JP4317156B2 - 金属膜作製装置 - Google Patents
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Description
2Cu+Cl2→2CuCl→2Cu↓+Cl2↑反応に関与しないガス及びエッチング生成物は排気口17から排気される。
2 支持台
3 基板
4 ヒータ
5 冷媒流通手段
6 温度制御手段
7 銅板部材
8 真空装置
9 プラズマアンテナ
10 整合器
11 電源
12,21 ノズル
13,22 流量制御器
14,23 Cl2ガスプラズマ(原料ガスプラズマ)
15 前駆体(CuxCly)
16 Cu薄膜
17 排気口
18 溝
25 制御手段
27 天井板
28 取付穴
29 銅円錐
30 ヒータ
31 天板
32 銅棒
Claims (2)
- 基板が一端面側に収容される円筒状のチャンバと、
基板に対向する端面側におけるチャンバに設けられる金属製の被エッチング部材と、
基板と被エッチング部材との間におけるチャンバ内に壁面側に沿って基板側から被エッチング部材側にハロゲンと希ガスからなる原料ガスを供給する第1原料ガス供給手段と、
基板と被エッチング部材との間におけるチャンバ内に被エッチング部材側からハロゲンと希ガスからなる原料ガスを供給する第2原料ガス供給手段と、
チャンバの筒部の周囲に設けられ内部のプラズマ密度が略均一になるようにチャンバの内部をプラズマ化して原料ガスプラズマを発生させ原料ガスプラズマで被エッチング部材をエッチングすることにより被エッチング部材に含まれる金属成分と原料ガスとの前駆体を生成するプラズマ発生手段と、
基板側の温度を被エッチング部材側の温度よりも低くして前駆体の金属成分をハロゲンの還元により基板に成膜させる温度制御手段とを備えたことを特徴とする金属膜作製装置。 - 基板が収容され上方が開口するチャンバと、
基板に対向する位置におけるチャンバの上方開口部に設けられる金属製の被エッチング部材と、
基板と被エッチング部材との間におけるチャンバ内にハロゲンと希ガスからなる原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
被エッチング部材に給電を行なうことでチャンバの内部をプラズマ化して原料ガスプラズマを発生させ原料ガスプラズマで被エッチング部材をエッチングすることにより被エッチング部材に含まれる金属成分と原料ガスとの前駆体を生成するプラズマ発生手段と、
基板側の温度を被エッチング部材側の温度よりも低くして前駆体の金属成分をハロゲンの還元により基板に成膜させる温度制御手段とを備えたことを特徴とする金属膜作製装置。
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