JP4368007B2 - 薄膜トランジスタパネル - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は薄膜トランジスタパネルに関する。
【0002】
【従来の技術】
例えばアクティブマトリクス型の液晶表示装置には、画素用スイッチング素子としての薄膜トランジスタを備えた薄膜トランジスタパネルを備えたものがある。図7は従来のこのような薄膜トランジスタパネルの一例の一部の平面図を示し、図8はそのX−X線に沿う断面図を示したものである。この薄膜トランジスタパネルはガラス基板1を備えている。ガラス基板1の上面の所定の箇所にはアルミニウムからなるゲート電極2を含むゲート線(走査線)3が行方向に延びて設けられ、他の所定の箇所にはアルミニウムからなる補助容量電極4を含む補助容量線5が行方向に延びて設けられ、その上面全体には窒化シリコンからなるゲート絶縁膜6が設けられている。
【0003】
ゲート絶縁膜6の上面の所定の箇所でゲート電極2に対応する部分にはアモルファスシリコンからなる半導体薄膜7が設けられている。半導体薄膜7の上面中央部には窒化シリコンからなるチャネル保護膜8が設けられている。チャネル保護膜8の上面両側及びその両側における半導体薄膜7の上面にはn型アモルファスシリコンからなるオーミックコンタクト層9、10が設けられている。一方のオーミックコンタクト層9の上面の所定の箇所及びゲート絶縁膜6の上面の所定の箇所にはITOからなる画素電極11が設けられている。画素電極11の上面の所定の箇所及び一方のオーミックコンタクト層9の上面にはクロムからなるソース電極12が設けられている。他方のオーミックコンタクト層10の上面及びゲート絶縁膜6の上面の所定の箇所にはクロムからなるドレイン電極13を含むドレイン線(信号線)14が列方向に延びて設けられている。
【0004】
そして、ゲート電極2、ゲート絶縁膜6、半導体薄膜7、チャネル保護膜8、オーミックコンタクト層9、10、ソース電極12及びドレイン電極13により、薄膜トランジスタ15が構成されている。また、補助容量電極4は画素電極11の列方向ほぼ中央部と重ね合わされ、この重ね合わされた部分によって補助容量部が形成されている。一方、図示していないが、画素容量部は、画素電極11とこれに対向して配置された共通電極とその間に介在された液晶とによって形成されている。なお、図7において一点鎖線で示すものは、図示しない共通パネルに設けられたブラックマスクの開口部16である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来のこのような薄膜トランジスタパネルの製造に際し、ステッパ方式の露光装置で1画素ずつを分割露光する場合、各ショット部での露光マスクパターンに列方向のアライメントずれがあると、第1に、ゲート電極2とソース電極12との間に列方向のアライメントずれが生じることがあり、第2に、ゲート線3と画素電極11との間に列方向のアライメントずれが生じることがある。そして、第1の場合には、ゲート電極2とソース電極12との重なり面積に変動が生じ、ひいてはゲート電極2とソース電極12との間の寄生容量CGSに変動が生じ、さらにこれに起因して各画素の透過率(輝度)にばらつきが生じてしまうという問題があった。第2の場合には、ゲート線3と画素電極11との間隔にばらつきが生じ、ひいてはゲート線3と画素電極11との間の寄生容量CGSにばらつきが生じ、さらにこれに起因して各画素の透過率(輝度)にばらつきが生じてしまうという問題があった。
この発明の課題は、ゲート電極とソース電極との間の寄生容量の変動の割合を低減することである。
この発明の他の課題は、ゲート線と画素電極との間の寄生容量の変動の割合を低減することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、半導体薄膜、ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極からなる薄膜トランジスタと、前記ゲート電極及び前記ドレイン電極にそれぞれ接続されたゲート線及びドレイン線とを備えた薄膜トランジスタパネルにおいて、前記ソース電極に接続され前記ゲート線に絶縁膜を介して重ね合わされる寄生容量補償部を設け、前記寄生容量補償部は前記ゲート線と直交する一の方向に前記ゲート線の幅全体に亘って延びる直交部と該直交部の前記一の方向における中央部と接続されて該中央部からゲート線と平行する方向に延びるとともに全体が前記ゲート線と重ね合わされた平行部とを有し、アライメントずれにより生じる前記ゲート電極と前記ソース電極との間の寄生容量の変動の割合を低減するようにしたものである。この請求項1記載の発明によれば、ゲート電極とソース電極との間の寄生容量にばらつきが生じても、ゲート電極に接続されたゲート線とソース電極に接続された寄生容量補償部との間の寄生容量を常に均一とすることができ、したがってゲート電極とソース電極との間の寄生容量の変動の割合を低減することができる。
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記ソース電極に接続されアライメントずれにより前記ゲート線との間隔が変動する画素電極と、前記ゲート線の近傍に該ゲート線の形成と同時に形成されることにより該ゲート線との間隔がアライメントずれにより変動することがない寄生容量補償用パターンとを設け、前記画素電極を前記寄生容量補償用パターンよりも前記ゲート線から離間して前記寄生容量補償用パターンに接続したものである。
請求項3記載の発明は、半導体薄膜、ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極からなる薄膜トランジスタと、前記ゲート電極及び前記ドレイン電極にそれぞれ接続されたゲート線及びドレイン線と、前記ソース電極に接続されアライメントずれにより前記ゲート線との間隔が変動する画素電極とを備えた薄膜トランジスタパネルにおいて、前記ゲート線の近傍に該ゲート線の形成と同時に形成されることにより該ゲート線との間隔がアライメントずれにより変動することがない寄生容量補償用パターンを設け、前記画素電極を前記寄生容量補償用パターンよりも前記ゲート線から離間して前記寄生容量補償用パターンに接続したものである。
この請求項2または3記載の発明によれば、ゲート線と画素電極との間隔にばらつきが生じても、画素電極に接続された寄生容量補償用パターンとゲート線との間隔を常に均一とすることができ、したがってゲート線と画素電極との間の寄生容量の変動の割合を低減することができる。
【0007】
【発明の実施の形態】
(第1実施形態)
図1はこの発明の第1実施形態における薄膜トランジスタパネルの要部の平面図を示し、図2はそのX−X線に沿う断面図を示したものである。これらの図において、図7及び図8と同一名称のものには同一の符号を付し、その説明を適宜省略する。この薄膜トランジスタパネルでは、ソース電極12から延出された寄生容量補償部21をゲート線3上にゲート絶縁膜6を介して重ね合わせ、且つ、その重なり面積がゲート電極2とソース電極12との間にアライメントずれが生じても変化しないようにしたものである。
【0008】
すなわち、寄生容量補償部21の主要部は、ゲート線3と直交する方向に延びる直交部21aと、この直交部21aの中央部からゲート線3と平行する方向に延びる平行部21bとを有して、ほぼT字状に形成されている。この場合、直交部21aの長さは、ステッパ方式の露光装置で1画素ずつを分割露光するときの各ショット部での露光マスクパターンが列方向にずれても、直交部21aがゲート線3の幅方向全体と常に重なる長さとなっている。また、平行部21bの幅は、ステッパ方式の露光装置で1画素ずつを分割露光するときの各ショット部での露光マスクパターンが列方向にずれても、平行部21b全体がゲート線3と常に重なる幅となっている。この結果、寄生容量補償部21とゲート線3との重なり面積は、前記露光マスクパターンが列方向(及び行方向)にずれても、変化しないようにすることができる。
【0009】
そして、ゲート電極2とソース電極12との間の寄生容量をCGS1とし、ゲート電極2に接続されたゲート線3とソース電極12に接続された寄生容量補償部21との間の寄生容量をCGS2とすると、ゲート電極2とソース電極12との間の実質的な寄生容量CGSは(CGS1+CGS2)となる。ここで、ゲート電極2とソース電極12との間に列方向のアライメントずれが生じ、ゲート電極2とソース電極12との重なり面積にばらつきが生じ、これによりゲート電極2とソース電極12との間の寄生容量CGS1にΔCGS1の変動が生じたとする。しかし、寄生容量CGS2は、上述の如く変化せず、常に均一である。したがって、ゲート電極2とソース電極12との間の実質的な寄生容量の変動ΔCGSは、ΔCGS1/(CGS1+CGS2)となり、ΔCGS1/CGS1と比較して、小さくなる。この結果、各画素の透過率(輝度)のばらつきを小さくすることができる。なお、寄生容量補償部21の平行部21bは、ゲート線3とソース電極12との間の寄生容量CGS2を大きくするために形成するものであり、この目的のためには単に直交部21aの幅(ゲート線3の延出方向)を太くするだけでも良いが、それよりも開口率を向上できるという効果を有する。
【0010】
(第2実施形態)
図3はこの発明の第2実施形態における薄膜トランジスタパネルの要部の平面図を示し、図4はそのX−X線に沿う断面図を示したものである。これらの図において、図7及び図8と同一名称のものには同一の符号を付し、その説明を適宜省略する。この薄膜トランジスタパネルでは、ガラス基板1の上面においてゲート線3の近傍に該ゲート線3と平行する寄生容量補償用パターン22を設け、画素電極11の下辺部をゲート絶縁膜6に形成されたコンタクトホール23を介して寄生容量補償用パターン22上に重ね合わせて接続したものである。この場合、画素電極11の下辺部は、該画素電極11とゲート線3との間にアライメントずれが生じても、寄生容量補償用パターン22上からゲート線3側に突出しないようになっている。
【0011】
すなわち、ステッパ方式の露光装置で1画素ずつを分割露光するときの各ショット部での露光マスクパターンが列方向にずれることにより、画素電極11とゲート線3との間隔が所期値よりも小さくなっても、画素電極11の下辺部は寄生容量補償用パターン22上からゲート線3側に突出しないようになっている。この場合、寄生容量補償用パターン22はゲート線3等の形成と同時に形成されたものである。したがって、ステッパ方式の露光装置で1画素ずつを分割露光するときの各ショット部での露光マスクパターンが列方向にずれても、全体的に列方向にずれることにより、寄生容量補償用パターン22とゲート線3との間隔にばらつきが生じることはない。この結果、ゲート線3と画素電極11との間隔にばらつきが生じても、画素電極11に接続された寄生容量補償用パターン22とゲート線3との間隔が常に均一であり、したがってゲート線3と画素電極11との間の寄生容量の変動を低減することができ、ひいてはこれに起因する各画素の透過率(輝度)にばらつきが生じないようにすることができる。
【0012】
(第3実施形態)
図5はこの発明の第3実施形態における薄膜トランジスタパネルの要部の平面図を示したものである。この薄膜トランジスタパネルでは、上記第1実施形態と上記第2実施形態とを組合わせたものであり、よって対応する部分には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【0013】
(第4実施形態)
図6はこの発明の第4実施形態における薄膜トランジスタパネルの要部の平面図を示したものである。この図において、図3と同一名称のものには同一の符号を付し、その説明を適宜省略する。この薄膜トランジスタパネルにおいて、図3に示す場合と大きく異なる点は、補助容量電極4をほぼコ字状として画素電極11の上辺部、左辺部ほぼ上半分及び右辺部ほぼ上半分と重ね合わせると共に、寄生容量補償用パターン22の上端部をブラックマスクの開口部16の下辺の内側に位置させた点である。
【0014】
ところで、図3において、補助容量電極4を画素電極11のほぼ中央部と重ね合わせているのは、ステッパ方式の露光装置で1画素ずつを分割露光するときの各ショット部での露光マスクパターンが列方向(及び行方向)にずれることにより、補助容量電極4と画素電極11との間にアライメントずれが生じても、各画素の開口率にばらつきが生じないようにするためである。
【0015】
これに対し、図6においては、上述の如く、補助容量電極4をほぼコ字状として画素電極11の上辺部、左辺部ほぼ上半分及び右辺部ほぼ上半分と重ね合わせると共に、寄生容量補償用パターン22の上端部をブラックマスクの開口部16の下辺の内側に位置させているので、ステッパ方式の露光装置で1画素ずつを分割露光するときの各ショット部での露光マスクパターンが列方向(及び行方向)にずれることにより、補助容量電極4と画素電極11との間にアライメントずれが生じても、ブラックマスクの開口部16の下辺が寄生容量補償用パターン22上に位置し、且つ、上辺が補助容量電極4上に位置することにより、各画素の開口率にばらつきが生じないようにすることができる。
【0016】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1記載の発明によれば、ゲート電極とソース電極との間の寄生容量にばらつきが生じても、ゲート電極に接続されたゲート線とソース電極に接続された寄生容量補償部との間の寄生容量を常に均一とすることができので、ゲート電極とソース電極との間の寄生容量の変動の割合を低減することができ、ひいてはこれに起因する各画素の透過率(輝度)のばらつきを小さくすることができる。
また、請求項2または3記載の発明によれば、ゲート線と画素電極との間隔にばらつきが生じても、画素電極に接続された寄生容量補償用パターンとゲート線との間隔を常に均一とすることができ、したがってゲート線と画素電極との間の寄生容量の変動の割合を低減することができ、ひいてはこれに起因する各画素の透過率(輝度)にばらつきが生じないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施形態における薄膜トランジスタパネルの要部の平面図。
【図2】図1のX−X線に沿う断面図。
【図3】この発明の第2実施形態における薄膜トランジスタパネルの要部の平面図。
【図4】図3のX−X線に沿う断面図。
【図5】この発明の第3実施形態における薄膜トランジスタパネルの要部の平面図。
【図6】この発明の第4実施形態における薄膜トランジスタパネルの要部の平面図。
【図7】従来の薄膜トランジスタパネルの一例の一部の平面図。
【図8】図7のX−X線に沿う断面図。
【符号の説明】
2 ゲート電極
3 ゲート線
4 補助容量電極
6 ゲート絶縁膜
11 画素電極
12 ソース電極
13 ドレイン電極
14 ドレイン線
15 薄膜トランジスタ
21 寄生容量補償部
22 寄生容量補償用パターン
Claims (4)
- 半導体薄膜、ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極からなる薄膜トランジスタと、前記ゲート電極及び前記ドレイン電極にそれぞれ接続されたゲート線及びドレイン線とを備えた薄膜トランジスタパネルにおいて、前記ソース電極に接続され前記ゲート線に絶縁膜を介して重ね合わされる寄生容量補償部を設け、前記寄生容量補償部は前記ゲート線と直交する一の方向に前記ゲート線の幅全体に亘って延びる直交部と該直交部の前記一の方向における中央部と接続されて該中央部からゲート線と平行する方向に延びるとともに全体が前記ゲート線と重ね合わされた平行部とを有し、アライメントずれにより生じる前記ゲート電極と前記ソース電極との間の寄生容量の変動の割合を低減するようにしたことを特徴とする薄膜トランジスタパネル。
- 請求項1記載の発明において、前記ソース電極に接続されアライメントずれにより前記ゲート線との間隔が変動する画素電極と、前記ゲート線の近傍に該ゲート線の形成と同時に形成されることにより該ゲート線との間隔がアライメントずれにより変動することがない寄生容量補償用パターンとを設け、前記画素電極を前記寄生容量補償用パターンよりも前記ゲート線から離間して前記寄生容量補償用パターンに接続したことを特徴とする薄膜トランジスタパネル。
- 半導体薄膜、ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極からなる薄膜トランジスタと、前記ゲート電極及び前記ドレイン電極にそれぞれ接続されたゲート線及びドレイン線と、前記ソース電極に接続されアライメントずれにより前記ゲート線との間隔が変動する画素電極とを備えた薄膜トランジスタパネルにおいて、前記ゲート線の近傍に該ゲート線の形成と同時に形成されることにより該ゲート線との間隔がアライメントずれにより変動することがない寄生容量補償用パターンを設け、前記画素電極を前記寄生容量補償用パターンよりも前記ゲート線から離間して前記寄生容量補償用パターンに接続したことを特徴とする薄膜トランジスタパネル。
- 請求項3記載の発明において、前記寄生容量補償用パターンは前記画素電極における少なくとも4つの辺部のうち前記ソース電極と隣接するとともに前記ゲート線と平行し且つ前記ゲート線に最も近接して第1の方向に延びる第一の辺部に設けられ、前記画素電極における前記第一の辺部と対向するとともに前記第1の方向に延びる第二の辺部と前記第二の辺部とそれぞれ隣接するとともに前記ドレイン線と平行する第2の方向に延びる第三乃至第四の辺部と重ね合わされた補助容量電極を備え、該補助容量電極と前記画素電極との間にアライメントずれが生じても、共通パネルに設けられたブラックマスクの開口部の一辺が前記寄生容量補償用パターン上に位置し、且つ、他辺が前記補助容量電極上に位置するようにするとともに、前記寄生容量補償用パターンは前記ゲート線の形成と同時に形成されることにより前記補助容量電極との間隔がアライメントずれにより変動しないようにしたことを特徴とする薄膜トランジスタパネル。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN103412449B (zh) * | 2013-07-23 | 2015-11-18 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 |
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