JP4427647B2 - 配向膜の製造方法、及び多孔膜の製造方法 - Google Patents
配向膜の製造方法、及び多孔膜の製造方法 Download PDFInfo
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Description
1.金属アルコキシドと、磁化率の異方性のある有機化合物を含むゾル溶液を基板上に塗布し、磁場中においてゲル化させることを特徴とする配向膜の製造方法。
2.金属アルコキシドがフェニル基含有アルコキシシランを含むものであり、磁化率の異方性のある有機化合物がベンゼン核を2つ以上含む液晶分子である上記項1に記載の配向膜の製造方法。
3.上記項1又は2の方法によって配向膜を製造した後、該配向膜から有機化合物を除去することを特徴とする多孔膜の製造方法。
4.有機化合物を除去する方法が、300〜1000℃で焼成する方法である上記項3に記載の多孔膜の製造方法。
ン100重量部に対して5〜80重量部程度であることが好ましく、10〜50重量部程度であることがより好ましい。
テトラエトキシシラン:フェニルトリエトキシシラン:エタノール:水:硝酸の割合がモル比で0.8:0.2:10:3:0.0075となるように配合し、さらに4−シアノフェニル4−ノニルベンゾエートをフェニルトリエトキシシラン100重量部に対して10重量部(金属アルコキシドの合計量100重量部に対して2.2重量部)配合し、エタ
ノールの沸点温度で二晩還流することによりゾルを製造した。
実施例1で得られたゾルを用い、シリコン基板上に、室温で基板面と平行な方向に1.3Tの磁場を印加しながらディップコートし、実施例1と同条件でゲル化させて配向膜を得た。
7Tの垂直磁場下で、実施例1で得られたゾルをシリコン基板上にディップコートし、実施例1と同条件でゲル化させて配向膜を得た。
実施例1で得られたゾルを細孔径4nmの多孔質ガラス基板上に、室温で基板面と垂直な方向に1.3Tの磁場を印加しながらディップコートし、実施例1と同条件でゲル化させて配向膜を得た。
(N2に対するHeの透過率比He/N2、N2に対するCO2の透過率比CO2/N
2)は500であった。
実施例1で得られたゾルをシリコン基板上に、磁場印加装置内で磁場を発生させずにディップコートし、実施例1と同条件でゲル化させた。
Claims (4)
- 金属アルコキシドと、ベンゼン核を2つ以上含む液晶分子を含むゾル溶液を基板上に塗布し、1〜20Tの磁束密度を印加した磁場中においてゲル化させることを特徴とする配向膜の製造方法。
- 金属アルコキシドがフェニル基含有アルコキシシランを含むものである請求項1に記載の配向膜の製造方法。
- 請求項1又は2の方法によって配向膜を製造した後、該配向膜から有機化合物を除去することを特徴とする多孔膜の製造方法。
- 有機化合物を除去する方法が、300〜1000℃で焼成する方法である請求項3に記載の多孔膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005274847A JP4427647B2 (ja) | 2005-09-22 | 2005-09-22 | 配向膜の製造方法、及び多孔膜の製造方法 |
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JP (1) | JP4427647B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4685713B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2011-05-18 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置用基板の製造方法 |
JP4572392B2 (ja) * | 2006-08-07 | 2010-11-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 配向膜の製造方法、及び多孔膜の製造方法 |
JPWO2011052657A1 (ja) * | 2009-10-27 | 2013-03-21 | 株式会社アルバック | 多孔質膜の前駆体組成物及び多孔質膜の成膜方法 |
JP5486534B2 (ja) * | 2010-03-19 | 2014-05-07 | 旭化成株式会社 | 層状無機化合物のナノシートを含有するガスバリアシート |
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JP2007086383A (ja) | 2007-04-05 |
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