JP2010024191A - (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー、その製造方法、およびそれを含む有機半導体材料および発光材料 - Google Patents
(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー、その製造方法、およびそれを含む有機半導体材料および発光材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010024191A JP2010024191A JP2008188486A JP2008188486A JP2010024191A JP 2010024191 A JP2010024191 A JP 2010024191A JP 2008188486 A JP2008188486 A JP 2008188486A JP 2008188486 A JP2008188486 A JP 2008188486A JP 2010024191 A JP2010024191 A JP 2010024191A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- alkyl group
- group
- formula
- atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 CC(C)(c1c(*)c(*)c(*)[s]1)c(cc1)ccc1-c1c(*)c(*)c(C(C)(C)c2c(*)c(*)c(*)c(*)c2*)[s]1 Chemical compound CC(C)(c1c(*)c(*)c(*)[s]1)c(cc1)ccc1-c1c(*)c(*)c(C(C)(C)c2c(*)c(*)c(*)c(*)c2*)[s]1 0.000 description 4
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】 式(1):
【化1】
(式中、R1〜R5は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基または炭素数1〜6のパーフルオロアルキル基を示す。Aは水素原子、フェニル基または炭素数1〜16のアルキル基を示す。mは1〜3の整数を示す。R6〜R9はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜16のアルキル基を示す。m個のR6は同一であっても異なっていてもよく、m個のR7は同一であっても異なっていてもよい。但し、チオフェン環に結合するm個のR6、m個のR7、R8、R9およびAのうち、少なくとも1個は炭素数1〜16のアルキル基である。)で表される(チオフェン/フェニレン)コオリゴマー。
【選択図】なし
Description
式(1):
項1に記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーを含む有機半導体材料。
項1に記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーを含む発光材料。
式(2):
式(5):
式(8):
式(11):
金属触媒が、ジクロロ[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル(II)である項4〜7のいずれかに記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーの製造方法。
本発明に係る(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーは、下記式(1)で表される化合物である。
式(2)で表される化合物の製造方法としては、例えば、式(2)中におけるR3がトリフルオロメチル基であり、R1、R2、R4、R5、R10およびR11が全て水素原子であり、nが1であり、Y1が塩化亜鉛基である5−(4−トリフルオロメチルフェニル)−2−チエニル亜鉛クロリドは、2−(4−トリフルオロメチルフェニル)チオフェンにn−ブチルリチウムおよび塩化亜鉛を順次反応させる方法(特開2007−197358号公報)等の公知の方法により製造することができる。
例えば、式(9)中における、mが1であり、R1〜R9が全て水素原子であり、X3が臭素である2−[4−(5−ブロモ−2−チエニル)フェニル]−5−フェニルチオフェンは、2−(4−ブロモフェニル)チオフェンと5−フェニル−2−チエニルマグネシウムブロミドを反応させ2−フェニル−5−[4−(2−チエニル)フェニル]チオフェンとし(S.Hotta、H.Kimura、S.A.Lee、T.Tamaki、J. Heterocyclic Chem., 2000, 37, 281)、さらに、N−ブロモコハク酸イミドを反応させる方法等、公知の方法により製造することができる。
。
融点:173℃
1H−NMR(400MHz, THF-d8):δ0.90 (t, 3H), 1.31-1.41 (m, 6H), 1.67 (quintet, 2H), 2.62 (t, 2H), 6.96 (d, 1H), 7.25 (tt, 1H), 7.30 (d, 1H), 7.36 (t, 2H), 7.39 (d, 1H), 7.41 (d, 1H), 7.62-7.68 (m, 6H)
融点:199℃
1H−NMR(400MHz, THF-d8):δ 0.88 (t, 3H), 1.29-1.39 (m, 6H), 1.60-1.68 (m, 2H), 2.74 (t, 2H), 7.09 (dd, 1H), 7.25 (tt, 1H), 7.35-7.40 (m, 5H), 7.43-7.45 (m, 2H), 7.51 (d, 2H), 7.66-7.72 (m, 8H)
融点:193℃
1H−NMR(400MHz, THF-d8):δ0.91 (t, 3H), 1.32-1.42 (m, 6H), 1.67-1.76 (m, 2H), 2.83 (t, 2H), 6.77 (d, 1H), 7.22 (d, 1H), 7.24-7.27 (m, 1H), 7.34-7.41 (m, 4H), 7.59 (d, 2H), 7.61-7.67 (m, 4H)
融点:117℃
1H−NMR(400MHz, THF-d8):δ0.88 (t, 3H), 1.31-1.38 (m, 6H), 1.66-1.70 (m, 2H), 2.74 (t, 2H), 7.22-7.29 (m, 2H), 7.34-7.42 (m, 6H), 7.46 (d, 1H), 7.52 (d, 2H), 7.63-7.69 (m, 4H), 7.75 (d, 2H)
融点:室温で油状物
1H−NMR(400MHz, THF-d8):δ0.87 (m, 6H), 1.22-1.40 (m, 12H), 1.63-1.70 (m, 4H), 2.66-2.74 (m, 4H), 7.22 (t, 1H), 7.29-7.42 (m, 7H), 7.48 (t, 4H), 7.61-7.65 (m, 2H), 7.70 (d, 2H)
撹拌機、温度計および冷却器を備え付けた50ml容の四つ口フラスコにマグネシウム0.4g(16mmol)、シクロペンチルメチルエーテル10mlを仕込み、2−ヨード−5−フェニルチオフェン3.7g(13mmol)とシクロペンチルメチルエーテル20mlとの溶液を調製し、その約1/10量を室温、窒素雰囲気下で添加した。反応液が白濁したところで、さらに残りの2−ヨード−5−フェニルチオフェンのシクロペンチルメチルエーテル溶液を1時間かけて滴下した。室温で2時間攪拌し、5−フェニル−2−チエニルマグネシウムヨージドのシクロペンチルメチルエーテル溶液とした。
攪拌機、温度計、および冷却器を備え付けた5L容の四つ口フラスコに、1,2,4−トリクロロベンゼン1050g、4重量%炭酸ナトリウム水溶液761g(0.289モル)、1,4−ビス(5−ブロモ−2−チエニル)ベンゼン14.5g(0.036モル)、フェニルボロン酸17.7g(0.145モル)、およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)5.5g(4.8ミリモル)を仕込み、80℃で6時間反応させた。
[融点および溶媒に対する溶解性]
実施例1および実施例4で得られた2−[4−(4−ヘキシル−2−チエニル)フェニル]−5−フェニルチオフェンおよび3−ヘキシル−5−フェニル−2−[4−(5−フェニル−2−チエニル)フェニル]チオフェン並びに比較例1および比較例2で得られた2−フェニル−5−[4−(2−チエニル)フェニル]チオフェンおよび1,4−ビス(5−フェニル−2−チエニル)ベンゼンの融点、およびテトラヒドロフランに対する25℃での溶解度を測定した。それぞれの測定結果を表1に示す。
[発光特性]
Claims (8)
- 式(1):
- 請求項1に記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーを含む有機半導体材料。
- 請求項1に記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーを含む発光材料。
- 式(2):
- 式(5):
- 式(8):
- 式(11):
- 金属触媒が、ジクロロ[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル(II)である請求項4〜7のいずれかに記載の(チオフェン/フェニレン)コオリゴマーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008188486A JP2010024191A (ja) | 2008-07-22 | 2008-07-22 | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー、その製造方法、およびそれを含む有機半導体材料および発光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008188486A JP2010024191A (ja) | 2008-07-22 | 2008-07-22 | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー、その製造方法、およびそれを含む有機半導体材料および発光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010024191A true JP2010024191A (ja) | 2010-02-04 |
Family
ID=41730335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008188486A Pending JP2010024191A (ja) | 2008-07-22 | 2008-07-22 | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー、その製造方法、およびそれを含む有機半導体材料および発光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010024191A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014157872A (ja) * | 2013-02-14 | 2014-08-28 | Kyoto Institute Of Technology | 有機太陽電池及びその製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07325329A (ja) * | 1994-06-01 | 1995-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | 有機超格子材料、その製造方法および該材料を用いた素子 |
JP2003040886A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 |
JP2004059457A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 |
JP2004059458A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 |
JP2007197359A (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマーおよびそれらを含む発光材料 |
JP2007261961A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Shinshu Univ | (チオフェン・フェニレン)コオリゴマー化合物 |
-
2008
- 2008-07-22 JP JP2008188486A patent/JP2010024191A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07325329A (ja) * | 1994-06-01 | 1995-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | 有機超格子材料、その製造方法および該材料を用いた素子 |
JP2003040886A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 |
JP2004059457A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 |
JP2004059458A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 |
JP2007197359A (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマーおよびそれらを含む発光材料 |
JP2007261961A (ja) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Shinshu Univ | (チオフェン・フェニレン)コオリゴマー化合物 |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
JPN6013014645; Macromolecules 33, 2000, 7349-7358 * |
JPN6013014646; J. Heterocyclic Chem. 40, 2003, 845-850 * |
JPN6013014647; Chem. Mater. 16, 2004, 4715-4727 * |
JPN6013014648; J. Heterocyclic Chem. 38, 2001, 923-927 * |
JPN6013014649; J. Am. Chem. Soc. 125, 2003, 9414-9423 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014157872A (ja) * | 2013-02-14 | 2014-08-28 | Kyoto Institute Of Technology | 有機太陽電池及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107602584B (zh) | 有机电气元件用化合物、利用其的有机电气元件及其电子装置 | |
KR100852328B1 (ko) | 신규한 안트라센 유도체, 이의 제조방법 및 이를 이용한유기 전기 발광 소자 | |
US20140058099A1 (en) | Novel compound, charge transport material, and organic device | |
KR20160073914A (ko) | 신규한 유기반도체 화합물 및 이를 이용한 유기전계발광소자 | |
WO2018004096A1 (ko) | 유기 광전자 소자용 화합물, 유기 광전자 소자용 조성물, 유기 광전자 소자 및 표시 장치 | |
KR20130050237A (ko) | 유기전기소자용 화합물, 이를 포함하는 유기전기소자 및 그 전자 장치 | |
JP2020527550A (ja) | 新規な化合物およびこれを利用した有機発光素子 | |
KR20180063707A (ko) | 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 | |
JP6958967B2 (ja) | ヘテロ環化合物およびこれを含む有機発光素子 | |
US8299272B2 (en) | Process for production of fused ring compound | |
JP5063004B2 (ja) | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマーおよびそれらを含む発光材料 | |
JP2014105208A (ja) | N−アリールカルバゾールの多量体 | |
JP2007261961A (ja) | (チオフェン・フェニレン)コオリゴマー化合物 | |
JP5301219B2 (ja) | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー、その製造方法、およびそれを含む有機半導体材料および発光材料 | |
JP5266786B2 (ja) | 新規なフェノチアジン化合物 | |
JP2010024191A (ja) | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー、その製造方法、およびそれを含む有機半導体材料および発光材料 | |
KR102498512B1 (ko) | 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기전계발광소자 | |
JP5336149B2 (ja) | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー、その製造方法、およびそれを含む有機半導体材料および発光材料 | |
JP5298636B2 (ja) | ペンタフルオロスルファニル基を有する複素環オリゴマー化合物 | |
JP4427230B2 (ja) | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 | |
JP2009114074A (ja) | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー | |
JP5894945B2 (ja) | 蛍光性化合物、その製造方法、及び蛍光性樹脂組成物 | |
JP4383026B2 (ja) | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 | |
JP2009221156A (ja) | α−フェニルスチルベン化合物及びその製造方法 | |
JP2003040886A (ja) | (チオフェン/フェニレン)コオリゴマー類の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20110613 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20110613 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Effective date: 20110927 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20130402 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20130723 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |