KR101166317B1 - 무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더 및 그 제조방법 - Google Patents

무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광학식 로터리 엔코더에 관한 것으로서, 구체적으로는 특수 무반사 코팅막을 광학식 엔코더의 회전 디스크, 고정 마스크, 수광소자의 전부 또는 선택된 일면에 형성하여 광의 투과효율을 향상시킴으로써 마이크론 단위 이하 피치의 고분해능을 구현할 수 있는 로터리 엔코더 및 그러한 로터리 엔코더를 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명에서는 빛을 조사하기 위한 발광소자, 상기 발광소자의 하방에 위치하여 회전하는 것으로서 판면에 다수개의 슬릿이 원주방향으로 형성되는 코드 패턴을 가지는 회전 디스크, 상기 회전 디스크의 하방에 고정되며 일정한 형상의 슬릿이 형성되는 고정 마스크 및 상기 회전 디스크와 고정 마스크를 투과한 빛을 감지하는 수광소자를 포함하여 이루어지는 광학식 로터리 엔코더에 있어서, 상기 회전 디스크의 일 면에는 크롬층을 광식각하여 형성한 것으로서 다수개의 슬릿으로 이루어지는 코드 패턴이 형성되고, 타 면에는 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)와 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)층이 번갈아 적층하여 형성되는 것을 특징으로 하는 무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더와 그 제조방법이 제공된다.

Description

무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더 및 그 제조방법{An optical rotary encoder with an anti-reflection coating layer and the manufacturing method of the same}
본 발명은 광학식 로터리 엔코더에 관한 것으로서, 구체적으로는 특수 무반사 코팅막을 광학식 엔코더의 회전 디스크, 고정 마스크, 수광소자의 전부 또는 선택된 일면에 형성하여 광의 투과효율을 향상시킴으로써 마이크론 단위 이하의 피치를 가지는 고분해능을 구현할 수 있는 로터리 엔코더 및 그러한 로터리 엔코더를 제조하는 방법에 관한 것이다.
컴퓨터의 발달로 모든 기계가 마이크로프로세서를 내장하여 고속, 고정도의 디지털화로 변화하고 있는데, 특히 산업용의 NC, 로봇, 서보모터, OA기기 등은 기기의 가동부 위치나 속도를 정확히 검출하고 그 정보를 구동부에 피드백(feedback)하기 위해서 광학식 로터리 엔코더를 많이 사용하고 있다.
로터리 엔코더란 회전축의 회전각도를 전기적인 신호(펄스)로 변환하여 출력하는 장치를 말하며, 상기 로터리 엔코더는 크게 인크리멘탈(incremental)형 로터리 엔코더와 앱솔루트(Absolute)형 로터리 엔코더로 분류될 수 있다.
인크리멘탈형 로터리 엔코더는 발광소자와 수광소자 사이에 흑색 패턴이 그려져 있는 회전 슬릿과 고정 슬릿을 설치한 후 회전축을 회전시키면 빛이 투과 또는 차단되는 성질을 이용하며, 투과된 빛은 수광소자에 의하여 전류로 변환되며 이 전기신호가 파형정형 회로와 출력회로를 거쳐 구형파 펄스로 출력함으로써 자동제어계의 위치, 속도, 각도 등을 검출하는 것이다.
앱솔루트형 로터리 엔코더는 회전축의 0° 지점을 기준으로 360°를 일정한 비율로 분할하고, 그 분할된 각도마다 인식 가능한 전기적인 디지털 코드(BCD코드, Binary코드, Gray코드)를 지정하여 회전축의 회전위치(각도)에 따라 지정된 디지털 코드로 출력되도록 한 절대 회전 각도 검출용 장치를 말한다.
이러한 로터리 엔코더에 관하여는 그동안 다양한 종류와 분해능을 가지는 것이 공지되어 있으며, 등록실용신안 제0313221호 "피이티 필름 재질을 이용한 고정 및 회전 슬릿으로 구성된 광학식 엔코더", 등록특허 제0273717호 "레이저빔을 이용한 엔코더의 제조방법", 등록실용신안 제0155224호 "로터리 엔코더", 등록특허 제0006937호 "복합식 로터리 엔코더"와 같은 특허문헌들이 이미 개시된 바 있다.
특허 등록실용신안 제0313221호 "피이티 필름 재질을 이용한 고정 및 회전 슬릿으로 구성된 광학식 엔코더"과 등록특허 제0273717호 "레이저빔을 이용한 엔코더의 제조방법"에서는 광학식 로터리 엔코더의 구성 요소 중 회전 디스크의 코드 패턴(슬릿)을 형성하는 방법에 관하여 개시하고 있는데, 전자의 경우에는 통상적으로 유리판에 금속을 포토 에칭함으로써 회전 디스크의 코드 패턴의 사이드 방향의 침식 등에 의하여 고분해능 실현이 어려운 점을 개선하기 위하여 PET 소재를 사용하여 회전 슬릿을 구현함으로써 Φ40의 회전 디스크에 500P/R(Pulse Resolution) 이상의 고분해능을 실현하는 기술에 관하여 개시하고 있다.
후자의 경우에는 회전 디스크의 코드 패턴을 포토 에칭 공정을 사용하여 형성하지 않고, 엔코더 소재의 상부에 마스크를 위치시킨 후 레이저 빔과 집광렌즈를 이용하여 엔코더 소재에 직접 코드 패턴을 형성하는 방법에 관하여 개시하고 있다.
상기 레이저를 이용한 회전 디스크의 코드 패턴 가공방법은 종래의 포토 에칭 공정의 경우에 비하여 고분해능을 실현할 수 있으며, 다품종 소량 생산이나 시험생산의 경우에 손쉽게 적용할 수 있다는 점에서 장점이 있다.
그러나, 레이저 가공을 이용하는 경우에도 주어진 회전 디스크의 직경에 10000~40000 PR(Pulse Resolution) 이상의 고분해능을 실현하는 것은 현실적으로 매우 어렵다. 왜냐하면 슬릿의 피치가 작을수록 회전 슬릿을 투과하는 입사광의 반사, 굴절 및 간섭으로 인하여 투과광의 감도가 떨어지게 때문이다.
따라서, 엔코더 회전 디스크 슬릿의 피치를 미세하게 하여 고분해능을 가지는 광학식 로터리 엔코더를 가능하게 하기 위하여는 발광소자에서 회전 디스크의 슬릿으로 입사하는 빛의 투과율을 높이고 반사율 등을 최소화하는 방안이 필요하게 되었다. 그렇게 해야만 작은 직경의 회전 디스크에 10000~40000 PR 이상의 고분해능의 실현이 가능해질 것이다.
등록실용신안 제0313221호 "피이티 필름 재질을 이용한 고정 및 회전 슬릿으로 구성된 광학식 엔코더" 등록특허 제0273717호 "레이저빔을 이용한 엔코더의 제조방법" 등록실용신안 제0155224호 "로터리 엔코더" 등록특허 제0006937호 "복합식 로터리 엔코더"
본 발명의 목적은 일정한 직경을 가지는 회전식 디스크의 표면에 포토 에칭을 이용하여 크롬층 코드 패턴을 형성한 후 회전식 디스크의 표면 또는 이면에 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드와 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드 코팅층을 번갈아 적층하여 형성함으로써 회전식 디스크의 슬릿에 입사하는 빛의 반사율을 최소화하고 투과율을 향상시킴으로써 10000~40000 PR의 고분해능을 가지는 광학식 로터리 엔코더를 제공하는 것이다.
더불어 본 발명에서는 고정 마스크와 수광소자의 표면에도 전술한 디타늄 다이옥사이드와 실리콘 다이옥사이드층을 번갈아 적층하여 형성함으로써 광의 투과효율을 더욱 향상시켜 더욱 정밀한 분해능을 가지는 광학식 로터리 엔코더를 제공하고자 한다.
또한, 본 발명에서는 포토 에칭기법과 이빔 증발기법에 의하여 크롬층 코드 패턴과 무반사 코팅막이 형성된 회전 디스크를 포함하는 광학식 로터리 엔코더를 제조하는 방법을 제공한다.
전술한 목적의 달성을 위하여 본 발명에서는, 빛을 조사하기 위한 발광소자, 상기 발광소자의 하방에 위치하여 회전하는 것으로서 판면에 다수개의 슬릿이 원주방향으로 형성되는 코드 패턴을 가지는 회전 디스크, 상기 회전 디스크의 하방에 고정되며 일정한 형상의 슬릿이 형성되는 고정 마스크 및 상기 회전 디스크와 고정 마스크를 투과한 빛을 감지하는 수광소자를 포함하여 이루어지는 광학식 로터리 엔코더에 있어서, 상기 회전 디스크의 일 면에는 크롬층을 광식각하여 형성한 것으로서 다수개의 슬릿으로 이루어지는 코드 패턴이 형성되고, 타 면에는 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)와 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)층이 번갈아 적층하여 형성되는 것을 특징으로 하는 무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더를 제안한다.
여기서, 상기 회전 디스크의 크롬층 코드 패턴 위에 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)와 저굴절시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)층이 번갈아 적층하여 형성될 수 있다.
한편, 상기 고정 마스크 또는 상기 수광소자의 표면에 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)와 저굴절시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)층이 번갈아 적층하여 형성되는 것이 바람직하다.
이때, 상기 회전 디스크의 표면에는 티타늄 다이옥사이드(TiO2), 실리콘 다이옥사이드(SiO2), 티타늄 다이옥사이드(TiO2) 및 실리콘 다이옥사이드(SiO2)가 순서대로 적층하여 형성하는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 측면에 의하면, 표면에 다수개의 슬릿으로 이루어지는 코드 패턴을 가지는 회전식 디스크를 포함하는 광학식 로터리 엔코더를 제조하는 방법에 있어서, 투명한 유리 기판 위에 크롬층을 증착하는 단계; 상기 크롬층 위에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트층을 상기 코드 패턴에 대응하는 패턴이 형성된 포토 마스크를 이용하여 노광하는 단계; 상기 노광된 포토레지스트층을 현상하는 단계; 상기 현상된 포토레지스트층에 의하여 노출된 크롬층을 에칭하는 단계; 상기 크롬층 위에 잔존하는 포토레지스트층을 제거하여 크롬층으로 된 코드 패턴을 획득하는 단계; 및 상기 크롬층 코드 패턴이 형성된 유리 기판을 이빔 증발기(e-beam evaporator)의 내부에 장착한 후 티타늄 다이옥사이드(TiO2), 실리콘 다이옥사이드(SiO2), 티타늄 다이옥사이드(TiO2) 및 실리콘 다이옥사이드(SiO2)를 순서대로 유리 기판의 표면에 적층시켜 무반사 코팅막을 형성하는 단계;를 수행하여 회전식 디스크를 제조하는 것을 특징으로 하는 광학식 로터리 엔코더 제조방법이 아울러 제공된다.
본 발명에 의하면 크롬층에 의하여 패턴화된 슬릿을 가지는 투명 유리 기판의 표면 또는 이면에 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드와 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드층을 번갈아 적층시켜 무반사 코팅막을 형성하므로 입사하는 빛의 반사율은 최소화하고 투과율을 높여 빛의 감도를 향상시킬 수 있게 된다. 따라서, 슬릿의 피치가 1 내지 4 마이크로미터(㎛)로서 10000~40000 PR의 고해분능을 가지는 광학식 로터리 엔코더를 제조할 수 있게 된다.
도1은 본 발명의 광학식 로터리 엔코더의 외관 조립도.
도2는 본 발명의 광학식 로터리 엔코더의 분해 사시도.
도3은 본 발명의 회전식 디스크 제조 공정도.
도4는 본 발명의 무반사 코팅막 제조장치의 개략적인 구성도.
도5는 본 발명에 따른 회전 디스크 표면에서의 반사율 측정 그래프.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술적 사상에 관하여 상술한다.
도1은 본 발명의 광학식 로터리 엔코더의 외관 조립도이고, 도2는 본 발명의 광학식 로터리 엔코더의 분해 사시도이다.
본 발명의 광학식 로터리 엔코더(100)는 기본적으로 회전축 샤프트(120)와 베어링(121)이 결합하는 바디(102)와 상기 바디(102)를 덮는 캡(101)으로 구성되고, 상기 캡(101)의 내부에 도시한 바와 같이 위에서부터 메인 PCB기판(110), 발광소자(131), 회전 디스크(132), 고정 마스크(134) 및 수광소자(PDA:Photo Diode Array,135)가 순서대로 장착된다.
상기 메인 PCB기판(110)은 PCB지지핀(111)에 의하여 상기 바디(102)에 고정되며, 상기 회전 디스크(132)의 중앙 개구부에 슬릿 부쉬(133)가 위치한다. 상기 고정 마스크(134)와 수광소자(135)는 하방의 슬릿 플레이트(103)에 고정 지지된다. 도면에서 미설명부호 104는 전원 케이블을 나타낸다.
이상과 같은 엔코더(100)의 구성은 종래의 광학식 로터리 엔코더의 구성과 크게 차이가 없으므로 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.
이러한 광학식 로터리 엔코더(100)의 구성 중에서 회전 디스크(132)는 발광소자(131)에서 입사되는 빛을 고정 마스크(134)를 통하여 수광소자(135)까지 원활하게 전달할 수 있어야 하므로 빛 투과율이 좋아야 한다. 따라서, 상기 회전 디스크(132)의 경우 대개 유리 기판 위에 금속층을 코팅하여 다수개의 슬릿을 포함하는 코드 패턴을 형성하게 된다.
그런데, 최근에는 광학식 로터리 엔코더(100)의 표면에 형성되는 슬릿의 개수를 φ15의 디스크에 약 10000~40000 PR(Pulse Resolution)까지 형성해야 하는 경우가 생기게 되었다. 이러한 고분해능 회전 디스크의 경우 피치가 1 내지 ~ 수 마이크로미터(㎛) 단위로 형성되므로 매우 정교한 제조 공정을 요한다.
따라서 본 발명에서는 회전 디스크와 고정 마스크의 코드 패턴이 형성된 표면 또는 이면에 고굴절율 시료와 저굴절율 시료를 번갈아 적층하여 구성되는 무반사 코팅막을 구현함으로써 빛의 감도를 향상시켜 고분해능을 실현하고자 한다. 또한, 수광소자의 표면에도 전술한 방식으로 무반사 코팅막을 구현하는 경우 더욱 정교한 분해능을 구현할 수 있게 된다.
이하에서는 본 발명에 의한 회전 디스크의 코드 패턴 및 무반사 코팅막을 제조하는 공정에 관하여 소개한다.
도3은 본 발명의 회전식 디스크 제조 공정도인데, 본 발명에서는 투명한 광학 유리 기판(10) 위에 포토 에칭공정에 의하여 먼저 크롬층으로 된 코드 패턴을 형성한 후 그 표면 또는 이면에 이빔 증발기(E-beam evaporator)를 사용하여 고굴절율 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)와 저굴절율 시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)를 연속하여 형성한다.
먼저, 투명한 유리 기판(10) 위에 크롬층(11)을 증착하여 형성한 후 상기 크롬층(11) 위에 감광성 물질을 적층하여 포토레지스트층(12)을 형성한다. 여기서 상기 포토레지스트로는 공지의 포지티브 또는 네거티브 방식의 것을 선택하여 적용할 수 있다.
다음으로 크롬층(11) 위에 형성된 포토레지스트층(12)을 마스크 패턴(13a)이 형성된 포토 마스크(13)를 이용하여 노광(exposure)한다. 상기 마스크(13)의 마스크 패턴(13a)은 회전 디스크(132)의 표면에 형성될 슬릿을 포함하는 코드 패턴(11a)에 대응하는 형상을 가지는 것으로서, 미리 전자빔 마스크 묘화장치 등에 의하여 형성된다.
이후 도시한 (b)와 (c)의 현상(develpment) 및 식각(etching) 공정을 거친 후 잔류 포토레지스트층(12)을 제거하면 (d)와 같은 코드 패턴(11a)를 가지는 유리 기판(10)이 획득된다.
상기 유리 기판(10) 위의 이물질을 제거하기 위한 세정 공정을 거친 후 유리 기판(10)의 표면 또는 이면에 무반사 코팅막을 형성하기 위하여 상기 유리 기판(10)을 도4에 도시한 바와 같이 이빔 증발기(200)의 내부에 장착한다.
도4는 본 발명의 무반사 코팅막 제조장치의 개략적인 구성도로서, 이빔 증발기(200)를 나타낸 것이다. 상기 코드 패턴(11a)이 형성된 유리 기판(10)의 표면 또는 이면 중에서 무반사 코팅막을 형성하고자 하는 면이 아래를 향하도록 이빔 증발기(200)의 내부에 유리 기판(10)을 장착하여 고정한다.
이후 다수의 포켓으로 이루어지는 도가니(211)의 각 포켓에 코팅층의 원시료인 티타늄 다아옥사이드와 실리콘 다이옥사이드를 분리하여 담는다. 도면의 미설명부호 210은 냉각수 라인을 나타내고, 211은 시료를 담는 도가니(crucible)를 나타내며, 212는 텅스텐 필라멘트(tungsten filament)를 나타내며, 213은 마그넷(magnet)을 나타내며, 도214는 쉴드(shield)를 각각 나타낸다.
이와 같은 구성을 가지는 이빔 증발기(200)에 코드 패턴(110a)이 형성된 유리 기판(10)을 장착한 후 챔버 내의 가스를 배출하여 적정한 진공압을 유지한다. 이후 기기의 조작패널에서 증착 물질의 종류를 선택하고 목표하는 증착두께를 입력한다. 증착하고자 하는 물질의 포켓을 선택한 후 이빔 파워 서플라이의 전원을 켜면 증착이 시작된다.
이빔 파워 서플라이의 전원이 켜지면, 도시한 바와 같이 전자빔(201)에 의하여 원재료(source)가 용융하면서 증발하여 물질증기(202, material vapor)가 되고 이것이 유기 기판(10)의 저면에 증착되어 코팅막을 형성하게 된다.
본 발명에서는 코드 패턴(11a)이 형성되는 유기 기판(10)의 표면 또는 이면에 선택적으로 또는 양면 모두에 코팅막을 번갈아 형성한다.
예를 들어, 유리 기판(11)의 이면에 굴절 시료를 증착하는 경우 맨처음으로 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)를 13nm의 두께로 증착하고, 그 위에 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)를 25nm의 두께로 증착하며, 다시 그 위에 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드를 120nm의 두께로 증착하며, 마지막으로 그 위에 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드를 80nm의 두께로 증착하게 된다.
이와 같은 증착공정은 이빔 증발기(200)의 내부에 위치하는 것으로서 다수개의 포켓을 구비하는 도가니(211)에 원시료를 미리 분리하여 공급한 후 연속적인 과정으로 수행되며, 이빔 증발기(200)의 출력이나 사양에 따라 약간의 차이는 있으나 약 40~80분 정도의 공정 시간이 소요되는 것으로 측정되었다.
본 발명에서는 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드와 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드를 번갈아 적층하여 코팅막을 구성함으로써 정밀한 분해능을 가지는 회전 디스크의 슬릿을 형성한다.
도5는 본 발명에 따른 회전 디스크 표면에서의 반사율 측정 그래프인데, 가시광선 영역의 파장대에서 반사율이 현저히 감소하여 빛의 유리 기판 투과율이 약 99%까지 높아지는 것을 확인할 수 있다.
전술한 회전 디스크(132)의 코드 패턴(11a) 형성방법과 회전 디스크(132) 표면 또는 이면의 무반사 코팅막 제조방법은 고정 마스크(134)의 제조에도 그대로 적용된다. 즉, 본 발명의 무반사 코팅막의 구조는 고정 마스크(134)에 고정 마스크용 코드 패턴(슬릿)을 형성한 후 그 표면 또는 이면에 대하여 선택적으로 형성되거나 양면 모두에 형성하는 것이 가능하다. 이렇게 고정 마스크(134)에도 무반사 코팅막을 형성하여 회전 디스크(132)와 조합하여 사용하는 경우 엔코더의 감광 감도가 더욱 향상되고 정확한 출력을 얻을 수 있게 되며, 그에 따라 더욱 고분해능을 가지는 엔코더를 제조할 수 있게 된다.
더하여 위의 무반사 코팅막 구조는 수광소자(135)의 표면에도 그대로 적용할 수 있으며, 그렇게 하는 경우 분해능이 더욱 높아질 수 있으며, 엔코더의 감광 정밀도를 더욱 향상시킬 수 있게 된다.
최근 광학식 로터리 엔코더의 슬릿 간의 피치가 점점 작아지고 엔코더의 분해능이 점점 더 높아질 것이 요구되는 현실에서 빛이 미세한 슬릿을 통과하는 과정에서 일어나는 유리 기판 표면에서의 반사 및 굴절을 최소화하고 투과율을 높일 수 있는 본 발명을 채용한다면 광학식 로터리 엔코더의 성능을 한층 더 업그레이드할 수 있게 될 것이다.
본 발명의 광학식 로터리 엔코더는 종래에 비하여 기판의 재질이나 코드 패턴의 가공방법을 변형하지 않고서도 빛의 투과율을 향상시켜 슬릿을 통과하는 빛의 반사, 굴절 및 간섭을 최소화함으로써 작은 사이즈의 회전 디스크에 10000~40000 PR 이상의 고분해능을 실현하는 것이 가능하다는 특징이 있다. 따라서, NC머신이나 초정밀 가공기계 또는 로봇 제어 등의 분야에서 채택하는 경우 만족스런 성능과 효과를 발휘하게 될 것이다.
10: 유리 기판 11: 크롬층
11a: 코드 패턴 12: 포토레지스트
13: 포토 마스크 13a: 마스크 패턴
21,23: 티타늄 다이옥사이드 22,24: 실리콘 다이옥사이드
100: 광학식 로터리 엔코더 101: 캡
102: 바디 103: 슬릿 플레이트
104: 케이블 110: 메인 PCB기판
111: PCB 지지핀 120: 샤프트
121: 베어링 131: 발광소자
132: 회전 디스크 133: 슬릿 부쉬
134: 고정 마스크 135: 수광소자

Claims (5)

  1. 빛을 조사하기 위한 발광소자, 상기 발광소자의 하방에 위치하여 회전하는 것으로서 판면에 다수개의 슬릿이 원주방향으로 형성되는 코드 패턴을 가지는 회전 디스크, 상기 회전 디스크의 하방에 고정되며 일정한 형상의 슬릿이 형성되는 고정 마스크 및 상기 회전 디스크와 고정 마스크를 투과한 빛을 감지하는 수광소자를 포함하여 이루어지는 광학식 로터리 엔코더에 있어서,
    상기 회전 디스크의 일 면에는 크롬층을 광식각하여 형성한 것으로서 다수개의 슬릿으로 이루어지는 코드 패턴이 형성되고, 타 면에는 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)와 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)층이 번갈아 적층하여 형성되는 것을 특징으로 하는 무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 회전 디스크의 크롬층 코드 패턴 위에 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)와 저굴절시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)층이 번갈아 적층하여 형성되는 것을 특징으로 하는 무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 고정 마스크 또는 상기 수광소자의 표면에 고굴절 시료인 티타늄 다이옥사이드(TiO2)와 저굴절 시료인 실리콘 다이옥사이드(SiO2)층이 번갈아 적층하여 형성되는 것을 특징으로 하는 무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 회전 디스크의 표면에는 티타늄 다이옥사이드(TiO2), 실리콘 다이옥사이드(SiO2), 티타늄 다이옥사이드(TiO2) 및 실리콘 다이옥사이드(SiO2)가 순서대로 적층하여 형성되는 것을 특징으로 하는 무반사 코팅막을 가지는 광학식 로터리 엔코더.
  5. 표면에 다수개의 슬릿으로 이루어지는 코드 패턴을 가지는 회전식 디스크를 포함하는 광학식 로터리 엔코더를 제조하는 방법에 있어서,
    투명한 유리 기판 위에 크롬층을 증착하는 단계;
    상기 크롬층 위에 포토레지스트층을 형성하는 단계;
    상기 포토레지스트층을 상기 코드 패턴에 대응하는 패턴이 형성된 포토 마스크를 이용하여 노광하는 단계;
    상기 노광된 포토레지스트층을 현상하는 단계;
    상기 현상된 포토레지스트층에 의하여 노출된 크롬층을 에칭하는 단계;
    상기 크롬층 위에 잔존하는 포토레지스트층을 제거하여 크롬층으로 된 코드 패턴을 획득하는 단계; 및
    상기 크롬층 코드 패턴이 형성된 유리 기판을 이빔 증발기(e-beam evaporator)의 내부에 장착한 후 티타늄 다이옥사이드(TiO2), 실리콘 다이옥사이드(SiO2), 티타늄 다이옥사이드(TiO2) 및 실리콘 다이옥사이드(SiO2)를 순서대로 유리 기판의 표면에 적층시켜 무반사 코팅막을 형성하는 단계;
    를 수행하여 회전식 디스크를 제조하는 것을 특징으로 하는 광학식 로터리 엔코더 제조방법.
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