JP4358583B2 - スケールの製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (4)
- イオンプレーティング法を用いて基板上に第1のクロム層を成膜する第1工程と、
前記第1工程よりも成膜装置のパワーを下げて前記第1のクロム層上に第2のクロム層を成膜する第2工程と、
前記第1のクロム層をエッチングストッパとして、前記第2のクロム層を選択的にエッチングすることにより反射型の光学格子を形成する第3工程と、
を備えることを特徴とする光電式エンコーダのスケールの製造方法。 - 前記第2工程の成膜にはスパッタ法を用いる、
ことを特徴とする請求項1に記載の光電式エンコーダのスケールの製造方法。 - 前記第1及び第2のクロム層を同一真空内で成膜する
ことを特徴とする請求項1に記載の光電式エンコーダのスケールの製造方法。 - 前記第1及び第2のクロム層を覆う光反射層を形成する第4工程を更に備える
ことを特徴とする請求項1に記載の光電式エンコーダのスケールの製造方法。
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