JP4401088B2 - 光学走査装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームプリンタやレーザファクシミリ等で使用する光学走査装置であって、複数のレーザビームを用いて複数のラインを同時に書き込むマルチビーム型の光学走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、レーザビームを光源として用いたレーザビームプリンタやレーザファクシミリ等の光学走査装置が開発されている。この様なレーザビーム光学走査装置においては、感光体に対する記録速度の高速化を図るべく、複数のレーザビームを用いて複数のラインを同時に書き込むマルチビーム型の光学走査装置も開発されている。又、特に、半導体レーザは、ON/OFF制御が簡単であり、かつ小型であるという利点があるため、当該半導体レーザを光源として複数用いたレーザビーム光学走査装置の開発が頻繁に行われている。この様な光学走査装置においては、例えば、2個の半導体レーザを光源として用い、これらの半導体レーザからそれぞれ出射された2本のレーザ光を、ポリゴンミラー等の偏向手段により偏向し、感光体上に走査することにより静電潜像を形成している。
【0003】
又、上記の様な複数の半導体レーザを光源として用いた光学走査装置においては、これら2本のレーザ光の光量損失を減少させるべく、感光体上での当該2本のレーザ光の相対的な位置関係を精度良く合わせる必要がある。
【0004】
図5に従来の光学走査装置におけるレーザビーム発生部の平面図を示す。このレーザビーム発生部は、2個の半導体レーザを光源として用い、これらの半導体レーザからそれぞれ出射された2本のレーザ光を、ビーム合成素子により近接した光路上を進行する2本のビームとし、当該ビーム合成素子から出射された2本のレーザビームを1個のアパーチャにより整形するものである。
【0005】
即ち、図5に示す様に、半導体レーザ101から出射されたレーザビームL1、及び半導体レーザ102から出射されたレーザビームL2は、各々、これらのレーザビームを略平行光束にするために設けられたコリメータレンズ103、104に入射し、次いで、ビーム合成素子105に入射する。このビーム合成素子105は、断面が略平行四辺形であるプリズム106と、断面が略直角三角形であるプリズム107を貼り合わせたものであり、貼り合わせ面をビーム合成面108としたものである。尚、当該ビーム合成面108はハーフミラーにより構成されている。ビーム合成面108により合成されたレーザビームL1、L2は、ビーム合成素子105から出射するとともに、シリンドリカルレンズ109により集光され、次いで、アパーチャ110により整形される(例えば、特許文献1参照)。
【0006】
ここで、アパーチャ110には、例えば、金属板をプレス加工したものや、樹脂成形により加工したものが用いられ、一般に、安定した寸法精度で生産することが可能であるため、上記アパーチャ110を透過して整形されたレーザ光の断面における寸法精度も高いと言える。
【0007】
しかし、上記従来技術においては、上述のごとく、ビーム合成面108はハーフミラーにより構成されている。従って、レーザビームL1においては、プリズム106により反射されてビーム合成面108に入射する際に、レーザビームL2においては、プリズム107に入射してビーム合成面108を透過する際に、その一部が当該ハーフミラーにより反射光111として反射してしまうため、レーザビームL1、L2の一部が無駄になってしまい、そもそもレーザ光の光量損失が大きいとい不都合があった。例えば、上記ハーフミラーの透過と反射の比率が5:5の場合、レーザビームL1、L2の50%が無駄になっていた。
【0008】
又、この様なレーザ光の光量損失を補うためには、高出力の半導体レーザを使用する必要があるが、当該高出力の半導体レーザは非常に高価であるため、装置全体の大幅なコストアップの原因となっていた。
【0009】
そこで、上記問題を回避する手段として、ハーフミラーを含めたビーム合成素子を使用しないで、シングルビーム光源を複数並べたビーム発生部が一般的に使用されている。当該ビーム発生部の構成を図6、図7に示す。
【0010】
図6に示す様に、半導体レーザ112から出射されたレーザビームL3、及び半導体レーザ113から出射されたレーザビームL4は、各々、コリメータレンズ114、115に入射して略平行な光束とされた後、アパーチャ116、117により整形される。
【0011】
ここで、図7に示す様に、レーザビームL3、L4は、所定のチルト角θを成して光偏向素子(図7においては、回転多面鏡)118に入射するように、アパーチャ116、117により整形される。光偏向素子118により反射されたレーザビームL3、L4は、結像レンズ119により集束された後、当該チルト角θを維持したまま所定の走査方向に偏向走査される(例えば、特許文献2参照)。
【0012】
このビーム発生部は、上述のごとく、ハーフミラーを含めたビーム合成素子を使用していないため、半導体レーザから出射されたレーザビームの一部がハーフミラーにより反射されることがない。従って、レーザビームの光量損失を効果的に回避することができると言える。
【0013】
【特許文献1】
特開2001−142014号公報(第8頁、第1図)
【特許文献2】
特開平9−146024号公報(第4−5頁、第1図、第4図)
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、図6、図7に示した従来技術においては、上述のごとく、レーザビームL3、L4は、所定のチルト角θを成して光偏向素子118に入射するとともに、結像レンズ119により集束された後も、当該チルト角θを維持したまま、感光体上において走査される。即ち、チルト角θに対応した走査位置のズレが生じた状態で、レーザビームL3、L4は感光体上において走査される。又、複数のレーザビーム間にこの様な走査位置のズレが生じている場合、各レーザビームに対する感光体上での有効走査範囲を確保するためには、当該ズレに対応した光偏向素子の回転が必要になるが、上記従来技術においては、チルト角θが大きな値となっているため、複数のレーザビーム間における走査位置のズレも大きくなってしまう。従って、この場合に、各レーザビームに対する感光体上での有効走査範囲を確保するためには、光偏向素子の回転角を大きくしなければならず、結果として、光偏向素子自体のサイズが拡大するという不都合が生じていた。又、光偏向素子の拡大に伴い、結像レンズのサイズも拡大する必要が生じてしまい、光学走査装置全体の大型化やコストアップという不都合が生じていた。
【0015】
本発明は、上記問題点を解決し、レーザビームの光量損失を効果的に回避することができるともに、光偏向素子を大型化することなく、各レーザビームに対する感光体上での有効走査範囲を確保することができる光学走査装置を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、第1及び第2のレーザ光を感光体上に光偏向素子を用いて主走査方向に走査する光学走査装置であって、第1のレーザ光を発生する第1の光源と、前記第1の光源を出射した第1のレーザ光を略平行光束にする第1のコリメータレンズと、前記第1のコリメータレンズにより略平行光束とされた第1のレーザ光を整形する第1のアパーチャとを備える第1のビーム発生手段と、第2のレーザ光を発生する第2の光源と、前記第2の光源を出射した第2のレーザ光を略平行光束にする第2のコリメータレンズと、前記第2のコリメータレンズにより略平行光束とされた第2のレーザ光を整形する第2のアパーチャとを備える第2のビーム発生手段と、前記第1のアパーチャを出射した第1のレーザ光と、前記第2のアパーチャを出射した第2のレーザ光とを前記光偏向素子に集光させるシリンドリカルレンズと、前記第2のアパーチャを出射した第2のレーザ光を前記第1のアパーチャを出射した第1のレーザ光の光軸に対して主走査方向に所定の角度でもって前記光偏向素子に向けて偏向する偏向光学素子とを備え、前記偏向光学素子は、第2のレーザ光の光路において、前記第2のアパーチャと前記シリンドリカルレンズとの間に配置されることを特徴とする。
【0017】
ここで、本発明においては、前記第2のビーム発生手段は、前記第2のアパーチャを出射した第2のレーザ光を前記第1のアパーチャを出射した第1のレーザ光に対して平行となし、前記偏向光学素子は、前記第2のレーザ光を前記光偏向素子に向けて反射させる二つの反射面を有する多角形プリズムであることができる。
【0018】
又、本発明は、前記第1及び第2のアパーチャは板部材からなり、第1及び第2レーザ光を整形する各スリットは前記板部材に一体に形成されるものとすることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。図1は、本発明の実施形態に係る光学走査装置の全体構成を示す概略図であり、図2は、本発明の実施形態に係る光学走査装置におけるビーム発生部の平面図である。
【0021】
図1に示された光学走査装置は、マルチビーム型の光学走査装置であり、これは、図1に示した2個の光源ユニット50の各々に設けられたビーム発生部1の光源である半導体レーザ2からレーザビームB1、B2を同時に発生させ、それぞれコリメータレンズ3によって略平行化した上で、シリンドリカルレンズ4により集光させ、その後、光偏向素子である回転多面鏡5の反射面6に入射させ、回転多面鏡5の回転による主走査によりそれぞれ主走査方向Xに走査され、回転多面鏡5とともに走査結像手段を構成する結像レンズ7を経て、回転ドラム8の副走査方向Yへの回転により回転ドラム8上の結像面である感光体に結像させ、感光体に静電潜像を形成するものである。
【0022】
各ビーム発生部1に設けられた光源である半導体レーザ2から発生したレーザビームB1、B2は、各ビーム発生部1に設けられたコリメータレンズ3により略平行光束とされる。
【0023】
コリメータレンズ3により略平行光束とされたレーザビームB1、B2は、各々、各ビーム発生部1に設けられたアパーチャ18により断面形状が整形される。又、図1、図2に示す様に、これら2つのアパーチャ18は、どちらもコリメータレンズ3と偏向光学素子である三角プリズム19の間に設けられているが、特に、コリメータレンズ3側(半導体レーザ2側)に近接して設けられている。尚、当該三角プリズム19については、後に詳しく説明する。
【0024】
又、図2に示す様に、アパーチャ18には、コリメータレンズ3の端面に対向し、コリメータレンズ3により略平行光束とされたレーザビームB1、B2を整形するためのスリット21が形成されている。このアパーチャ18には、例えば、金属板をプレス加工したものや、樹脂射出成形(例えば、ABS樹脂の射出成形)により加工したものが用いられ、スリット21の高精度な内径寸法が実現されたものが用いられる。レーザビームB1、B2を、この様な高精度な内径寸法を有するアパーチャ18に透過させることにより、断面の寸法精度が高いレーザビームB1、B2を整形することが可能になる。
【0025】
尚、上記加工法を用いれば、アパーチャ18を安価に生産することができるが、スリット21の内径寸法を高精度かつ安定して実現できる加工法であれば、例えば、切削加工法やエッチング等の高価な加工法を用いて生産しても良い。
【0026】
アパーチャ18により整形されたレーザビームB1は、シリンドリカルレンズ4により、回転多面鏡5の反射面6に線状に集光される。
【0027】
一方、アパーチャ18により整形されたレーザビームB2は、偏向光学素子である三角プリズム19に入射し、三角プリズム19の内部反射面22により反射され光路が変更された後、シリンドリカルレンズ4により、回転多面鏡5の反射面6に線状に集光される。この際、三角プリズム19は、レーザビームB1、B2が近接した状態で光偏向素子である回転多面鏡5へ入射するように、アパーチャ18により整形されたレーザビームB2を偏向する。
【0028】
ここで、本実施形態においては、上述のごとく、アパーチャ18は、コリメータレンズ3と偏向光学素子である三角プリズム19の間に設けられているため、当該アパーチャ18により断面の寸法精度が高くなる様に整形されたレーザビームB2を、三角プリズム19に入射させることが可能となり、結果として、レーザビームB1、B2を高精度で限界まで近接させることが可能になる。
【0029】
又、本実施形態においては、偏向光学素子として、三角プリズム19のみを使用し、ハーフミラーは使用していないため、ハーフミラーを用いた場合に発生するレーザビームの光量損失を効果的に回避することができる。又、レーザビームの光量損失を補うために、非常に高価な高出力の半導体レーザを使用する必要がないため、装置全体の大幅なコストアップを回避することができる。尚、使用する偏向光学素子は、レーザビームの光量損失を効果的に回避できるものであれば良く、例えば、反射ミラー(レーザミラー)や菱形プリズム、その他の多角形プリズムを使用しても良い。
【0030】
各ビーム発生部1から出射されたレーザビームB1、B2は、シリンドリカルレンズ4により集光された後、レーザビームB1、B2の光軸が、照射点である回転多面鏡5の反射面6を中心として所定のチルト角αを成すように、回転多面鏡5の反射面6に入射する。ここで、本実施形態においては、上述のごとく、アパーチャ18は、高精度な内径寸法を有しており、コリメータレンズ3と偏向光学素子である三角プリズム19の間に設けられているため、断面の寸法精度が高いレーザビームB1、B2を整形することが可能になるとともに、当該断面の寸法精度が高いレーザビームB2を三角プリズム19に入射、及び反射させることが可能となる。従って、レーザビームB1、B2を精度良く近接させることが可能になるため、当該チルト角αを微少値(例えば、3°〜5°)とすることが可能になる。
【0031】
即ち、三角プリズム19は、レーザビームB1、B2の回転多面鏡5への入射角の差が微差となるように、レーザビームB2を偏向する。従って、各レーザビームB1、B2の回転多面鏡5への入射角に僅かな差(即ち、角度α)が設けられた状態で、これらのレーザビームB1、B2を回転多面鏡5の反射面6に入射させることが可能になる。
【0032】
回転多面鏡5は、多面体(一般には5〜10角程度)のミラーであり、中心軸に取り付けられた回転モータ(図示せず)により一定の角速度で高速回転を行う。シリンドリカルレンズ4により集光されたレーザビームB1、B2は、回転多面鏡5により角度を変えて放射状に反射され、回転ドラム8のX軸方向(主走査方向)に当該レーザ光を走査することが可能となる。
【0033】
ここで、本実施形態においては、図1に示す様に、レーザビームB1、B2が、上記チルト角αを維持したまま、回転ドラム8の主走査方向に偏向走査されるように、回転多面鏡5が回転モータ(図示せず)により一定の角速度で高速回転を行う。この際、チルト角αに対応した走査位置のズレが生じた状態で、レーザビームB1、B2は回転ドラム8上において走査されるが、本実施形態においては、上述のごとく、チルト角αは微少値であるため、レーザビームB1、B2間における走査位置のズレも小さくなっている。従って、各レーザビームB1、B2に対する回転ドラム8上での有効走査範囲を確保するために、回転多面鏡5の回転角を大きくする必要がなく、結果として、回転多面鏡8のサイズを拡大することなく、各レーザビームB1、B2に対する回転ドラム8上での有効走査範囲を確保することが可能となる。又、回転ドラム8の拡大に伴う結像レンズ7の拡大を回避することができるため、光学走査装置全体の大型化やコストアップという不都合も回避することができる。
【0034】
結像レンズ7は、球面レンズ部とトーリックレンズ部からなり、シリンドリカルレンズ4と同様に感光体上の点像の歪を防ぐ機能を有するとともに、前記点像が感光体上で主走査方向に等速度で走査されるように補正する機能を有する。この様な補正を必要とするのは、回転多面鏡5から回転ドラム8までの距離は、回転ドラム8の端部と中央部では異なるため、一定速度で回転する回転多面鏡5に一定間隔でON/OFFを繰り返すレーザ光を照射しても、回転ドラム8上での走査速度は一定にならないため、回転多面鏡5により広がったレーザ光の反射角度を絞り込んで偏向し、回転ドラム8上に等間隔にレーザ光を投光する必要があるからである。
【0035】
2つの半導体レーザ2は、前述のように複数のレーザビームB1、B2を同時に発光するもので、レーザホルダ11に保持されており、レーザ駆動回路基板13とともに光学箱14の開口部15を介して側壁16に組み付けられる。コリメータレンズ3は、鏡筒12に保持されており、当該鏡筒12と一体となって筐体である光学箱14の底壁17に組み付けられる。
【0036】
又、シリンドリカルレンズ4、回転多面鏡5、結像レンズ7、アパーチャ18、三角プリズム19等の各光学部品は、筐体である光学箱14の底壁17に組み付けられる。各光学部品を光学箱14に組み付けた上で、光学箱14の上部開口を蓋部材(図示せず)によって閉塞する。
【0037】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて各部の構造、形状等を適宜変更することが可能であり、それらを本発明の範囲から除外するものではない。
【0038】
例えば、上記実施形態においては、コリメータレンズ3により略平行光束とされたレーザビームB1、B2は、各々、各ビーム発生部1に設けられたアパーチャ18により整形される構成としたが、図3に示す様に、2つのマルチビーム半導体レーザ2を、コリメータレンズ3に入射するレーザビームB1、B2が互いに略平行となるように配置し、コリメータレンズ3により略平行光束とされたレーザビームB1、B2に対して共通のアパーチャ23を設けて整形する構成としても良い。
【0039】
この場合、図3に示す様に、ビーム発生部9は、レーザビームB1、B2を発生する半導体レーザ2と、レーザビームB1、B2を略平行光束にするコリメータレンズ3とを備えている。
【0040】
レーザビームB1、B2は、コリメータレンズ3により略平行光束とされた後、アパーチャ23により整形されるが、このうちレーザビームB2は、偏向光学素子である多角形プリズム24に入射し、多角形プリズム24の反射面25、26により反射され光路が変更された後、シリンドリカルレンズ4により、回転多面鏡5の反射面6に線状に集光される。この際、多角形プリズム24は、レーザビームB1、B2が近接した状態で回転多面鏡5へ入射するように、上記レーザビームB2を偏向する。
【0041】
又、アパーチャ23は、図3に示す様に、2つのコリメータレンズ3と偏向光学素子である多角形プリズム24の間に設けられているが、特に、コリメータレンズ3側(半導体レーザ2側)に近接して設けられている。又、上記実施形態と同様に、偏向光学素子として当該多角形プリズム24のみを使用し、ハーフミラーは使用していないため、ハーフミラーを用いた場合に発生するレーザビームの光量損失を効果的に回避することができるとともに、レーザビームの光量損失を補うために、非常に高価な高出力の半導体レーザを使用する必要がないため、装置全体の大幅なコストアップを回避することができる。
【0042】
又、図3に示す様に、アパーチャ23には、コリメータレンズ3の端面に対向し、コリメータレンズ3により略平行光束とされたレーザビームB1、B2を整形するための2つのスリット27が形成されており、上記実施形態において説明したアパーチャ18と同様に、例えば、金属板をプレス加工したものや、樹脂射出成形(例えば、ABS樹脂の射出成形)により加工したものが用いられ、2つのスリット27の高精度な内径寸法が実現されたものが用いられる。又、上述のごとく、アパーチャ24は、コリメータレンズ3と偏向光学素子である多角形プリズム24の間に設けられている。従って、この場合も、上記実施形態と同様に、断面の寸法精度が高いレーザビームB1、B2を整形することが可能になる。
【0043】
又、この場合も、上記実施形態と同様に、多角形プリズム24により、レーザビームB1、B2の回転多面鏡5への入射角の差が微差となるように、レーザビームB2を偏向することができるため、各レーザビームB1、B2の回転多面鏡5への入射角に僅かな差(即ち、角度α)が設けられた状態で、これらのレーザビームB1、B2を回転多面鏡5の反射面6に入射させることが可能になり、結果として、レーザビームB1、B2は、上記チルト角αを維持したまま、回転ドラム8の主走査方向に偏向走査されることになる。従って、回転多面鏡8のサイズを拡大することなく、各レーザビームB1、B2に対する回転ドラム8上での有効走査範囲を確保することが可能となるとともに、回転ドラム8の拡大に伴う結像レンズ7の拡大を回避することができるため、光学走査装置全体の大型化やコストアップという不都合も回避することができる。尚、その他の構成については、図1に示した上記実施形態と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【0044】
又、上記実施形態においては、コリメータレンズ3は、レーザホルダ11と一体的に結合した鏡筒12に保持され、アパーチャ18は、筐体である光学箱14の底壁17に組み付けられる構成としたが、図4に示す様に、アパーチャをコリメータレンズの保持部材である鏡筒と一体的に成形する構成としても良い。
【0045】
この場合、図4に示す様に、ビーム発生部10は、レーザビームB1、B2を発生する半導体レーザ2、及び、レーザビームB1、B2を略平行光束にするコリメータレンズ3と、コリメータレンズ3を内蔵し保持する鏡筒29と、鏡筒29に装着され、コリメータレンズ3により略平行光束とされたレーザビームB1、B2を整形するアパーチャ18により構成されたコリメータレンズユニット28とを備えている。尚、鏡筒29には、光源であるマルチビーム半導体レーザ2から発生した2本のレーザビームB1、B2を、コリメータレンズ3に入射させるためのスリット30が形成されている。
【0046】
この場合も、上記実施形態において説明した様に、アパーチャ18により整形されたレーザビームのうち、レーザビームB2は、偏向光学素子である三角プリズム19に入射し、三角プリズム19の内部反射面22により反射され光路が変更された後、シリンドリカルレンズ4により、回転多面鏡5の反射面6に線状に集光される。この際、上記実施形態と同様に、三角プリズム22は、レーザビームB1、B2が近接した状態で回転多面鏡5へ入射するように、上記レーザビームB2を偏向する。
【0047】
又、上記実施形態と同様に、アパーチャ18は、コリメータレンズ3と偏向光学素子である三角プリズム22の間に設けられており、特に、コリメータレンズ3側(半導体レーザ2側)に近接して設けられており、又、偏向光学素子として三角プリズム19のみを使用し、ハーフミラーは使用していないため、ハーフミラーを用いた場合に発生するレーザビームの光量損失を効果的に回避することができるとともに、レーザビームの光量損失を補うために、非常に高価な高出力の半導体レーザを使用する必要がないため、装置全体の大幅なコストアップを回避することができる。
【0048】
又、上記実施形態において説明した様に、アパーチャ18は、例えば、金属板をプレス加工したものや、樹脂射出成形(例えば、ABS樹脂の射出成形)により加工したものが用いられ、スリット21の高精度な内径寸法が実現されたものが用いられるため、断面の寸法精度が高いレーザビームB1、B2を整形することが可能になり、又、三角プリズム22は、レーザビームB1、B2の回転多面鏡5への入射角の差が微差となるように、レーザビームB2を偏向する。従って、各レーザビームB1、B2の回転多面鏡5への入射角に僅かな差(即ち、角度α)が設けられた状態で、これらのレーザビームB1、B2を回転多面鏡5の反射面6に入射させることが可能になり、レーザビームB1、B2は、上記チルト角αを維持したまま、回転ドラム8の主走査方向に偏向走査されることになる。従って、回転多面鏡8のサイズを拡大することなく、各レーザビームB1、B2に対する回転ドラム8上での有効走査範囲を確保することが可能となるとともに、回転ドラム8の拡大に伴う結像レンズ7の拡大を回避することができるため、光学走査装置全体の大型化やコストアップという不都合も回避することができる。尚、その他の構成については、図1に示した上記実施形態と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【0049】
又、上記実施形態においては、2つのビーム発生部を備えた光学走査装置に基づいて説明を行ったが、当該ビーム発生部は2つに限定されず、本発明は、2以上の複数のビーム発生部を備える光学走査装置であれば、いすれにも適用することができる。例えば、n個のビーム発生部、即ち、第1、第2、第3、…第nのビーム発生部を備える光学走査装置の場合、上記実施形態において、図1〜図4を用いて説明した2つのビーム発生部と偏向光学素子との構成を、例えば、第1、第3のビーム発生部と偏光光学素子との構成や、第1、第nのビーム発生部と偏光光学素子との構成に適宜適用することができる。
【0050】
【発明の効果】
以上、説明した様に、本発明に係る光学走査装置においては、偏向光学素子としてプリズムのみを使用し、ハーフミラーは使用していないため、ハーフミラーを用いた場合に発生するレーザビームの光量損失を効果的に回避することができる。又、レーザ光の光量損失を補うために、高出力の半導体レーザを使用する必要がないため、装置全体の大幅なコストアップを回避することができる。
【0051】
又、本発明に係る光学走査装置においては、各ビーム発生部に設けられたアパーチャは、コリメータレンズと偏向光学素子であるプリズムの間に設けられており、又、当該アパーチャには、例えば、金属板をプレス加工したものや、樹脂射出成形により加工したものが用いられ、アパーチャに形成されたスリットの高精度な内径寸法が実現されたものが用いられるため、断面の寸法精度が高いレーザビームを整形することが可能になる。従って、各アパーチャにより整形された複数のレーザビームを高精度で限界まで近接させることが可能になるとともに、当該複数のレーザビームが成すチルト角αを小さな値にすることができるため、複数のレーザビーム間における走査位置のズレを小さくすることができ、結果として、回転多面鏡のサイズを拡大することなく、各レーザビームに対する回転ドラム上での有効走査範囲を確保することができる。又、回転ドラムの拡大に伴う結像レンズの拡大を回避することができるため、光学走査装置全体の大型化やコストアップという不都合も回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】は、本発明の実施形態に係る光学走査装置の全体構成を示す概略図である。
【図2】は、本発明の実施形態に係る光学走査装置におけるビーム発生部の平面図である。
【図3】は、本発明の実施形態に係る光学走査装置におけるビーム発生部の変形例を示す正面図である。
【図4】は、本発明の実施形態に係る光学走査装置におけるビーム発生部の変形例を示す正面図である。
【図5】は、従来の光学走査装置におけるビーム発生部の平面図である。
【図6】は、従来の光学走査装置におけるビーム発生部の平面図である。
【図7】は、従来の光学走査装置の全体構成を示す概略図である。
【符号の説明】
1 ビーム発生部
2 マルチビーム半導体レーザ
3 コリメータレンズ
4 シリンドリカルレンズ
5 回転多面鏡
7 結像レンズ
8 回転ドラム
9、10 ビーム発生部
14 光学箱
18 アパーチャ
19 三角プリズム
23 アパーチャ
24 多角形プリズム
28 コリメータレンズユニット
29 鏡筒
B1、B2 レーザビーム
Claims (3)
- 第1及び第2のレーザ光を感光体上に光偏向素子を用いて主走査方向に走査する光学走査装置であって、
第1のレーザ光を発生する第1の光源と、前記第1の光源を出射した第1のレーザ光を略平行光束にする第1のコリメータレンズと、前記第1のコリメータレンズにより略平行光束とされた第1のレーザ光を整形する第1のアパーチャとを備える第1のビーム発生手段と、
第2のレーザ光を発生する第2の光源と、前記第2の光源を出射した第2のレーザ光を略平行光束にする第2のコリメータレンズと、前記第2のコリメータレンズにより略平行光束とされた第2のレーザ光を整形する第2のアパーチャとを備える第2のビーム発生手段と、
前記第1のアパーチャを出射した第1のレーザ光と、前記第2のアパーチャを出射した第2のレーザ光とを前記光偏向素子に集光させるシリンドリカルレンズと、
前記第2のアパーチャを出射した第2のレーザ光を前記第1のアパーチャを出射した第1のレーザ光の光軸に対して主走査方向に所定の角度でもって前記光偏向素子に向けて偏向する偏向光学素子とを備え、
前記偏向光学素子は、第2のレーザ光の光路上で前記第2のアパーチャと前記シリンドリカルレンズとの間に配置されることを特徴とする光学走査装置。 - 前記第2のビーム発生手段は、前記第2のアパーチャを出射した第2のレーザ光を前記第1のアパーチャを出射した第1のレーザ光に対して平行となし、前記偏向光学素子は、前記第2のレーザ光を前記光偏向素子に向けて反射させる二つの反射面を有する多角形プリズムであることを特徴とする請求項1に記載の光学走査装置。
- 前記第1及び第2のアパーチャは板部材からなり、第1及び第2レーザ光を整形する各スリットは前記板部材に一体に形成されることを特徴とする請求項2に記載の光学走査装置。
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