JPS63308541A - 赤外線ガス分析計 - Google Patents
赤外線ガス分析計Info
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- JPS63308541A JPS63308541A JP62145959A JP14595987A JPS63308541A JP S63308541 A JPS63308541 A JP S63308541A JP 62145959 A JP62145959 A JP 62145959A JP 14595987 A JP14595987 A JP 14595987A JP S63308541 A JPS63308541 A JP S63308541A
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- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 abstract description 4
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/37—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using pneumatic detection
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、大気や排気その他に含まれたガスを検出する
赤外線ガス分析計に関するものである。
赤外線ガス分析計に関するものである。
(従来の技術)
大気や排気その他に含まれたガスを検出する赤外線ガス
分析計において、測定ガス中に、測定ガスの波長域と吸
収波長域が一部重なるような干渉成分ガスが含まれてい
る場合に、その干渉成分ガスによる影響を防ぐものとし
て、例えば、第2図に示した、干渉フィルタを使用した
赤外線ガス分析計が知られている。
分析計において、測定ガス中に、測定ガスの波長域と吸
収波長域が一部重なるような干渉成分ガスが含まれてい
る場合に、その干渉成分ガスによる影響を防ぐものとし
て、例えば、第2図に示した、干渉フィルタを使用した
赤外線ガス分析計が知られている。
このガス分析計は、比較ガスが封入された比較セル1と
測定ガスが供給される測定セル2とが並行状に配置され
、かつ測定セル2には、測定ガスの供給口3aとそのガ
スを排出する排出口3bとか設けられている。4a、4
bは前記比較セル1と測定セル2との一側にそれぞれ配
置された光源、5は比較セル1と測定セル2の他側に配
置されたコンデンサマイクロホンなどの検出器である。
測定ガスが供給される測定セル2とが並行状に配置され
、かつ測定セル2には、測定ガスの供給口3aとそのガ
スを排出する排出口3bとか設けられている。4a、4
bは前記比較セル1と測定セル2との一側にそれぞれ配
置された光源、5は比較セル1と測定セル2の他側に配
置されたコンデンサマイクロホンなどの検出器である。
6は比較セル1、測定セル2と光源4a、4bとの間に
設けられたチョッパ、7a、7bは比較セル1、測定セ
ル2と検出器5との間に配置された干渉フィルタで、測
定成分ガスの吸収波長域の光線を透過させ、他の波長域
の光線を反射する。9は前置増幅器である。
設けられたチョッパ、7a、7bは比較セル1、測定セ
ル2と検出器5との間に配置された干渉フィルタで、測
定成分ガスの吸収波長域の光線を透過させ、他の波長域
の光線を反射する。9は前置増幅器である。
この赤外線ガス分析計は、チョッパ6の回転で光源4a
、4bの光を断続的に比較セル】と測定セル2に入射す
る。すると、その光線の一部が比較セル1と測定セル2
のそれぞれのガスで吸収されるから、比較セル1と測定
セル2のそれぞれがら検出器5に入射される光量に差が
生じる。この光量の差に基づいてガスを分析するもので
ある。
、4bの光を断続的に比較セル】と測定セル2に入射す
る。すると、その光線の一部が比較セル1と測定セル2
のそれぞれのガスで吸収されるから、比較セル1と測定
セル2のそれぞれがら検出器5に入射される光量に差が
生じる。この光量の差に基づいてガスを分析するもので
ある。
そして、前記比較セル1と測定セル2に入射した光線に
おいて、測定セル2に供給しな測定ガス中に含まれた干
渉ガスの吸収波長域を干渉フィルタ7で反射して、それ
が検出器5に入ることを防いで、干渉成分ガスの影響を
低減している。
おいて、測定セル2に供給しな測定ガス中に含まれた干
渉ガスの吸収波長域を干渉フィルタ7で反射して、それ
が検出器5に入ることを防いで、干渉成分ガスの影響を
低減している。
また、第3図に示した赤外線ガス分析計も知られている
。
。
この赤外線ガス分析計は、第2図に示したガス分析計に
おける干渉フィルタ7が、干渉成分ガスを吸収するガス
フィルタ8a、8bに置き変えられたものである。他の
構成は、前記第2図に示したガス分析計と同じであるか
ら、同符号を付して示した。
おける干渉フィルタ7が、干渉成分ガスを吸収するガス
フィルタ8a、8bに置き変えられたものである。他の
構成は、前記第2図に示したガス分析計と同じであるか
ら、同符号を付して示した。
このガス分析計によるガス分析は、比較セル1と測定セ
ル2に入射した光線において、測定ガスに含まれた干渉
成分の吸収波長域を、ガスフィルタ8で吸収させて、干
渉成分による影響を少なくするものである。
ル2に入射した光線において、測定ガスに含まれた干渉
成分の吸収波長域を、ガスフィルタ8で吸収させて、干
渉成分による影響を少なくするものである。
さらに、第4図に示された干渉補償型の赤外線ガス分析
計も知られている。
計も知られている。
このガス分析計は、前記第2図に示したガス分析計にお
いて、その検出器5aが光線の通過が可能に構成され、
かつこの検出器5aを通過した光線を入射する干渉補償
用検出器5bが設けられ、かつ検出器5aの出力から干
渉補償用検出器5bの出力を減算する減算器10か設け
られたものである。
いて、その検出器5aが光線の通過が可能に構成され、
かつこの検出器5aを通過した光線を入射する干渉補償
用検出器5bが設けられ、かつ検出器5aの出力から干
渉補償用検出器5bの出力を減算する減算器10か設け
られたものである。
他の構成は、第2図のガス分析計と同じであるから、同
符号を付して示した。
符号を付して示した。
(発明が解決しようとする問題点)
前記従来の赤外線ガス分析計において、第2図に示され
たものは、干渉フィルタフの干渉成分光の反射率が高く
、干渉成分光による影響を低減することが可能である。
たものは、干渉フィルタフの干渉成分光の反射率が高く
、干渉成分光による影響を低減することが可能である。
ここで、干渉フィルタの光の透過と反射とを、第5図に
示したように、ガスセルSの検出器側の窓を干渉フィル
タfに置き換えた場合についてみると、次のとおりであ
る。
示したように、ガスセルSの検出器側の窓を干渉フィル
タfに置き換えた場合についてみると、次のとおりであ
る。
光源りの完工0は、ガスセルSの窓Wを透過してガスセ
ルS内に入り、その一部がガスセルS内の測定成分で吸
収されてから、干渉フィルタfを透過し検出器(図示省
略)に入る。
ルS内に入り、その一部がガスセルS内の測定成分で吸
収されてから、干渉フィルタfを透過し検出器(図示省
略)に入る。
このときの干渉フィルタfを透過することが可能な波長
域の光の透過光量T〕は、 tf−tw exp (−εc文) T+=Io □・・・・・・(1) 1−rw−rf [exp(−εCu)]”で表され、
tfとtwならびにrfとrwを入替えても同じである
から、透過可能な光の透過量は、その入射面方向には関
係しない。すなわち、光線を干渉フィルタf側から入射
した場合でも同じである。
域の光の透過光量T〕は、 tf−tw exp (−εc文) T+=Io □・・・・・・(1) 1−rw−rf [exp(−εCu)]”で表され、
tfとtwならびにrfとrwを入替えても同じである
から、透過可能な光の透過量は、その入射面方向には関
係しない。すなわち、光線を干渉フィルタf側から入射
した場合でも同じである。
一方、干渉フィルタfの反射波長域の反射光量Rは、
で表され、tfとtwならびにrfとrwとを入れ替え
た場合の反射光量は異なる。すなわち、光線が干渉フィ
ルタf側から入射した場合とガスセルSの窓側から入射
した場合とでは同じではない。
た場合の反射光量は異なる。すなわち、光線が干渉フィ
ルタf側から入射した場合とガスセルSの窓側から入射
した場合とでは同じではない。
このことは、測定成分光については、ガスセルSの窓W
及び干渉フィルタfのどちらも同様の高い透過率、低い
反射率をもつから、光の入射面の方向によらず反射光量
は変わりないとみなせるか、干渉成分光については、フ
ィルタの透過率は低く、反射率は高いので、光をフィル
タ側から入射させた方が、ガスセルSの窓W側から入射
させるよりも、光源側への反射光量は多くなることがわ
かる。
及び干渉フィルタfのどちらも同様の高い透過率、低い
反射率をもつから、光の入射面の方向によらず反射光量
は変わりないとみなせるか、干渉成分光については、フ
ィルタの透過率は低く、反射率は高いので、光をフィル
タ側から入射させた方が、ガスセルSの窓W側から入射
させるよりも、光源側への反射光量は多くなることがわ
かる。
光源側へ反射された光が、再び光源ミラーなどで反射し
て戻ることがなければ、以上のどちらの入射面方向から
に入射しても、透過光量には差異はない。
て戻ることがなければ、以上のどちらの入射面方向から
に入射しても、透過光量には差異はない。
ところが、実際には光量を多くするため、光源にはミラ
ーを用いているので、入射方向の違いによる透過光量の
差は必ず生ずる。
ーを用いているので、入射方向の違いによる透過光量の
差は必ず生ずる。
なお、工0は入射光量、twは窓Wの透過光量、−6=
rwは窓Wの反射光量、tfは干渉フィルタfの透過光
量、rfは干渉フィルタfの反射光量、CはセルS内の
ガスの濃度、父はセルSの長さ、εはガスによって定ま
る定数である。
量、rfは干渉フィルタfの反射光量、CはセルS内の
ガスの濃度、父はセルSの長さ、εはガスによって定ま
る定数である。
しなかつて、第2図、第4図において、干渉フィルタ7
a、7bで反射された比較的多量の干渉成分光は、比較
セル1または測定セル2の内面やそれらの窓、さらには
光源4a、4bの反射ミラーなどで反射されて、干渉フ
ィルタ7a、7bに再度達することを反復する。
a、7bで反射された比較的多量の干渉成分光は、比較
セル1または測定セル2の内面やそれらの窓、さらには
光源4a、4bの反射ミラーなどで反射されて、干渉フ
ィルタ7a、7bに再度達することを反復する。
しかも、干渉フィルタ7a、7bが比較セル1、測定セ
ル2と検出器5との間に配置されているから、大量の干
渉成分光が、比較セル1、測定セル2の内面で反射され
ることによって、干渉フィルタ7a、7bへ入射する斜
め成分が多くなる。一般に、干渉フィルタの透過スベク
I・ルは、斜め入射の場合には、短波長ヘシフトすると
いう物理的特性がある。したがって、結果的に、干渉フ
ィルタ7a、 7bを透過して検出器5に入る干渉成分
光量が増加し、分析の精度を低下させる問題がある。
ル2と検出器5との間に配置されているから、大量の干
渉成分光が、比較セル1、測定セル2の内面で反射され
ることによって、干渉フィルタ7a、7bへ入射する斜
め成分が多くなる。一般に、干渉フィルタの透過スベク
I・ルは、斜め入射の場合には、短波長ヘシフトすると
いう物理的特性がある。したがって、結果的に、干渉フ
ィルタ7a、 7bを透過して検出器5に入る干渉成分
光量が増加し、分析の精度を低下させる問題がある。
次に、第3図に示した赤外線ガス分析計は、干渉成分ガ
スの吸収波長域の光線をガスフィルタ8が吸収するから
、干渉フィルタにおける干渉成分光の反射の問題はない
。
スの吸収波長域の光線をガスフィルタ8が吸収するから
、干渉フィルタにおける干渉成分光の反射の問題はない
。
しかし、干渉成分光の吸収精度がやや低く、かつ測定ガ
スに複数種の干渉成分ガスが含まれている場合に、その
すべての干渉成分光を吸収することが困難であるから、
検出器5に入る干渉成分光の量か比較的多くなり、分析
精度を低下させる問題がある。
スに複数種の干渉成分ガスが含まれている場合に、その
すべての干渉成分光を吸収することが困難であるから、
検出器5に入る干渉成分光の量か比較的多くなり、分析
精度を低下させる問題がある。
第4図に示した干渉補償型のガス分析計は、干渉成分光
による影響を減算器10て補正するから、分析の精度を
向上させることか可能である。
による影響を減算器10て補正するから、分析の精度を
向上させることか可能である。
しかし、干渉補償用検出器5bと補正用信号処理回路が
余分に必要になるから、コストカ月二昇する問題がある
。
余分に必要になるから、コストカ月二昇する問題がある
。
本発明は、上記のような問題を解決するものであって、
干渉成分ガスによる影響を低コストで除いて、精度の高
い分析ができる赤外線ガス分析計をうろことを目的とす
るものて゛ある。
干渉成分ガスによる影響を低コストで除いて、精度の高
い分析ができる赤外線ガス分析計をうろことを目的とす
るものて゛ある。
(問題点を解決するだめの手段)
本発明の赤外線ガス分析計は、ガスセルの一側に光源が
、他側に検出器が配置された赤外線ガス分析計において
、測定成分ガスの吸収波長域の光線を透過し、他の波長
域の光線を反射する干渉フィルタと干渉成分ガスの吸収
波長域の光線を少なくとも吸収するガスフィルタとか、
ガスフィルタを前記光源側として、光源とガスセルとの
間に配置されたことを特徴とするものである。
、他側に検出器が配置された赤外線ガス分析計において
、測定成分ガスの吸収波長域の光線を透過し、他の波長
域の光線を反射する干渉フィルタと干渉成分ガスの吸収
波長域の光線を少なくとも吸収するガスフィルタとか、
ガスフィルタを前記光源側として、光源とガスセルとの
間に配置されたことを特徴とするものである。
(作用)
この赤外線ガス分析計は、光源からの光線をガスフィル
タと干渉フィルタを介してガスセルに入射させることに
よって、ガスセルに入射される光線の波長域を、はぼ測
定成分ガスの吸収波長域のみとして、ガスセル内の測定
ガスに含まれた干渉成分ガスによる影響を除くものであ
る。
タと干渉フィルタを介してガスセルに入射させることに
よって、ガスセルに入射される光線の波長域を、はぼ測
定成分ガスの吸収波長域のみとして、ガスセル内の測定
ガスに含まれた干渉成分ガスによる影響を除くものであ
る。
すなわち、光源からの光線をまずガスフィルタを通過さ
せることによって、干渉成分光を吸収させる。
せることによって、干渉成分光を吸収させる。
そして、ガスフィルタで吸収されないで干渉フイルタに
達した干渉成分光を、干渉フィルタて反射させる。この
干渉フィルタで反射された干渉成分光は、再度前記ガス
フィルタに入って吸収されるが、ガスフィルタで吸収さ
れなかった干渉成分光は、ガスセルの窓や光源の反射ミ
ラーで反射され、ガスフィルタを通過して再度干渉フィ
ルタで反射されることなどを反復させて、この間に干渉
成分光を減衰させて、検出器に入射される干渉成分光の
量を最少限にするものである。
達した干渉成分光を、干渉フィルタて反射させる。この
干渉フィルタで反射された干渉成分光は、再度前記ガス
フィルタに入って吸収されるが、ガスフィルタで吸収さ
れなかった干渉成分光は、ガスセルの窓や光源の反射ミ
ラーで反射され、ガスフィルタを通過して再度干渉フィ
ルタで反射されることなどを反復させて、この間に干渉
成分光を減衰させて、検出器に入射される干渉成分光の
量を最少限にするものである。
(実施例)
本発明の赤外線ガス分析計の実施例を第1図について説
明する。
明する。
第1図において、1は比較ガスが封入されたIL較セル
で、これと並行状に測定ガスが供給される測定セル2が
配置され、かつ測定セル2には、測定ガスの供給口3a
とそのガスを排出する排出口3bとが設けられている。
で、これと並行状に測定ガスが供給される測定セル2が
配置され、かつ測定セル2には、測定ガスの供給口3a
とそのガスを排出する排出口3bとが設けられている。
4a、4bは前記比較セル1と測定セル2との一側にそ
れぞれ配置された光源である65は比較セル1と測定セ
ル2の他側に配置されたコンデンサマイクロホンなどの
検出器てあ6は光源4a、4bの前に配置されたチョッ
パ、7a、7bは比較セル1、測定セル2と光源4a、
4bとの間に配置された干渉フィルタで、この干渉フィ
ルタ7a、7bとチョッパ6との間にガスフィルタ8a
、8bが設けられている。9は前置増幅器である。
れぞれ配置された光源である65は比較セル1と測定セ
ル2の他側に配置されたコンデンサマイクロホンなどの
検出器てあ6は光源4a、4bの前に配置されたチョッ
パ、7a、7bは比較セル1、測定セル2と光源4a、
4bとの間に配置された干渉フィルタで、この干渉フィ
ルタ7a、7bとチョッパ6との間にガスフィルタ8a
、8bが設けられている。9は前置増幅器である。
そして、前記干渉フィルタ7a、7bは、測定成分ガス
の吸収波長域の光線を透過し、他の波長域の光線を反射
するものが、ガスフィルタ8a、8bは、干渉成分ガス
の吸収波長域の光線を吸収するものがそれぞれ使用され
ている。
の吸収波長域の光線を透過し、他の波長域の光線を反射
するものが、ガスフィルタ8a、8bは、干渉成分ガス
の吸収波長域の光線を吸収するものがそれぞれ使用され
ている。
この赤外線ガス分析計は、光源/la、4bの光線をチ
ョッパ6によって、ガスフィルタ8a、8bと干渉フィ
ルタ7a、7bを介して比較セル1と測定セル2とに断
続光として入射する。この比較セル1と測定セル2とを
通過して検出器5に入る光量の差によって、ガスを分析
するものである。
ョッパ6によって、ガスフィルタ8a、8bと干渉フィ
ルタ7a、7bを介して比較セル1と測定セル2とに断
続光として入射する。この比較セル1と測定セル2とを
通過して検出器5に入る光量の差によって、ガスを分析
するものである。
そして、光源4a、4bの光線において、測定成分ガス
の吸収波長域の光は、ガスフィルタ8a、8bと干渉フ
ィルタ7a、7bを透過して検出器5に入る。
の吸収波長域の光は、ガスフィルタ8a、8bと干渉フ
ィルタ7a、7bを透過して検出器5に入る。
−11=
一方、干渉成分光は、まずガスフィルタ8a、8bで吸
収されるが、それを通過した干渉成分光は、干渉フィル
タ7a、7bで反射されて、再度ガスフィルタ8a、8
bに入って吸収される。また、干渉フィルタ7a、7b
で反射された干渉成分光において、比較セル1、測定セ
ル2を通過して光源4a、4bの反射ミラーで反射され
たものも再度ガスフィルタ8a、8bで吸収することを
反復する間に減衰させるものである。
収されるが、それを通過した干渉成分光は、干渉フィル
タ7a、7bで反射されて、再度ガスフィルタ8a、8
bに入って吸収される。また、干渉フィルタ7a、7b
で反射された干渉成分光において、比較セル1、測定セ
ル2を通過して光源4a、4bの反射ミラーで反射され
たものも再度ガスフィルタ8a、8bで吸収することを
反復する間に減衰させるものである。
すなわち、干渉成分光はまずガスフィルタ8a、8bの
通過時に吸収されて減少しているから、干渉フィルタ7
a、7bで反射される干渉成分光の量は少なく、かつ干
渉フィルタ7a、7bで反射されて再度ガスフィルタ8
a、8bで吸収されるから、干渉成分光の量は更に少な
くなる。したがって、前記(2)式で示したように、干
渉フィルタ7a、7bに対する入射角に起因して、干渉
フィルタ8a、8bを透過する干渉成分光が生じたとし
ても、その量は極めて少なくなるから、高精度でガスを
分析することかできる。
通過時に吸収されて減少しているから、干渉フィルタ7
a、7bで反射される干渉成分光の量は少なく、かつ干
渉フィルタ7a、7bで反射されて再度ガスフィルタ8
a、8bで吸収されるから、干渉成分光の量は更に少な
くなる。したがって、前記(2)式で示したように、干
渉フィルタ7a、7bに対する入射角に起因して、干渉
フィルタ8a、8bを透過する干渉成分光が生じたとし
ても、その量は極めて少なくなるから、高精度でガスを
分析することかできる。
そして、比較セル1と測定セル2よりも光源4a、4b
側に干渉フィルタ7a、7bが配置されており、これら
でガスフィルタ8a、8bを通過した干渉成分光をただ
ちに反射するから、第2図に示した従来例のように、干
渉フィルタをガスセルよりも検出器側に設けた場合に比
して、比較セル1と測定セル2の内面による反射に伴う
斜め方向成分の発生がなく、検出器5に入る干渉成分光
をより確実に低減することができる。
側に干渉フィルタ7a、7bが配置されており、これら
でガスフィルタ8a、8bを通過した干渉成分光をただ
ちに反射するから、第2図に示した従来例のように、干
渉フィルタをガスセルよりも検出器側に設けた場合に比
して、比較セル1と測定セル2の内面による反射に伴う
斜め方向成分の発生がなく、検出器5に入る干渉成分光
をより確実に低減することができる。
なお、第6図に示したように、光源4aの反射ミラーの
反射光量Rmも考慮した場合の検出器5に対する入射光
量T2は、前記(1)、(2)式から、T2=TI /
(1−RRID ) となる。
反射光量Rmも考慮した場合の検出器5に対する入射光
量T2は、前記(1)、(2)式から、T2=TI /
(1−RRID ) となる。
このような条件において、前記ガスフィルタ8a、8b
を、光源4a、4bと干渉フィルタ7a、7bとの間に
設けているから、反射率が99.99%以上と高い干渉
フィルタ7a、7bと反射率98,5%程度を有する光
源4a、4bの反射ミラーとで、干渉成分光をそれぞれ
ガスフィルタ8a、8bの方に反射して、ガスフィルタ
8a、8bで吸収し減衰させることができる すなわち、干渉フィルタ7a、7bとガスフィルタ8a
、8bのそれぞれが備えた作用を相乗的に活用して、検
出器5に入射される干渉成分光の量を極めて少なくして
、ガスの分析精度を大きく向上させることかできる。
を、光源4a、4bと干渉フィルタ7a、7bとの間に
設けているから、反射率が99.99%以上と高い干渉
フィルタ7a、7bと反射率98,5%程度を有する光
源4a、4bの反射ミラーとで、干渉成分光をそれぞれ
ガスフィルタ8a、8bの方に反射して、ガスフィルタ
8a、8bで吸収し減衰させることができる すなわち、干渉フィルタ7a、7bとガスフィルタ8a
、8bのそれぞれが備えた作用を相乗的に活用して、検
出器5に入射される干渉成分光の量を極めて少なくして
、ガスの分析精度を大きく向上させることかできる。
第1図に示した赤外線ガス分析計(A)と第2図に示し
た従来例の赤外線ガス分析計(B)のそれぞれでCOを
測定し、その測定ガスに干渉成分ガスとしてCO214
VO1%か含まれている場合に、CO2の影響値は、次
のとおりであった。
た従来例の赤外線ガス分析計(B)のそれぞれでCOを
測定し、その測定ガスに干渉成分ガスとしてCO214
VO1%か含まれている場合に、CO2の影響値は、次
のとおりであった。
CO2影響値 影響値比率 S/N比
(A) 35Dtllll O,160,6
9(B) 2251111+11 1
1上記の実検結果からも、第1図に示した実施例の赤
外線ガス分析計は、従来の赤外線ガス分析計よりも干渉
成分光による影響か大巾に低下することか明らかである
。
9(B) 2251111+11 1
1上記の実検結果からも、第1図に示した実施例の赤
外線ガス分析計は、従来の赤外線ガス分析計よりも干渉
成分光による影響か大巾に低下することか明らかである
。
(発明の効果)
本発明の赤外線ガス分析計は上記のように、干渉成分光
を反射する干渉フィルタと干渉成分光を吸収するガスフ
ィルタとを、ガスフィルタを光源側として光源とガスセ
ル間に配置しているから、光源からガスセルに入射され
る光線において、干渉成分光はまずガスフィルタで吸収
される。そして、ガスフィルタで吸収されなかった干渉
成分光は、干渉フィルタで反射されて、再度ガスフィル
タに入って吸収されるが、再度ガスフィルタを通過した
干渉成分光は、光源の反射ミラーなどで反射されて、更
にガスフィルタに入って吸収されることを反復して減衰
させる。
を反射する干渉フィルタと干渉成分光を吸収するガスフ
ィルタとを、ガスフィルタを光源側として光源とガスセ
ル間に配置しているから、光源からガスセルに入射され
る光線において、干渉成分光はまずガスフィルタで吸収
される。そして、ガスフィルタで吸収されなかった干渉
成分光は、干渉フィルタで反射されて、再度ガスフィル
タに入って吸収されるが、再度ガスフィルタを通過した
干渉成分光は、光源の反射ミラーなどで反射されて、更
にガスフィルタに入って吸収されることを反復して減衰
させる。
したがって、ガスフィルタと干渉フィルタとを透過して
ガスセルから検出器に入射される干渉成分光を最少限に
することができる。
ガスセルから検出器に入射される干渉成分光を最少限に
することができる。
そして、前記ガスフィルタと干渉フィルタは光源とガス
セルとの間に配置しているから、大量の干渉成分光がガ
スセルに入って、その内面で反射されることがない。
セルとの間に配置しているから、大量の干渉成分光がガ
スセルに入って、その内面で反射されることがない。
したがって、赤外線ガス分析計のように、干渉フィルタ
をガスセルと検出器との間に配置した場合のように、大
量の干渉成分光がガスセルの内面で反射されることによ
って、干渉フィルタの透過が可能な斜め成分が多くなり
、これが干渉フィルタを透過して検出器に入る問題もな
く、干渉フィルタを透過する干渉成分光の量を極めて少
なくすることができ、一層ガス分析の精度を向上させる
ことができる。
をガスセルと検出器との間に配置した場合のように、大
量の干渉成分光がガスセルの内面で反射されることによ
って、干渉フィルタの透過が可能な斜め成分が多くなり
、これが干渉フィルタを透過して検出器に入る問題もな
く、干渉フィルタを透過する干渉成分光の量を極めて少
なくすることができ、一層ガス分析の精度を向上させる
ことができる。
第1図は本発明の実施例を示す断面図、第2図、第3図
、第4図はそれぞれ異なった従来例の断面図、第5図は
従来例の問題点を説明するための図、第6図は本発明に
おける検出器への入射光量を説明するための図である。 1:比較セル、2:測定セル、4a −4b :光源、
5:検出器、7a −7b :干渉フィルタ、8a −
8b :ガスフィルタ。
、第4図はそれぞれ異なった従来例の断面図、第5図は
従来例の問題点を説明するための図、第6図は本発明に
おける検出器への入射光量を説明するための図である。 1:比較セル、2:測定セル、4a −4b :光源、
5:検出器、7a −7b :干渉フィルタ、8a −
8b :ガスフィルタ。
Claims (1)
- ガスセルの一側に光源が、他側に検出器が配置された赤
外線ガス分析計において、測定成分ガスの吸収波長域の
光線を透過し、他の波長域の光線を反射する干渉フィル
タと干渉成分ガスの吸収波長域の光線を少なくとも吸収
するガスフィルタとが、ガスフィルタを前記光源側とし
て、光源とガスセルとの間に配置されたことを特徴とす
る赤外線ガス分析計。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62145959A JPS63308541A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 赤外線ガス分析計 |
US07/194,491 US4885469A (en) | 1987-06-10 | 1988-05-16 | Infrared gas analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62145959A JPS63308541A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 赤外線ガス分析計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63308541A true JPS63308541A (ja) | 1988-12-15 |
JPH054629B2 JPH054629B2 (ja) | 1993-01-20 |
Family
ID=15396982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62145959A Granted JPS63308541A (ja) | 1987-06-10 | 1987-06-10 | 赤外線ガス分析計 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4885469A (ja) |
JP (1) | JPS63308541A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105169603A (zh) * | 2015-11-02 | 2015-12-23 | 润泰救援装备科技河北有限公司 | 远红外综合气体分析消防车 |
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FI101429B (fi) * | 1995-09-29 | 1998-06-15 | Instrumentarium Oy | Törmäyslevenemän korjaus kaasujen ei-dispersiivisessä absorptiomittauk sessa |
JPH1082740A (ja) * | 1996-09-06 | 1998-03-31 | Shimadzu Corp | 赤外線式ガス分析計 |
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DE19848120C2 (de) * | 1998-10-20 | 2001-09-27 | Abb Patent Gmbh | Einrichtung zur Messung der Strahlungsabsorption von Gasen |
US6369387B1 (en) | 1999-10-15 | 2002-04-09 | Li-Cor, Inc. | Gas analyzer |
GB0005069D0 (en) * | 2000-03-02 | 2000-04-26 | Ecolotrol | A controlled interference spectrometer |
US7034943B1 (en) * | 2000-03-03 | 2006-04-25 | Aritron Intrumente AG | Gas sensors |
US6394784B1 (en) * | 2000-03-08 | 2002-05-28 | Mold-Masters Limited | Compact cartridge hot runner nozzle |
WO2005017502A1 (en) * | 2003-07-28 | 2005-02-24 | Symyx Technologies, Inc. | Parallel infrared spectroscopy apparatus and method |
JP4411599B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2010-02-10 | 横河電機株式会社 | 赤外線ガス分析計および赤外線ガス分析方法 |
US7213444B2 (en) * | 2005-05-16 | 2007-05-08 | Carthago International Solutions, Inc. | Optoacoustic gas sensor |
US7570360B1 (en) | 2007-02-01 | 2009-08-04 | Bah Holdings, Llc | Optical absorption spectrometer and method for measuring concentration of a substance |
US7796265B2 (en) * | 2008-04-24 | 2010-09-14 | Bah Holdings Llc | Optical absorption gas analyser |
US8692997B2 (en) | 2010-08-25 | 2014-04-08 | Bah Holdings Llc | Optical gas and/or particulate sensors |
CN115452755B (zh) * | 2022-09-16 | 2024-06-21 | 中国科学院沈阳自动化研究所 | 一种高温高压气体红外光谱辐射和吸收特性测量方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3869613A (en) * | 1972-02-01 | 1975-03-04 | Akron Scient Labs | Infrared gas analyzers |
US4236827A (en) * | 1978-12-04 | 1980-12-02 | Horiba, Ltd. | Opto-acoustic gas analyzer |
JPS62126329A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-08 | Horiba Ltd | 吸光分析計 |
-
1987
- 1987-06-10 JP JP62145959A patent/JPS63308541A/ja active Granted
-
1988
- 1988-05-16 US US07/194,491 patent/US4885469A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105169603A (zh) * | 2015-11-02 | 2015-12-23 | 润泰救援装备科技河北有限公司 | 远红外综合气体分析消防车 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4885469A (en) | 1989-12-05 |
JPH054629B2 (ja) | 1993-01-20 |
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