JP4427230B2 - (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 - Google Patents

(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法に関する。(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類は、化学工業および電子工業の分野で利用し得る機能性分子化合物として有用である。
【0002】
【従来の技術】
(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法としては、グリニヤール試薬とハロゲン化アリールを二価のニッケル錯体の存在下で反応させる方法等が知られている(特開2000−26451号公報)。しかしながら、ニッケルは近年その発ガン性が問題となっており、工業的に有利な方法とは言い難い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、工業的に有利に(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類を製造する方法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
【0005】
すなわち、本発明は、下記に示すとおりの(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法を提供するものである。
【0006】
項1. 一般式(1);
【0007】
【化4】
Figure 0004427230
(式中、X、Xはハロゲン原子を示す。nは、0〜5の整数を示す。)
【0008】
で示される化合物と一般式(2);
【0009】
【化5】
Figure 0004427230
(式中、Rは、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、水素原子またはハロゲン原子を示す。)
【0010】
で示される5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類とを、塩基とパラジウム触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式(3);
【0011】
【化6】
Figure 0004427230
(式中、n、Rは、前記と同様である。)
【0012】
で示される(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
項2. 塩基が、炭酸ナトリウムである項1に記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
項3. パラジウム触媒が、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)である項1または2に記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
項4. 一般式(1)で示される化合物が、1,4−ジブロモベンゼン、1,4−ジヨードベンゼン、2,5−ビス(4−ブロモフェニル)チオフェン、2,5−ビス(4−ヨードフェニル)チオフェン、1,4−ビス[5−(4−ブロモフェニル)−2−チエニル]ベンゼンまたは1,4−ビス[5−(4−ヨードフェニル)−2−チエニル]ベンゼンである項1〜3のいずれかに記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
項5. 一般式(2)で示される5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類が、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸、5−(4−メチルフェニル)−2−チオフェンボロン酸または5−(4−フルオロフェニル)−2−チオフェンボロン酸である項1〜4のいずれかに記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
項6.溶媒としての1,2,4−トリクロロベンゼン中で反応を行う請求項1〜5いずれか1記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーの製造方法。
項7.一般式(3);
【化6−1】
Figure 0004427230
(式中、nは1または2の整数を示し、Rは炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、水素原子またはハロゲン原子を示す。)
で示される(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明において原料として用いられる化合物は、一般式(1);
【0014】
【化7】
Figure 0004427230
【0015】
で示される化合物である。
【0016】
上記一般式(1)中、X、Xはハロゲン原子を示す。nは、0〜5の整数を示す。
【0017】
上記ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【0018】
上記一般式(1)で示される化合物の具体例としては、例えば、1,4−ジクロロベンゼン、1,4−ジブロモベンゼン、1,4−ジヨードベンゼン、1−ブロモ−4−クロロベンゼン、1−クロロ−4−ヨードベンゼン、1−ブロモ−4−ヨードベンゼン、2,5−ビス(4−クロロフェニル)チオフェン、2,5−ビス(4−ブロモフェニル)チオフェン、2,5−ビス(4−ヨードフェニル)チオフェン、2−(4−ブロモフェニル)−5−(4−クロロフェニル)チオフェン、2−(4−ブロモフェニル)−5−(4−ヨードフェニル)チオフェン、2−(4−クロロフェニル)−5−(4−ヨードフェニル)チオフェン、1,4−ビス[5−(4−クロロフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−(4−ブロモフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−(4−ヨードフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1−[5−(ブロモフェニル)−2−チエニル]−4−[5−(クロロフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1−[5−(ブロモフェニル)−2−チエニル]−4−[5−(ヨードフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1−[5−(クロロフェニル)−2−チエニル]−4−[5−(ヨードフェニル)−2−チエニル]ベンゼン等が挙げられる。中でも、反応性が高いという観点から、1,4−ジブロモベンゼン、1,4−ジヨードベンゼン、2,5−ビス(4−ブロモフェニル)チオフェン、2,5−ビス(4−ヨードフェニル)チオフェン、1,4−ビス[5−(4−ブロモフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−(4−ヨードフェニル)−2−チエニル]ベンゼンが好適に用いられる。
【0019】
上記一般式(1)で示される化合物の製造方法は、特に限定されず、例えば、一般式(1)中のnが1である2,5−ビス(4−クロロフェニル)チオフェンの場合、塩化スズ(IV)の存在下、1,2−ビス(4−ブロモベンゾイル)エタンに塩酸と硫化水素を吹き込んで反応させる方法(J.Med.Chem.,20,1219(1977))等が挙げられる。
【0020】
本発明において用いられる5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類は、一般式(2);
【0021】
【化8】
Figure 0004427230
【0022】
で示される化合物である。
【0023】
上記一般式(2)中、Rは、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、水素原子またはハロゲン原子を示す。
【0024】
上記炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基等が挙げられる。
【0025】
上記炭素数2〜5のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、1−プロペニル基等が挙げられる。
【0026】
上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【0027】
上記5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類の具体例としては、例えば、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸、5−(4−メチルフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−エチルフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−n−プロピルフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−イソプロピルフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−ビニルフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−アリルフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−イソプロペニルフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−フルオロフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−クロロフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−ブロモフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−ヨードフェニル)−2−チオフェンボロン酸等が挙げられる。中でも、反応性が高いという観点から、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸、5−(4−メチルフェニル)−2−チオフェンボロン酸、5−(4−フルオロフェニル)−2−チオフェンボロン酸が好適に用いられる。
【0028】
上記5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類の製造方法としては、特に限定されず、2−フェニルチオフェン類にブチルリチウムを反応させ、次に、ホウ酸トリメチルを反応させた後、酸で加水分解する方法(J.Phys.Chem.B,105,8845(2001))等が挙げられる。
【0029】
上記5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類の使用量は、特に限定されないが、一般式(1)で示される化合物に対して2〜10倍モル、好ましくは2〜5倍モルである。5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類の使用量が2倍モル未満の場合、一般式(1)で示される化合物の未反応物が多くなり、収率が低下するおそれがある。また、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類の使用量が10倍モルを超える場合、使用量に見合う効果がなく経済的でない。
【0030】
本発明において用いられる塩基としては、特に限定されず、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸タリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸カルシウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化タリウム、トリエチルアミン、ピリジン等が挙げられる。中でも、反応性が高いという観点から、炭酸ナトリウムが好適に用いられる。
【0031】
上記塩基の使用量は、特に限定されないが、一般式(1)で示される化合物に対して2〜15倍モル、好ましくは2〜9倍モルである。塩基の使用量が2倍モル未満の場合、反応が完結しにくくなるおそれがある。また、塩基の使用量が15倍モルを超える場合、使用量に見合う効果がなく経済的でない。
【0032】
なお、上記塩基は、通常、水溶液で用いられる。水溶液の濃度は、特に限定されないが、1〜50重量%程度である。
【0033】
本発明において用いられるパラジウム触媒としては、特に限定されず、例えば、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)、ビス(トリシクロヘキシル)パラジウム(0)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジブロモビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロ[1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)等が挙げられる。中でも、触媒活性が高いという観点から、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)が好適に用いられる。
【0034】
上記パラジウム触媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(1)で示される化合物に対して0.001〜0.3倍モル、好ましくは0.01〜0.2倍モルである。パラジウム触媒の使用量が0.001倍モル未満の場合、反応が完結しにくくなるおそれがある。また、パラジウム触媒の使用量が0.3倍モルを超える場合、使用量に見合う効果がなく経済的でない。
【0035】
反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;酢酸エチル等のエステル系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド等のアミド系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、アセトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒および水等が挙げられる。
【0036】
上記反応溶媒の使用量は、特に限定されないが、一般式(1)で示される化合物に対して1〜600倍重量、好ましくは20〜200倍重量である。反応溶媒の使用量が1倍重量未満の場合、生成物が析出して攪拌が困難となるおそれがある。また、600倍重量を超える場合、使用量に見合う効果がなく容積効率が悪化し経済的でない。
【0037】
反応温度は、通常、−20〜200℃、好ましくは20〜150℃、より好ましくは40〜120℃である。反応温度が−20℃未満の場合、反応に長時間を要するおそれがある。また、反応温度が200℃を超える場合、副生成物が増加するため好ましくない。反応時間は、反応温度により異なるが、通常1〜30時間である。
【0038】
上記のようにして得られた(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類は、反応液を冷却して析出させた後、ろ過することにより容易に単離することができる。
【0039】
本発明によって製造される(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類は一般式(3);
【0040】
【化9】
Figure 0004427230
【0041】
で示される化合物である。
【0042】
上記一般式(3)中、nは上記一般式(1)のnと、Rは上記一般式(2)のRと同様である。
【0043】
上記(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の具体例としては、例えば、1,4−ビス(5−フェニル−2−チエニル)ベンゼン、2,5−ビス[4−(5−フェニル−2−チエニル)−1−フェニル]チオフェン、1,4−ビス[5−[4−(5−フェニル−2−チエニル)−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン、2,5−ビス[4−[5―[4−(5−フェニル−2−チエニル)−1−フェニル]−2−チエニル]−1−フェニル]チオフェン、1,4−ビス[5−(4−メチルフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−(4−エチルフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−(4−ビニルフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−(4−アリルフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−(4−フルオロフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−(4−クロロフェニル)−2−チエニル]ベンゼン、2,5−ビス[4−[5−(4−メチルフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]チオフェン、2,5−ビス[4−[5−(4−エチルフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]チオフェン、2,5−ビス[4−[5−(4−ビニルフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]チオフェン、2,5−ビス[4−[5−(4−アリルフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]チオフェン、2,5−ビス[4−[5−(4−フルオロフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]チオフェン、2,5−ビス[4−[5−(4−クロロフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]チオフェン、1,4−ビス[5−[4−[5−(4−メチルフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−[4−[5−(4−エチルフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−[4−[5−(4−ビニルフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−[4−[5−(4−アリルフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−[4−[5−(4−フルオロフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン、1,4−ビス[5−[4−[5−(4−クロロフェニル)−2−チエニル]−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン等が挙げられる。
【0044】
【実施例】
以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
【0045】
実施例1
攪拌機、温度計および冷却器を備え付けた3L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン1100g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液610g(0.23モル)、1,4−ジブロモベンゼン9.2g(0.039モル)、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸32.2g(0.157モル)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)8.3g(7.2ミリモル)を仕込み、80℃で6時間反応させた。
【0046】
反応終了後、反応溶液を冷却し、析出した生成物をろ過し、結晶を水およびアセトンで洗浄し、減圧乾燥して1,4−ビス(5−フェニル−2−チエニル)ベンゼン13.0g(0.033モル)を得た。1,4−ジブロモベンゼンに対する収率は85%であった。
【0047】
実施例2
攪拌機、温度計および冷却器を備え付けた3L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン1800g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液610g(0.23モル)、2,5−ビス(4−ブロモフェニル)チオフェン15.4g(0.039モル)、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸32.2g(0.157モル)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)8.3g(7.2ミリモル)を仕込み、80℃で8時間反応させた。
【0048】
反応終了後、反応溶液を冷却し、析出した生成物をろ過し、結晶を水およびアセトンで洗浄し、減圧乾燥して2,5−ビス[4−(5−フェニル−2−チエニル)−1−フェニル]チオフェン15.4g(0.028モル)を得た。2,5−ビス(4−ブロモフェニル)チオフェンに対する収率は72%であった。
【0049】
実施例3
攪拌機、温度計および冷却器を備え付けた5L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン2200g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液761g(0.29モル)、1,4−ビス[5−(4−ブロモフェニル)−2−チエニル]ベンゼン21.5g(0.039モル)、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸32.2g(0.158モル)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)5.5g(4.8ミリモル)を仕込み、80℃で8時間反応させた。
【0050】
反応終了後、反応溶液を冷却し、析出した生成物をろ過し、結晶を水およびアセトンで洗浄し、減圧乾燥して1,4−ビス[5−[4−(5−フェニル−2−チエニル)−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン17.1g(0.024モル)を得た。1,4−ビス[5−(4−ブロモフェニル)−2−チエニル]ベンゼンに対する収率は62%であった。
【0051】
実施例4
攪拌機、温度計および冷却器を備え付けた3L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン1100g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液610g(0.23モル)、1,4−ジブロモベンゼン9.2g(0.039モル)、5−(4−メチルフェニル)−2−チオフェンボロン酸34.2g(0.157モル)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)8.3g(7.2ミリモル)を仕込み、80℃で6時間反応させた。
【0052】
反応終了後、反応溶液を冷却し、析出した生成物をろ過し、結晶を水およびアセトンで洗浄し、減圧乾燥して1,4−ビス[5−(4−メチルフェニル)−2−チエニル]ベンゼン13.1g(0.031モル)を得た。1,4−ジブロモベンゼンに対する収率は80%であった。
【0053】
実施例5
攪拌機、温度計および冷却器を備え付けた3L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン1100g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液610g(0.23モル)、1,4−ジブロモベンゼン9.2g(0.039モル)、5−(4−フルオロフェニル)−2−チオフェンボロン酸34.9g(0.157モル)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)8.3g(7.2ミリモル)を仕込み、80℃で6時間反応させた。
【0054】
反応終了後、反応溶液を冷却し、析出した生成物をろ過し、結晶を水およびアセトンで洗浄し、減圧乾燥して1,4−ビス[5−(4−フルオロフェニル)−2−チエニル]ベンゼン13.3g(0.031モル)を得た。1,4−ジブロモベンゼンに対する収率は79%であった。
【0055】
実施例6
攪拌機、温度計および冷却器を備え付けた3L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン1100g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液610g(0.23モル)、1,4−ジヨードベンゼン12.9g(0.039モル)、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸32.2g(0.157モル)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)8.3g(7.2ミリモル)を仕込み、80℃で6時間反応させた。
【0056】
反応終了後、反応溶液を冷却し、析出した生成物をろ過し、結晶を水およびアセトンで洗浄し、減圧乾燥して1,4−ビス(5−フェニル−2−チエニル)ベンゼン12.5g(0.032モル)を得た。1,4−ジヨードベンゼンに対する収率は82%であった。
【0057】
実施例7
攪拌機、温度計および冷却器を備え付けた3L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン1800g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液610g(0.23モル)、2,5−ビス(4−ヨードフェニル)チオフェン19.0g(0.039モル)、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸32.2g(0.157モル)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)8.3g(7.2ミリモル)を仕込み、80℃で8時間反応させた。
【0058】
反応終了後、反応溶液を冷却し、析出した生成物をろ過し、結晶を水およびアセトンで洗浄し、減圧乾燥して2,5−ビス[4−(5−フェニル−2−チエニル)−1−フェニル]チオフェン14.4g(0.026モル)を得た。2,5−ビス(4−ヨードフェニル)チオフェンに対する収率は67%であった。
【0059】
実施例8
攪拌機、温度計および冷却器を備え付けた5L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン2200g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液761g(0.29モル)、1,4−ビス[5−(4−ヨードフェニル)−2−チエニル]ベンゼン25.2g(0.039モル)、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸32.2g(0.158モル)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)5.5g(4.8ミリモル)を仕込み、80℃で8時間反応させた。
【0060】
反応終了後、反応溶液を冷却し、析出した生成物をろ過し、結晶を水およびアセトンで洗浄し、減圧乾燥して1,4−ビス[5−[4−(5−フェニル−2−チエニル)−1−フェニル]−2−チエニル]ベンゼン16.0g(0.023モル)を得た。1,4−ビス[5−(4−ヨードフェニル)−2−チエニル]ベンゼンに対する収率は59%であった。
【0061】
【発明の効果】
本発明によると、化学工業および電子工業の分野で利用し得る機能性分子化合物として有用な(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類を工業的に有利に製造することができる。

Claims (7)

  1. 一般式(1);
    Figure 0004427230
    (式中、X、Xはハロゲン原子を示す。nは、0〜5の整数を示す。)
    で示される化合物と一般式(2);
    Figure 0004427230
    (式中、Rは、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、水素原子またはハロゲン原子を示す。)
    で示される5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類とを、塩基とパラジウム触媒の存在下で反応させることを特徴とする一般式(3);
    Figure 0004427230
    (式中、n、Rは、前記と同様である。)
    で示される(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
  2. 塩基が、炭酸ナトリウムである請求項1に記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
  3. パラジウム触媒が、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)である請求項1または2に記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
  4. 一般式(1)で示される化合物が、1,4−ジブロモベンゼン、1,4−ジヨードベンゼン、2,5−ビス(4−ブロモフェニル)チオフェン、2,5−ビス(4−ヨードフェニル)チオフェン、1,4−ビス[5−(4−ブロモフェニル)−2−チエニル]ベンゼンまたは1,4−ビス[5−(4−ヨードフェニル)−2−チエニル]ベンゼンである請求項1〜3のいずれかに記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
  5. 一般式(2)で示される5−フェニル−2−チオフェンボロン酸類が、5−フェニル−2−チオフェンボロン酸、5−(4−メチルフェニル)−2−チオフェンボロン酸または5−(4−フルオロフェニル)−2−チオフェンボロン酸である請求項1〜4のいずれかに記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法。
  6. 溶媒としての1,2,4−トリクロロベンゼン中で反応を行う請求項1〜5いずれか1記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーの製造方法。
  7. 一般式(3);
    Figure 0004427230
    (式中、nは1または2の整数を示し、Rは炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、水素原子またはハロゲン原子を示す。)
    で示される(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類。
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