JP4434252B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
また、図2は図1のメモリセルの等価回路図である。
p型ベース34上にはゲート絶縁膜36を介してゲート電極37が形成されている。
このサイリスタ素子3は、npn型とpnp型のバイポーラトランジスタの組み合わせになっており、ベースとコレクタを共用し、npn型のベース上にいわゆるMIS型のゲート電極37が形成されている。
また、サイリスタ素子3のゲート電極37はワードラインTWLに接続され、アクセストランジスタ4のゲート電極45がワードラインSWLに接続される。
このとき、図3(B)に示すように、サイリスタ電流Itとアクセストランジスタ電流Iaの釣り合う安定点は2状態のみであり、この安定2状態のどちらかをデータの“0”,“1”に割り当てることでデータ記憶(保持)する。
このとき、図4(B)に示すように、保持状態での安定点を維持したまま、安定点によって電流値が変わるため、この電流値を読み出すことでデータの読み出し操作が可能になる。
この電位状態では、図5(B)に示すように、安定状態が1つのみ(セル電流大の状態)となるため、データ“1”の書き込みが可能である。
この電位状態では、図6(B)に示すように、安定状態が1つのみ(セル電流小の状態)となるため、データ“0”の書き込みが可能である。
図4(A),(B)に示したとおり、読み出し動作時には、ビットラインBLを0Vにリセットしてからセル(Cell)電流を読み出すが、セル電流読み出しをビットラインBLを介して行う場合、セル電流が大きいとき(データ“1”)はビットラインBLの電位が上昇し、セル電流が小さいとき(データ“0”)はビットラインBLの電位をほぼ0Vのままとなる。このように、ビットラインBLの電流を電圧に変換して読み出す必要がある。
この場合、図7に示すようにビットラインBLの電位の上昇に伴い、セル安定点も遷移する。ビットラインBLの電位が高くなりすぎるとセル電流大(データ“1”)側の安定点が無くなり、データを破壊してしまうおそれがある。
そして、ワードラインデコーダ140、リードコントロール部150、ライトコントロール部160、Y制御部(カラム制御部)170等により本発明の制御部が構成される。
サイリスタRAMセル111は、バルク型半導体基板の半導体層にpnpn構造が形成されたゲート付きサイリスタ素子112と、半導体基板の半導体層に形成されてサイリスタ素子112の一端に接続されたアクセストランジスタ113と、を有している。
サイリスタRAMセル111のデバイス構造として、たとえば図1に示すような構造を採用することができる。ただし、このデバイス構造に限定されず、各種構造を採用することが可能である。
また、メモリアレイ部110においては、サイリスタRAMセル111の列配列にそれぞれ対応した、各列に、ライト用の第1のビットライン(ライトビットライン)WBL<0>〜WBL<n>、およびリード用の第2のビットライン(リードビットライン)RBL<0>〜RBL<n>が、第1および第2のワードラインと直交するように配線されている。
また、同一列に配置されたサイリスタRAMセル111のアクセストランジスタ113の一方の拡散層(一方のソース・ドレイン領域)が、対応する列に配線された第1のビットラインWBL<0>〜WBL<n>に共通に接続されている。同様に、同一列に配置されたサイリスタRAMセル111のサイリスタ素子112のp型アノードが、対応する列に配線された第2のビットラインRBL<0>〜RBL<n>に共通に接続されている。
図9のXアドレスデコーダ120は、基本的な構成として2アドレスX0,X1の入力に対応した構成を有している。
NAND回路NA121,NA123の第1入力、並びに、インバータIV121、IV123の入力がXアドレスX0の入力ラインに接続されている。
NAND回路NA121の第2入力、NAND回路NA122の第2入力、並びに、インバータIV122,IV124の入力がXアドレスX1の入力ラインに接続されている。そして、インバータIV121の出力がNAND回路NA122の第1入力に接続され、インバータIV122の出力がNAND回路NA123の第2入力に接続され、インバータIV123の出力がNAND回路NA124の第1入力に接続され、インバータIV124の出力がNAND回路NA124の第2入力に接続されている。
NAND回路NA121の出力がノット回路NOT121の入力に接続され、NAND回路NA122の出力がノット回路NOT122の入力に接続され、NAND回路NA123の出力がノット回路NOT123の入力に接続され、NAND回路NA124の出力がノット回路NOT124の入力に接続されている。
Xアドレス(X1,X0)が(0,1)の場合、ノット回路NOT123からXセレクト信号X SEL2がアクティブのハイレベルで出力される。
Xアドレス(X1,X0)が(1,0)の場合、ノット回路NOT122からXセレクト信号X SEL1がアクティブのハイレベルで出力される。
Xアドレス(X1,X0)が(1,1)の場合、ノット回路NOT121からXセレクト信号X SEL0がアクティブのハイレベルで出力される。
図10のYアドレスデコーダ130は、基本的な構成として2アドレスY0,Y1の入力に対応した構成を有している。
NAND回路NA131,NA133の第1入力、並びに、インバータIV131、IV133の入力がYアドレスY0の入力ラインに接続されている。
NAND回路NA131の第2入力、NAND回路NA132の第2入力、並びに、インバータIV132,IV134の入力がYアドレスY1の入力ラインに接続されている。そして、インバータIV131の出力がNAND回路NA132の第1入力に接続され、インバータIV132の出力がNAND回路NA133の第2入力に接続され、インバータIV133の出力がNAND回路NA134の第1入力に接続され、インバータIV134の出力がNAND回路NA134の第2入力に接続されている。
NAND回路NA131の出力がノット回路NOT131の入力に接続され、NAND回路NA132の出力がノット回路NOT132の入力に接続され、NAND回路NA133の出力がノット回路NOT133の入力に接続され、NAND回路NA134の出力がノット回路NOT134の入力に接続されている。
Yアドレス(Y1,Y0)が(0,1)の場合、ノット回路NOT123からYセレクト信号Y SEL2が活性化されたアクティブのハイレベルで出力される。
Yアドレス(Y1,Y0)が(1,0)の場合、ノット回路NOT122からYセレクト信号Y SEL1が活性化されたアクティブのハイレベルで出力される。
Yアドレス(Y1,Y0)が(1,1)の場合、ノット回路NOT121からYセレクト信号Y SEL0が活性化されたアクティブのハイレベルで出力される。
NAND回路NA135にはYアドレスデコーダ130で生成されたYセレクト信号Y SEL、およびリードコントロール部150またはライトコントロール部160によるYスイッチイネーブル信号YSWEが入力され、その否定的論理積の結果がノット回路NOT135を介してYスイッチ信号YSWが活性化され出力される。
Yスイッチ信号YSWは、読み出し動作時、書き込み動作時共に活性化される。
なお、読み出し動作時は第2のワードラインイネーブル信号SWLEが活性化され、書き込み動作時は第1のワードラインイネーブル信号TWLEおよび第2のワードラインイネーブル信号SWLEが共に活性化される。
NAND回路NA141にはXアドレスデコーダ120で生成されたXセレクト信号X SEL、およびリードコントロール部150またはライトコントロール部160による第1のワードラインイネーブル信号TWLEが入力され、その否定的論理積の結果がノット回路NOT141を介した駆動信号によりXアドレスにより指定された行の第1のワードラインTWLが駆動される。
同様に、NAND回路NA142にはXアドレスデコーダ120で生成されたXセレクト信号X SEL、およびリードコントロール部150またはライトコントロール部160による第2のワードラインイネーブル信号SWLEが入力され、その否定的論理積の結果がノット回路NOT142を介した駆動信号によりXアドレスにより指定された行の第2のワードラインSWLが駆動される。
リードコントロール部150は、読み出しモードであると判定すると、第2のワードラインイネーブル信号SWLEをアクティブのハイレベルでワードラインデコーダ140に出力し、読み出し期間において、リードプリチャージ信号PRERをハイレベルからローレベルに切り替え、ライトプリチャージ信号PREWをハイレベルで、リードデータイネーブル信号(読み出し活性化信号)RDEをハイレベルで、ライトデータイネーブル信号(書き込み活性化信号)WDEをローレベルで、Yスイッチイネーブル信号YSWEをハイレベルに設定してY制御部170に出力する。
ライトコントロール部160は、書き込みモードであると判定すると、第1のワードラインイネーブル信号TWLEおよび第2のワードラインイネーブル信号SWLEをアクティブのハイレベルでワードラインデコーダ140に出力し、書き込み期間において、ライトプリチャージ信号PREWをハイレベルからローレベルに切り替え、リードプリチャージ信号PRERをローレベルで、ライトデータイネーブル信号WDEをハイレベルで、リードデータイネーブル信号RDEをローレベルで、Yスイッチイネーブル信号YSWEをハイレベルに設定してY制御部170に出力する。
この場合、Y制御部170は、第1のビットラインWBLの電位、サイリスタ素子112のp型アノード端子(VREF端子)共に所望の電圧にクランプ(Clamp)制御する。
また、本実施形態において、Y制御部170は、サイリスタRAMセル111へのデータ書き込み動作時にアクセストランジスタ113に接続される第1のビットラインWBLの電圧を変化させ、サイリスタ素子112のp型アノード端子(VREF端子)は読み出し動作時、書き込み動作時共に所望の固定電圧に設定するように制御する。
なお、図13においては、読み出し動作の原理を説明するために、プリチャージ回路、Yセレクタ、ライトドライバ等は省略して示している。
負帰還アンプAMP1は、反転入力端子(−)が図示しないYスイッチを介して第2のビットラインRBLに接続され、非反転入力(+)は基準電圧VREFの供給ラインに接続され、出力がNMOSトランジスタNT1のゲートに接続されている。NMOSトランジスタNT1は第2のビットラインRBLとPMOSトランジスタPT1のドレインおよびゲートにソース、ドレインがそれぞれ接続されている。また、PMOSトランジスタPT1のソースは電源電圧の供給ラインに接続されている。そして、アンプAMP2の非反転入力端子(+)が読み出し電圧Vinの供給ラインに接続され、反転入力端子(−)が参照電圧VREFSAの供給ラインに接続されている。
このように、第2のビットラインRBL、すなわちサイリスタ素子112のp型アノード端子(VREF端子)をVREF電位にクランプした状態で、サイリスタRAMセルのセル電流によって変化する電圧Vinと参照電圧VREFSAとが比較され、その結果がリードデータとして出力される。
図14は、本実施形態に係るY制御部の一構成例を示す回路図である。
NMOSトランジスタNT11−1〜NT11−nのソース、ドレインはそれぞれ接地電位GNDと対応する第1のビットラインWBL1〜WBLnに接続され、ゲートがライトプリチャージ信号PREWの供給ラインLPREWに共通に接続されている。
NMOSトランジスタNT12−1〜NT12−nのソース、ドレインは共通のビットライン基準電圧VREFRBLの供給ラインLVREFRBLと対応する第2のビットラインWRL1〜RBLnに接続され、ゲートがリードプリチャージ信号PRERの供給ラインLPRERに共通に接続されている。
なお、Y転送ゲートスイッチはNMOSトランジスタとPMOSトランジスタのソースドレイン同士を接続して構成されている。
各ライトドライバWDRV1〜WDRVnは共通の構成を有し、ライトデータイネーブル信号WDEをトリガとするクロックドインバータとして構成されている。
ライトドライバWDRVは、PMOSトランジスタPT21,PT22、NMOSトランジスタNT21,NT22、およびインバータIV21を有する。
PMOSトランジスタPT21のソースが電源電圧VDDの供給ラインに接続され、ドレインがPMOSトランジスタPT22のソースが接続され、PMOSトランジスタPT22のドレインがNMOSトランジスタNT22のドレインに接続され、NMOSトランジスタNT22のソースがNMOSトランジスタNT21のドレインに接続され、NMOSトランジスタNT21のソースが接地されている。インバータIV21の入力端子がライトデータイネーブル信号WDEの供給ラインに接続されている。
そして、各ライトドライバWDRV1〜WDRVnのPMOSトランジスタPT21のゲートがインバータIV21の出力に共通に接続され、NMOSトランジスタNT21のゲートがライトデータイネーブル信号WDEの供給ラインに共通に接続されている。
各ライトドライバWDRV1〜WDRVnのPMOSトランジスタPT22およびNMOSトランジスタNT22のゲートが入力データDIN<0>〜DIN<n>の入力ラインに接続されている。
各センスアンプSA1〜SAnは共通の構成を有し、それぞれ、負帰還アンプAMP31、比較用のオペアンプAMP32、転送ゲートTMG31、クランプ用のNMOSトランジスタNT31、PMOSトランジスタPT31〜PT33、インバータIV31〜
IV32、およびノット回路NOT31を有する。
転送ゲートTMG31はリードデータイネーブル信号RDEがアクティブのハイレベルで供給されるとオン状態(導通状態)となる。
NMOSトランジスタNT31の他方のソースドレインはPMOSトランジスタPT33のドレイン、PMOSトランジスタPT32のドレインおよびゲートに接続され、それらの接続点によりノードND31が形成されている。
PMOSトランジスタPT33のソースは電源電圧VDDの供給ラインに接続され、PMOSトランジスタPT32のソースがPMOSトランジスタPT31のドレインに接続され、PMOSトランジスタPT31のソースが電源電圧VDDの供給ラインに接続されている。
そして、PMOSトランジスタPT31のゲートがリードデータイネーブル信号RDEの反転信号/RDEの供給ラインに共通に接続され、PMOSトランジスタPT33のゲートがインバータIV32を介してリードデータイネーブル信号RDEの反転信号/RDEの供給ラインに共通に接続されている。
PMOSトランジスタPT33は読み出し動作時にノードND31を電源電圧レベルにプリチャージする機能を有している。また、PMOSトランジスタPT32はダイオードイ接続され負荷電流素子として機能し、PMOSトランジスタPT31は読み出し動作時にダイオード接続のPMOSトランジスタPT32(負荷電流素子)を電源側に接続するスイッチとして機能する。
そして、アンプAMP32の非反転入力端子(+)が読み出し電圧Vinの供給ライン(ノードND31)に接続され、反転入力端子(−)が参照電圧VREFSAの供給ラインに接続されている。
図15は、第2のワードラインSWL<0>上セルで1データ読み出し(セル電流大)時の動作波形図を示す図である。
また、リードプリチャージ信号PRERがハイレベル(電源電圧レベル)からローレベル(接地電位レベル)に立ち下がることで、第2のビットラインRBLはリードプリチャージ信号PRERによるクランプ状態からフローティング状態となる。しかし、ここで所望のYスイッチ信号YSWとリードデータイネーブル信号RDEがハイレベルに立ち上がることでY転送ゲートスイッチTMGR1、転送ゲートTMG31がオンし、センスアンプSAと第2のビットラインRBLが接続される。
その結果、センスアンプSAによっての第2のビットラインRBLは電圧VREFRBLにクランプされる。
センスアンプ部にある負荷電流(図14ではPMOSトランジスタPT32によるダイオード)とセル電流によって安定点が変わる、つまり、電圧VINが変わる。このことを利用して、電圧VINと参照電圧VREFSAとがAMP32において比較することで読み出し動作が実施される。
ハイデータ(1データ)読み出し動作時はセル電流が大なので、電圧VINが参照電圧VREFSAよりも低下する。電圧VINが参照電圧VREFSAよりも低いためセンスアンプSAが1判定をして出力SAOUTがハイレベルとなる。
図17は、第2のワードラインSWL<0>上セルで1データ書き込み(セル電流大)時の動作波形図を示す図である。
また、所望の第1のYスイッチ信号YSWとライトデータイネーブル信号WDEがローレベルからハイレベルに立ち上がることで、Y転送ゲートスイッチTGNW1がオンし、所望のライトドライバWDRVと第1のビットラインWBLが接続される。
ライトドライバWDRVによって第1のビットラインWBLが0Vにドライブされた状態で、第2のワードラインSWL、第1のワードラインTWLがハイレベルに活性化されと、図5に示したように安定点がセル電流大側に遷移し、ハイデータ(1データ)の書き込み動作が完了する。
この例は、メモリセルデータ読み出し処理の変形例として示しており、図14との違いは、第2のビットラインRBLの電位クランプをセンスアンプ毎に設けた負帰還アンプによってではなく、固定電位VGATEによって制御している点である。
固定電位VGATE電位を、所望のクランプ電位(=VREFRBL + Vth1)にセットすることで、第2のビットラインRBLを電位VREFBLにクランプする。ただし、Vth1はクランプトランジスタNT31のしきい値電圧を示す。
図19の構成によれば、図14に対して素子数が少なく、面積ペナルティが小さいという利点がある。
Claims (14)
- 半導体基板上にpnpn構造が形成されてなり、一端が第1の端子に、他端が第2の端子に接続されたゲート付きサイリスタ素子と、上記半導体基板上に形成され、一端がビットラインに接続され、他端が上記サイリスタ素子の第1の端子に接続されるアクセストランジスタと、を含むメモリセルと、
読み出し時に上記サイリスタ素子の上記第2の端子側に負荷電流を流す負荷電流素子を含み、上記メモリセルへのアクセス制御を行う制御部と、を有し、
上記制御部は、
読み出し動作時に、上記ビットラインを第1の電圧に、上記サイリスタ素子の第2の端子側を上記第1の電圧より高い第2の電圧にした状態で、上記メモリセルに流れる電流を電圧に変換して読み出しデータの判定を行う
半導体装置。 - 上記制御部は、
読み出し動作時に、上記サイリスタ素子の第2の端子を所望の電圧にクランプした状態で、上記サイリスタ素子のセル電流によって変化する電圧と参照電圧とを比較し、比較結果に応じたリードデータを出力するセンスアンプを含む
請求項1記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
書き込み動作時に、上記アクセストランジスタに接続されるビットラインを書き込みデータに応じて電圧を変化させ、上記サイリスタ素子の第2の端子を所望の電圧に設定する
請求項1記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
書き込み動作時に、上記アクセストランジスタに接続されるビットラインを書き込みデータに応じて電圧を変化させ、上記サイリスタ素子の第2の端子を、読み出し動作時、書き込み動作時共に所望の電圧に設定する
請求項2記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
読み出し動作時は、上記サイリスタ素子とアクセストランジスタとのうちアクセストランジスタをオンさせ、
書き込み動作時は、上記サイリスタ素子とアクセストランジスタ共にオン状態に制御する
請求項3記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
読み出し動作時は、上記サイリスタ素子とアクセストランジスタとのうちアクセストランジスタをオンさせ、
書き込み動作時は、上記サイリスタ素子とアクセストランジスタ共にオン状態に制御する
請求項4記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
書き込み動作時に、上記アクセストランジスタに接続されるビットラインを書き込みデータに応じた電圧にドライブするライトドライバを含む
請求項3記載の半導体装置。 - 第1のビットラインと、
第2のビットラインと、
半導体基板上にpnpn構造が形成されてなり、一端が第1の端子に、他端が第2の端子に接続されたゲート付きサイリスタ素子と、上記半導体基板上に形成され、一端が上記第1のビットラインに接続され、他端が上記サイリスタ素子の第1の端子に接続されるアクセストランジスタと、を含むメモリセルと、
読み出し時に上記サイリスタ素子の上記第2の端子に接続された上記第2のビットライン側に負荷電流を流す負荷電流素子を含み、上記メモリセルへのアクセス制御を行う制御部と、を有し、
上記制御部は、
読み出し動作時に、上記第1のビットラインを第1の電圧に、上記第2のビットラインを上記第1の電圧より高い第2の電圧にした状態で、上記第2のビットラインから上記第2の端子へ流れる電流変化を検知し、検知した電流を電圧に変換して読み出しデータの判定を行う
半導体装置。 - 上記制御部は、
読み出し動作時に、上記第2のビットラインを所望の電圧にクランプした状態で、上記サイリスタ素子のセル電流によって変化する電圧と参照電圧とを比較し、比較結果に応じたリードデータを出力するセンスアンプを含む
請求項8記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
上記アクセストランジスタに接続される上記第1のビットラインは書き込み動作時にデータに応じて電圧を変化させ、上記サイリスタ素子の基準電位端子に接続される上記第2のビットラインは、読み出し動作時、書き込み動作時共に所望の電圧に設定する
請求項8記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
書き込み動作時に、上記アクセストランジスタに接続される上記第1のビットラインを書き込みデータに応じて電圧を変化させ、上記サイリスタ素子の第2の端子に接続される上記第2のビットラインは、読み出し動作時、書き込み動作時共に所望の電圧に設定する
請求項9記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
読み出し動作時は、上記サイリスタ素子とアクセストランジスタとのうちアクセストランジスタをオンさせ、上記第2のビットラインを通してデータの読み出しを行い、
書き込み動作時は、上記サイリスタ素子とアクセストランジスタ共にオン状態に制御し、上記第1のビットラインに書き込みデータを転送する
請求項10記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
読み出し動作時は、上記サイリスタ素子とアクセストランジスタとのうちアクセストランジスタをオンさせ、上記第2のビットラインを通してデータの読み出しを行い、
書き込み動作時は、上記サイリスタ素子とアクセストランジスタ共にオン状態に制御し、上記第1のビットラインに書き込みデータを転送する
請求項11記載の半導体装置。 - 上記制御部は、
書き込み動作時に、上記アクセストランジスタに接続される上記第1のビットラインを書き込みデータに応じた電圧にドライブするライトドライバを含む
請求項10記載の半導体装置。
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