JP4330067B2 - アモルファス炭素膜の成膜方法 - Google Patents
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Description
本発明のアモルファス炭素膜の成膜方法は、プラズマCVD法(より具体的には、直流プラズマCVD法,高周波プラズマCVD法など)によって導電性の板状ワークの表面にアモルファス炭素膜を形成するアモルファス炭素膜の成膜方法である。
アモルファス炭素膜の成膜装置は、プラズマCVD法によって導電性の板状ワークの表面にアモルファス炭素膜を形成するアモルファス炭素膜の成膜装置であり、成膜炉と、板状ワークを固定するワーク固定具と、処理ガスを供給するノズルと、少なくともワーク固定具に結線されたプラズマ電源とを具備する。
本成膜装置によれば、板状ワークは、ワーク固定具に上下方向に積層状態で複数個保持されるので、一度の成膜で従来よりも複数のワークを処理することができ、効率の良い成膜が可能となる。また、上記構成の成膜装置は、ワークを回転させなくてもよいので回転機構が必要なく、構造が簡単で低コストである。さらに、ワーク固定具と処理ガスを供給するノズルの配置を上記の配置としたことで、処理ガスの分布が良好となり、膜厚、膜組成にばらつきのない良好な膜品質のアモルファス炭素膜が得られる。
本実施例のアモルファス炭素膜の成膜装置は、円筒状でステンレス製のチャンバー11を成膜炉として用い、排気通路12によりチャンバー11と連通する排気系13を有する。排気系13は、油回転ポンプ、メカニカルブースターポンプ、油拡散ポンプからなり、排気通路12に配した排気調整バルブ15を開閉することによりチャンバー11内の処理圧力を調整する。また、チャンバー11には、透光窓18を設け、透光窓18を介して赤外線放射温度計(図示せず)によりワーク22の表面温度を測定する。
実施例1の成膜装置において、ワーク間隔を10mm(板状ワーク、合計500枚)とした。また、成膜中のガス圧、シース幅は、表1の通りである。
実施例1の成膜装置において、ワーク間隔を3mm(板状ワーク、合計600枚)とした。また、成膜中のガス圧、シース幅は、表1の通りである。
実施例1の成膜装置において、ワーク間隔を2mm(板状ワーク、合計750枚)とした。また、成膜中のガス圧、シース幅は、表1の通りである。なお、ワーク間隔が2mmの場合、最大2500枚の板状ワークを装置内に固定できるが、板状ワークの枚数が多すぎるとプラズマ電源出力が不足し、ワーク全体にシースが形成できないため、750枚とした。
実施例1の成膜装置において、ワーク間隔を1mm(板状ワーク、合計500枚)とした。また、成膜中のガス圧、シース幅は、表1の通りである。
実施例1の成膜装置において、陰極20の板状ワーク22,ワーク固定具23を以下に説明する板状ワーク42,ワーク固定具43(図5)とした。
実施例1の成膜装置において、ワーク固定具23を、以下に説明するワーク固定具53(図7,図8)とした。
図17は、アモルファス炭素膜の成膜前にホットプレスを施した板状ワーク(実施例2の板状ワーク22に相当)の歪み量の変化を示すグラフである。また、図18は、アモルファス炭素膜の成膜後にホットプレスを施した板状ワーク(実施例5の板状ワーク42に相当)の歪み量の変化を示すグラフである。板状ワークの歪み量は、それぞれ初期(ホットプレスも成膜も行われていない状態)、ホットプレス後、成膜後に測定した。
2a,2b,22,42:板状ワーク
3a,3b,23,43,53:ワーク固定具
230,430,530:保持具
31,32:ガスノズル
16:プラズマ電源
25:シース
100:プレス装置
Claims (22)
- プラズマCVD法によって導電性の板状ワークの表面にアモルファス炭素膜を形成するアモルファス炭素膜の成膜方法であって、
成膜炉内に配置されかつマイナス極に結線されたワーク固定具に複数の該板状ワークを厚さ方向に平行にかつ積層状態で配置すると共に、シース幅が隣接する2個の該板状ワークの対向面間の間隔以下となるように、処理ガスの圧力およびプラズマ電源を操作して行うことを特徴とするアモルファス炭素膜の成膜方法。 - 前記処理ガスの圧力の範囲は13〜1330Paとし、前記隣接する2個の前記板状ワークの対向面間の間隔は2〜30mmである請求項1記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記処理ガスの圧力の範囲は、66.5〜1064Paである請求項1または2記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記処理ガスの圧力の範囲は、266〜798Paである請求項1または2記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記隣接する2個の前記板状ワークの対向面間の間隔は、3〜20mmである請求項1または2記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記隣接する2個の前記板状ワークの対向面間の間隔は、5〜15mmである請求項1または2記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記板状ワークは、上下方向に積層されている請求項1〜6のいずれか1つに記載のアモルファス炭素膜を有する板状ワークの製造方法。
- 前記板状ワークは円盤状である請求項1〜7のいずれか1つに記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記板状ワークはクラッチ板である請求項1〜7のいずれか1つに記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- さらに、前記アモルファス炭素膜の成膜操作の前に、前記板状ワークを成膜温度以上該板状ワークの変態温度未満でホットプレスする前矯正工程を有する請求項1〜9のいずれか1つに記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記板状ワークは、炭素鋼からなる請求項10記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記前矯正工程は、600℃以上700℃以下で前記板状ワークをホットプレスする請求項11記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記前矯正工程は、630℃以上680℃以下で前記板状ワークをホットプレスする請求項11記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- さらに、前記アモルファス炭素膜の成膜操作の後に、表面にアモルファス炭素膜が形成された前記板状ワークをアモルファス炭素膜の成膜温度以下でホットプレスする後矯正工程を有する請求項1〜13のいずれか1つに記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記板状ワークは、炭素鋼からなる請求項14記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記後矯正工程は、300℃以上500℃以下で前記板状ワークをホットプレスする請求項15記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記後矯正工程は、350℃以上450℃以下で前記板状ワークをホットプレスする請求項15記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記処理ガスは、少なくともSiを含むSi含有ガスと炭化水素ガスとを含み、
前記Si含有ガスは、有機金属含有ガスおよびハロゲン化合物のうちのいずれか1種以上である請求項1〜17のいずれか1つに記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。 - 前記有機金属含有ガスは、テトラメチルシランおよびシランのうちのいずれか1種以上である請求項18記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記ハロゲン化合物は、四塩化シリコンである請求項18記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記炭化水素ガスは、メタン、エチレン、アセチレンおよびベンゼンのうちのいずれか1種以上である請求項18記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
- 前記成膜炉は円筒状の炉室を持ち、前記ワーク固定具は該炉室と同軸的に等間隔でリング状に配置され、前記処理ガスを供給する複数の筒状のノズルが該炉室と同軸的に該ワーク固定具の遠心方向側で等間隔にリング状に配置されるとともに該炉室の中心に少なくとも1個互いに垂直方向に平行に配置されている請求項7記載のアモルファス炭素膜の成膜方法。
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