JP4328793B2 - プラズマに基づくeuv放射線源における望ましくないスペクトル成分を抑制する装置 - Google Patents
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Description
―アルカンにおけるCH結合の伸縮振動:2.85μm〜3.0μm
―アルコールにおけるOH結合の伸縮振動:3.2μm〜3.55μm
―カルボン酸におけるOH結合の伸縮振動:2.5μm〜3.3μm
2 真空室
3 光軸
4 スペクトルフィルタユニット
5 高真空室
6 適用位置
7 固体スペクトルフィルタ
11 放射線
21 出口開口部
22 デブリフィルタ
31 集光器
32 集光光学素子
33 中間焦点
41〜44 ガスカーテン
45 スリットノズル
46 ガスシンク
47 隔膜
48 混合ステーション
61 ウエハ
71 吸収フォイル
72 冷却ホルダフレーム
73 支持糸
Claims (24)
- 真空室がプラズマ生成のためおよび放出された放射線を適用位置に伝搬するために設けられ、EUV放射線を低吸収で適用位置に伝搬するために高い真空状態が実現された、プラズマに基づくEUV放射線源における望ましくないスペクトル成分を抑制する装置において、
プラズマ(1)とEUV放射線の適用位置との間にスペクトルフィルタユニット(4)が設けられ、フィルタユニット(4)は、その原子または分子が所望のEUV放射線では吸収極大を有さず、少なくともIR領域で放出される他の望ましくない波長では集中的な吸収極大を有する少なくとも1つの高速に流れるガスを含む少なくとも1つのガスカーテン(41)を有し、
空間的に画定してガスカーテン(41)を制限し、可能な限り完全に真空室(2、5)からガスカーテンを遠ざけるために、ガスカーテン(41)の生成のために少なくとも1つのスリットノズル(45)と、高速に流れるガスを可能な限り完全に抽出する効率的なガスシンク(46)が、ビーム束の光軸(3)に対して互いに対向して側方に配置され、
可能な限り均質なガスカーテン(41)を生成するために、スリットノズル(45)の長さ(L)は出力の幅(D)より大きいことを特徴とする装置。 - 少なくとも1つのガスカーテン(41)が、中間焦点(33)の付近において、適用位置への伝搬のために集束されたビーム束の光軸(3)に対して横断して配置されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、その吸収特性に関して調整可能な様々な吸収媒体の集合を含む少なくとも1つのガスカーテン(41)を有することを特徴とする請求項1に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、IRスペクトル成分を吸収するために、吸収媒体であるアルカン、アルコール、カルボン酸または水の少なくとも1つを含む少なくとも1つのガスカーテン(41)を有することを特徴とする請求項1に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、吸収によって2.85μm〜3.55μmの範囲のIR放射線をフィルタするために、媒体であるメタン(CH4)、メタノール(CH3OH)および蟻酸(CHOOH)のうちの少なくとも1つを含む少なくとも1つのガスカーテン(41)を有することを特徴とする請求項4に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、VIS、UVまたはDUVのスペクトル領域の少なくとも1つからの波長を吸収するための別の媒体を含む少なくとも1つのガスカーテン(41)を有することを特徴とする請求項4に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、可視(VIS)スペクトル成分を吸収するために、吸収媒体であるオゾン(O3)、二酸化窒素(NO2)、硝酸基(NO3 −)または希釈空気のうちの少なくとも1つを含む少なくとも1つのガスカーテン(41)を有することを特徴とする請求項6に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、UVスペクトル成分を吸収するために、吸収媒体である窒素(N2)、酸素(O2)、オゾン(O3)または希釈空気のうち少なくとも1つを含む少なくとも1つのガスカーテン(41)を有することを特徴とする請求項6に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、DUVスペクトル成分を吸収するために、アルゴン(Ar)、例えばCH3Clなどの塩素を含む物質、吸収媒体であるメタン(CH4)、酸素(O2)、オゾン(O3)、窒素(N2)または希釈空気のうちの少なくとも1つを含む少なくとも1つのガスカーテン(41)を有することを特徴とする請求項6に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、スリットノズル(45)の前に配置された、様々な吸収媒体を所望に混合するために設けられた混合ステーション(48)を有しており、ガスカーテン(41)はその吸収特性に関して調整可能であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、異なるスリットノズル(45)から異なる吸収特性を有する媒体の分離供給によって生成される複数の連続的に配置されるガスカーテン(41、42、43、44)を有し、それらの吸収特性を効率およびフィルタをかける帯域幅に関して個別に調整することができることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 連続的に配置されるスリットノズル(45)が、異なる吸収波長を有する純粋な媒体を注入するために設けられることを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 連続的に配置されるスリットノズル(45)が、異なるスペクトルを吸収する媒体の混合物を注入するために設けられることを特徴とする請求項11に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、デブリ吸収のための媒体をさらに具備することを特徴とする請求項11に記載の装置。
- 不活性ガス、特にアルゴンを含む別のガスカーテンが設けられることを特徴とする請求項14に記載の装置。
- 固体スペクトルフィルタ(7)が最後のガスカーテン(41)の後に配置され、吸収フォイル(71)の形のこの固体スペクトルフィルタ(7)によって、次に来る真空室(5)がフィルタユニット(4)から四散するガスによる負荷を受けないことを特徴とする請求項14に記載の装置。
- スリットノズル(45)が、望ましくないスペクトル領域の減衰が所望のEUV放射線の減衰より少なくとも1桁分大きくなるようなスリット幅を有することを特徴とする請求項1に記載の装置。
- フィルタユニット(4)の少なくとも1つのガスカーテン(41)が、プラズマ(1)から発散するように放出される放射線(11)を束にするための第1の集光光学素子(32)の下流に配置されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- ガスカーテン(41)の表面を小さく保ち、それによって真空の破壊を最小限に抑えるために、ガスカーテン(41)が、集束されて放出される放射線(31)の中間焦点(33)のすぐ近くに配置されることを特徴とする請求項18に記載の装置。
- 少なくとも1つの隔膜(47)がプラズマ(1)の方向においてガスカーテン(41)の上流に配置され、隔膜(47)はプラズマ(1)によって放出される放射線(11)の束を制限せずに通過させ、プラズマ(1)の方向のガスカーテン(41)の分子の四散を低減することを特徴とする請求項19に記載の装置。
- 少なくとも1つの隔膜(47)が適用方向においてガスカーテン(41)の下流に配置され、隔膜(47)は、高い真空下で適用位置に伝搬される放射線の束を制限せずに通過させ、適用位置(6)の方向における後続の真空室(5)へのガスカーテン(41)の分子の四散を低減することを特徴とする請求項19に記載の装置。
- その中に挿入されたフィルタフォイル(71)を有する隔膜(47)が、ガスカーテン(41)の下流に配置され、後続の真空室(5)からガスカーテン(41)を完全に分離し、IRスペクトル領域の少なくとも相当部分を吸収した少なくとも1つのガスカーテン(41)を補足するために、適用位置(6)に伝搬されるべきEUV放射線のための画定されたエッジフィルタとして設けられることを特徴とする請求項21に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、冷却によって液化されるガスを含む液体媒体のカーテンを含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- フィルタユニット(4)が、真空室(2、5)内に広がっている圧力および動作温度で液体である液体媒体のカーテンを含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
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