JP4411599B2 - 赤外線ガス分析計および赤外線ガス分析方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 33
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 title claims description 32
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 93
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 20
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 77
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/37—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using pneumatic detection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3504—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
- G01N21/3518—Devices using gas filter correlation techniques; Devices using gas pressure modulation techniques
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Description
さらに詳しくは、赤外線光源として熱応答性に優れ、高速のオンオフ動作が可能な光源を使用した場合に、簡単な構成により高精度の測定を行うことのできる赤外線ガス分析計および赤外線ガス分析方法に関するものである。
すなわち、赤外光をオンオフするために回転セクタを用いるとともに、光源変動の影響を除去するために、共通の光源からの光を試料セルと基準セルとに分けて入射させている。
また、このような赤外線光源を使用するのに適した分析計の構成や測定方法は、提案されていない。
また、測定動作時において、検出器の出力が常にゼロとなるように第2の赤外線光源の駆動量を制御し、この時の駆動量の変化分から測定出力を得るようにすると、検出器を常にその出力信号が小さな値となる範囲で使用することができ、測定範囲のダイナミックレンジを広くすることができる。
測定制御部120は、第1および第2の赤外線光源101、102の駆動信号(同期信号)を利用して、フローセンサ53の出力を同期整流し、試料ガス中の測定対象成分濃度に応じた測定出力を発生する。
一般に、赤外線ガス分析計においては、測定動作に先立って、ゼロ調やスパン調などの校正動作が行われる。試料セル4に測定対象成分ガスを含まない基準ガス(ゼロガス)を流通させるゼロ調動作時においては、第1の赤外線光源101における駆動量を測定に適した値に調整するとともに、検出器5(フローセンサ53)からの出力信号がゼロとなるように、第2の赤外線光源102の駆動量を調整する。また、試料セル4に既知の成分濃度を有する基準ガス(スパンガス)を流通させるスパン調動作時においては、測定出力が所定の濃度値を示すように、測定回路のゲインなどを調整する。
また、測定制御部120は第1および第2の光センサ103、104の出力を受け、第1および第2の赤外線光源101、102の出射光量に異常が発生した場合には、アラーム信号を発生する。
第1の赤外線光源101から出射された第1の赤外光は、試料セル4を通過した後、検出器5の試料側室(52)を通り、検出器25の試料側室252に入射する。また、バランス側室254には、第2の赤外線光源202からの赤外光が照射されている。
また、第2の赤外線光源202の出射光量は第2の光センサ204により検出されている。
なお、図において、フローセンサの出力を受ける交流増幅器等の図示は省略している。
測定制御部120は、第2の赤外線光源102、202の駆動量を独立に制御して、それぞれの測定対象成分(検出器5、25)について、前記した図1の例と同様の測定動作を実行する。
2 分配セル
21 干渉ガスセル
3 基準セル
4 試料セル
5、25 検出器
51 基準側室
52、252 試料側室
53、253 フローセンサ
54、254 バランス側室
6 回転セクタ
7 信号処理回路
8 同期モータ
9 トリマ
10 シリコン基板
11 凹部
12 フィラメント
13、15 二酸化シリコン
14 多結晶シリコン層
16a、16b 電極
101、102、202 第1および第2の赤外線光源
103、104、204 第1および第2の光センサ
105、106 第1および第2の駆動信号検出部
110 光源駆動制御部
111、112 第1および第2の光源駆動部
113 同期制御部
120 測定制御部
121 ゼロ調信号記憶部
Claims (16)
- 試料ガスが流通する試料セルを有し、この試料セルを通過した赤外光における吸収量の変化を利用して、試料ガス中の測定対象成分濃度を検出する赤外線ガス分析計において、試料セルに赤外光を照射する第1の赤外線光源と、この第1の赤外線光源と等しい応答特性を有する第2の赤外線光源と、前記第1の赤外線光源から出射され前記試料セルを通過した第1の赤外光と前記第2の赤外線光源から出射された第2の赤外光との差を検出する検出器と、前記第1および第2の赤外線光源を同期的に駆動する光源駆動制御部と、この光源駆動制御部に対して前記第1および第2の赤外線光源の駆動量を指示するとともに前記検出器からの出力信号を受け、ゼロ調動作時には、前記検出器の出力がゼロとなるように前記第2の赤外線光源の駆動量を調整するとともに、測定動作時にも、前記検出器の出力がゼロとなるように前記第2の赤外線光源の駆動量を調整し、この時の駆動量の変化分から試料ガス中の測定対象成分濃度に応じた測定出力を発生する測定制御部とを具備したことを特徴とする赤外線ガス分析計。
- 前記光源駆動制御部は、前記第1および第2の赤外線光源を一定周期で同期的にオンオフすることを特徴とする請求項1に記載の赤外線ガス分析計。
- 前記検出器は、測定対象成分を含むガスが封入されるとともに、前記第1の赤外光が入射する試料側室および前記第2の赤外光が入射するバランス側室と、これらの試料側室およびバランス側室とを結ぶガス流通路内に配置されたフローセンサとを有することを特徴とする請求項1または2に記載の赤外線ガス分析計。
- 前記検出器は、異なるガス成分を測定対象とする複数の検出器より構成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の赤外線ガス分析計。
- 前記複数の検出器に対して、それぞれ独立に第2の赤外線光源を設けたことを特徴とする請求項4に記載の赤外線ガス分析計。
- 前記第1および第2の赤外線光源には、それぞれ光センサを付加し、光源の異常を検出することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の赤外線ガス分析計。
- 前記光源駆動制御部は、同期信号を発生する同期制御部と、この同期信号に応じて前記第1および第2の赤外線光源に供給する駆動信号をオンオフする第1および第2の光源駆動部と、前記第1および第2の赤外線光源にそれぞれ供給される駆動信号の大きさを検出する第1および第2の駆動信号検出部とを有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の赤外線ガス分析計。
- 前記光源駆動制御部は、同期信号を発生する同期制御部と、この同期信号に応じて前記第1および第2の赤外線光源に供給する駆動信号をオンオフする第1および第2の光源駆動部と、前記第1および第2の赤外線光源にそれぞれ供給される駆動信号の大きさを検出する第1および第2の駆動信号検出部とを有し、測定動作時には、前記第2の駆動信号検出部における出力の変化分から測定対象成分濃度に応じた測定出力を得ることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の赤外線ガス分析計。
- 試料ガスが流通する試料セルを通過した赤外光における吸収量の変化を利用して、試料ガス中の測定対象成分濃度を検出する赤外線ガス分析方法において、試料セルに第1の赤外光を照射する第1の赤外線光源と、この第1の赤外線光源と等しい応答特性を有し第2の赤外光を照射する第2の赤外線光源とを具備し、これら第1および第2の赤外線光源を同期的に駆動するとともに、ゼロ調動作時には、前記試料セルを通過した第1の赤外光と前記第2の赤外光との差がゼロとなるように前記第2の赤外線光源の駆動量を調整するとともに、測定動作時にも、前記試料セルを通過した第1の赤外光と前記第2の赤外光との差がゼロとなるように前記第2の赤外線光源の駆動量を調整し、この駆動量の変化分から試料ガス中の測定対象成分濃度に応じた測定出力を発生することを特徴とする赤外線ガス分析方法。
- 前記第1および第2の赤外線光源を一定周期で同期的にオンオフすることを特徴とする請求項9に記載の赤外線ガス分析方法。
- 前記第1および第2の赤外光を、測定対象成分を含むガスが封入されるとともに、第1の赤外光が入射する試料側室および第2の赤外光が入射するバランス側室と、これら試料側室とバランス側室とを結ぶガス流通路内に配置されたフローセンサとを有する検出器により受光することを特徴とする請求項9または10に記載の赤外線ガス分析方法。
- 前記検出器は、異なるガス成分を測定対象とする複数の検出器より構成されることを特徴とする請求項9乃至11のいずれかに記載の赤外線ガス分析方法。
- 前記複数の検出器に対して、それぞれ独立に第2の赤外線光源を設けたことを特徴とする請求項12に記載の赤外線ガス分析方法。
- 前記第1および第2の赤外線光源に、それぞれ光センサを付加し、光源の異常を検出することを特徴とする請求項9乃至13のいずれかに記載の赤外線ガス分析方法。
- 前記第1および第2の赤外線光源にそれぞれ供給される駆動信号の大きさを検出し、これらの検出信号を前記第1およびまたは第2の赤外線光源の駆動信号に帰還することを特徴とする請求項9乃至14のいずれかに記載の赤外線ガス分析方法。
- 前記第1および第2の赤外線光源にそれぞれ供給される駆動信号の大きさを検出し、これらの検出信号を前記第1およびまたは第2の赤外線光源の駆動信号に帰還するとともに、測定動作時には、前記第2の赤外線光源における駆動信号の変化量から測定対象成分濃度に応じた測定出力を得ることを特徴とする請求項9乃至14のいずれかに記載の赤外線ガス分析方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004310722A JP4411599B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 赤外線ガス分析計および赤外線ガス分析方法 |
US11/232,657 US7323687B2 (en) | 2004-10-26 | 2005-09-22 | infrared gas analyzer and infrared gas analysis method |
GB0520647A GB2419666C (en) | 2004-10-26 | 2005-10-11 | Infrared gas analyzer and infrared gas analysis method. |
DE200510049175 DE102005049175B4 (de) | 2004-10-26 | 2005-10-14 | Infrarotgasanalysator und Verfahren zur Infrarotgasanalyse |
CNB2005101180924A CN100549672C (zh) | 2004-10-26 | 2005-10-25 | 红外线气体分析仪及红外线气体分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004310722A JP4411599B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 赤外線ガス分析計および赤外線ガス分析方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006125858A JP2006125858A (ja) | 2006-05-18 |
JP4411599B2 true JP4411599B2 (ja) | 2010-02-10 |
Family
ID=35430181
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004310722A Expired - Fee Related JP4411599B2 (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | 赤外線ガス分析計および赤外線ガス分析方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7323687B2 (ja) |
JP (1) | JP4411599B2 (ja) |
CN (1) | CN100549672C (ja) |
DE (1) | DE102005049175B4 (ja) |
GB (1) | GB2419666C (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4930020B2 (ja) * | 2006-12-06 | 2012-05-09 | 横河電機株式会社 | 赤外線ガス分析計 |
DE102008064173B4 (de) | 2008-12-22 | 2011-06-01 | Universität Rostock | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Stoffkonzentration in gasförmigen oder fluiden Medien mittels optischer Absorptionsspektroskopie mit Breitbandlichtquellen |
KR20130042464A (ko) * | 2010-02-16 | 2013-04-26 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 가스 농도 산출 장치, 가스 농도 계측 모듈 및 광 검출기 |
US8610072B2 (en) | 2010-09-23 | 2013-12-17 | Li-Cor, Inc. | Gas exchange system flow configuration |
EP2619549B1 (en) | 2010-09-23 | 2018-03-21 | Li-Cor, Inc. | Gas exchange system flow configuration |
US8692202B2 (en) * | 2010-09-23 | 2014-04-08 | Li-Cor, Inc. | Gas exchange system flow configuration with thermally insulated sample chamber |
JP2012068164A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Horiba Ltd | 赤外線ガス分析計 |
US20120181432A1 (en) * | 2011-01-13 | 2012-07-19 | Li-Cor, Inc. | Off-set compensation technique for dual analyzer gas exchange systems |
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US9225915B2 (en) * | 2012-07-06 | 2015-12-29 | Providence Photonics, Llc | Calibration and quantification method for gas imaging camera |
KR102259119B1 (ko) * | 2014-08-29 | 2021-06-01 | 가부시키가이샤 후지킨 | 광학적 가스 농도 측정방법 |
CN105911010A (zh) * | 2016-06-12 | 2016-08-31 | 北京千安哲信息技术有限公司 | 痕量气体污染物检测装置和方法 |
CN114069246B (zh) * | 2021-12-02 | 2023-04-07 | 四川大学 | 一种基于周期结构的吸收电磁波的整流表面 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3180984A (en) * | 1962-04-11 | 1965-04-27 | Mine Safety Appliances Co | Stabilized comparison analyzer and method of analyzing |
DE1598535C3 (de) | 1965-09-01 | 1974-02-14 | Hartmann & Braun Ag, 6000 Frankfurt | Mehrstrahl-Infrarot-Gasanalysator |
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JP2002131230A (ja) | 2000-10-27 | 2002-05-09 | Horiba Ltd | 赤外線ガス分析計用検出器 |
-
2004
- 2004-10-26 JP JP2004310722A patent/JP4411599B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-22 US US11/232,657 patent/US7323687B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-11 GB GB0520647A patent/GB2419666C/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-14 DE DE200510049175 patent/DE102005049175B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-25 CN CNB2005101180924A patent/CN100549672C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2419666C (en) | 2011-01-26 |
US20060118724A1 (en) | 2006-06-08 |
GB2419666A (en) | 2006-05-03 |
DE102005049175A1 (de) | 2006-04-27 |
GB2419666B (en) | 2010-04-28 |
CN1766572A (zh) | 2006-05-03 |
JP2006125858A (ja) | 2006-05-18 |
CN100549672C (zh) | 2009-10-14 |
GB0520647D0 (en) | 2005-11-16 |
DE102005049175B4 (de) | 2009-01-29 |
US7323687B2 (en) | 2008-01-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091105 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121127 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121127 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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