JP4322596B2 - 薄膜付きガラスの製造方法 - Google Patents
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(シート抵抗の測定)
三菱化学社製、ロレスタIPを使用して、ソーダライムガラス板上に形成された金属酸化物膜のシート抵抗を測定した。
島津製作所製分光光度計、UV3100を使用して、金属酸化物膜を形成されたソーダライムガラス板のガラス板側から光線を入射して、光の波長400nm〜800nmの間の光透過率と光反射率を測定し、前記光波長域における平均光吸収率を求めた。
アルバックファイ社製SIMS、PH16600を用いて、金属酸化物膜を形成されたソーダライムガラス板の厚さ方向におけるナトリウム量の分布(デップスプロファイル)を金属酸化物膜側から掘り起こして、連続して測定した。
100mm×100mmに切断された、厚さ4mmのソーダライムガラス板をメッシュベルトに乗せ、加熱炉を通過させて約620℃まで加熱した。この加熱されたガラス板をメッシュベルトで搬送しながら、その表面に向けて、1.6モル%の塩化水素を含有する塩化水素と窒素の混合ガスを供給して、ガラス板表面を処理した。続いて、処理されたガラス板表面に向けて、1.0モル%の塩化第二錫、14.0モル%の水蒸気、および、0.05モル%の塩化水素を含有し、残りは窒素からなる混合気体を供給して、ガラス板表面に厚さ150nmの酸化錫膜を形成した。
100mm×100mmに切断された、厚さ4mmのソーダライムガラス板をメッシュベルトに乗せ、加熱炉を通過させて約620℃まで加熱した。この加熱されたガラス板をメッシュベルトで搬送しながら、その表面に向けて、1.0モル%の塩化第二錫、14.0モル%の水蒸気、および、0.05モル%の塩化水素を含有し、残りは窒素からなる混合気体を供給して、ガラス板表面に厚さ150nmの酸化錫膜を形成した。
前記実施例および比較例から得られた、酸化錫膜を形成されたソーダライムガラス板の性能を評価した結果を図2および表1に示す。
2 比較例から得た試料のデップスプロファイル
3 酸化錫膜とガラス板との境界部を示す仮想線
10 ガラスリボン
11 溶融炉
12 フロートバス
13 徐冷炉
15 溶融錫浴
16(16a、16b、16c) コータ
17 ローラ
Claims (4)
- 加熱されたソーダライムガラスあるいは溶融金属浴上のガラスリボンの表面に、ハロゲン元素を含有する気体を供給して該表面を処理する工程と、該表面を処理する工程の後に、該処理された表面に薄膜形成材料を供給して薄膜を形成する工程を有することを特徴とする薄膜付きガラスの製造方法であって、
該表面を処理する工程において、
前記ハロゲン元素が、塩素であり、
前記ハロゲン元素を含有する気体が、塩化水素と窒素のみからなる気体であり、
前記ハロゲン元素を含有する気体を供給する際の加熱されたソーダライムガラスあるいは溶融金属浴上のガラスリボンの表面の温度が500〜800℃であり、
該表面処理工程が該ガラス表面あるいは該ガラスリボン表面に存在していたアルカリイオンを減少させる工程であり、
前記薄膜を形成する工程において、
500〜800℃である前記処理された表面に
前記薄膜形成材料を供給して、熱分解CVD法によって薄膜を形成し、
前記表面を処理する工程と、前記薄膜を形成する工程とを、連続した工程とすることを特徴とする薄膜付きガラスの製造方法。 - 前記薄膜形成材料がハロゲン元素を含有する錫化合物であり、形成された薄膜が酸化錫を主成分とする薄膜であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜付きガラスの製造方法。
- 前記ハロゲン化物を含有する気体を供給する加熱されたソーダライムガラスあるいは溶融金属浴上のガラスリボンの表面の温度が620〜750℃である請求項1または2に記載の薄膜つきガラスの製造方法。
- 前記薄膜を形成する工程において、前記薄膜形成材料を供給する際の前記処理された表面の温度が、620〜750℃である請求項1〜3の何れか1項に記載の薄膜つきガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|---|---|
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JP (1) | JP4322596B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2797415A1 (en) * | 2010-05-20 | 2011-11-24 | Cardinal Fg Company | Glass substrates for high temperature applications |
JP5960385B2 (ja) * | 2010-09-27 | 2016-08-02 | ショット アクチエンゲゼルシャフトSchott AG | 赤外線放射を反射する層を有する透明ガラス又はガラスセラミック製窓ガラス |
CN103492338B (zh) * | 2011-04-15 | 2017-04-12 | 旭硝子株式会社 | 经表面处理的玻璃基体的制造方法 |
WO2013146440A1 (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | 旭硝子株式会社 | 化学強化時の反りを低減できるガラス板 |
CN104203860B (zh) | 2012-03-26 | 2016-09-28 | 旭硝子株式会社 | 能够减小化学强化时的翘曲的玻璃板 |
EP2984050B1 (en) | 2013-04-09 | 2022-08-03 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for producing glass sheet and glass sheet |
WO2014167854A1 (en) * | 2013-04-09 | 2014-10-16 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass sheet and method for producing glass sheet |
US20160194242A1 (en) * | 2013-09-02 | 2016-07-07 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for producing glass sheet and glass sheet |
PL3053888T3 (pl) * | 2013-09-30 | 2021-07-19 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Sposób wytwarzania tafli szkła |
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JP2005067974A (ja) | 2005-03-17 |
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RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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