CN104844014B - 一种基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃,该材料是在玻璃基底上具有SiO2介孔薄膜层,所述的介孔孔径为2‑10nm,SiO2介孔薄膜层中的介孔孔道平行于玻璃基底。其制备方法是在常温下进行如下步骤:先配置TEOS、乙醇和稀盐酸的混合溶液并陈化,再配置CTAB与乙醇的混合溶液,将上述两种混合溶液混合陈化获得旋涂液,最后旋涂获得基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃。本发明的基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃,与其他隔热材料相比,在同等厚度下具有更好的隔热性能,且其制备方法简单,在常温下即可实现,成本较低,具有很好的应用前景和推广价值。
Description
技术领域
本发明涉及一种隔热玻璃及其制备方法,尤其涉及一种基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃及其制备方法。
背景技术
在多孔材料中,热量传递的基本方式主要表现为:固体的热传导,气体的热传导,气体的热对流和热辐射。在介孔材料中,固体成分的热导率高于气体的热导率,而介孔材料具有较高的孔隙率,固体成分很少,这使得材料的热导率大大降低。在各种介孔材料中,介孔SiO2由于无毒、原料丰富、固体热导率相对较低等等优势,是较为理想的隔热材料。
制备介孔SiO2薄膜通常采用溶胶-凝胶法。溶胶-凝胶法具有成本低,设备简单,反应过程易控制等优点,但在制备介孔SiO2薄膜时通常需要长时间40~60 ℃的恒温加热。
发明内容
本发明的目的在于提供一种隔热性优异且制备简单的基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃及其制备方法。
本发明的基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃,是在玻璃基底上具有SiO2介孔薄膜层,所述的介孔孔径为2-10nm,SiO2介孔薄膜层中的介孔孔道平行于玻璃基底。
上述技术方案中,所述的SiO2介孔薄膜层的厚度通常为200-800nm。
上述基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃的制备方法,包括以下步骤:
1)将TEOS(正硅酸四乙酯)、乙醇和浓度为0.003 mol/L的稀盐酸按体积比1:1:0.08混合,搅拌至混合均匀,再向其中加入体积为上述TEOS体积的1/3且浓度为0.55 mol/L的稀盐酸,搅拌均匀后,陈化2-4小时,得到溶液A;
2)将CTAB(十六烷基三甲基溴化铵),溶于乙醇中,其中CTAB与乙醇的质量比为0.007-0.07:1,搅拌溶解后得到溶液B;
3)将溶液A与溶液B按体积比1:2混合,搅拌均匀后,陈化1-7小时,得到旋涂液;
4)将上述旋涂液滴加到洁净的玻璃基底上,进行旋涂并干燥,获得基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃。
本发明的基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃,其SiO2介孔薄膜层中介孔的孔径为2-10nm,比常温下的空气分子平均自由程(约为70 nm)小,可以认为在此类孔道内的空气分子处于无流动状态,因此气体的热传导和热对流大幅受限,使得热导率明显降低。另外,SiO2介孔薄膜层中介孔孔道平行于玻璃基底,这也使得垂直于玻璃基底方向的热量传递更受阻碍。
本发明采用旋涂的制备方法,利用挥发诱导自组装工艺(evaporation-inducedself-assembly process),即通过有机溶剂乙醇的挥发,使得无机源和表面活性剂CTAB的浓度突然增大,体系中出现大量的表面活性剂有序胶束,同时无机源之间缩聚的速率也增大,在很短的时间内,诱导复合液晶相的形成,形成有机-无机有序复合结构。
本发明的有益效果在于:本发明无需特殊装置和高温条件,制备方法简单,在常温条件下即可得到镀有介孔氧化硅薄膜的玻璃,介孔孔道尺寸为2-10 nm,尺寸分布均匀且孔道有序排列,膜厚极小,但具有显著的隔热性能,与其他隔热材料相比,在同等厚度下本发明的基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃具有更好的隔热性能。本发明简便易行,成本较低,具有很好的应用前景和推广价值。
附图说明
图1是实施例1制得的隔热玻璃的小角X射线散射图谱。
图2是实施例1制得的隔热玻璃的扫描电镜照片。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步说明。
实施例1
将7.5 ml的TEOS、7.5 ml的乙醇和0.6 ml浓度为0.003 mol/L的稀盐酸混合,搅拌至混合均匀,再向其中加入2.5 ml浓度为0.55 mol/L的稀盐酸,搅拌均匀,陈化2小时,得到溶液A;将1.2 g的CTAB溶于35 ml乙醇中,搅拌溶解后得到溶液B。将溶液B加入到溶液A中,搅拌均匀后,陈化3小时,得到旋涂液。将旋涂液滴加到洁净的FTO玻璃基底上,以先600 r/min后4000 r/min的转速在FTO玻璃上旋涂镀膜,之后在常温下干燥24小时,获得基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃。
本例得到的隔热玻璃的小角X射线散射曲线如图1所示,2.271°处的特征衍射峰说明得到的薄膜样品中生成了有序的介孔。将其指标化为(100)晶面,根据布拉格定理2dsinθ=λ,计算得到对应的面间距值d 100为3.88 nm。根据介孔的六方结构,a=2d 100/30.5,得出介孔结构的孔道周期参数a为4.48 nm。因此,介孔的孔径约为4 nm。
图2为本实施例制备的隔热玻璃的扫描电镜断面图,可以看出所镀薄膜表面平整,厚度约为471 nm。
采用瞬态平板热源法测得镀膜前FTO玻璃基底的热导率为1.193 W/mK,镀膜后样品的热导率为1.089 W/mK,镀膜后样品的热导率下降了8.72%,隔热性能有明显提高。
实施例2
将7.5 ml的TEOS、7.5 ml的乙醇和0.6 ml浓度为0.003 mol/L的稀盐酸混合,搅拌至混合均匀,再向其中加入2.5 ml浓度为0.55 mol/L的稀盐酸,搅拌并陈化2小时,得到溶液A;将0.2 g的CTAB溶于35 ml乙醇中,搅拌溶解后得到溶液B。将溶液B加入到溶液A中,搅拌均匀,陈化1小时,得到旋涂液。将旋涂液滴加到洁净的玻璃基底上,以先600 r/min后4000 r/min的转速在玻璃上旋涂镀膜,之后在常温下干燥24小时,获得基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃。通过透射电镜测试结合小角X射线散射分析得出其SiO2介孔薄膜层中的介孔孔径为2-10nm。
实施例3
将7.5 ml的TEOS、7.5 ml的乙醇和0.6 ml浓度为0.003 mol/L的稀盐酸混合,搅拌至混合均匀,再向其中加入2.5 ml浓度为0.55 mol/L的稀盐酸,搅拌均匀,陈化4小时,得到溶液A;将2 g的CTAB溶于35 ml乙醇中,搅拌溶解后得到溶液B。将溶液B加入到溶液A中,搅拌均匀,陈化7小时,得到旋涂液。将旋涂液滴加到洁净的石英玻璃基底上,以先600 r/min后4000 r/min的转速在石英玻璃上旋涂镀膜,之后在常温下干燥24小时,获得基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃。通过透射电镜测试结合小角X射线散射分析得出其SiO2介孔薄膜层中的介孔孔径为2-10nm。
Claims (2)
1.基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃的制备方法,所述的隔热玻璃是在玻璃基底上具有SiO2介孔薄膜层,所述的介孔的孔径为2-10nm,SiO2介孔薄膜层中的介孔孔道平行于玻璃基底,其特征在于,制备方法包括以下步骤:
1)将TEOS、乙醇和浓度为0.003 mol/L的稀盐酸按体积比1:1:0.08混合,搅拌至混合均匀,再向其中加入体积为上述TEOS体积的1/3且浓度为0.55 mol/L的稀盐酸,搅拌均匀后,陈化2-4小时,得到溶液A;
2)将CTAB溶于乙醇中,其中CTAB与乙醇的质量比为0.007-0.07:1,搅拌溶解后得到溶液B;
3)将溶液A与溶液B按体积比1:2混合,搅拌均匀后,陈化1-7小时,得到旋涂液;
4)将上述旋涂液滴加到洁净的玻璃基底上,进行旋涂并干燥,获得基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃。
2.根据权利要求1所述的基于SiO2介孔薄膜的隔热玻璃的制备方法,其特征在于,所述的SiO2介孔薄膜层的厚度为200-800nm。
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