JP4374037B2 - 不揮発性半導体メモリ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
従来のMONOSによる電荷蓄積層を含むメモリセルの構造は、例えばソース・ドレインが形成されたシリコン基板のチャネル領域上に絶縁膜(酸化物膜)からなるトンネル層と、窒化シリコン膜からなるトラップ層と、絶縁膜からなるブロック層と、金属ゲート電極の積層構造とにより構成されている。
まず、本実施形態に係る不揮発性半導体メモリ(電荷蓄積型メモリ)の概念について説明する。
図1には、シリコンからなる層又は基板例えば、シリコン半導体基板1上面に、ソース領域(S)3と、ドレイン領域(D)2とが、間隔(又は、距離:チャネル長)を空けて形成される。この間隔は、メモリの設計仕様に基づき適宜設定される距離であり、チャネル領域10として形成されている。チャネル領域10は、データを伝搬するための電流通路となる。
この電荷蓄積層5は、窒化シリコン膜よりも十分に誘電率の高い物質を母体材料として、その中には、電子の出し入れが可能なトラップレベルを発生させるために、高価数物質と、窒素とを同時に適量添加されている。尚、窒素に代わって、炭素、ホウ素、又は低価数物質を添加しても有効である。
電荷蓄積型メモリにおいて、窒化シリコンに比べて、十分に高い誘電率を有するTi酸化物、Zr酸化物又は、Hf酸化物等の金属酸化物へ高価数物質を添加した結果、以下のような知見を得ている。これらの金属酸化物からなる高誘電体膜の製造方法としては、現在の代表的な成膜方法である、CVD(chemical vapor deposition)法、ALD(atomic layer deposition)法、MBE(molecular beam epitaxy)法、スパッタ法、蒸着法、塗布した後にレーザー照射を組み合わせる方法等のいずれかを用いることができる。
まず、高誘電率を持つ母体材料により電荷蓄積層5を形成する。この時、電荷蓄積層5に加わる電圧が低減でき、印加電圧の大部分をトンネル層4に印加することができる。その結果、低電圧でのメモリ動作が可能となる。さらに、電荷を閉じ込めるために用いる第2の絶縁層(ブロック層)6の誘電率も高くすることで、より低電圧化が可能となる。
価数がIVであるTi酸化物、Zr酸化物、Hf酸化物等の高誘電体材料に低価数の物質を添加しても、基本的には、ギャップ内部にレベルは発生しない。これは、製造工程中に行われる熱処理(アニール処理等)により、酸素欠陥を出現させて、膜構造が安定化されているからである。窒素導入においても全く同様である。
図5には、RuのみをSrTiO3中に導入した場合の模式図を示す。
さらに、安定性から物質をさらに絞り込むことが可能である。例えば、Os、Ru、Ir又は、Rhがある。
まず、添加量の下限について説明する。添加物質が電荷蓄積層中に、面密度σ[C/cm2]で分布する時の添加量の下限について説明する。この時、蓄積電荷による閾値変化は、Vth[V]≒1.8×10−13×σ程度である。但し、各誘電体膜の膜厚や誘電率に依存して、一桁程度の変化はあり得る。Vthシフト量として意味がある範囲は、界面における面密度が、1×1012cm−2以上であれば、±0.2eV程度のVth変化が得られて有効である。さらに面密度が、5×1012cm−2以上であれば十分なシフト量(±1.0eV)が確保できる。
よって、本実施形態における上限は、面密度で表せば、0.7×1014cm−2がより好ましい。この値が図6,図7に示す横軸がゼロ時の、高価数物質量[MH]の上限2A,2B(より厳しい条件)の値となる。
また、以下に数式の形で示している。図6中の(s)には、例として、[Ru]=3.5×1013cm−2かつ、[N]=4.0×1013cm−2の場合が示されている。
1.0×1012cm−2-1.3×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]≦[MH]≦2.0×1014cm−2+0.8×1014cm−2×{価数差×[A]}/[MH] の範囲にある。この範囲の添加物質が有効である。
1.0×1012cm−2-1.3×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]≦[MH]≦
2.8×1014cm−2の範囲にある。この範囲の添加物質が有効である。ここで、各数値式は、上記のように、下限1を表現した数値式(1.0×1012cm−2-1.3×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH])、又は上限1Aを表現した数値式(ここでは、定数であり、2.8×1014cm−2である)になる。
5.0×1012cm−2-6.7×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]≦[MH]≦2.8×1014cm−2の範囲にある。この範囲の添加物質が有効である。
図7は、高価数の物質に、W、Mo、Cr、Mn、又はFe(第2グループGr−Bとして、図7に示すように、上限に添え字Bを付加する)を用いた場合を示している。図示される範囲は、まず、広い条件として、図7に示す上限1Bから下限1の間とする。各数値の意味は、前述しているため省略する。ここでは、数値式によって範囲を明示している。
5.0×1012cm−2-6.7×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]≦[MH]≦0.7×1014cm−2+6.5×1013cm−2×{価数差×[A]}/[MH]の範囲にある。これらの範囲内の添加物質が有効になる。ここで、5.0×1012cm−2-6.7×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]は、下限2を表現した数値式であり、この下限2より上であることを意味する。また、0.7×1014cm−2+6.5×1013cm−2×{価数差×[A]}/[MH]は、横軸が0から2までの間の上限2Bを表現した数値式であり、この上限2B以下であることを意味する。
高価数の添加物質として、Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Co、Ni、W、Mo、Cr、Mn、又はFeを用いる。これらの添加物質のいずれかを導入した時に、電荷蓄積層のギャップ内に出現するレベル内に導入される全電子数を[e]とする。窒素、炭素、ホウ素、又は、低価数物質の全導入量を[B]とし、価数差をKと示せば、K=1(窒素の場合)、K=2(炭素の場合)、K=3(ホウ素の場合)、K=2(II価の低価数物質の場合)、K=1(III価の低価数物質の場合)とする。ここで、窒素(又は、炭素、ホウ素、低価数物質)が受け入れることのできる電子数は、K×[B]であるので、0≦{K×[B]}/[e]≦1.0であることが好ましい。
前述した事項について、さらに、高価数物質の添加量と導入電子数に分解して詳細に説明する。高価数の物質(添加物質)として、第1群である(Tc,Re,Ru,Os,Rh,Ir,Pd,Pt,Co,Ni、W、Mo、Cr、Mn、又はFe)の導入される量を[A]とする。また、第2群である(窒素、炭素、ホウ素、又は低価数物質(Mg,Ca,Sr,Ba,Al,Sc,Y,La又はLa系列物質)の全導入量を[B]とする。価数差K、Lを以下のように定義する。K=1(窒素の場合)、K=2(炭素の場合)、K=3(ホウ素の場合)、K=2(II価の低価数物質の場合)、K=1(III価の低価数物質の場合)。ここで、価数差Kは、添加物質一つあたりの、価電子帯の頂上にできる電子の穴の数(つまり、受け取ることのできる電子数)とする。よって、K×[B]は、窒素(又は炭素、ホウ素、低価数物質)が受け入れることのできる電子の数である。
高価数物質がCr,Mo及びWの場合、L=2である。Mn,Tc及びReの場合、L=3であり、Fe,Ru及びOsの場合、L=4であり、Co,Rh,及びIrの場合、L=5であり、Ni,Pd及びPtの場合、L=6である。
次に、第1の実施形態の第1の変形例について説明する。
図4は、第1の変形例に係るメモリセルの主要部を示す断面図である。図13は、シリコン基板上に第1の絶縁層(トンネル層)/電荷蓄積層/第2の絶縁層(ブロック層)/制御ゲート電極(書込・読出・消去制御電極)からなる積層膜のバンド構造を模式的に示した図である。
この第2の変形例は、電荷蓄積層5の母体をSrTiO3からTiO2に変更した構造である。積層構造は、前述した図1に示すものと同等である。
次に、第1の実施形態の第3の変形例について説明する。
この第3の変形例は、第2の変形例と同様に、ブロック層6の一部に金属プアー層を導入した構成である。構成においては、図4に同様な積層構造であるため、構造に説明については省略する。
図15及び図16に示す第2の実施形態の不揮発性半導体メモリは、Fin構造に適用した電荷蓄積メモリである。この電荷蓄積メモリは、例えば、CVD法やALD法を用いてSTI技術を応用したFinFET型の電荷蓄積メモリを形成する例について説明する。
本変形例は、図17に示すように、SiからなるFin部21の周囲をキャップ形状にトンネル層22、電荷蓄積層23、ブロック層24及び電極25が重なるように順次覆うことで、MONOS型の電荷蓄積メモリを構成している。
電荷蓄積層として、HfO2中へLaのみを添加した場合について説明する。ここでは、La系列の他の物質のみ(Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu)を添加した場合にも同様である。図19に示すように、HfO2中のLaは酸素欠損を誘発し、その状態で安定している。その結果、伝導帯底付近に電子状態を出現させ、Hfとの相互作用を通して、膜全体に混在し広がった状態となる。その結果、面密度にして、1×1012cm−2を添加した段階で既にn型的な描像を示すことが分かっている。
電荷蓄積層として、HfO2中へNb(V、Taでも同様)を導入した場合について説明する。図20に示すように、Nbは、Laのようには酸素欠陥は誘発せず、Nbそのものが電子をHfO2などの酸化物に与えることになる。その結果n型的な振る舞いをする。Ti酸化物、Zr酸化物、Hf酸化物をn型化させることになり、比較例1と同様に、トンネル層を薄くすることができなくなる。
電荷蓄積層として、SrTiO3中へ酸素欠陥を導入した場合について説明する。図21に示すように、酸素欠陥は、少量であっても、n型的な振る舞いをする。Ti酸化物、Zr酸化物、Hf酸化物をn型化させることになる。比較例1と同様、トンネル層を薄くすることができなくなる。尚、TiO2膜に酸素欠陥を導入した場合でも同様のバンド構造を有している。
不揮発性半導体メモリの製造方法であって、半導体基板上にチャネル領域となる間隔を空けてソース領域及びドレイン領域が形成され、前記チャネル領域上に第1の絶縁層が形成され、前記第1の絶縁層上に、Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Co、Ni、W、Mo、Cr、Mn、及びFeからなる第1群の中から少なくとも1つと、窒素、炭素、ホウ素、Mg,Ca,Sr,Ba,Al,Sc,Y,La及びLa系列物質からなる第2群の中から少なくとも1つと、を添加したTi、Zr又はHfの酸化物誘電体膜を有する電荷蓄積層が形成され、前記電荷蓄積層上に第2の絶縁層が形成され、前記第2の絶縁層上に制御ゲート電極が形成されることを特徴とする不揮発性半導体メモリの製造方法。
2)Ti、Zr又はHfの酸化物からなる高誘電体への、高価数物質添加を行うことにより、バンドギャップ中にレベルが発生し、十分な電荷蓄積を実現する。さらに、窒素(又は炭素、ホウ素、低価数物質)を導入することで、トラップレベル内の電子数、トラップレベルのエネルギーを制御することができ、より多くの電荷蓄積量を確保でき、より安定に電荷蓄積状態を維持できる。
4)発生したレベルからは、電子を出し入れできる。よって、過剰に電子を引き抜くことも可能となり、大きな閾値変動幅が確保可能である。その結果、多値化が容易に実現できる。
5)酸素欠損による制御のように、膜がn型半導体とならないため、トンネル層の局所的な欠陥によって電荷が消失することを防止できる。
Claims (20)
- チャネル領域となる間隔を空けてソース領域及びドレイン領域が設けられた半導体基板と、
前記チャネル領域上に形成される第1の絶縁層と、
Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Co、Ni、W、Mo、Cr、Mn、及びFeからなる第1群の中から少なくとも1つと、窒素、炭素、ホウ素、Mg,Ca,Sr,Ba,Al,Sc,Y,La及びLa系列物質からなる第2群の中から少なくとも1つと、を添加したTiの酸化物誘電体膜を有し、前記第1の絶縁層上に形成される電荷蓄積層と、
前記電荷蓄積層上に形成される第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上に形成される制御ゲート電極と、
を具備することを特徴とする不揮発性半導体メモリ。 - チャネル領域となる間隔を空けてソース領域及びドレイン領域が設けられた半導体基板と、
前記チャネル領域上に形成される第1の絶縁層と、
Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Co、Ni、W、Mo、Cr、Mn、及びFeからなる第1群の中から少なくとも1つと、窒素、炭素、ホウ素、Mg,Ca,Sr,Ba,Al,Sc,Y,La及びLa系列物質からなる第2群の中から少なくとも1つと、を添加したTi、Zr又はHfの酸化物誘電体膜を有し、前記第1の絶縁層上に形成される電荷蓄積層と、
前記電荷蓄積層上に形成される第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上に形成される制御ゲート電極と、
を具備 し、
前記第1群のうち、前記Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Co又はNiは、前記酸化物誘電体膜中の面密度が2×10 11 cm −2 から2.8×10 14 cm −2 の範囲内であり、さらに、前記第1群のうち、前記W、Mo、Cr、Mn又はFeは、前記酸化物誘電体膜中の面密度が2×10 11 cm −2 から2×10 14 cm −2 の範囲内であることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。 - 前記第1群のいずれかは、前記酸化物誘電体膜中の前記Ti、Zr又はHfと置換し、
前記第2群のうち、前記窒素、炭素又はホウ素は、前記酸化物誘電体膜中の酸素と置換し、前記Mg,Ca,Sr,Ba,Al,Sc,Y,La又はLa系列物質は、前記酸化物誘電体膜中の前記Ti、Zr又はHfと置換することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の不揮発性半導体メモリ。 - 前記第1群のいずれかは、前記酸化物誘電体膜中の面密度が5×1012cm−2から0.7×1014cm−2の範囲内であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。
- 前記第1群のうち、前記Tc,Re,Ru,Os,Rh,Ir,Pd,Pt,Co,又はNiの前記酸化物誘電体膜中の面密度を[MH]と表し、
前記第2群のいずれかの前記酸化物誘電体膜中の面密度を[A]と表し、
前記第2群の価数差をKと表すとき、
窒素の場合K=1であり、炭素の場合K=2であり、ホウ素の場合K=3であり、Mg,Ca,Sr及びBaの場合K=2であり、Al,Sc,Y,La及びLa系列物質の場合K=1であり、前記[MH]、前記[A]及び前記Kは、
0≦{K×[A]}/[MH]≦1で且つ、
1.0×1012cm−2-1.3×1011cm−2×{K×[A]}/[MH]≦[MH]≦2.0×1014cm−2+0.8×1014cm−2×{K×[A]}/[MH]
の第1の範囲、又は
1≦{K×[A]}/[MH]≦6で且つ、
1.0×1012cm−2-1.3×1011cm−2×{K×[A]}/[MH]≦[MH]≦2.8×1014cm−2
の第2の範囲に属することを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。 - 前記第1群のうち、前記Tc,Re,Ru,Os,Rh,Ir,Pd,Pt,Co又はNiの前記酸化物誘電体膜中の面密度を[MH]と表し、
前記第2群のいずれかの前記酸化物誘電体膜中の面密度を[A]と表し、
前記第2群の価数差をKと表すとき、窒素の場合K=1であり、炭素の場合K=2であり、ホウ素の場合K=3であり、Mg,Ca,Sr及びBaの場合K=2であり、Al,Sc,Y,La及びLa系列物質の場合K=1であり、
前記[MH]、前記[A]及び前記Kは、
0≦{K×[A]}/[MH]≦3で且つ、
5.0×1012cm−2-6.7×1011cm−2×{K×[A]}/[MH]≦[MH]≦0.7×1014cm−2+0.7×1014cm−2×{K×[A]}/[MH]
の第3の範囲又は、
3≦{K×[A]}/[MH]≦6で且つ、
5.0×1012cm−2-6.7×1011cm−2×{K×[A]}/[MH]≦[MH]≦2.8×1014cm−2
の第4の範囲に属することを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。 - 前記第一群のうち、前記Ru、Os、Rh及びIrの少なくとも1つが、前記酸化物誘電体中の前記Ti、Zr又はHfと置換することを特徴とする請求項1乃至請求項6のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。
- 前記第1群のうち、前記W、Mo、Cr、Mn又はFeの前記酸化物誘電体膜中の面密度を[MH]と表し、
前記第2群のいずれかの前記酸化物誘電体膜中の面密度を[A]と表し、
前記第2群の価数差をKと表すとき、窒素の場合K=1であり、炭素の場合K=2であり、ホウ素の場合K=3であり、Mg,Ca,Sr及びBaの場合K=2であり、Al,Sc,Y,La及びLa系列物質の場合K=1であり、
前記[MH]、前記[A]及び前記Kは、
0≦{価数差×[A]}/[MH]≦1で且つ、
1.0×1012cm−2-1.3×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]≦[MH]≦1.0×1014cm−2+1.0×1014cm−2×{価数差×[A]}/[MH]
の第5の範囲又は、
1≦{価数差×[A]}/[MH]≦6で且つ、
1.0×1012cm−2-1.3×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]≦[MH]≦2.0×1014cm−2
の第6の範囲に属することを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちの何れか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。 - 前記第1群のうち、前記W、Mo、Cr、Mn又はFeの前記酸化物誘電体膜中の面密度を[MH]と表し、
前記第2群のいずれかの前記酸化物誘電体膜中の面密度を[A]と表し、
前記第2群の価数差をKと表すとき、窒素の場合K=1であり、炭素の場合K=2であり、ホウ素の場合K=3であり、Mg,Ca,Sr及びBaの場合K=2であり、Al,Sc,Y,La及びLa系列物質の場合K=1であり、
前記[MH]、前記[A]及び前記Kは、
0≦{価数差×[A]}/[MH]≦2で且つ、
5.0×1012cm−2-6.7×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]≦[MH]≦0.7×1014cm−2+6.5×1013cm−2×{価数差×[A]}/[MH]
の第7の範囲又は、
2≦{価数差×[A]}/[MH]≦6で且つ、
5.0×1012cm−2-6.7×1011cm−2×{価数差×[A]}/[MH]≦[MH]≦2.0×1014cm−2
の第8の範囲に属することを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。 - 前記第1群のいずれかが、前記酸化物誘電体膜中の前記Ti、Zr又はHfと置換して、前記第1群の全量を[A]とし、前記第2群の全量を[B]とし、
前記第2群の価数差をKと表すとき、窒素の場合K=1であり、炭素の場合K=2であり、ホウ素の場合K=3であり、Mg,Ca,Sr及びBaの場合K=2であり、Al,Sc,Y,La及びLa系列物質の場合K=1であり、
前記第1群の価数差をLと表すとき、Cr、Mo及びWの場合L=2であり、Mn、Tc及びReの場合L=3であり、Fe、Ru及びOsの場合L=4であり、Co、Rh及びIrの場合L=5であり、Ni、Pd、Ptの場合L=6であり、
前記[A]、前記[B]、前記K及び前記Lは、
0≦{K×[B]}/{L×[A]}≦1.0の範囲に属することを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。 - 前記酸化物誘電体膜は、TiO2、SrTiO3及び(Ba,Sr,Ca)TiO3のいずれかから形成された単層膜、又は前記単層膜から形成された積層膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。
- 前記酸化物誘電体膜は、ZrO2、SrZrO3、(Ba,Sr,Ca)ZrO3、La2Zr2O7、HfO2、SrHfO3、(Ba,Sr,Ca)HfO3及びLa2Hf2O7のいずれかから形成された単層膜、又は前記単層膜から形成された積層膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。
- 前記第1の絶縁層は、シリコン酸化膜、シリコン酸窒化膜及びシリコン窒化膜のいずれかの単層膜、又は前記単層膜で形成された積層膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。
- 前記第1の絶縁層は、シリコン、酸素又は窒素を含み、単一量子井戸又は多重量子井戸を形成する積層膜、並びに単一量子ドット又は多重量子ドットを形成する前記シリコンが分散された膜の少なくとも一つで形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。
- 膜厚方向に隣り合う量子井戸内若しくは量子ドット内の量子レベルが互いに異なることを特徴とする請求項14に記載の不揮発性半導体メモリ。
- 前記第2の絶縁層は、LaAlO3、Al2O3、AlN、AlNO、ZrO2、SrZrO3、(Ba,Sr,Ca)ZrO3、La2Zr2O7、HfO2、SrHfO3、(Ba,Sr,Ca)HfO3及びLa2Hf2O7のいずれかから形成された単層膜、又は前記単層膜で形成された積層膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちのいずれか1つに記載の不揮発性半導体メモリ。
- 前記第2の絶縁層は、さらに、面密度が2.5×1012/cm2から1×1014/cm2の範囲内でストイキオメトリから金属リッチ側に傾向した領域を含むことを特徴とする請求項16に記載の不揮発性半導体メモリ。
- 前記第2の絶縁層は、さらに、面密度が2.5×1012/cm2から1×1014/cm2の範囲内でストイキオメトリから金属プアー側に傾向した領域を含むことを特徴とする請求項16に記載の不揮発性半導体メモリ。
- 半導体基板上に形成されるチャネル領域となる間隔を空けてソース領域及びドレイン領域が設けられる不揮発性半導体メモリの製造方法であって、
前記チャネル領域上に第1の絶縁層を形成し、
前記第1の絶縁層上に、Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Co、Ni、W、Mo、Cr、Mn及びFeからなる第1群の中から少なくとも1つと、窒素、炭素、ホウ素、Mg,Ca,Sr,Ba,Al,Sc,Y,La及びLa系列物質からなる第2群の中から少なくとも1つと、を添加したTiの酸化物誘電体膜を有する電荷蓄積層を形成し、
前記電荷蓄積層上に第2の絶縁層を形成し、
前記第2の絶縁層上に制御ゲート電極を形成することを特徴とする不揮発性半導体メモリの製造方法。 - 半導体基板上に形成されるチャネル領域となる間隔を空けてソース領域及びドレイン領域が設けられる不揮発性半導体メモリの製造方法であって、
前記チャネル領域上に第1の絶縁層を形成し、
前記第1の絶縁層上に、Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Co、Ni、W、Mo、Cr、Mn及びFeからなる第1群の中から少なくとも1つと、窒素、炭素、ホウ素、Mg,Ca,Sr,Ba,Al,Sc,Y,La及びLa系列物質からなる第2群の中から少なくとも1つと、を添加したTi、Zr又はHfの酸化物誘電体膜を有する電荷蓄積層を形成し、
前記電荷蓄積層上に第2の絶縁層を形成し、
前記第2の絶縁層上に制御ゲート電極を形成し、
前記第1群のうち、前記Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Co又はNiは、前記酸化物誘電体膜中の面密度が2×10 11 cm −2 から2.8×10 14 cm −2 の範囲内であり、前記第1群のうち、前記W、Mo、Cr、Mn又はFeは、前記酸化物誘電体膜中の面密度が2×10 11 cm −2 から2×10 14 cm −2 の範囲内であることを特徴とする不揮発性半導体メモリの製造方法。
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