記適応部分は各々、前記放射線ビームに対して、少なくとも部分的に伝達性であり、前記適応構造体に該放射線ビームの少なくとも一部分を通過させることを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記個々の要素は、ほぼ直線、ほぼ六角形、或いはほぼ弧状であることを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記適応部分は、互いに間隔をあけて配置されることを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 個々の適応部分間の前記間隔の少なくとも一部分において、前記適応部分と前記対応する間隔との間の境界面における反射を減らすように位置決めされた屈折率整合流体をさらに含むことを特徴とする、請求項13に記載の適応構造体。
- 前記適応部分は、互いに直接接触していることを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記個々の適応部分は各々、選択的放射線伝達可能要素を含み、各適応部分は、前記放射線ビームの一部分を受け取って、該放射線ビームの前記振幅分布、前記位相分布、及び前記偏光分布の少なくとも1つを変えるために、1つの状態から複数の利用可能な他の状態のいずれかに変わるように構成されたことを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記適応部分は各々、複数の反射要素を含むことを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記個々の適応部分は各々、選択的放射線伝達可能な要素を含み、各適応部分は、前記放射線ビームの一部分を受け取って、該放射線ビームの前記振幅分布、前記位相分布、及び前記偏光分布のいずれか2つを独立に変えるように構成されたことを特徴とする、請求項3に記載の適応構造体。
- 前記適応構造体は2つの適応部分を含み、前記第1の適応部分は、電気的アドレス可能な要素の第1のアレイを含み、前記第2の適応部分は、電気的アドレス可能な要素の第2のアレイを含み、各アレイは、前記放射線経路と交差して、該放射線経路にほぼ直角の2つの直交する方向に延び、
前記第1のアレイの前記要素は、第1の電気信号を受信し、状態を変えて、前記放射線ビームの前記振幅分布、前記位相分布、及び前記偏光分布のうちの1つを変更するように位置決めされており、
前記第2のアレイの前記要素は、第2の電気信号を受信し、状態を変えて、前記放射線ビームの前記振幅分布、前記位相分布、及び前記偏光分布のうちの他の1つを変更するように位置決めされる
ことを特徴とする請求項3に記載の適応構造体。 - マイクロリソグラフ加工素材に向けられた放射線の特性を制御する方法であって、
放射線源から放射線経路に沿う方向に、該放射線経路に対してほぼ横断方向の平面内の位置の関数として振幅分布、位相分布、及び偏光分布を有する放射線ビームを向ける段階と、
前記放射線経路に位置決めされた適応構造体に、前記放射線ビームを衝突させる段階と、
前記位相分布、及び前記偏光分布のうちの少なくとも1つを変更するために、前記適応構造体の少なくとも1つの要素の状態を1つの状態から複数の利用可能な他の状態のいずれかに変える段階と、
前記放射線ビームに前記適応構造体の前記少なくとも1つの要素を通過させ、かつそこから遠ざける段階と、
前記放射線ビームに、前記適応構造体と前記マイクロリソグラフ加工素材との間に位置決めされたレチクルを通過させる段階と、
前記適応構造体から離れる方向に向けられた前記放射線ビームを、前記マイクロリソグラフ加工素材に衝突させる段階と、
前記放射線ビームに、各アレイが前記放射線経路と交差し、かつ該放射線経路に対してほぼ直角の2つの直交する方向に延びる電気的アドレス可能要素の第1、第2、及び第3のアレイを通過させる段階と、
第1の電気信号を前記第1のアレイに向け、該第1のアレイの状態を変えて、前記放射線ビームの前記振幅分布を変更する段階と、
第2の電気信号を前記第2のアレイに向け、該第2のアレイの状態を変えて、前記放射線ビームの前記位相分布を変更する段階と、
第3の電気信号を前記第3のアレイに向け、該第3のアレイの状態を変えて、前記放射線ビームの偏光分布を変更する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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