JP4381247B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
前記液溜まり部は、上流側にあたる配管を外側から内側に向かって所定方向周りに大半径で曲げつつ、所定間隔を隔てて平面状で配置し、中心部で前記所定方向とは逆方向に折り返して配置し、前記所定方向周りに配置された配管に沿わせて内側から外側に向かって配置し、下流側にあたる前記ノズルに連通接続されていることを特徴とする基板処理装置。
次に、図面を参照してこの発明の参考例1を説明する。
次に、図面を参照してこの発明の参考例2を説明する。
次に、図面を参照してこの発明の参考例3を説明する。
1 … スピンチャック
3 … 飛散防止カップ
5 … 供給ノズル
7 … 待機ポット
9 … 第1移動機構
11 … リニアガイド
13 … 螺軸
15 … 第2移動機構
17 … 移動ヘッド
19 … 配管
21 … 挟持ハンド
23 … 温調部
25 … 液溜まり部
27 … 板状部材
29 … ノズル先端
33 … 折り返し部
39 … 案内溝
Claims (4)
- 1ショット分の量を超える処理液を貯留可能な配管を備えた液溜まり部に対して温調手段で所定温度に温調を行い、前記配管の下流側にあたるノズルから基板に対して処理液を供給する基板処理装置において、
前記配管は、前記液溜まり部における上流側と下流側とを互いに当接または近接させて配設され、
前記液溜まり部は、上流側にあたる配管を外側から内側に向かって所定方向周りに所定間隔を隔てて平面状で配置し、中心部で前記所定方向とは逆方向に折り返して配置し、前記所定方向周りに配置された配管に沿わせて内側から外側に向かって配置し、下流側にあたる前記ノズルに連通接続されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記温調手段は、前記液溜まり部に対して着脱自在であり、前記液溜まり部に当接または近接して前記配管内の処理液に対する温調を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記配管の折り返しは、S字状を呈することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記液溜まり部は、熱伝導率が高い材料からなる二片の板状部材を備え、
前記二片の板状部材が対向する面には、前記配管の外形に応じた凹部が形成されていることを特徴とする基板処理装置。
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