JP4314596B2 - 有機材料の安定剤としての２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基含有トリアジン化合物 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を含有するトリアジン化合物、有機材料、特に合成ポリマーのための光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤としてのそれらの使用、およびそのようにして安定化された有機材料に関するものである。さらに、本発明は特定のブロックオリゴマーならびに狭い分子量分散を有するブロックオリゴマーの混合物、およびそれらの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの誘導体での合成ポリマーの安定化は、例えばＵＳ−Ａ−４０８６２０４号、ＵＳ−Ａ−４３３１５８６号、ＵＳ−Ａ−４３３５２４２号、ＵＳ−Ａ−４２３４７０７号、ＵＳ−Ａ−５１９８５４６号、ＵＳ−Ａ−５６１０２１１号、ＵＳ−Ａ−５４４９７７６号、ＵＳ−Ａ−５０４７５３１号、ＵＳ−Ａ−４４６８４８８号、ＵＳ−Ａ−４４１５６８９号、ＥＰ−Ａ−３５７２２３号、ＥＰ−Ａ−３７７３２４号およびダーウェント８６−２４８８０１／３８号に記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、有機材料、特に合成ポリマーのための光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤として有用な新規２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基含有トリアジン化合物の提供を課題としてなされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、特に、次式（Ｉ）：
【化１８】

〔式中、
ｎは２ないし１４の数を表し、
基Ｒ₁ は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ないし８のヒドロキシアルキル基、−ＣＨ₂ ＣＮ、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数３ないし６のアルキニル基、非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基または（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基を表し、
Ｒ₂ は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基または１，４−ピペラジンジイル基、−Ｏ−もしくは＞Ｎ−Ｘ₁ （式中、Ｘ₁ は炭素原子数１ないし１２のアシル基または（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表すか、または下記Ｒ₄ の定義のうち水素原子を除く意味の一つを有する）により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表すか；またはＲ₂ は次式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
【化１９】

（式中、ｍは２または３を表し、
Ｘ₂ は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、そして
基Ｘ₃ は互いに独立して炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表す）で表される基を表し、
基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし８のアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル）アミノカルボニル基、（炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル）アミノカルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または−ＣＨ₂ ＣＮを表し、
ＢはＯＲ₃ 、−Ｎ（Ｒ₄ ）（Ｒ₅ ）または次式（ＩＩ）：
【化２０】

で表される基を表し、
Ｒ₃ 、Ｒ₄ およびＲ₅ は同じかまたは異なっており、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基または２、３または４位で−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または次式（ＩＩＩ）：
【化２１】

（式中、Ｙは−Ｏ−、−ＣＨ₂ −、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −または＞Ｎ−ＣＨ₃ を表す）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表すか、または
−Ｎ（Ｒ₄ ）（Ｒ₅ ）は式（ＩＩＩ）で表される基をさらに表し、
Ｘは−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ₆ を表し、
Ｒ₆ は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、次式（ＩＶ）：
【化２２】

で表される基または２、３または４位で−ＯＨ、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、そして
ＲはＲ₆ に対して与えられた意味の一つを有するが、
ただし、式（Ｉ）で表される個々の反復単位において、基Ｂ、Ｒ、Ｒ₁ およびＲ₂ の各々は同じかまたは異なる意味を有する〕で表される生成物に関する。
【０００５】
式（Ｉ）で表される個々の反復単位において、基Ｂ、Ｒ、Ｒ₁ およびＲ₂ の各々は好ましくは同じ意味を有する。
【０００６】
式（Ｉ）において、基Ｒおよび次式：
【化２３】

で表される基はランダム分布またはブロック分布を有し得る。
Ａが炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または−ＣＨ₂ ＣＮ、特に炭素原子数１ないし８のアルキル基を表す場合、Ｒは水素原子と異なる意味を表すことが好ましい。
【０００７】
炭素原子数１８以下のアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオクタデシル基である。Ａの好ましい意味の一つは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
炭素原子数２ないし８のヒドロキシアルキル基および−ＯＨにより置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は２−ヒドロキシエチル基である。
【０００８】
炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、好ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特にメトキシ基またはエトキシ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オクトキシプロピル基および４−メトキシブチル基である。
ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミノプロピル基および４−ジエチルアミノブチル基である。
【０００９】
式（ＩＩＩ）で表される基は好ましくは次式：
【化２４】

で表されるものである。
式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の好ましい例は次式：
【化２５】

で表される基である。次式：
【化２６】

で表される基が特に好ましい。
【００１０】
炭素原子数８以下のアルコキシ基の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基またはオクトキシ基である。
非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基である。非置換または置換されたシクロヘキシル基が好ましい。
【００１１】
炭素原子数１８以下のアルケニル基の例は、アリル基、２−メチルアリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ウンデセニル基およびオクタデセニル基である。１位の炭素原子が飽和であるアルケニル基が好ましく、そしてアリル基が特に好ましい。
炭素原子数３ないし６のアルキニル基の例は２−ブチニル基である。
【００１２】
１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基の例は、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ第三ブチルフェニル基、３，５−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基およびブトキシフェニル基である。
非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジル基および２−フェニルエチル基である。ベンジル基が好ましい。
【００１３】
炭素原子数１２以下のアシル基（脂肪族，環状脂肪族または芳香族基）の例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノニル基、ヘキサノニル基、ヘプタノニル基、オクタノニル基およびベンゾイル基である。炭素原子数１ないし８のアルカノイル基およびベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に好ましい。Ａの好ましい意味の一つは炭素原子数１または２のアシル基、特にホルミル基またはアセチル基である。
【００１４】
炭素原子数１２以下のアルコキシ基を有するアルコキシカルボニル基の例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基、ヘキソキシカルボニル基、ヘプトキシカルボニル基、オクトキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ウンデシルオキシカルボニル基およびドデシルオキシカルボニル基である。Ａの好ましい意味の一つは（炭素原子数１または２のアルコキシ）カルボニル基である。
（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基の特に好ましい例はシクロヘキソキシカルボニル基である。（炭素原子数５ないし７のシクロアルコキシ）カルボニル基が好ましい。
【００１５】
（炭素原子数１ないし８のアルキル）アミノカルボニル基の例は、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノカルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基およびオクチルアミノカルボニル基である。（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基が好ましい。
（炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル）アミノカルボニル基の特に好ましい例は、シクロヘキシルアミノカルボニル基である。（炭素原子数５ないし７のシクロアルキル）アミノカルボニル基が好ましい。
（炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル）アミノカルボニル基の特に好ましい例はベンジルアミノカルボニル基である。
【００１６】
炭素原子数１２以下のアルキレン基の例は、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基である。Ｒ₂ は例えば炭素原子数２ないし８のアルキレン基または炭素原子数４ないし８のアルキレン基、特に炭素原子数２ないし６のアルキレン基、好ましくはヘキサメチレン基である。
炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基の例は３−ヘキセニレン基である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例はシクロヘキシレン基である。
【００１７】
１，４−ピペラジンジイル基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、次式：
【化２７】

で表されるものである。
−Ｏ−、例えば１、２または３個の−Ｏ−により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、３−オキサペンタン−１，５−ジイル基、４−オキサヘプタン−１，７−ジイル基、３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジイル基、４，７−ジオキサデカン−１，１０−ジイル基、４，９−ジオキサドデカン−１，１２−ジイル基、３，６，９−トリオキサウンデカン−１，１１−ジイル基および４，７，１０−トリオキサトリデカン−１，１３−ジイル基である。
＞Ｎ−Ｘ₁ により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｎ（Ｘ₁ ）−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｎ（Ｘ₁ ）−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＨ₂ −、特に−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｎ（ＣＨ₃ ）−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −Ｎ（ＣＨ₃ ）−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＨ₂ −である。
【００１８】
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例はシクロヘキシレンジメチレン基である。
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基の例はメチレンジシクロヘキシレン基およびイソプロピリデンジシクロヘキシレン基である。
フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例はフェニレンジメチレン基である。
【００１９】
Ｒは好ましくは水素原子、炭素原子数１ないし１０のアルキル基、シクロヘキシル基または式（ＩＶ）で表される基、特に式（ＩＶ）で表される基である。
基Ｒ₁ は好ましくは、互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル基またはアセチル基である。水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Ａは好ましくはアセチル基、（炭素原子数１または２のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１または２のアルキル）アミノカルボニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
【００２０】
基Ｂは好ましくは−ＮＨ（炭素原子数１ないし８のアルキル）基または−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）₂ 基または次式：
【化２８】

で表される基である。
変数ｎは好ましくは２ないし８、特に２ないし６である。
【００２１】
本発明の好ましい態様は、多分散性（多分散度，polydispersity）
【数７】

が１であり、そしてｎが２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３または１４を表す式（Ｉ）で表される化合物である。該化合物は「ブロックオリゴマー」と命名され得る。この態様は、Ａが炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または−ＣＨ₂ ＣＮ、特に炭素原子数１ないし８のアルキル基、例えばメチル基を表す場合、興味深い。
【００２２】
多分散性はポリマー化合物の分子量分布を示す。本願において、多分散性は重量平均分子量
【数８】

（以下、Ｍｗと表記する）と数平均分子量
【数９】

（以下、Ｍｎと表記する）との比率である。１に等しい
【数１０】

すなわち、Ｍｗ／Ｍｎの値は、その化合物が単分散性であり、そして１つの分子量のみを有し、かつ分子量分布を持たないことを意味する。
【００２３】
本発明の好ましい態様は、上記式（Ｉ）中、
Ｒ₂ が炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基を表し、
基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし７のシクロアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基、（５ないし７のシクロアルキル）アミノカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、炭素原子数１ないし６のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、アリル基またはベンジル基を表し、
Ｒ₃ 、Ｒ₄ およびＲ₅ が同じかまたは異なっており、水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１２のアルケニル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたベンジル基；テトラヒドロフルフリル基または２または３位で−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２または３のアルキル基を表すか、または
−Ｎ（Ｒ₄ ）（Ｒ₅ ）が式（ＩＩＩ）で表される基をさらに表し、そして
Ｒ₆ が水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたベンジル基；テトラヒドロフルフリル基、式（ＩＶ）で表される基または２または３位で−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基または式（ＩＩＩ）で表される基により置換された炭素原子数２または３のアルキル基を表す生成物に関する。
【００２４】
式（Ｉ）で表される好ましい生成物は、上記式中、
Ｒ₂ が炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表し、
基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、シクロヘキソキシカルボニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基、シクロヘキシル基、アリル基またはベンジル基を表し、
Ｒ₃ 、Ｒ₄ およびＲ₅ が同じかまたは異なっており、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換またはメチル基により置換されたシクロヘキシル基；炭素原子数３ないし８のアルケニル基、非置換またはメチル基により置換されたフェニル基；ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基または２または３位で−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基または４−モルホリニル基により置換された炭素原子数２または３のアルキル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄ ）（Ｒ₅ ）が４−モルホリニル基をさらに表し、そして
Ｒ₆ が水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換またはメチル基により置換されたシクロヘキシル基；ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基、式（ＩＶ）で表される基または２または３位で−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基または４−モルホリニル基により置換された炭素原子数２または３のアルキル基を表す生成物である。
【００２５】
式（Ｉ）で表される特に好ましい生成物は、上記式中、
ｎが２ないし６、好ましくは２、４または６の数を表し、
基Ｒ₁ が互いに独立して水素原子またはメチル基を表し、
Ｒ₂ が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
基Ａが互いに独立して炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノカルボニル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基またはアリル基を表し、
基Ｂが互いに独立して−Ｎ（Ｒ₄ ）（Ｒ₅ ）または式（ＩＩ）で表される基を表し、
Ｒ₄ およびＲ₅ が同じかまたは異なり、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、２−ヒドロキシエチル基または２−メトキシエチル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄ ）（Ｒ₅ ）が４−モルホリニル基をさらに表し、
Ｘが＞ＮＲ₆ を表し、そして
Ｒ₆ が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す生成物である。
【００２６】
本発明の別の態様は、変数ｎによってのみ異なる上記式（Ｉ）で表される少なくとも３種の異なる単分散性化合物を含有する混合物であり、該混合物は１．１ないし１．７、例えば１．１ないし１．６５、１．１ないし１．６、１．１ないし１．５５または１．１ないし１．５、好ましくは１．１ないし１．４５の多分散性Ｍｗ／Ｍｎを有する。この態様は、Ａが炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または−ＣＨ₂ ＣＮ、特に炭素原子数１ないし８のアルキル基、例えばメチル基を表す場合、特別興味深い。
多分散性Ｍｗ／Ｍｎに対する別の例は１．２ないし１．７、例えば１．２ないし１．６５、１．２ないし１．６、１．２ないし１．５５または１．２ないし１．５、好ましくは１．２ないし１．４５である。
【００２７】
好ましい混合物は、
ａ）次式（Ｉａ）：
【化２９】

で表される単分散性化合物
ｂ）次式（Ｉｂ）：
【化３０】

で表される単分散性化合物および
ｃ）次式（Ｉｃ）：
【化３１】

で表される単分散性化合物
（上記式中、Ａ、Ｂ、Ｒ、Ｒ₁ およびＲ₂ は式（Ｉａ）、（Ｉｂ）および（Ｉｃ）において同一であり、そして上で定義したものと同じ意味を表し、そして上記単分散性化合物のモル比、式（Ｉａ）：（Ｉｂ）：（Ｉｃ）は２：２：１．５ないし２：０．５：０．０５、特に２：１．５：１ないし２：０．５：０．０８または２：１：０．５ないし２：０．５：０．０８である）
を含有する。
【００２８】
上記混合物は次式（Ｉｄ）および／または（Ｉｅ）：
【化３２】

で表される化合物をさらに含有し得る。
これらの化合物は全混合物の重量に対し３０％ないし０．５％、好ましくは２０％ないし０．５％または８％ないし０．５％の量で混合物中に存在し得る。
【００２９】
式（Ｉ）で表される生成物に対して上記した好ましい態様はまた、単分散性化合物およびそれらの上記多分散性を有する混合物に当てはまる。
特に好ましい混合物は、上記式（Ｉａ）、（Ｉｂ）および（Ｉｃ）中、
基Ｒ₁ が互いに独立して水素原子またはメチル基を表し、
Ｒ₂ が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表し、
Ａがアセチル基、（炭素原子数１または２のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数１または２のアルキル）アミノカルボニル基または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
Ｂが−Ｎ（Ｒ₄ ）（Ｒ₅ ）またはＲ₁ が上記と同じ意味を表す式（ＩＩ）で表される基を表し、
Ｒ₄ およびＲ₅ が同じかまたは異なり、水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、２−ヒドロキシエチル基または２−メトキシエチル基を表すか、または−Ｎ（Ｒ₄ ）（Ｒ₅ ）が４−モルホリニル基をさらに表し、
Ｘが＞ＮＲ₆ を表し、
Ｒ₆ が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、そして
Ｒが上記と同じ意味を表すＲ₁ を有する式（ＩＶ）で表される基を表す、それぞれの単分散性化合物を含有する混合物である。
【００３０】
本発明の別の態様は、
１）次式（Ａ）：
【化３３】

で表される化合物を次式（Ｂ）：
【化３４】

で表される化合物と化学量論的比率で反応させて、次式（Ｃ）：
【化３５】

で表される化合物を得、
２）式（Ｃ）で表される化合物を式（Ｂ）で表される化合物とモル比１：２ないし１：３、好ましくは１：２ないし１：２．５、特に１：２で反応させて、次式（Ｄ）：
【化３６】

（式中、ｎは２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３もしくは１４または２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１もしくは１２、好ましくは２、３、４、５、６、７、８、９もしくは１０、または好ましくは２、３、４、５、６、７もしくは８、特に２、４および６を表す）で表される少なくとも３種の異なる単分散性化合物の混合物を得、
３）２）で得られた混合物を次式（Ｅ）または（Ｆ）：
Ａ’−Ｘ’ （Ｅ）
Ａ”−ＮＣＯ （Ｆ）
（式中、Ｘ’は脱離基、例えばハロゲン原子、特に塩素原子を表し、
Ａ’は炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、（炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキシ）カルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または−ＣＨ₂ ＣＮを表し、そしてＡ”は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表す）で表される化合物とおよその化学量論的比率で反応させて、所望の混合物を得ることからなり、
反応１）ないし３）は有機溶媒中、無機塩基の存在下で行われるが、ただし反応３）において式（Ｆ）で表される化合物が適用される場合、該反応３）は無機塩基なしで行われる、上記の多分散性を有し、そして式（Ｉ）で表される少なくとも３種の異なる単分散性化合物を含有する混合物の製造方法である。
【００３１】
Ａが炭素原子数１ないし８のアシル基である場合、反応３）はまた、式（Ｅ）で表される化合物の代わりの試薬として対応する酸無水物を用いて行われてもよい。
Ａがメチル基である場合、式（Ｉ）で表される生成物は、例えばＵＳ−Ａ−５１３０４２９号またはＵＳ−Ａ−３８９８３０３号に記載されるように、ホルムアルデヒド／ギ酸と式（Ｄ）で表される化合物との混合物を反応させることにより得られ得る。
【００３２】
適当な有機溶媒の例は、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、そして特に水溶性有機ケトン、例えばメチルイソブチルケトンである。キシレンが好ましい。
無機塩基の例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムである。水酸化ナトリウムが好ましい。
【００３３】
反応１）は例えば４０℃ないし７０℃、好ましくは５０℃ないし６０℃の温度で行われる。
反応２）は例えば１１０℃ないし１８０℃、好ましくは１４０℃ないし１６０℃の温度で行われる。
式（Ｅ）で表される反応物が反応３）で使用される場合、該反応３）は、必要に応じて密閉容器内で例えば６０℃ないし１８０℃、好ましくは１４６℃ないし１６０℃の温度で行われる。
式（Ｆ）で表される反応物が反応３）で使用される場合、該反応３）は、例えば０℃ないし６０℃、好ましくは０℃ないし２５℃の温度で行われる。
可能性のある副生成物は式（Ｉｄ）および／または（Ｉｅ）で表される上記の化合物である。
【００３４】
式（Ａ）で表される化合物は、例えば塩化シアヌルを化合物Ｂ−Ｈと化学量論的比率で有機溶媒および無機塩基の存在下に反応させることにより製造され得る。
式（Ａ）で表される化合物の製造は、上記反応１）ないし３）におけるものと同じ溶媒および同じ無機塩基を用いることが適当である。
上記の方法において使用される出発物質は公知である。それらが市販されていない場合、公知方法と同様にして製造され得る。例えば、式（Ｂ）で表されるいくつかの出発物質がＷＯ−Ａ−９５／２１１５７号、ＵＳ−Ａ−４３１６８３７号およびＵＳ−Ａ−４７４３６８８号に記載されている。
【００３５】
本発明の態様はまた、上記方法により得られる混合物である。
１の多分散性Ｍｗ／Ｍｎを有する式（Ｉ）で表される化合物は一段階ずつ上記化合物を構築することにより製造され得る。そのような手順のための代表例は以下のとおりである：
ｎが２である式（Ｄ）で表される中間体は次式：
【化３７】

に相当し、そして式（Ｃ）で表される化合物を式（Ｂ）で表される化合物とモル比１：１０ないし１：５０、好ましくは１：２０ないし１：４０、特に１：２０ないし１：３５で反応させることにより製造され得る。反応は例えば有機溶媒中またはそのまま、無機塩基の存在下で行われ得る。溶媒および／または式（Ｂ）で表される反応物の過剰分は適当な条件での蒸留により除去され得る。有機溶媒の例はトルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、イソプロピルベンゼンおよびジイソプロピルベンゼンである。キシレンが好ましい。無機塩基の例は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムである。水酸化ナトリウムが好ましい。反応は例えば１１０℃ないし１８０℃、好ましくは１４０℃ないし１６０℃の温度で行われる。
引続き、得られた中間体を、上記の反応３）の条件に従ってアシル化剤またはアルキル化剤と通常反応させる。
【００３６】
特定の多分散性により特徴づけられない式（Ｉ）で表される生成物は、例えば式（Ａ）で表される化合物を１０モル％まで過剰な式（Ｂ）で表される化合物と分子の構築を制御せずに反応させることにより製造され得る。引続き、得られた生成物を上記の式（Ｅ）または（Ｆ）で表される化合物と反応させてもよい。
式（Ｉ）で表される生成物ならびに式（Ｉ）で表される単分散性化合物および狭い分子量分布を有する上記混合物は、有機材料、特に合成ポリマーおよびコポリマーの耐光性、耐熱性および酸化耐性の改良において非常に有効である。特に低い顔料相互作用ならびにフェノール系酸化防止剤の存在下での非常に良好な色彩がポリプロピレン、特にポリプロピレン繊維において観察される。それ故に、式（Ｉ）で表される生成物は着色ポリオレフィン、好ましくはポリプロピレンの安定化に特に有用である。さらに、ガス褪色に対するポリプロピレンの非常に良好な耐性が観察される。
【００３７】
安定化され得る有機材料の例は以下のとおりである：
１．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（非架橋でも架橋されていてもよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）高密度超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００３８】
ポリオレフィン、すなわち前項に例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは異なる方法、特に以下の方法により製造され得る：
ａ）ラジカル重合（通常、高温高圧下）。
ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ族の金属１種以上を通常含有する触媒を用いる接触重合。これらの金属は通常１以上の配位子、典型的にはπ（パイ）−またはσ（シグマ）−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールを有する。これらの金属錯体は遊離体であっても、または基質、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、酸化アルミナまたは酸化ケイ素に固定されていてもよい。これらの触媒は重合化媒体に可溶性であっても、不溶性であってもよい。触媒は重合においてそれ自体が使用され得、またその他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサンが使用され得る（上記金属は周期表のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａ族の元素である）。活性化剤はその他のエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で変性されてもよい。上記触媒系は通常フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チーグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセンまたは単一部位触媒（single site catalyst, SSC)と呼ばれている。
【００３９】
２．前項１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００４０】
３．モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびこれと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、並びにエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンとのターポリマー；および上記コポリマー相互の、および項１．に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ−エチレン／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー、およびそれらとその他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
【００４１】
４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９のもの）およびそれらの水素化変性体（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンとの混合物。
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
６．スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。
【００４２】
７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン／スチレンまたはポリブタジエン／アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタアクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレイン酸イミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレイン酸イミド、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはアルキルメタクタレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、並びにこれらと項６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー。
【００４３】
８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、ポリブチレン−イソプレンの塩素化および臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化またはスルホ塩素化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００４４】
９．α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリレート；ブチルアクリレートで耐衝撃性に変性されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
１０．前項９．に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジエンターポリマー。
１１．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導されるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにこれらと項１．に記載したオレフィンとのコポリマー。
【００４５】
１２．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー。
１３．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、およびコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
１４．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
１５．一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタン、およびそれらの前駆体。
【００４６】
１６．ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンとイソフタル酸および／またはテレフタル酸とから、場合により変性剤としてエラストマーを添加して製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド。上記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーまたは化学結合化もしくはグラフト化エラストマーとの、またはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；および加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００４７】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール。
１８. ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロキシカルボン酸から誘導されたポリエステルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１, ４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエートおよびヒドロキシ末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；およびポリカーボネートまたはＭＢＳで変性されたポリエステル。
１９．ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。
【００４８】
２１．一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデシド樹脂およびメラミン−ホルムアルデヒド樹脂。
２２．乾性および不乾性アルキド樹脂。
２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、および容易に燃焼しないそれらのハロゲン含有変性物。
２４．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
【００４９】
２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。
２６．脂肪族、環状脂肪族、複素環式または芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテルの生成物であって、慣用の硬化剤、例えば無水物またはアミンで、そして促進剤を用いて、または用いずに架橋されたもの。
２７．天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロースまたはセルロースエーテル例えばメチルセルロース；並びにロジンおよびそれらの誘導体。
【００５０】
２８. 前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
２９．純単量体化合物または該化合物の混合物である天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル( 例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）をベースとした上記オイル、脂肪およびワックス、並びにあらゆる重量比にある合成エステルと鉱油との混合物で、それらは紡績用組成物として、並びにこのような材料の水性エマルジョンとして使用され得る。
３０．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えばカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーの天然ラテックス。
【００５１】
従って本発明はまた、光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有機材料と式（Ｉ）で表される生成物とを含有する組成物に関する。
組成物中に存在する式（Ｉ）で表される化合物の全体が１．１ないし１．７、例えば１ないし１．６５、１ないし１．６、１ないし１．５５、１ないし１．５または１ないし１．４５の多分散性Ｍｗ／Ｍｎを有することが好ましい。
【００５２】
本発明はさらに、光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有機材料と、変数ｎによってのみ異なる上記式（Ｉ）で表される少なくとも３種の異なる単分散性化合物を含有する混合物とからなる組成物であって、該混合物は１．１ないし１．７または１．１ないし１．５の多分散性Ｍｗ／Ｍｎを有するが、ただし、該組成物中に存在する式（Ｉ）で表される化合物の全体が１．１ないし１．７または１．１ないし１．５の多分散性Ｍｗ／Ｍｎを有する、上記組成物に関するものである。
【００５３】
【発明の実施の形態】
有機材料は好ましくは合成ポリマー、特に上記の群から選択される１種である。ポリオレフィンが好ましく、そしてポリエチレンおよびポリプロピレンが特に好ましい。
本発明の別の態様は、光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有機材料に、式（Ｉ）で表される生成物を配合することからなる、前記有機材料を前記分解から安定化する方法である。
式（Ｉ）で表される生成物は、安定化されるべき材料の性質に応じて種々の比率で最終使用時および他の添加剤の存在時に使用され得る。
一般に、安定化されるべき材料の重量に対して式（Ｉ）で表される生成物を例えば０．０１ないし５重量％、好ましくは０．０５ないし１重量％使用することが適当である。
【００５３】
式（Ｉ）で表される生成物は、例えば、上記ポリマー有機材料に、該材料の重合もしくは架橋前、重合もしくは架橋中または重合もしくは架橋後に添加され得る。さらに、それは、そのままの形態またはワックス、オイルもしくはポリマー中にカプセル化されてポリマー材料中に配合され得る。
一般に、式（Ｉ）で表される生成物は種々の方法、例えば粉末の形態での乾式混合、または溶液または懸濁液の形態またはマスターバッチの形態での湿式混合によりポリマー材料中に配合され得、そのような操作において、上記ポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態、またはラテックスの形態で使用され得る。
式（Ｉ）で表される生成物で安定化された材料は成形品、フィルム、テープ、単繊維、繊維、表面コーティング等の製造のために使用され得る。
所望するならば、合成ポリマーのために慣用の他の添加剤、例えば酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、ニッケル安定剤、顔料、充填剤、可塑剤、腐食防止剤および金属不活性化剤が式（Ｉ）で表される生成物を含有する有機材料に添加され得る。
【００５４】
上記慣用の添加剤の特定の例は以下のとおりである：
１．酸化防止剤
１．１．アルキル化モノフェノールの例
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が線状でも分岐していてもよいノニルフェノール、例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよびその混合物。
【００５５】
１．２．アルキルチオメチルフェノールの例
２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノンの例
２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
１．４．トコフェロールの例
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミンＥ）
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテルの例
２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００５６】
１．６．アルキリデンビスフェノールの例
２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール−ビス〔３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’ーヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−（３’−第三ブチル−２’ーヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００５７】
１．７．Ｏ−，Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物の例
３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００５８】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネートの例
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物の例
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００５９】
１．１０．トリアジン化合物の例
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００６０】
１．１１．ベンジルホスホネートの例
ジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキシ３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
１．１２．アシルアミノフェノールの例
４−ヒドロキシラウリン酸−アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸−アニリド、Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエステル。
【００６１】
１．１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００６２】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００６３】
１．１５．β−（３，５−ジシクロシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００６４】
１．１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル
アルコールの例：メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００６５】
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドの例
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００６６】
１．１９．アミン酸化防止剤の例
Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス〔（２−メチルフェニル）アミノ〕エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス〔４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル〕アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【００６７】
２．ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリアゾールの例
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール〕；２−〔３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換体；次式：〔Ｒ−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯ−（ＣＨ₂ ）₃ −〕₂ （式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）で表される化合物。
【００６８】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノンの例
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ−および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
２．３．非置換および置換された安息香酸のエステルの例
４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００６９】
２．４．アクリレートの例
エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリン。
【００７０】
２．５ ニッケル化合物の例
２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。
【００７１】
２．６ 立体障害性アミンの例
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジニ−４−イル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシおよび４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、ならびに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ Ｒｅｇ．Ｎｏ．〔１３６５０４−９６−６〕）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ〔４．５〕デカン、７，７，９，７−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ〔４．５〕デカンおよびエピクロロヒドリンの反応生成物。
【００７２】
２．７．オキサミドの例
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００７３】
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンの例
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス〔２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル〕−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン。
【００７４】
３．金属不活性化剤の例
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００７５】
４．ホスフィットおよびホスホナイトの例
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。
【００７６】
５．ヒドロキシアミンの例
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、水素化タロウ脂肪アミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシアミン。
【００７７】
６．ニトロンの例
Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化タロウ脂肪アミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシアミンから誘導されるニトロン。
【００７８】
７．チオ相乗剤（チオシンエルジスト）の例
ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネート。
８．過酸化物スカベンジャーの例
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
９．ポリアミド安定剤の例
ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩および二価マンガンの塩。
【００７９】
１０．塩基性補助安定剤の例
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、カリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたはスズピロカテコレート。
【００８０】
１１．核剤の例
無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例として二酸化チタンまたは酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩または硫酸塩；有機化合物、例えばモノ−またはポリカルボン酸およびそれらの塩、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム；ポリマー化合物、例えばイオン性共重合生成物（「アイオノマー」）。
１２．充填剤および強化剤の例
炭酸カルシウム、ケイ酸塩（シリケート）、ガラス繊維、ガラスバルブ、アスベスト、タルク、カオリン、雲母（マイカ）、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉およびその他の天然材料の粉末または繊維、合成繊維。
１３．その他の添加剤の例
可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、光沢剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【００８１】
１４．ベンゾフラノンおよびインドリノンの例
ＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４３３８２４４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−Ａ−５２１６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号、ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号またはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に開示された化合物または３−〔４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル〕−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−〔４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル〕ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス〔５，７−ジ第三ブチル−３−（４−〔２−ヒドロキシエトキシ〕−フェニル）ベンゾフラン−２−オン〕、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルフェニル）−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン。
【００８２】
式（Ｉ）で表される生成物：慣用の添加剤の重量比は１：０．５ないし１：５であってよい。
式（Ｉ）で表される生成物はまた、例えばリサーチ・ディスクロージャー１９９０，３１４２９（４７４ないし４８０頁）に記載されるような写真再生および他の再生技術の分野において公知のほとんど全ての材料のための安定剤として、特に光安定剤として使用され得る。
【００８３】
【実施例】
本発明は以下の実施例によりさらに詳細に説明される。特記しない限り、全ての部および％は重量を基準とする。実施例１、３、４、５および７が本発明の特に好ましい態様に関する。
ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィー）は大きさの違いにより分子を分離するための分析方法として使用され、そして分子量平均（Ｍｗ，Ｍｎ）またはポリマーの分子量分布に関する情報を得るために使用される。
【００８４】
上記の技術は十分に公知であり、そして例えばW. W. Yan 等による“Modern Size-Exclusion Liquid Chromatography", J. Wiley & Sons発行, N.Y., USA, 1979, 4-8, 249-283 および315-340 頁に記載されている。
狭い分子量分布は１に近い多分散性（Ｍｗ／Ｍｎ）により特徴づけられる。
以下の実施例に示されたＧＰＣ分析は、パーキン−エルマー（登録商標，Perkin-Elmer）ＲＩ検出器ＬＣ３０およびパーキン−エルマー（登録商標，Perkin-Elmer）オーブンＬＣ１０１を備えたＧＰＣクロマトグラフ・パーキン−エマルー（登録商標，Perkin-Elmer）ＬＣ２５０を用いて行われる。
全ての分析はＰＬＧＥＬ３μｍミックストＥ３００ｍｍ長さ×７．５ｍｍｉ．ｄ．（英国シュロップシアのポリマーズ・ラボラトリーズ・リミテッド製）の３本のカラムを用いて４５℃で行われる。
テトラヒドロフランは溶離剤として使用され（流速０．４０ｍｌ／分）、そして試料はテトラヒドロフラン中に溶解される（２％）（％ｗ／ｖ）。
【００８５】
以下の実施例に示す構造式において、ｎ’はその分子中に反復単位があり、そして得られた生成物が均一でないことを示す。これらの生成物は数平均分子量Ｍｎおよび多分散性Ｍｗ／Ｍｎにより特徴づけられる。
【００８６】
実施例Ａ：次式：
【化３８】

で表される化合物の製造
水５０ｍｌ中のＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミン７４．３ｇ（０．３５モル）の溶液を０℃で、キシレン５００ｍｌ中の塩化シアヌル６４．５ｇ（０．３５モル）の溶液にゆっくり、そして攪拌しながら添加する。
次に混合物を室温で２時間攪拌し、そして０℃まで冷却した後、水５０ｍｌ中の水酸化ナトリウム１４．７ｇ（０．３７モル）の水溶液を添加する。
続いて、この水溶液を分離し、そしてＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン６９．２ｇ（０．１７５モル）を添加する。
【００８７】
この混合物を５０℃まで１時間加熱する。次に、炭酸カリウム粉末４８．４ｇ（０．３５モル）を添加し、そして混合物を６０℃まで４時間加熱する。水で洗浄後、有機相を濃縮し（キシレン２５０ｍｌを回収）、そしてＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン１３８１ｇ（３．５モル）を添加する。混合物を１４０℃まで２時間加熱後、水酸化ナトリウム粉末２８ｇ（０．７モル）を添加し、そして混合物を加熱し８時間還流して、反応水を共沸により留去する。キシレン２５０ｍｌを添加し、そして混合物を次にろ過する。溶液を真空下（１４０℃／１ミリバール）濃縮し、そして過剰のＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミンを真空下（１９０℃／０．２ミリバール）除去する。残渣をキシレン３００ｍｌ中に採取し、そして無水酢酸１７．９ｇ（０．１７５モル）を添加する。
次いで、混合物を１３０℃まで５時間加熱する。室温まで冷却した後、炭酸カリウム粉末３４．６ｇ（０．２５モル）を添加し、そして混合物を１３０℃まで２時間加熱する。混合物を次に５０℃まで冷却し、ろ過し、そして真空下１４０℃／１ミリバールで濃縮する。
【００８８】
実施例１：次式：
【化３９】

で表される生成物の製造
水３０ｍｌ中のＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミン３７．１ｇ（０．１７５モル）の溶液をキシレン２５０ｍｌ中の塩化シアヌル３２．２ｇ（０．１７５モル）の溶液に０℃でゆっくり添加し、添加の間温度を保持し、そしてさらに１時間温度を保持する。
室温で２時間後、混合物を０℃まで冷却し、そして水２５ｍｌ中の水酸化ナトリウム７．３ｇ（０．１８モル）の水溶液を添加する。
０℃で１／２時間および室温でさらに２時間後、この水溶液を分離し、そしてＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン３４．６ｇ（０．０８７モル）を添加する。
【００８９】
この混合物を５０℃まで１時間加熱し、そして炭酸カリウム粉末２４．２ｇ（０．１７５モル）を添加し、そして混合物を６０℃まで４時間加熱する。
水で洗浄後、有機相を６０−７０℃／１０ミリバールで真空下濃縮し、キシレン１２５ｍｌを回収する。
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン６９ｇ（０．１７５モル）を添加し、そして混合物を１５０℃まで２時間加熱し、再度冷却し、そして水酸化ナトリウム粉末７ｇ（０．１７５モル）を添加する。
混合物を１４０℃までさらに４時間加熱して、反応残留水を共沸により留去し、そして１６０℃でさらに４時間加熱する。
６０℃まで冷却した後、混合物をキシレン１３０ｍｌで希釈し、ろ過し、そしてエチレングリコール５０ｍｌで３回洗浄する。
６０℃／１０ミリバールで真空下濃縮した後、無水酢酸７．５ｇ（０．０７３モル）を添加する。室温で１／２時間後、混合物を１３０℃まで５時間加熱する。室温まで冷却した後、炭酸カリウム粉末２０．２ｇ（０．１４６モル）を添加し、そして混合物を１３０℃まで２時間加熱する。
次いで、混合物を５０℃まで冷却し、ろ過し、そして１４０℃／１ミリバールで真空下濃縮する。
乾燥後、１２８−１３４℃の融点を有する固体を得る。
Ｍｎ（ＧＰＣによる）＝２７１２ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４１
ＧＰＣ分析は図１のようなクロマトグラムを示す。
【００９０】
実施例２ないし４
実施例１に記載した操作に従い、同じ反応条件の下、適当な試薬を用いて、次式：
【化４０】

で表される生成物を製造する。
【００９１】
【表１】

実施例２ないし４のＧＰＣ分析は図２ないし４のようなクロマトグラムを示す。
【００９２】
実施例５：次式：
【化４１】

で表される生成物の製造
実施例１の生成物３４．６ｇ（０．０１３モル）を水２００ｍｌ中のギ酸２１ｇ（０．４５５モル）の水溶液中に溶解する。パラホルムアルデヒド１３．７ｇ（０．４５５モル）を添加し、そして水溶液を還流下１６時間加熱する。
室温まで冷却した後、キシレン２００ｍｌを添加し、そして引続き水６０ｍｌ中の水酸化ナトリウム１８．２ｇ（０．４５５モル）を添加する。２時間攪拌した後、有機相を分離し、水で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥する。ろ過の後、有機相を１４０℃／１０ミリバールで真空下濃縮する。
乾燥後、１５９−１６３℃の融点を有する固体を得る。
Ｍｎ（ＧＰＣによる）＝２９２０ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４０
ＧＰＣ分析は図５のようなクロマトグラムを示す。
【００９３】
実施例６：
Ａ）次式：
【化４２】

で表される生成物の製造
キシレン２０ｍｌ中の第三ブチルアミン１２．８ｇ（０．１７５モル）の溶液をキシレン２５０ｍｌ中の塩化シアヌル３２．２ｇ（０．１７５モル）の溶液に０℃でゆっくり添加する。次いで、混合物を室温まで加熱する。
室温で２時間後、混合物を０℃まで冷却し、そして水２５ｍｌ中の水酸化ナトリウム７．３ｇ（０．１８モル）の水溶液を添加する。
水溶液を次に分離し、そしてＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン３４．６ｇ（０．０８７モル）を添加する。混合物を５０℃まで１時間加熱し、そして炭酸カリウム粉末２４．２ｇ（０．１７５モル）を添加し、そして６０℃まで４時間加熱する。
水で洗浄した後、有機相を６０℃−７０℃／１０ミリバールの真空下で濃縮し、キシレン１２５ｍｌを回収する。
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン６９．０ｇ（０．１７５モル）を添加し、そして混合物を１５０℃まで２時間加熱し、再び冷却し、そして水酸化ナトリウム粉末７ｇ（０．１７５モル）を添加する。
混合物を１４０℃までさらに４時間加熱し、反応残留水を共沸により除去し、そして１６０℃でさらに４時間加熱する。
６０℃まで冷却した後、混合物をキシレン１３０ｍｌで希釈し、ろ過し、そしてエチレングリコール５０ｍｌで３回洗浄する。
次いで、溶液を６０℃／１ミリバールで真空下濃縮する。
乾燥後、１２１−１２８℃の融点を有する固体を得る。
Ｍｎ（ＧＰＣによる）＝２４７５ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３４
ＧＰＣ分析は図６のようなクロマトグラムを示す。
【００９４】
Ｂ）実施例５に記載した操作に従い、同じ反応条件の下、適当な試薬を用いて、次式：
【化４３】

で表される生成物を製造する。
融点１３２−１４０℃の固体を得る。
Ｍｎ（ＧＰＣによる）＝２２７５ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３５
ＧＰＣ分析は図７のようなクロマトグラムを示す。
【００９５】
実施例７：
実施例５に記載した操作に従い、同じ反応条件の下、適当な試薬を用いて、次式：
【化４４】

で表される生成物を製造する。
乾燥後、融点１４９−１５６℃の固体を得る。
Ｍｎ（ＧＰＣによる）＝２５１８ｇ／モル
Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３８
ＧＰＣ分析は図８のようなクロマトグラムを示す。
【００９６】
上記実施例１に従って得られた多分散性生成物の３種の主要な単一（単分散性）成分の比率（ｎ’＝２）：（ｎ’＝４）：（ｎ’＝６））は２：０．９３：０．４であり、そして上記実施例２に従って得られた多分散性生成物の３種の主要な単一（単分散性）成分の比率（ｎ’＝２）：（ｎ’＝４）：（ｎ’＝６））は２：０．８４：０．３２である。
【００９７】
実施例Ｉ：ポリプロピレン繊維の光安定化作用
表Ｉに示す安定剤２．５ｇ、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ、カルシウムモノエチル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート１ｇ、ステアリン酸カルシウム１ｇおよび二酸化チタン２．５ｇを、スローミキサー中でポリプロピレン粉末（メルトインデックス１２ｇ／１０分，２３０℃／２．１６ｋｇで測定）１０００ｇと混合する。
混合物を２００〜２３０℃で押出してポリマー顆粒を得、これを次にパイロット型装置〔レオナード−スミラゴ（ＶＡ）（登録商標，Leonard-Sumirago(VA)）, イタリー〕を用いて下記の条件で加工する：
押出温度： ２３０〜２４５℃
ヘッド温度：２５５〜２６０℃
延伸比： １：３．５
線密度： フィラメントあたり１１ｄｔｅｘ
【００９８】
そのようにして製造した繊維は６５ＷＲウエザロメーター（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）内のホワイトカードボードに取りつけた後６３℃のブラックパネル温度で暴露される。
種々の露光時間の後に取り出された試料は、残留引張強さが一定速度の張力計を用いて測定され、そして初期引張強さが半分になるまでに要する露光時間（単位，時間）（Ｔ₅₀）が次に計算される。
比較のために、繊維は本発明の安定剤を添加しないが、他は上記と同じ条件下で製造された繊維もまた暴露される。
結果を表Ｉに示す。

【００９９】
実施例ＩＩ：ポリプロピレンテープの光安定化作用
表ＩＩに示す化合物各１ｇ、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１ｇ、ペンタエリトリトールテトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕０．５ｇおよびステアリン酸カルシウム１ｇを、ターボミキサー中でポリプロピレン粉末（メルトインデックス２．１ｇ／１０分，２３０℃／２．１６ｋｇで測定）１０００ｇと混合する。
混合物を２００〜２２０℃で押出してポリマー顆粒を得、これを次に半工業型装置〔レオナード−スミラゴ（ＶＡ）（登録商標，Leonard-Sumirago(VA)）, イタリー〕を用いて下記の条件で加工して、厚さ５０μｍ、幅５ｍｍの延伸テープに変換する：
押出温度： ２１０〜２３０℃
ヘッド温度：２４０〜２６０℃
延伸比： １：６
【０１００】
そのようにして製造したテープをホワイトカードボードに取りつけ、６３℃のブラックパネル温度を有するウエザロメーター６５ＷＲ（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）内で暴露する。
種々の露光時間の後に取り出された試料は、残留引張強さが一定速度の張力計を用いて測定され、この値から初期引張強さが半分になるまでに要する露光時間（単位，時間）（Ｔ₅₀）が測定される。
比較のために、本発明の安定剤を添加しないが、他は上記と同じ条件下で製造されたテープを露光する。
結果を表Ｉに示す。

【０１０１】
実施例ＩＩＩ：ポリプロピレンプラックにおける顔料相互作用
表ＩＩＩに示す安定剤５．６２５ｇ、ピグメント・ブルー１５「フラッシュ」（登録商標，Pigment Blue 15 ■Flush' ）１３．５００ｇ（ポリエチレン中５０％混合物）およびメルトインデックス＝１４ｇ／分（２３０℃および２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末２５．８７５ｇを室温でハーケ（登録商標，Haake ）内部ミキサーに添加し充填する〔カムブレードを有する６０ｃｃ３ピースレオミキサー（登録商標，Rheomixer ）を用いるハーケ・ブフラー・レオコード・システム４０（登録商標，Haake Buchler Rheochord System 40 ）。該カムブレードは５ｒｐｍ（分あたり回転数）で回転している。ラムは５ｋｇの重量でボウルを閉鎖する。温度を１８０℃まで高め、そして維持する。
３０分後、１８０℃の間に混合物を取り出し、そして室温まで冷却する。そのようにして得られた混合物を「濃縮物」と呼ぶ。
「濃縮物」０．９００ｇ、二酸化チタン「フラッシュ」３．６００ｇ（ポリエチレン中５０％混合物）およびメルトインデックス＝１４ｇ／分（２３０℃および２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末４０．５００ｇを１６０℃でハーケ・ミキサー・ボウル（登録商標，Haake mixer bowl）に添加する。カムブレードは２０ｒｐｍで回転している。ラムは５ｋｇの重量でボウルを閉鎖する。温度を１７０℃まで高め、そして回転を１２５ｒｐｍまで高める。
３０分後、溶融混合物を１７０℃で取り出し、室温でハンドヘルドツールに移し、そして１ｍｍ×２５ｍｍ（直径）の円形プラックに変形する。そのようにして得られた混合物を「レットダウン」と呼び、そしてプラックを「レットダウンプラック」と呼ぶ。
表ＩＩＩに示す安定剤を含有する試料「レットダウンプラック」の、安定剤を含まない対照「レットダウンプラック」に対する色差ΔＥ（ＣＩＥ色差式）を測定する。この測定はアプライド・カラー・システムズ・スペクトロフォトメーター・モデルＣＳ−５（登録商標，Applied Color Systems Spectrophotometer Model CS-5）（米国）を用いて行われる。使用される測定パラメーターは４００−７００ｎｍスキャン、小視界、反射率、イルミネートＤ６５、１０度観察者である。
【０１０２】
上記の加工条件が顔料および安定剤の濃厚物（マスターバッチ）、そしてそれに続く「レットダウン」（希釈）の最終プラスチック物品への製造をシュミレートするために設定される。
結果を表ＩＩＩに示す。高いΔＥは顔料凝集および低い分散性を示す。０．５以下のΔＥは目で観察できない。

【０１０３】
実施例ＩＶ：ポリプロピレンプラックの褪色への影響
表ＩＶに挙げた安定剤各１ｇおよびステアリン酸カルシウム１ｇをターボミキサー中でメルトインデックス＝２ｇ／分（２３０℃および２．１６ｋｇで測定）を有し、そしてトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット１ｇおよびペンタエリトリトールテトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕１ｇで既に安定化されたポリプロピレン粉末１０００ｇと混合する。
この混合物を２００−２２０℃で押出してポリマー顆粒を得、これを次に、圧縮ベンチプレスパサデナＰ２１０Ｃ（登録商標，PASADENA P 210C ）〔パサデナ−ＵＳＡ（登録商標，Pasadena-USA）を用い、そして以下の条件下で加工して、１ｍｍ厚のプラックに変換する：
温度： ２３０℃
圧力： ２０．０００ｌｂｓ
加圧時間：６’
冷却： 冷水中
【０１０４】
このようにして得られたプラックを強制循環空気炉において１２０℃で７日間暴露する。
炉暴露の後、プラックの黄色度指数（ＹＩ）を色度計ミノルタＣＲ２１０（登録商標，MINOLTA CR210 ）で測定する。
得られた結果を表ＩＶに示す。

【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１におけるＧＰＣ分析の結果（クロマトグラム）を示す図面である。
【図２】実施例２におけるＧＰＣ分析の結果（クロマトグラム）を示す図面である。
【図３】実施例３におけるＧＰＣ分析の結果（クロマトグラム）を示す図面である。
【図４】実施例４におけるＧＰＣ分析の結果（クロマトグラム）を示す図面である。
【図５】実施例５におけるＧＰＣ分析の結果（クロマトグラム）を示す図面である。
【図６】実施例６ＡにおけるＧＰＣ分析の結果（クロマトグラム）を示す図面である。
【図７】実施例６ＢにおけるＧＰＣ分析の結果（クロマトグラム）を示す図面である。
【図８】実施例７におけるＧＰＣ分析の結果（クロマトグラム）を示す図面である。

Claims (6)

1. 次式（Ｉ）：
   

   

   〔式中、
   ｎは２ないし１４の数を表し、
   基Ｒ₁は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ないし８のヒドロキシアルキル基又は炭素原子数１ないし８のアシル基を表し、
   Ｒ₂は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表し、
   基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし６のアルケニル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、
   ＢはＯＲ₃、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）または次式（ＩＩ）：
   

   

   で表される基を表し、
   Ｒ₃、Ｒ₄およびＲ₅は同じかまたは異なっており、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換またはフェニル基上で１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または２、３または４位で−ＯＨ又は炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、
   Ｘは−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ₆を表し、
   Ｒ₆は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；次式（ＩＶ）：
   

   

   で表される基または２、３または４位で−ＯＨ又は炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表し、そして
   ＲはＲ₆に対して与えられた意味の一つを有するが、
   ただし、式（Ｉ）で表される個々の反復単位において、基Ｂ、Ｒ、Ｒ₁およびＲ₂の各々は同じかまたは異なる意味を有する〕で表される生成物。
2. 多分散性
   

   

   が１であり、そしてｎが２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３または１４を表す請求項１記載の式（Ｉ）で表される生成物。
3. １．１ないし１．７の多分散性
   

   

   を有する請求項１記載の式（Ｉ）で表される生成物。
4. １）次式（Ａ）：
   

   

   で表される化合物を次式（Ｂ）：
   

   

   で表される化合物と化学量論的比率で反応させて、次式（Ｃ）：
   

   

   で表される化合物を得、
   ２）式（Ｃ）で表される化合物を式（Ｂ）で表される化合物とモル比１：２ないし１：３で反応させて、次式（Ｄ）：
   

   

   で表される生成物を得、
   ３）２）で得られた生成物を次式（Ｅ）または（Ｆ）：
   Ａ’−Ｘ’ （Ｅ）
   Ａ”−ＮＣＯ （Ｆ）
   （式中、Ｘ’は脱離基を表し、
   Ａ’は炭素原子数１ないし８のアシル基、（炭素原子数１ないし８のアルコキシ）カルボニル基、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換または１、２または３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、そして
   Ａ”は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表す）で表される化合物とおよその化学量論的比率で反応させて、請求項１記載の生成物を得ることからなり、
   反応１）ないし３）は有機溶媒中、無機塩基の存在下で行われるが、ただし反応３）において式（Ｆ）で表される化合物が適用される場合、該反応３）は無機塩基なしで行われる、請求項１記載の生成物の製造方法。
5. 光、熱または酸化により誘導される分解を受けやすい有機材料、および請求項１記載の式（Ｉ）で表される生成物を含有する組成物。
6. 組成物中に存在する請求項１記載の式（Ｉ）で表される生成物が１ないし１．７の多分散性
   

   

   を有する請求項５記載の組成物。

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