JP4366668B2 - 有機材料のための安定剤としての１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を含むブロック・オリゴマー - Google Patents

Description

有機材料のための安定剤としての１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を含むブロック・オリゴマー
本発明は、１−ヒドロカルビルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を含む特定のブロック・オリゴマー；有機材料、特に合成ポリマーのための光安定剤，熱安定剤及び酸化安定剤としてのそれらの用途；並びにそれにより安定化された有機材料に関するものである。
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体を用いる合成ポリマーの安定化は、例えば、ＵＳ−Ａ−４０８６２０４，ＵＳ−Ａ−４３３１５８６，ＵＳ−Ａ−４３３５２４２，ＵＳ−Ａ−４２３４７０７，ＵＳ−Ａ−４４５９３９５，ＵＳ−Ａ−４４９２７９１，ＵＳ−Ａ−５２０４４７３，ＥＰ−Ａ−５３７７５，ＥＰ−Ａ−３５７２２３，ＥＰ−Ａ−３７７３２４，ＥＰ−Ａ−４６２０６９，ＥＰ−Ａ−７８２９９４及びＧＢ−Ａ−２３０１１０６に記載されている。
本発明は特に、１ないし１．７の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nを有し、且つ次式（Ｉ）：

で表わされるブロック・オリゴマー中に存在する次式（Ｇ−Ｉ）：

で表わされる基を次式（Ｇ−II）：

〔式中、Ｒ₁はヒドロカルビル基を表わし、又は−ＯＲ₁基はオキシル基を表わす〕で表わされる基に転移させることにより得られる生成物であって、
前記転移が、炭化水素溶媒中で過酸化物分解触媒の存在下で、前記式（Ｉ）で表わされるブロック・オリゴマーを過酸化水素と反応させることにより行われ、
前記式（Ｉ）中、
ｎは２ないし１４の数を表わし、
基Ｒ₂は、互いに独立して、炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、又は１，４−ピペラジンジイル基，−Ｏ−基若しくは＞Ｎ−Ｘ₁基（式中、Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基又は（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表わし、又は以下において与えられるＲ₄の定義のうちの一つを表わす）により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし；又は基Ｒ₂は次式（ａ），（ｂ）又は（ｃ）：

〔前記式（ａ）中、
ｍは２又は３を表わし、
前記式（ｂ）中、
基Ｘ₂は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基又は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、そして
前記式（ｃ）中、
基Ｘ₃は、互いに独立して、炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表わす〕で表わされる基を表わし、
基Ａは、互いに独立して、−ＯＲ₃基、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基又は次式（II）：

で表わされる基を表わし、
基Ｒ₃，Ｒ₄及びＲ₅は、同一又は異なり、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基又は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基又は−ＯＨ基，炭素原子数１ないし８のアルコキシ基，ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基若しくは次式（III）：

（式中、Ｙは−Ｏ−基、−ＣＨ₂−基、−ＣＨ₂ＣＨ₂−基又は＞Ｎ−ＣＨ₃基を表わす）で表わされる基により２，３又は４位が置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、
そして、基Ｒ₃は更に水素原子を表わし、又は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基は更に式（III）で表わされる基を表わし、
基Ｘは−Ｏ−基又は＞Ｎ−Ｒ₆基を表わし、
基Ｒ₆は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基、又は−ＯＨ基，炭素原子数１ないし８のアルコキシ基，ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基若しくは式（III）で表わされる基により２，３又は４位が置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、
基Ｒは、互いに独立して、基Ｒ₆に対して与えられた意味のうちの一つを表わし、そして
基Ｂ及びＢ^*は、互いに独立して、基Ａに対して与えられた意味のうちの一つを表わし、
但し、式（Ｉ）で表わされる個々の繰り返し単位において、基Ｂ，Ｒ及びＲ₂の各々は同一又は異なる意味を有する生成物に関するものである。
式（Ｉ）で表わされる個々の繰り返し単位において、基Ｒ及び次式：

で表わされる基は、ランダム分布又はブロック分布を有する。
式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基の式（Ｇ−II）で表わされる基への転移は、例えば、ＵＳ−Ａ−４９２１９６２（これは、本文中に文献として取り込まれている）に記載された方法と同様の方法により行ってよい。
多分散性は、ポリマー状化合物の分子量分布を示す。本発明において、前記多分散性は、重量平均分子量（Ｍ_w）と数平均分子量（Ｍ_n）との比である。１に等しいＭ_w／Ｍ_nの値は、化合物が単分散であり、且つ一つの分子量のみを有し、そして分子量分布を全く有しないことを意味する。狭い分子量分布は、多分散性Ｍ_w／Ｍ_nが１に近づくことを特徴とする。
多分散性Ｍ_w／Ｍ_nが１である場合には、ｎは好ましくは２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１又は１２、特に２，３，４，５又は６、例えば２，４又は６である。
式（Ｉ）で表わされる好ましいブロック・オリゴマーは、１ないし１．７の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nを有する。このようなブロック・オリゴマーは多分散であり、且つ分子量分布を有する。より特別には、このようなブロック・オリゴマーは、ｎの値のみが変化する少なくとも三種の異なる式（Ｉ）で表わされる多分散化合物を含む混合物であり、前記混合物は１ないし１．７の多分散性を有する。
前記多分散性Ｍ_w／Ｍ_nが１より大きい場合には、ｎは好ましくは、２ないし１２、特に２ないし６の数である。
好ましいブロック・オリゴマーは、１．１ないし１．６５、１．１ないし１．６、１．１ないし１．５５、１．１ないし１．５、１．１ないし１．４５、１．１ないし１．４０又は１．１ないし１．３５の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nを有する。１．１ないし１．５５、例えば１．１ないし１．５の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nが特に好ましい。
多分散性Ｍ_w／Ｍ_nの別の例は、１．１５ないし１．７、例えば１．１５ないし１．６５、１．１５ないし１．６、１．１５ないし１．５５、１．１５ないし１．４５、１．１５ないし１．４０又は１．１５ないし１．３５である。１．１５ないし１．５５、例えば１．１５ないし１．５の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nも特に好ましい。
基Ｒ₁の意味は使用される炭化水素に依存する。基Ｒ₁は好ましくは、５ないし１８個の炭素原子を有する炭化水素基である。
基Ｒ₁は特に、炭素原子数５ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１８のアルキニル基、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基；６ないし１０個の炭素原子を有する二環式又は三環式ヒドロカルビル基、或いは非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、そして
前記炭化水素溶媒は、従って、前記基Ｒ₁に応じて、炭素原子数５ないし１８のアルカン、炭素原子数５ないし１８のアルケン、炭素原子数５ないし１８のアルキン、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルカン；非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン；６ないし１０個の炭素原子を有する二環式又は三環式炭化水素、或いは非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルカンである。
１８個までの炭素原子を含むアルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基及びオクタデシル基である。基Ｒ₁は好ましくは、炭素原子数６ないし１２のアルキル基、特にヘプチル基又はオクチル基である。基Ｒ₄，Ｒ₅及びＲ₆は好ましくは、炭素原子数１ないし８のアルキル基、特に炭素原子数１ないし４のアルキル基である。
−ＯＨ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−ヒドロキシエチル基である。
炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、好ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特にメトキシ基又はエトキシ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オクトキシプロピル基及び４−メトキシブチル基である。
ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基により、好ましくはジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジエチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、３−ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミノプロピル基及び４−ジエチルアミノブチル基である。
式（III）で表わされる基は好ましくは、次式：

で表わされる基である。
式（III）で表わされる基により置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の好ましい例は、次式：

で表わされる基である。次式：

で表わされる基は特に好ましい。
非置換又は１，２又は３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基及びシクロドデシル基である。非置換又は置換されたシクロヘキシル基が好ましい。
６ないし１０個の炭素原子を有する二環式又は三環式ヒドロカルビル基の好ましい例は、１，２，３，４−テトラヒドロカルビル基である。
非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基の好ましい例は、シクロヘキセニル基である。
１８個までの炭素原子を含むアルケニル基の例は、アリル基、２−メチルアリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ウンデセニル基及びオクタデセニル基である。１位の炭素原子が飽和されているアルケニル基が好ましく、アリル基が特に好ましい。
炭素原子数５ないし１８のアルケニル基の好ましい例は、オクチニル基である。
非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基又は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基の例は、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ第三ブチルフェニル基、３，５−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基及びブトキシフェニル基である。
非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベンジル基及び２−フェニルエチル基である。ベンジル基が好ましい。
１２個までの炭素原子を含むアシル基（脂肪族，脂環式又は芳香族）の例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基及びベンゾイル基である。炭素原子数１ないし８のアルカノイル基及びベンゾイル基が好ましい。アセチル基はとりわけ好ましい。
（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基の例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペントキシカルボニル基、ヘキソキシカルボニル基、ヘプトキシカルボニル基、オクトキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ウンデシルオキシカルボニル基及びドデシルオキシカルボニル基である。
１２個までの炭素原子を含むアルキレン基の例は、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基及びドデカメチレン基である。基Ｒ₂は例えば、炭素原子数２ないし８のアルキレン基又は炭素原子数４ないし８のアルキレン基、特に炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わす。
炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基の例は、３−ヘキセニレン基である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例は、シクロヘキシレン基である。
１，４−ピペラジンジイル基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、次式：

で表わされる基である。
−Ｏ−基、例えば１，２又は３個の−Ｏ−基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、３−オキサペンタン−ｌ，５−ジイル基、４−オキサヘプタン−１，７−ジイル基、３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジイル基、４，７−ジオキサデカン−１，１０−ジイル基、４，９−ジオキサドデカン−１，１２−ジイル基、３，６，９−トリオキサウンデカン−１，１１−ジイル基及び４，７，１０−トリオキサトリデカン−１，１３−ジイル基である。
＞Ｎ−Ｘ₁基により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基の例は、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（Ｘ₁）−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（Ｘ₁）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−基、特に−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−基である。
炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例は、シクロヘキシレンジメチレン基である。
炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基の例は、メチレンジシクロヘキシレン基及びイソプロピリデンジシクロヘキシレン基である。
フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基の例は、フェニレンジメチレン基である。
前記基Ｒ₁は好ましくは、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロヘキセニル基、α−メチルベンジル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフテニル基であり、そして
前記炭化水素溶媒は、従って、前記基Ｒ₁に応じて、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオクタン、シクロヘキセン、エチルベンゼン又はテトラリンである。
本発明の別の好ましい態様に従って、前記基Ｒ₁はシクロヘキシル基又はオクチル基を表わし、そして前記炭化水素溶媒は、前記基Ｒ₁に応じて、シクロヘキサン又はオクタンである。
前記基−Ｏ−Ｒ₁がオキシル基を表わす場合は、前記炭化水素溶媒は都合良くは、不活性有機溶媒、好ましくはトルエン又は１，２−ジクロロエタンである。
前記過酸化物分解触媒は例えば、金属カルボニル、金属酸化物、金属アセチルアセトネート又は金属アルコキシドであり、前記金属は周期律表の族IVｂ，Ｖｂ，VIｂ，VIIｂ及びVIIIから選択されており、好ましくはバナジウム（III）アセチルアセトネート、コバルトカルボニル、酸化クロム（VI）、チタン（IV）イソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、モリブデンヘキサカルボニル、三酸化モリブデン等である。最も好ましい触媒はＭ_oＯ₃である。
適する過酸化物は、第三ブチルヒドロパーオキシド、第三アミルヒドロパーオキシド、第三ヘキシルヒドロパーオキシド、第三オクチルヒドロパーオキシド、エチルベンゼンヒドロパーオキシド、テトラリンヒドロパーオキシド又はクメン（＝イソプロピルベンゼン）ヒドロパーオキシドである。最も好ましいヒドロパーオキシドは、第三ブチルヒドロパーオキシドである。
例えば、前記ブロック・オリゴマー中に存在する次式（Ｇ−Ｉ）：

で表わされる障害アミン部分１モル当たり、前記過酸化水素２ないし８モル、好ましくは３ないし６モル、前記過酸化物分解触媒０．００１ないし０．１モル、好ましくは０．００５ないし０．０５モル、及び前記炭化水素５ないし３０モル、好ましくは１０ないし２０モルが用いられる。
前記式（Ｇ−Ｉ）で表わされる障害アミン部分の次式：

で表わされる基への転移は、例えば、７５ないし１６０℃、好ましくは１００ないし１５０℃で行われる。
式（Ｇ−Ｉ）で表わされる障害アミン部分が、過酸化物分解触媒の存在下で、不活性有機溶媒中で、最初に過酸化水素水で処理される場合には（例えば、ＵＳ−Ａ−４６９１０１５に記載された方法と同様の方法）、比較的短時間に得られる初期の反応生成物は、強く着色され且つそれ自体単離され得る相当するＮ−オキシル中間体（−ＯＲ₁基＝オキシル基）である。
前記有機溶媒が、不安定な水素原子を有する炭化水素である場合、前記アミンを相当するＮ−オキシル誘導体に変換するために必要なものの他に、充分に過剰なモルの過酸化水素が残っている場合、及び前記反応混合物が付加的期間の間、中程度の温度に加熱される場合、前記Ｎ−オキシル化合物（前記原アミンからその場で調製されるか、又は前記方法において、初期の出発中間体として用いられる）と前記炭化水素溶媒との間に別の反応が起こり、相当するＮ−ヒドロカルビルオキシ誘導体が得られる。
原反応混合物は無色であるが、しかし、Ｎ−オキシル中間体が形成されるので、強く着色される。この色は、Ｎ−オキシル化合物が無色のＮ−ヒドロカルビルオキシ生成物に変換されると消失する。この方法は、それ故、本質的に、反応の程度を示す内蔵の色指示体を有する。前記反応混合物が無色になる場合は、それは、着色されたＮ−オキシル中間体がＮ−ヒドロカルビルオキシ生成物に完全に変換されたことを示す。
所望により、本発明の生成物は、下記方法のうちの一つにより精製されてよい。
ａ）残渣の過酸化物を分解し、次いで溶媒を蒸発させて粗固体生成物を得る。前記固体を、不活性溶媒、例えばシクロヘキサン，オクタン，ヘキサン，石油エーテル，キシレン，トルエン，アセトン，メチルエチルケトン，酢酸エチル，酢酸ブチル，第三ブチルアルコール，第三アミルアルコール，イソプロピルアルコール，エタノール，メタノール，クロロホルム，ジクロロメタン，アセトニトリル，ジエチルエーテル，ジブチルエーテル及び／又は水と共に攪拌する。この混合物は、攪拌中加熱されてよい。攪拌後、この混合物を冷却し、次いで固体生成物を濾過により捕集し、次いで乾燥する。
ｂ）残渣の過酸化物を分解し、次いで溶媒を部分的に蒸発させる。この残部を濾過して固体を得、この固体を不活性溶媒、例えば上記のもののうちの一つ（これは、冷やされていてよい）を用いて洗浄し、次いで乾燥する。
ｃ）残渣の過酸化物を分解し、次いで溶媒を高められた温度で蒸発させて溶融体を得る。この温かい溶融体を不活性溶媒、例えば上記のもののうちの一つ（これは、冷やされていてよい）と混合し、次いで得られた沈殿を濾過により捕集し、次いで乾燥する。この方法の変法は、温かい溶融体を溶媒と混合し、次いでこの混合物を冷却して沈殿を得る方法、或いは、温かい溶融体を溶媒と混合し、全ての固体が溶液となるまで加熱し、次いで冷却して沈殿を得る方法を包含する。
ｄ）残渣の過酸化物を分解し、次いで溶媒を高められた温度で蒸発させて溶融体を得る。この溶融体を不活性溶媒、例えば上記のもののうちの一つ（これは、冷やされていてよい）に溶解し、次いで得られた溶液は、幾分かの過剰な溶媒を溜去することにより濃縮してよい。この溶液を、次いで第二の溶媒、例えば上記のもののうちの一つと、生成物が沈殿するような温度で混合する。固体を濾過により捕集し、次いで乾燥する。
より特別には、本発明の生成物は、好ましくは、下記の如く精製する。
前記反応が完結後、前記粗反応混合物を５０℃に冷却し、次いで、残渣の過酸化物の濃度が０．５％以下に低下するまで、２０％亜硫酸ナトリウム溶液を用いて処理する。この水層を取り除き、次いで、この生成物溶液を減圧下で加熱することにより、有機層を濃縮する。粗生成物を過剰の第三ブチルアルコールに溶解し、次いで、固体濃度が５０％になるまで前記溶液を減圧下で加熱することにより、溶媒を除去する。この溶液を、冷メタノールにゆっくり添加する。得られた沈殿を濾過し、メタノールで洗浄し、次いで真空下で加熱することにより乾燥する。
１ないし１．７の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nを有する式（Ｉ）で表わされるブロック・オリゴマー出発原料は、アメリカ合衆国特許願，連続番号０８／７５６２２５及びＥＰ−Ａ−７８２９９４に記載されている。
１より大きい値ないし１．７の値の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nを有するブロック・オリゴマー出発原料は、例えば、下記の如く製造され得る。
１）次式（Ａ）：

で表わされる化合物を、次式（Ｂ）：

で表わされる化合物と、化学量論比で反応させて、次式（Ｃ）：

で表わされる化合物を得る。
２）前記式（Ｃ）で表わされる化合物を前記式（Ｂ）で表わされる化合物と、モル比１：２ないし１：３、好ましくは１：２で反応させて、次式（Ｄ）：

〔式中、ｎは２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３又は１４、特に２，４及び６を表わす〕で表わされる少なくとも三種の異なる単分散化合物の混合物を得る。
３）２）において得られた混合物を次式（Ｅ）：

で表わされる化合物と化学量論比で反応させて、示された多分散性を有する所望の化合物を得る；前記反応１）ないし３）は、有機溶媒中で無機塩基の存在下で行われる。
適する有機溶媒の例は、トルエン，キシレン，トリメチルベンゼン，イソプロピルベンゼン，ジイソプロピルベンゼン、及びとりわけ水−不溶性有機ケトン、例えば、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンである。キシレンが好ましい。
無機塩基の例は、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムである。水酸化ナトリウムが好ましい。
前記反応１）は、例えば、４０℃ないし７０℃、好ましくは５０℃ないし６０℃の温度で行われる。
前記反応２）は、例えば、１１０℃ないし１８０℃、好ましくは１４０℃ないし１６０℃の温度で行われる。
前記反応３）は、例えば、ｌ１０℃ないし１８０℃、好ましくは１４０℃ないし１６０℃の温度で行われる。
可能な副生成物は、次式（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）：

で表わされる化合物である。
ＵＳ−Ａ−４１０８８２９及びＵＳ−Ａ−４４４２２５０から公知である前記化合物の各々は、全混合物に対して、例えば３０モル％まで、好ましくは２０モル％まで又は１０モル％まで、特に８モル％までの量で、前記混合物中に存在し得る。
式（Ａ）で表わされる化合物は、例えば、シアヌル酸クロリドを化合物Ｂ−Ｈと、化学量論比で、有機溶媒及び無機塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
更に、式（Ｅ）で表わされる化合物は、例えば、シアヌル酸クロリドを式Ａ−Ｈで表わされる化合物及び式Ｂ^*−Ｈで表わされる化合物と、化学量論比で、有機溶媒及び無機塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
前記式（Ａ）で表わされる化合物及び式（Ｅ）で表わされる化合物の製造のためには、上記の反応１）ないし３）におけるよりも、同一の溶媒及び同一の無機塩基を使用することが適切である。
上記の方法で使用される出発原料は公知である。それらが市販されていない場合には、それらは公知方法と同様の方法で製造することができる。例えば、式（Ｂ）で表わされる幾つかの出発原料は、ＷＯ−Ａ−９５／２１１５７，ＵＳ−Ａ−４３１６８３７及びＵＳ−Ａ−４７４３６８８に記載されている。
特に好ましい出発原料は、１．１ないし１．７の多分散性を有する生成物、又はより特別には、示された多分散性を有する混合物であり、前記混合物は、繰り返し単位の数のみを異にする少なくとも三つの単分散化合物を含み、そして前記三つの単分散化合物は、
ａ）次式（Ｓ−Ｉａ）：

で表わされる化合物、
ｂ）次式（Ｓ−Ｉｂ）：

で表わされる化合物、及び
ｃ）次式（Ｓ−Ｉｃ）：

で表わされる化合物であり、前記基Ａ，Ｂ，Ｂ^*，Ｒ及びＲ₂は上記の如くであり、そして前記式（Ｓ−Ｉａ）で表わされる化合物対前記式（Ｓ−Ｉｂ）で表わされる化合物対前記式（Ｓ−Ｉｃ）で表わされる化合物のモル％における比率は２：１．６：１ないし２：０．４：０．０４、好ましくは２：１．２：０．５ないし２：０．４：０．０４、特に２：１：０．４ないし２：０．４５：０．０４である。
１の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nを有する式（Ｉ）で表わされる出発原料は、前記化合物を順次結合させることにより製造することができる。このような方法の幾つかの代表例を以下に示す。
Ｉ）式（Ｉ）で表わされる化合物〔式中、Ｒは式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基を表わし、そしてｎは２を表わす〕は、スキームＩ−１に従って、式（Ｅ）で表わされる化合物を大過剰量の式（Ｂ）で表わされる化合物と反応させて式（Ｆ）で表わされる化合物を得ることにより、都合良く製造され得る。式（Ｅ）で表わされる化合物対式（Ｂ）で表わされる化合物のモル比は、例えば１：４であってよい。

続いて、スキームＩ−２に示す如く、所望の化合物を得るために、式（Ｆ）で表わされる化合物を式（Ｃ）で表わされる化合物と化学量論比で反応させてよい。

II）式（Ｉ）で表わされる化合物〔式中、Ｒは式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基を表わし、そしてｎは３を表わす〕は、スキームII−１に従って、式（Ｆ）で表わされる化合物を化学量論比で式（Ａ）で表わされる化合物と反応させて式（Ｇ）で表わされる化合物を得ることにより、都合良く製造され得る。

次いで、スキームII−２に示す如く、式（Ｈ）で表わされる化合物を得るために、式（Ｇ）で表わされる化合物を大過剰量の式（Ｂ）で表わされる化合物と反応させてよい。式（Ｇ）で表わされる化合物対式（Ｂ）で表わされる化合物のモル比は、例えば１：４であってよい。

続いて、スキームII−３に従って、式（Ｋ）で表わされる化合物を得るために、式（Ｈ）で表わされる化合物を式（Ａ）で表わされる化合物と化学量論比で反応させてよい。

III）式（Ｉ）で表わされる化合物〔式中、Ｒは式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基を表わし、そしてｎは４を表わす〕は、式（Ｈ）で表わされる化合物を化学量論比で式（Ｃ）で表わされる化合物と反応させて式（Ｌ）で表わされる化合物を得ることにより、都合良く製造され得る。

前記反応Ｉ）ないしIII）は、例えば、有機溶媒、例えばトルエン，キシレン，トリメチルベンゼン中で、無機塩基、例えば水酸化ナトリウムの存在下で、温度１１０℃ないし１８０℃、好ましくは１４０℃ないし１６０℃で行われる。
本発明の好ましい生成物は、前記基Ｒが前記式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基である生成物である。
本発明の好ましい生成物は、更に、前記基Ｒ₂が炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、又は−Ｏ−基若しくは＞Ｎ−Ｘ₁基（式中、Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基又は（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表わし、又は以下において与えられるＲ₄の定義のうちの一つを表わす）により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし；又は前記基Ｒ₂が前記式（ｂ）で表わされる基を表わし、
前記基Ｒ₃，Ｒ₄及びＲ₅が、同一又は異なり、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基又は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、
そして、前記基Ｒ₃が更に水素原子を表わし又は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基が更に前記式（III）で表わされる基を表わし、
前記基Ｒ₆が炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は前記式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基を表わす生成物である。
本発明の別の好ましい態様は、前記ｎが２ないし１２の数を表わし、
前記基Ｒ₂が炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基又はフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基を表わし、
前記基Ｒ₆が炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；又は前記式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基を表わし、そして
前記基Ｒが前記式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基を表わす生成物に関するものである。
前記基Ｒ₂が炭素原子数２ないし１０のアルキレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレン−ジシクロヘキシレン基又はフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基を表わし、
前記基Ｒ₃，Ｒ₄及びＲ₅が、同一又は異なり、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたフェニル基；或いは非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換されたベンジル基を表わし、
又は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基が更に前記式（III）で表わされる基を表わし、そして
前記基Ｒ₆が炭素原子数１ないし１２のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換されたベンジル基；又は前記式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基を表わす生成物も重要である。
前記基Ｒ₂が炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし、
前記基Ｒ₃，Ｒ₄及びＲ₅が、同一又は異なり、炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換又はメチル基により置換されたシクロヘキシル基；非置換又はメチル基により置換されたフェニル基；又はベンジル基を表わし、
又は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基が更に４−モルホリニル基を表わし、そして
前記基Ｒ₆が炭素原子数１ないし８のアルキル基、非置換又はメチル基により置換されたシクロヘキシル基；ベンジル基又は前記式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基を表わす生成物も重要である。
前記ｎが２ないし６の数を表わし、
前記基Ｒ₂が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、
前記基Ａが−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基又は前記式（II）で表わされる基を表わし、
前記基Ｒ₄及びＲ₅が、同一又は異なり、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、
又は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基が更に４−モルホリニル基を表わし、
前記基Ｘが＞ＮＲ₆基を表わし、
前記基Ｒ₆が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そして
前記基Ｂ及びＢ^*が、互いに独立して、前記基Ａに対して与えられた意味のうちの一つを表わす生成物は更に重要である。
別の好ましい生成物は、前記基Ｂ^*が前記基Ｂと異なり、そして前記基Ｂ，Ｒ及びＲ₂の各々が、前記式（Ｉ）で表わされる個々の繰り返し単位中で同一の意味を有する生成物である。
本発明の態様は更に、前記式（Ｇ−II）中の−ＯＲ₁基がオキシル基である生成物を水素化して、次式（Ｇ−III）：

で表わされる基を有するブロック・オリゴマーを得ることにより得られる生成物である。
前記水素化は、例えば、ＵＳ−Ａ−４６９１０１５に記載されている如く、例えば、有機溶媒、例えばメタノール又はエタノール中で、水素化触媒、好ましくは炭素上に担持されたパラジウム又はＰｔＯ₂の存在下で、公知方法により行われる。
本発明の別の態様は、
ａ）次式（Ｉａ）：

で表わされる単分散化合物、
ｂ）次式（Ｉｂ）：

で表わされる単分散化合物、及び
ｃ）次式（Ｉｃ）：

で表わされる単分散化合物を含む混合物であって、
前記式（Ｉａ），（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）で表わされる化合物は繰り返し単位の数のみが異なり、前記式（Ｉａ）で表わされる化合物対前記式（Ｉｂ）で表わされる化合物対前記式（Ｉｃ）で表わされる化合物のモル％における比率は２：１．６：１ないし２：０．４：０．０４であり、そして
前記式（Ｉａ），（Ｉｂ）及び（Ｉｃ）中、
基Ｒ₁は水素原子、ヒドロカルビル基を表わし、又は−ＯＲ₁基はオキシル基を表わし、
基Ｒ₂は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアルキレン）基、又は１，４−ピペラジンジイル基，−Ｏ−基若しくは＞Ｎ−Ｘ₁基（式中、Ｘ₁は炭素原子数１ないし１２のアシル基又は（炭素原子数１ないし１２のアルコキシ）カルボニル基を表わし、又は以下において与えられるＲ₄の定義のうちの一つを表わす）により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表わし；又は基Ｒ₂は次式（ａ），（ｂ）又は（ｃ）：

〔前記式（ａ）中、
ｍは２又は３を表わし、
前記式（ｂ）中、
基Ｘ₂は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基又は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、そして
前記式（ｃ）中、
基Ｘ₃は、互いに独立して、炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表わす〕で表わされる基を表わし、
基Ａ^*は−ＯＲ₃基、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基又は次式（Ｇ−IV）：

で表わされる基を表わし、
基Ｒ₃，Ｒ₄及びＲ₅は、同一又は異なり、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基又は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたフェニル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基又は−ＯＨ基，炭素原子数１ないし８のアルコキシ基，ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基若しくは次式（III）：

（式中、Ｙは−Ｏ−基、−ＣＨ₂−基、−ＣＨ₂ＣＨ₂−基又は＞Ｎ−ＣＨ₃基を表わす）で表わされる基により２，３又は４位が置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、
そして、基Ｒ₃は更に水素原子を表わし、又は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基は更に式（III）で表わされる基を表わし、
基Ｘ^*は−Ｏ−基又は＞Ｎ−Ｒ₆ ^*基を表わし、
基Ｒ₆ ^*は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；非置換又は１，２若しくは３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル環が置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；テトラヒドロフルフリル基、次式（Ｇ−II）：

で表わされる基、又は−ＯＨ基，炭素原子数１ないし８のアルコキシ基，ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基若しくは式（III）で表わされる基により２，３又は４位が置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、
基Ｒ^*は基Ｒ₆ ^*に対して与えられた意味のうちの一つを表わし、そして
基Ｂ^*及びＢ^**は、互いに独立して、基Ａ^*に対して与えられた意味のうちの
一つを表わす混合物である。
例えば、１ないし１．７の多分散性を有するブロック・オリゴマー出発原料〔式（Ｓ−Ｉａ）で表わされる化合物，式（Ｓ−Ｉｂ）で表わされる化合物及び式（Ｓ−Ｉｃ）で表わされる化合物を含む混合物〕中に存在する次式（Ｇ−Ｉ）：

で表わされる基を次式（Ｇ−II）：

で表わされる基に転移させた後、反応中、化合物の基本骨格は影響を受けないので、式（Ｉａ）で表わされる化合物対式（Ｉｂ）で表わされる化合物対式（Ｉｃ）で表わされる化合物の比率は、式（Ｓ−Ｉａ）で表わされる化合物対式（Ｓ−Ｉｂ）で表わされる化合物対式（Ｓ−Ｉｃ）で表わされる化合物の上記の初期比率で表わされる。
前記基Ｒ₁がシクロヘキシル基又はオクチル基を表わし、
前記基Ｒ₂が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、
前記基Ａ^*及びＢ^**が、同一又は異なり、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）₂基又は次式（Ｇ−IV−１）：

で表わされる基を表わし、
前記基Ｂ^*が前記式（Ｇ−IV−１）で表わされる基を表わし、
前記基Ｒ^*が前記式（Ｇ−II）で表わされる基を表わす混合物が好ましい。
本発明の混合物において、基Ｒ₁は、式（Ｉａ），（Ｉｂ）及び／又は（Ｉｃ）で表わされる二種又はそれより多くのブロック・オリゴマーの間で結合基として機能し得る。この場合、前記ブロック・オリゴマーの間に、次式（Ｌ−Ｉ）：

で表わされるブリッジが形成される。
基Ｒ₁ ^*の意味は、基Ｒ₁の意味から誘導され得る。これらの二つの基の間の唯一の相違は、基Ｒ₁ ^*が一つ又は二つの付加的な価を有することである。それ故、シクロヘキシル基としての基Ｒ₁は、シクロヘキサンジイル基又はシクロヘキサントリイル基としての基Ｒ₁ ^*を表わし、そしてオクチル基としての基Ｒ₁は、オクタンジイル基又はオクタントリイル基としての基Ｒ₁ ^*を表わす。
本発明の生成物並びに前記混合物は、有機材料、とりわけ合成ポリマー又はコポリマーの耐光性，耐熱性及び耐酸化性を改良するために非常に有用である。特に、低い顔料相互作用並びに非常に良好な色が、ポリプロピレン、とりわけポリプロピレン繊維（特に難燃剤が存在する場合）において、並びに農業用の低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）フィルムにおいて観察される。本発明の生成物並びに前記混合物がそれ自体難燃剤である場合は、更に注目すべきである。
安定化され得る有機材料の例は以下のものである。
１． モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋されていてよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度且つ高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度且つ超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＲ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ），（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
ポリオレフィン、すなわち先の段落で例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法により製造することができ、そして、とりわけ下記の方法により製造することができる。
ａ）ラジカル重合（通常、高圧及び高められた温度の下で行われる）。
ｂ）通常、周期律表の族IVｂ，Ｖｂ，VIｂ又はVIIIの１種又は１種よりも多くの金属を含む触媒を使用する触媒重合。前記金属は、通常１種又はそれより多くの配位子を有しており、代表的にはπ−又はσ−配位されていてよい酸化物、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールである。前記金属錯体は、遊離の形態にあってもよいし又は基材上に、代表的には活性化塩化マグネシウム、三塩化チタン、アルミナ又は酸化珪素上に担持されていてもよい。前記触媒は、重合媒体に可溶性であってもよいし又は非可溶性であってもよい。前記触媒は重合の際に単独で使用してもよく、又は別の活性剤、代表的には金属アルキル、金属ハイドライド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド若しくは金属アルキルオキサンを使用してもよい（前記金属は、周期律表の族Ｉａ，IIａ及び／又はIIIaの元素である）。活性剤は、別のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル類を用いて都合良く変性されていてよい。前記触媒系は、通常、フィリップス（Phillips）触媒，スタンダード オイル インディアナ（Standard Oil Indiana）触媒，チーグラー（−ナッタ）〔Ziegler（-Natta）〕触媒，ＴＮＺ〔デュポン（DuPont）〕触媒，メタロセン触媒又はシングルサイト（single site）触媒（ＳＳＣ）と呼ばれる。
２． １．で記述したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
３． モノオレフィンとジオレフィンとの互いの又はその他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及びこれらの一酸化炭素とのコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（イオノマー）、並びにエチレンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシクロテンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー；並びに前記コポリマーの互いの混合物及び前記コポリマーと上記１．において記載したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互又はランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー並びにそれらの他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。
４． 炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びその水素化変性体（例えば粘着付与剤）及びポリアルキレンと澱粉との混合物。
５． ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
６． スチレン又はα−メチルスチレンとジエン又はアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジエンコポリマー、スチレン／アクリロニトリルコポリマー、スチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレートコポリマー、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレートコポリマー、スチレン／無水マレイン酸コポリマー、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレートコポリマー；スチレンコポリマーとその他のポリマー例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーとからなる高い衝撃強度を有する混合物；及びスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレンブロックコポリマー、スチレン／イソプレン／スチレンブロックコポリマー、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンブロックコポリマー又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンブロックコポリマー。
７． スチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンに対するスチレンのグラフトコポリマー、ポリブタジエン−スチレンコポリマー又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーに対するスチレンのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）のグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレートのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン及び無水マレイン酸のグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン、アクリロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミドのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン及びマレイミドのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレートのグラフトコポリマー；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー；アクリレート／ブタジエンコポリマーに対するスチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー、並びにそれらの６．において記載したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳポリマー、ＭＢＳポリマー、ＡＳＡポリマー又はＡＥＳポリマーとして知られるコポリマー混合物。
８． ハロゲン含有ポリマー例えばポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩化及び臭化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩化又はスルホクロル化ポリエチレン、エチレンと塩化エチレンとのコポリマー、エピクロロヒドリンモノ−及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビニルデンコポリマー、塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマー又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
９． α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリマー例えばポリアクリレート及びポリメタクリレート；ブチルアクリレートを用いて耐衝撃性を改良したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
１０． ９．において記載したモノマーの互いの又はその他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
１１． 不飽和アルコール及びアミン又はそのアシル誘導体又はそのアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上記１．において記載したオレフィンとのそれらのコポリマー。
１２． 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリシジルエーテルとのそれらのコポリマー。
１３． ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含む前記ポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート又はＭＢＳを用いて変性されたポリアセタール。
１４． ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン及びポリアミドとの混合物。
１５． 一成分としてのヒドロキシル基で末端閉鎖されたポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンと、他成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとから誘導されたポリウレタン、並びにその先駆物質。
１６． ジアミン及びジカルボン酸から、及び／又はアミノカルボン酸又は相当するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６，６／１０，６／９，６／１２，４／６，１２／１２，ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンとアジピン酸との縮合により得られた芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸及び所望により変性剤としてのエラストマーを用いて製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；及び更に、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー又は化学的に結合された若しくはグラフトされたエラストマーとのコポリマー；又はポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールとのコポリマー；並びにＥＰＤＭ又はＡＢＳを用いて変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工中に縮合されたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。
１７． ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
１８． ジカルボン酸及びジオールから、及び／又はヒドロキシカルボン酸又は相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタール、ポリブチレンテレフタール、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル基により末端閉鎖されたポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及び更にポリカーボネート又はＭＢＳを用いて変性されたポリエステル。
１９． ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
２０． ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
２１． 一成分としてのアルデヒドと他成分としてのフェノール、尿素及びメラミンとから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
２２． 乾性及び非乾性アルキド樹脂。
２３． 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のそのハロゲン含有変性体。
２４． 置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
２５． メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂を用いて架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
２６． 脂肪族，脂環式，複素環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＦのグリシジルエーテルの生成物（これらは、慣用の硬化剤、例えば酸無水物又はアミンを用いて、所望により促進剤を用いて架橋される）。
２７． 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性されたそれらの同種の誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート、又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；並びにロジン及びそれらの誘導体。
２８． 上述のポリマーの配合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
２９． 純粋なモノマー状化合物又は前記化合物の混合物である天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又はトリメリテート）をベースとする油、脂肪及びワックス、及び更に何れかの重量比の合成エステルと鉱油との混合物、代表的には繊維紡糸組成物として使用される混合物、並びに前記材料の水性乳剤。
３０． 天然又は合成ゴムの水性乳剤、例えば天然ラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
本発明はそれ故、光、熱又は酸化により誘起される分解を受け易い有機材料と、本発明の生成物又は混合物とを含む組成物にも関するものである。
有機材料は好ましくは合成ポリマー、更に特別には上述の群から選択された合成ポリマーである。ポリオレフィンが好ましく、そしてポリエチレン及びポリプロピレンが特に好ましい。
本発明の別の態様は、前記有機材料に本発明の生成物又は混合物を配合することからなる、光、熱又は酸化により誘起される分解に対して有機材料を安定化する方法である。
本発明の生成物又は混合物は、安定化すべき前記材料の性質、最終用途及び他の添加剤の存在に応じて、種々の比率で使用され得る。
通常、安定化すべき前記材料の重量に対して、本発明の生成物又は混合物０．０１ないし５重量％、好ましくは０．０５ないし２重量％、特に０．０５ないし１重量％を使用することが適切である。
本発明の生成物又は混合物は、例えば、ポリマー材料に、該材料の重合又は架橋前、重合又は架橋中或いは重合又は架橋後に、添加し得る。更に、本発明の生成物又は混合物は、純粋な形態又はワックス，オイル若しくはポリマー中にカプセル化されて、ポリマー材料中に配合され得る。
通常、本発明の生成物又は混合物は、種々の方法、例えば、粉末形態でのドライミキシング、又は溶液若しくは懸濁液の形態でのウェットミキシング、或いは更に、２．５ないし２５重量％の濃度で本発明の生成物又は混合物を含むマスターバッチの形態でポリマー材料中に配合され得る；このような操作において、ポリマーは、粉末，粒子，溶液，懸濁液又はラテックスの形態で使用されてよい。
本発明の生成物又は混合物を用いて安定化された材料は、成形品，フィルム，テープ，モノフィラメント，繊維，表面コーティング及び同種のものを製造するために使用することができる。
所望により、合成ポリマーのための他の慣用の添加剤、例えば、酸化防止剤，紫外線吸収剤，ニッケル安定剤，顔料，充填材，可塑剤，腐蝕防止剤及び金属奪活剤を、本発明の生成物又は混合物を含む有機材料に添加することができる。
前記慣用の添加剤の特定の例は、下記のものである。
１．酸化防止剤
１．１．アルキル化モノフェノール
例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール；側鎖が直鎖状又は分岐鎖状であるノニルフェノール、例えば２，６−ジノニル−４−メチルフェノール；２，４−ジメチル−６−（１′−メチルウンデシ−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデシ−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルトリデシ−１′−イル）フェノール及びそれらの混合物。
１．２．アルキルチオメチルフェノール
例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン
例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
１．４．トコフェロール
例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びこれらの混合物（ビタミンＥ）。
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル
例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）−４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
１．６．アルキリデンビスフェノール
例えば２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２′−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４′−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メルカプトフェニル）ペンタン。
１．７．Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物
例えば３，５，３′，５′−テトラ第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート
例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物
例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
１．１０．トリアジン化合物
例えば２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
１．１１．ベンジルホスホネート
例えばジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
１．１２．アシルアミノフェノール
例えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
１．１３．下記の一価又は多価アルコールを用いたβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸エステル
例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１４．下記の一価又は多価アルコールを用いたβ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピン酸エステル
例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１５．下記の一価又は多価アルコールを用いたβ−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸エステル
例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１６．下記の一価又は多価アルコールを用いた３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸エステル
例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
１．１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸アミド
例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス［２−（３−［３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド〔ユニロイヤル（Uniroyal）社により供給されるナウガード（商標名；Naugard）ＸＬ−１〕。
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
１．１９．アミン酸化防止剤
例えばＮ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン；オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ第三ブチル−オクチルジフェニルアミン；４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
２．紫外線吸収剤及び光安定剤
２．１．２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール
例えば２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ第三ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５′−第三ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ第三ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−第二ブチル−５′−第三ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ第三アミル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−第三ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−第三ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２′−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェノール］；ポリエチレングリコール３００を用いた２−［３′−第三ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂］₂−（式中、Ｒ＝３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシ−５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニル）、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（α，α−ジメチルベンジル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）−５′−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン
例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２′，４′−トリヒドロキシ及び２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
２．３．置換及び非置換安息香酸エステル
例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
２．４．アクリルレート
例えばエチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
２．５．ニッケル化合物
例えば付加配位子例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンを有するか又は有しない、２，２′−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体例えば１：１又は１：２錯体；ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルエステル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加配位子を有するか又は有しない、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
２．６．立体障害アミン
例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート；１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物；Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合生成物；トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート；Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合生成物；２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物；２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物；８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン；４−ヘキサデシルオキシ及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン混合物；Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物；１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物；並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン〔CAS Reg.No.［136504-96-6］〕、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド；Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン；７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソースピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エタン、Ｎ，Ｎ′−ビスホルミル−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
２．７．オキサミド
例えば４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジエトキシオキサニリド、２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ第三ブチルオキサニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリド及びその２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ第三ブチル−オキサニリドとの混合物、オルト−及びパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物並びにオルト−及びパラ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン
例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル}−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
３．金属奪活剤
例えばＮ，Ｎ′−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
４．ホスフィット及びホスホナイト
例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトール）ジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２′，２″−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３′，５，５′−テトラ第三ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３′，５，５′−テトラ第三ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジイル）ホスフィット。
５．ヒドロキシルアミン
例えばＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン；水素化獣脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
６．ニトロン
Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン、Ｎ−オクチル−α−ペンチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン；水素化獣脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
７．チオ相乗剤
例えばジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
８．過酸化物掃去剤
例えばβ−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
９．ポリアミド安定剤
例えば、沃化物及び／又は燐化合物及び二価マンガン塩と組み合わせた銅塩。
１０．塩基性補助安定剤
例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテココレート。
１１．核剤
例えば無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば二酸化チタン又は酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；有機化合物、例えばモノ−又はポリカルボン酸及びその塩、例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。
１２．充填剤及び強化剤
例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木材細粉及び他の天然産品の細粉又は繊維、合成繊維。
１３．その他の添加剤
例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。
１４．ベンゾフラノン及びインドリノン
例えばＵＳ４３２５８６３；ＵＳ４３３８２４４；ＵＳ５１７５３１２；ＵＳ５２１６０５２；ＵＳ５２５２６４３；ＤＥ−Ａ−４３１６６１１；ＤＥ−Ａ−４３１６６２２；ＤＥ−Ａ−４３１６８７６；ＥＰ−Ａ−０５８９８３９又はＥＰ−Ａ−０５９１１０２に開示されたもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３′−ビス［５，７−ジ第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−２−オン。
本発明の生成物及び混合物対慣用の添加剤の重量比は、例えば１：０．５ないし１：５であってよい。
本発明の生成物及び混合物は、写真複写、及び例えばリサーチ・ディスクロージャー（Research Disclosure）１９９０，３１４２９（第４７４〜４８０頁）に記載されたような他の複写技術において公知の殆ど全ての材料のための安定剤として、とりわけ光安定剤として使用することもできる。
下記実施例により、本発明を更に詳細に説明する。特記しない限り、全ての％は重量による。
下記実施例Ｓ−１及びＳ−２は、出発物質の製造のための代表例である。実施例１ないし４は、本発明の生成物の製造のための代表例である。
ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）は、分子をそのサイズの差により分離し、次いで分子量平均（Ｍ_w，Ｍ_n）を得る又はポリマーの分子量分布に関する情報を得るための分析手段として使用される。
前記技術は公知であり、そして、例えば、ダブリュ．ダブリュ．ヤン（W.W.Yan）等による”最新サイズ排除液体クロマトグラフィー（Modern Size-Exclusion Liquid Chromatography）”，ジェイ．ウィレイ アンド サンズ（J.Wiley & Sons）編，ニューヨーク，アメリカ合衆国，１９７９年，第４〜８頁，第２４９〜２８３頁及び第３１５〜３４０頁に記載されている。
狭い分子量分布は、多分散性（Ｍ_w／Ｍ_n）が１に近づくことを特徴とする。
下記実施例Ｓ−１及びＳ−２に示されたＧＰＣ分析は、パーキン−エルマー（商標名；Perkin-Elmer）ＩＲ検出器ＬＣ３０及びパーキン−エルマー（商標名；Perkin-Elmer）オーブンＬＣ１０１を備えた液体クロマトグラフィー，パーキン・エルマー（商標名；Perkin-Elmer）ＬＣ２５０を用いて行われる。
全ての分析は、三本のカラム，ＰＬＧＥＬ３μｍ混合Ｅ３００ｍｍ長さ×７．５ｍｍ内径〔英国，シュロップシャ（Shropshire），ポリマー・ラボラトリーズ・リミテッド（Polymer Laboratories Ltd．）製〕を使用して、４５℃で行われる。
テトラヒドロフランが溶出液（流れ０．４０ｍｌ／分）として使用され、そして試料はテトラヒドロフランに溶解される（２％）（％ｗ／ｖ）。
下記実施例の構造式において、ｎ′は、分子中に繰り返し単位が存在し、そして生成物が均質でないことを示す。
実施例Ｓ−１：次式：

で表わされる生成物の製造
水５０ｍｌ中のＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミン７４．３ｇ（０．３５モル）の溶液を、キシレン５００ｍｌ中のシアヌル酸クロリド６４．５ｇ（０．３５モル）の溶液に、０℃でゆっくり添加し、添加中及び更に１時間、前記温度を維持する。
室温で２時間後、この混合物を０℃に冷却し、次いで水５０ｍｌ中の水酸化ナトリウム１４．７ｇ（０．３６８モル）の水溶液を添加する。０℃で１／２時間及び室温で更に２時間後、この水溶液を分離し、次いでＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン６９．２ｇ（０．１７５モル）を添加する。
この混合物を５０℃に１時間加熱し、次いで粉砕された炭酸カリウム４８．４ｇ（０．３５モル）を添加し、次いで６０℃に４時間加熱する。
水で洗浄後、有機相を６０〜７０℃／１０ミリバールの真空下で濃縮して、キシレン２５０ｍｌを回収する。
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン１３８．１ｇ（０．３５モル）を添加し、次いでこの混合物を１５０℃に２時間加熱し、再び冷却し、次いで粉砕された水酸化ナトリウム１４ｇ（０．３５モル）を添加する。
この混合物を１４０℃に更に４時間加熱し、残渣の反応水を共沸的に除去し、次いで更に４時間１６０℃に加熱する。
６０℃に冷却後、この混合物をキシレン３００ｍｌで希釈し、濾過し、次いでエチレングリコール１００ｍｌを用いて３回洗浄する。
６０℃／１０ミリバールの真空下で濃縮後、２−クロロ−４，６−ビス［Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミノ−］−１，３，５−トリアジン７８．７ｇ（０．１４７モル）を添加する。
この混合物を１４０℃に３時間加熱し、次いで粉砕された水酸化ナトリウム５．９ｇ（０．１４７モル）を添加し、この混合物を加熱して還流し、そして反応水を共沸的に除去する。
この混合物を１６０℃に４時間加熱し、粉砕された水酸化ナトリウム５．９ｇ（０．１４７モル）を更に添加し、次いで再び１６０℃に２時間加熱する。
６０℃に冷却後、この混合物をキシレン３００ｍｌで希釈し、濾過し、次いで１４０℃／１ミリバールの真空下で濃縮する。
乾燥後、１６６〜１７０℃の融点範囲を有する固体が得られる。
Ｍ _n （ＧＰＣによる）：３３６０ｇ／モル
多分散性Ｍ _w ／Ｍ _n １．１８
ＧＰＣ分析は、図１としてクロマトグラムを示す。
得られた多分散生成物の三つの主シグナル成分の比率（ｎ′＝２）：（ｎ′＝４）：（ｎ′＝６）は、モル％で２：０．５３：０．０５である。
実施例Ｓ−２：次式：

で表わされる生成物の製造
水５０ｍｌ中のＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミン７４．３ｇ（０．３５モル）の溶液を、キシレン５００ｍｌ中のシアヌル酸クロリド６４．５ｇ（０．３５モル）の溶液に、０℃でゆっくり添加し、添加中及び更に１時間、前記温度を維持する。
室温で２時間後、この混合物を０℃に冷却し、次いで水５０ｍｌ中の水酸化ナトリウム１４．７ｇ（０．３６８モル）の水溶液を添加する。
０℃で１／２時間及び室温で更に２時間後、この水溶液を分離し、次いでＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン６９．２ｇ（０．１７５モル）を添加する。
この混合物を５０℃に１時間加熱し、次いで粉砕された炭酸カリウム４８．４ｇ（０．３５モル）を添加し、次いで６０℃に４時間加熱する。
水で洗浄後、有機相を６０〜７０℃／１０ミリバールの真空下で濃縮して、キシレン２５０ｍｌを回収する。
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−１，６−ヘキサンジアミン１３８．１ｇ（０．３５モル）を添加し、次いでこの混合物を１５０℃に２時間加熱し、再び冷却し、次いで粉砕された水酸化ナトリウム１４ｇ（０．３５モル）を添加する。
この混合物を１４０℃に更に４時間加熱し、残渣の反応水を共沸的に除去し、次いで更に４時間１６０℃に加熱する。
６０℃に冷却後、この混合物をキシレン３００ｍｌで希釈し、濾過し、次いでエチレングリコール１００ｍｌを用いて３回洗浄する。
６０℃／１０ミリバールの真空下で濃縮後、２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン５４．４ｇ（０．１４７モル）を添加する。
この混合物を１４０℃に３時間加熱し、次いで粉砕された炭酸カリウム２０．３ｇ（０．１４７モル）を添加し、この混合物を加熱して還流し、そして反応水を共沸的に除去する。
この混合物を１６０℃に４時間加熱し、粉砕された炭酸カリウム２０．３ｇ（０．１４７モル）を更に添加し、次いで再び１６０℃に２時間加熱する。
６０℃に冷却後、この混合物をキシレン３００ｍｌで希釈し、濾過し、次いで１４０℃／１ミリバールの真空下で濃縮する。
乾燥後、１３０〜１３６℃の融点範囲を有する固体が得られる。
Ｍ _n （ＧＰＣによる）：２８３０ｇ／モル
多分散性Ｍ _w ／Ｍ _n ：１．２２
ＧＰＣ分析は、図２としてクロマトグラムを示す。
得られた多分散生成物の三つの主シグナル成分の比率（ｎ′＝２）：（ｎ′＝４）：（ｎ′＝６）は、モル％で２：０．９６：０．３３である。
実施例１：次式：

で表わされる生成物の製造
電磁攪拌されている５００ｍｌ丸底四つ口フラスコに、実施例Ｓ−１の生成物２５．０ｇ（０．１１５モル）及びシクロヘキサン２００ｍｌを投入する。この混合物を加熱して還流し、次いでＭｏＯ₃０．１０ｇを添加する。７０％第三ブチルヒドロパーオキシド５１．９ｇ（０．４０３モル）を３時間かけて添加し、次いで水を共沸蒸溜により分離する。ＭｏＯ₃の三つの付加的な０．１０ｇ部分を前記添加過程の間に添加する。この含有物を電磁攪拌されているフィッシャー−ポーター（商標名；Fisher-Porter）圧力瓶に移し、次いで１２５℃に４時間加熱し、次いで６０℃以下に冷却し、ついでＭｏＯ₃を濾過する。この濾液を、５％Ｎａ₂ＳＯ₃２００ｍｌの存在下で９０分間攪拌する。相を分離し、次いで有機相を、水及び飽和ＮａＣｌ水溶液を用いて洗浄する。有機相をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、次いで蒸発させて、淡黄色固体を得る。
収量：３５．７ｇ（理論値の９９％）
融点範囲：１３０〜１７０℃
¹ Ｈ−ＮＭＲ：０．８５−２．４０ｐｐｍ（複雑な混合物）；３．２０〜３．４５ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂）；３．５４〜３．７０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＯＣＨ）；４．９０〜５．５０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ）
３．２０，３．５４及び４．９０ｐｐｍにおける部分の比率は２：１：１である。
¹³ Ｃ−ＮＭＲ：８２ｐｐｍ（ＮＯＣ）；１６５ｐｐｍ（トリアジンＣ）
実施例２：次式：

で表わされる生成物の製造
電磁攪拌されている５００ｍｌ丸底四つ口フラスコに、実施例Ｓ−２の生成物２５．０ｇ（０．０９６２モル）及びシクロヘキサン２００ｍｌを投入する。この混合物を加熱して還流し、次いでＭｏＯ₃０．１０ｇを添加する。７０％第三ブチルヒドロパーオキシド４３．３ｇ（０．３３７モル）を２時間かけて添加し、次いで水を共沸蒸溜により分離する。ＭｏＯ₃の二つの付加的な０．１０ｇ部分を前記添加過程の間に添加する。この含有物を付加的なＭｏＯ₃０．３ｇと一緒に、電磁攪拌されているフィッシャー−ポーター（商標名；Fisher-Porter）圧力瓶に移し、次いで１２５℃に１１時間加熱し、次いで６０℃以下に冷却し、次いでＭｏＯ₃を濾過する。この濾液を、５％Ｎａ₂ＳＯ₃２００ｍｌの存在下で９０分間攪拌する。相を分離し、次いで有機相を、水及び飽和ＮａＣｌ水溶液を用いて洗浄する。有機相をＭｇＳＯ₄上で乾燥し、次いで蒸発させて、淡黄色固体を得る。
収量：３４．４ｇ（理論値の９９％）
融点範囲：１２８〜１６９℃
¹ Ｈ−ＮＭＲ：０．８０〜２．５０ｐｐｍ（複雑な混合物）；３．２０〜３．４０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂）；３．４０〜３．５０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂又はＮＣ₄Ｈ₉）；３．５４〜３．７０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＯＣＨ）；４．９０〜５．４０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ）
３．２０，３．５４及び４．９０ｐｐｍにおける部分の比率は２：１：１である。
¹³ Ｃ−ＮＭＲ：８２ｐｐｍ（ＮＯＣ）；１６５ｐｐｍ（トリアジンＣ）
実施例２−Ａ：次式：

で表わされる生成物の製造
実施例Ｓ−２の生成物８８５ｇ（３．３９モル）、シクロヘキサン６０００ｇ（７１．４ｇ）及び三酸化モリブデン２．２ｇを加熱して還流する。７０％第三ブチルヒドロパーオキシド水溶液３３６０ｇ（２６．１モル）を１〜２時間かけて前記還流混合物に添加し、次いで水を共沸蒸溜により除去する。この反応マスを圧力反応器に移し、次いで、その赤色が消失するまで、３０〜５０psig（２．１〜３．５バール）で１２５℃に加熱する。この粗反応マスを冷却し、次いで亜硫酸ナトリウム水溶液で処理して残渣の過酸化物を分解する。この水層を分離し、次いで有機層を減圧下で濃縮して溶融体となし、この溶融体を冷メタノール中にゆっくり流し込み、濾過後、灰白色固体生成物を得る。
平均伝導値（１０％トルエン）：４２５ｎｍ＝４４．２％；４５０ｎｍ＝５６．０％；
４７５ｎｍ＝６７．５％
実施例２−Ｂ：次式：

で表わされる生成物の製造
操作中、シクロヘキサンが除去された後に得られた溶融体を第三ブチルアルコールで希釈し、次いで固形分５０％に濃縮すること以外は、実施例２−Ａの方法を繰り返す。この溶液を冷却し、次いで冷メタノールを迅速に添加して、濾過後、灰白色の固体生成物を得る。
平均伝導値（１０％トルエン）：４２５ｎｍ＝４６．５％；４５０ｎｍ＝６３．３０％；
４７５ｎｍ＝７４．０％
実施例３−Ａ：次式：

で表わされる生成物の製造（方法１）
５００ｍｌ丸底四つ口フラスコに、実施例Ｓ−１の生成物３０．０ｇ（０．１３８モル）、ｎ−オクタン２４０ｍｌ、７０％第三ブチルヒドロパーオキシド３６ｇ（０．２７モル）及びＭｏＯ₃０．２ｇを投入する。この反応混合物を加熱して還流し、次いで水を共沸蒸溜により除去する。１５分後、第三ブチルヒドロパーオキシド３５．１ｇ（０．２７モル）及びＭｏＯ₃０．１ｇの付加的な量を添加し、次いで反応温度が１１０℃に上昇するまで還流を続ける。前記温度で、反応混合物を電磁攪拌されているフィッシャー−ポーター（商標名；Fisher-Porter）圧力瓶に移し、次いで１５０℃に３．５時間加熱する。前記触媒を除去し、次いで５％ＮａＳＯ₃２００ｍｌと共に濾液を２時間スラリー化する。有機相を水及び飽和ＮａＣｌ水溶液を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥し、次いで蒸発させて、淡黄色固体を得る。
収量：４３．３ｇ（理論値の９１％）
融点範囲：９３〜１１７℃
¹ Ｈ−ＮＭＲ：０．７０〜２．５０ｐｐｍ（複雑な混合物）；３．２０〜３．４５ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂）；３．５５〜３．９５ｐｐｍ（ブロード，ＮＯＣＨ，Ｃ₈Ｈ₁₇の異性体混合物）；４．９０〜５．５０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ）
３．２０，３．５５及び４．９０ｐｐｍにおける部分の比率は２：１：１である。
¹³ Ｃ−ＮＭＲ：７８〜８４ｐｐｍ（ＮＯＣ，Ｃ₈Ｈ₁₇の異性体混合物）；１６５ｐｐｍ（トリアジンＣ）
実施例３−Ｂ：次式：

で表わされる生成物の製造（方法２）
５００ｍｌ丸底四つ口フラスコに、実施例Ｓ−１の生成物２５．０ｇ（０．１１５モル）、ｎ−オクタン２００ｍｌ及びＭｏＯ₃０．３ｇを投入する。この混合物を加熱して還流し、次いで水を共沸蒸溜により連続的に分離しながら、７０％第三ブチルヒドロパーオキシド５９．２ｇ（０．４６モル）を４５分かけて添加する。５時間後、付加的に、第三ブチルヒドロパーオキシド２２．２ｇ（０．１７モル）及びＭｏＯ₃０．２ｇを添加する。９時間の全反応時間後、前記触媒を濾過し、次いで５％ＮａＳＯ₃２００ｍｌと共に濾液を２時間スラリー化する。有機相を水及び飽和ＮａＣｌ水溶液を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥し、次いで蒸発させて、淡黄色固体を得る。
収量：３７．３ｇ（理論値の９９％）
融点範囲：１０８〜１２４℃
¹ Ｈ−及び ¹³ Ｃ−ＮＭＲ：このＮＭＲは、実施例３−Ａに記載された方法に従って製造された生成物と同一である。
実施例４：次式：

で表わされる生成物の製造
５００ｍｌ丸底四つ口フラスコに、実施例Ｓ−２の生成物３０．０ｇ（０．１１５モル）、ｎ−オクタン２４０ｍｌ、７０％第三ブチルヒドロパーオキシド３０ｇ（０．２３モル）及びＭｏＯ₃０．２ｇを投入する。この反応混合物を加熱して還流し、次いで水を共沸蒸溜により除去する。３０分後、第三ブチルヒドロパーオキシド２９．４ｇ（０．２３モル）及びＭｏＯ₃０．２ｇの付加的な量を添加し、次いで反応温度が１１０℃に上昇するまで還流を続ける。前記温度で、反応混合物を電磁攪拌されているフィッシャー−ポーター（商標名；Fisher-Porter）圧力瓶に移し、次いで１５０℃に３．５時間加熱する。前記触媒を除去し、次いで５％ＮａＳＯ₃２００ｍｌと共に濾液を２時間スラリー化する。有機相を水及び飽和ＮａＣｌ水溶液を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ₄上で乾燥し、次いで蒸発させて、淡黄色固体を得る。
収量：４１．０ｇ（理論値の９２％）
融点範囲：９５〜１２５℃
¹ Ｈ−ＮＭＲ：０．８０〜２．５０ｐｐｍ（複雑な混合物）；３．２０〜３．４１ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ₂）；３．４１〜３．５５ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣ₄Ｈ₉のＮＣＨ₂）；３．５５〜３．９５ｐｐｍ（ブロード，ＮＯＣＨ，Ｃ₈Ｈ₁₇の異性体混合物）；４．９０〜５．５０ｐｐｍ（ｓ，ブロード，ＮＣＨ）
３．２０，３．５５及び４．９０ｐｐｍにおける部分の比率は２：１：１である。
¹³ Ｃ−ＮＭＲ：７６〜８４ｐｐｍ（ＮＯＣ，Ｃ₈Ｈ₁₇の異性体混合物）；１６５ｐｐｍ（トリアジンＣ）
実施例４−ａ：次式：

で表わされる生成物の製造
実施例Ｓ−２の生成物１３０４ｇ（５．０モル）、オクタン１０．３ｋｇ（９０．２ｇ）及び三酸化モリブデン８．９５ｇを加熱して還流する。７０％第三ブチルヒドロパーオキシド水溶液３８７３ｇ（３０．１モル）を１〜２時間かけて前記還流混合物に添加し、次いで水を共沸蒸溜により除去する。この反応マスを、赤色が消失するまで、大気圧下，還流下で加熱する。この粗反応マスを冷却し、次いで亜硫酸ナトリウム水溶液で処理して残渣の過酸化物を分解する。この水層を分離し、次いで有機層を減圧下で濃縮して溶融体となし、この溶融体を冷メタノール中にゆっくり流し込み、濾過後、灰白色固体生成物を得る。
平均伝導値（１０％トルエン）：４２５ｎｍ＝４７．７％；４５０ｎｍ＝７６．０％；
４７５ｎｍ＝８４．６％
実施例４−ｂ：次式：

で表わされる生成物の製造
操作中、オクタンが除去された後に得られた溶融体を第三ブチルアルコールで希釈し、次いで固形分５０％に濃縮すること以外は、実施例４−Ａの方法を繰り返す。この溶液を冷却し、次いで冷メタノールを迅速に添加して、濾過後、灰白色の固体生成物を得る。
平均伝導値（１０％トルエン）：４２５ｎｍ＝４７．６％；４５０ｎｍ＝８０．０％；
４７５ｎｍ＝９１．４％
実施例Ａ：
顔料が配合された熱可塑性オレフィン（ＴＰＯ）ペレットを、ポリオレフィン・ブレンド〔エチレン−プロピレンコポリマー；アメリカ合衆国，オハイオ，アクロン（Akron），エイ．シュルマン．インコーポレーテッド（商標名；A.Schulman,Inc．）製のポリトロープ（商標名；Polytrope）ＴＰＰ５１８−０１を含むポリプロピレン〕を下記に掲示された添加剤と共に、汎用多目的スクリュー（２４：１Ｌ／Ｄ）を備えたスーペリアー（商標名；Superior）／ＭＴＰ１″単軸押出機中で、２００℃で混合し、水浴中で冷却し、次いでペレット化することにより製造する。押出及び成形の前に、タンブラー乾燥機中で、前記添加剤をドライ・ブレンドする。

得られたペレットを、ボーイ（商標名；Boy）３０Ｍ射出成形機で、約１９０℃で、１．５２４ｍｍ厚２″×２″プラックに成形する。
試験プラックを金属フレーム中で成形し、次いでアトラスＣｉ６５キセノン・アーク・ウェザロメーター（商標名；Atlas Ci65 Xenon Arc Weather-O-Meter）中で、ブラック・パネル温度７０℃，３４０ｎｍで０．５５Ｗ／ｍ²及び相対湿度５０％で、断続的な光／暗サイクル及び水噴霧〔ソサエティー・オブ・オートモーティブ・エンジニアーズ（商標名；Society of Automotive Engineers）−ＳＡＥ Ｊ１９６０試験法−外部自動化条件〕を用いて暴露する。
試験片のグロス測定は、ＡＳＴＭ Ｄ５２３に従って、ビーワイケイ−ガードナー・ヘイズ／グロス・メーター（商標名；BYK-GARDNER Haze/Gloss Meter）で行う。
結果を表１に示す。

表１に掲示された安定剤を含む製剤は、前記安定剤を含まない製剤よりも光分解に対する非常に大きな抵抗性を示す。非安定化試験片は、上記の紫外線暴露下で急速に低下する。
実施例Ｂ：ポリプロピレン・テープの安定性
実施例２又は４の化合物１．０ｇ、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］及びステアリン酸カルシウム１ｇを、ターボミキサー中で、メルト・インデックス２．１（２３０℃及び２．１６ｋｇで測定）を有するポリプロピレン粉末〔ＰＰモプレン（商標名；MOPLEN）Ｓ３０Ｓ〕１０００ｇと混合する。
この混合物を２００〜２３０℃で顆粒に押し出す；前記顆粒を、続いて、パイロット・プラント〔レオナルド；スミラゴ（商標名；Leonard;Sumirago）／ＶＡ，イタリア国〕を使用して、下記条件下：
押出機温度： ２１０〜２３０℃
ヘッド温度： ２４０〜２６０℃
ストレッチ比： １：６
で、５０μｍ厚及び２．５ｍｍ幅のストレッチ・テープに変換する。
こうして製造された前記テープは、ホワイト・カード上に固定され、次いでウェザロメーター６５ＷＲ（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５〜８５）中で、ブラック・パネル温度６３℃で暴露される。
種々の光暴露時間後に採取された試料について、定速張力計により、残留靱性を測定する；これから、初期靱性を半分にするために必要な暴露時間（時間による）（Ｔ₅₀）を測定する。
この結果は、実施例２又は４の化合物はポリプロピレン・テープを有効に安定化することを示す。
実施例Ｃ：殺有害生物剤により処理された又は未処理のポリエチレン・フィルムの安定化
実施例２又は４の化合物を、マスターバッチを介して、低速ミキサー中で、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）ペレット〔イタリア国，ミラノ，エニケム（商標名；ENICHEM）により供給されたリブレン（商標名；Riblene）ＦＦ２９，密度：０．９２１ｇ／ｃｍ³；１９０℃及び２．１６ｋｇでのメルトフローインデックス：０．６０ｇ／１０分〕と混合する。
前記マスターバッチは予め、粉末状ＬＤＰＥと実施例２又は４の化合物５重量％とを、二軸押出機を用いて２００℃で押し出すことにより製造される。
この混合物を２００℃でブローする。実施例２又は４の化合物０．２重量％を含む厚さ１５０μｍのフィルムが得られる。
フィルムのうちの幾つかを、下記の如く、殺有害生物剤により処理する。
このフィルムを、ウェザロメーター暴露の前に、水中のヴァーパム（商標名：VAPAM）の濃厚溶液（容積比で１：１の比率）上で、前記溶液に直接接触することなく、２０日間貯蔵する。〔ヴァーパム（商標名：VAPAM；バスリニ（商標名：BASLINI）ＳｐＡ，トレヴィグリオ（Treviglio）／ＢＧ，イタリア国〕は、式：ＣＨ₃−ＮＨ−ＣＳ−ＳＮａを有するメタムナトリウム（metam-sodium）の１リットル当たり３８２ｇの水溶液である〕。
上記処理後、フィルム試料を、ホワイト・カードボード上で、ウェザロメーター・タイプ・６５ＷＲ中で、ブラック・パネル温度６３℃で暴露する。未処理のフィルムも、同様に同一条件下で暴露する。分解過程を、フーリエ変換赤外分光光度計を用いて、前記試料中のカルボニル基の増加を測定することにより観察する。カルボニル基の大きな増加は、大きな分解を示す。分解はまた、種々の暴露時間後に採取された試料について、定速張力計で残留伸びを測定することにより観察する。初期伸びを半分にするために必要な暴露時間（時間による）（Ｔ₅₀）を測定する。
この結果は、実施例２又は４の化合物はポリエチレン・フィルムを有効に安定化することを示す。
実施例Ｄ：温室用途
実施例２又は４の化合物を、マスターバッチを介して、低速ミキサー中で、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）ペレット〔イタリア，ミラノ，エニケム（商標名；ENICHEM）により供給されたリブレン（商標名；Riblene）ＥＦ２１００Ｖ，密度：０．９２１ｇ／ｃｍ³；１９０℃及び２．１６ｋｇでのメルトフローインデックス：０．２５〕と混合する。
前記マスターバッチは予め、粉末状ＬＤＰＥと実施例２又は４の化合物１０重量％とを押し出すことにより製造される。
この混合物を２００℃でブロー押出し、次いで実施例２又は４の化合物０．３％又は０．４％を含む１５０μｍ厚のフィルムが得られる。
前記フィルムを、亜鉛引き鉄裏張り（galvanized iron backing）で及び松材裏張り（pine wood backing）で、裏張りすることなく、ポンテッチオ マルコーニ（Pontecchio Marconi）〔ボローニャ（Bologna），イタリア国〕の温室の南に面した屋根の上で暴露する。
下記の殺有害生物剤が前記温室内で用いられる。
式：ＣＨ₃−ＮＨ−ＣＳ−ＳＮａを有するメタムナトリウム（metam-sodium）の１リットル当たり３８２ｇの水溶液であるヴァーパム（商標名：VAPAM）〔バスリニ（商標名：BASLINI）ＳｐＡ，トレヴィグリオ（Treviglio）／ＢＧ，イタリア国〕。
次式：

で表わされるパーメスリンの２３．７５％（％ｗ／ｗ）水溶液であるセスメトリン（商標名：SESMETRIN）〔ビメックス（商標名：BIMEX）ＳｐＡ，イソラ（Isola）／ＶＩ，イタリア国〕。
前記温室は、六月毎に水１０リットル中のヴァーパム（商標名：VAPAM）４リットルの溶液、及び一月毎にセスメトリン（商標名：SESMETRIN）（水５リットル中に５ｇ）を用いて処理される。
暴露中、定速で弾力量計により残留伸び（前記ポリエチレン・フィルムの初期伸びの％による）を測定することにより、挙動を周期的に評価する。
この結果は、実施例２又は４の化合物はＬＤＰＥ・フィルムを有効に安定化することを示す。
実施例Ｅ：低密度ポリエチレン・フィルムの安定化（屋外暴露）
実施例２又は４の化合物を、マスターバッチを介して、低速ミキサー中で、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）ペレット〔イタリア，ミラノ，エニケム（商標名；ENICHEM）により供給されたリブレン（商標名；Riblene）ＥＦ２１００Ｖ，密度：０．９２１ｇ／ｃｍ³；１９０℃及び２．１６ｋｇでのメルトフローインデックス：０．２５〕と混合する。
前記マスターバッチは予め、粉末状ＬＤＰＥと実施例２又は４の化合物１０重量％とを押し出すことにより製造される。
この混合物を２００℃でブロー押出し、次いで実施例２又は４の化合物０．３％又は０．４％を含む１５０μｍ厚のフィルムが得られる。
前記フィルムを、亜鉛引き鉄（galvanized iron）支持体で及び松材（pine wood）支持体で支持することなく、殺有害生物剤を用いることなく、ポンテッチオ マルコーニ（Pontecchio Marconi）（約１１０kLys／年日照）で暴露する。前記フィルム表面は、南に対して４５°傾斜して固定される。
暴露中、定速で弾力量計により残留伸び（前記ポリエチレン・フィルムの初期伸びの％による）を測定することにより、挙動を周期的に評価する。
この結果は、実施例２又は４の化合物はＬＤＰＥ・フィルムを有効に安定化することを示す。
実施例Ｆ：
ベース安定剤としてステアリン酸カルシウム０．０５重量％及びジ（水素化獣脂）ヒドロキシルアミン０．０５重量％を含む繊維グレード・ポリオレフィンを、表２に示す安定剤と共にドライ・ブレンドし、次いで２３４℃でコンパウンド化された溶融体をペレット化する。このペレット化され充分に配合された樹脂を次いで、２４６℃又は２７４℃で、ヒルズ（商標名；Hills）実験室モデル・繊維押出機を使用して、繊維に紡糸する。４１フィラメントの紡糸束を１：３．２の比率で延伸して６１５／４１の最終デニールを得る。
ローソン−ヘムフィル・アナリシス・ニッター（Lawson-Hemphill Analysis Knitter）で安定化されたポリプロピレンから”靴下”を編み、次いで８９℃ｂｐｔ，０．５５ｋＷ／ｃｍ²，３４０ｎｍで噴霧サイクルを用いずに、ＳＡＥ Ｊ１８８５内部オートクレーブ条件を使用して、アトラス・キセノン・アーク・ウェザロメーター（商標名；Atlas Xenon-Arc-Weather-O-Meter）中で暴露する。この試験における損傷は、鈍いガラス・ロッドを用いて靴下を”引っかく”場合の前記靴下の物理的損傷を観察することにより決定する。前記分解的損傷を起こすのにより長くかかった場合は、安定剤がより有効であることを示す。この結果を表２に示す。

Claims (2)

1. １．１ないし１．７の多分散性Ｍ_w／Ｍ_nを有し、且つ次式（Ｉ）：
   

   

   で表わされるブロック・オリゴマー中に存在する次式（Ｇ−Ｉ）：
   

   

   で表わされる基を次式（Ｇ−II）：
   

   

   （式中、Ｒ₁はヒドロカルビル基を表わし、又は−ＯＲ₁基はオキシル基を表わす）で表わされる基に転移させる方法であって、
   前記転移が、炭化水素溶媒中で過酸化物分解触媒の存在下で、前記式（Ｉ）で表わされるブロック・オリゴマーを過酸化水素と反応させることにより行われ、
   前記式（Ｉ）中、ｎは２ないし１４の数を表わし、
   基Ｒ₂は、互いに独立して、炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表わし、
   基Ａは、互いに独立して、−ＯＲ₃基、−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基又は次式（II）：
   

   

   で表わされる基を表わし、
   基Ｒ₃，Ｒ₄及びＲ₅は、同一又は異なり、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、フェニル基；炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基又は−ＯＨ基若しくは炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により２，３又は４位が置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、
   そして、基Ｒ₃は更に水素原子を表わし、又は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基は更に次式（III）：
   

   

   （式中、Ｙは−Ｏ−基を表わす）で表わされる基を表わし、
   基Ｘは−Ｏ−基又は＞Ｎ−Ｒ₆基を表わし、
   基Ｒ₆は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、式（Ｇ−Ｉ）で表わされる基、又は−ＯＨ基若しくは炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により２，３又は４位が置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わし、
   基Ｒは、互いに独立しで、基Ｒ₆に対して与えられた意味のうちの一つを表わし、そして
   基Ｂ及びＢ^*は、互いに独立して、基Ａに対して与えられた意味のうちの一つを表わし、
   但し、式（Ｉ）で表わされる個々の繰り返し単位において、基Ｂ，Ｒ及びＲ₂の各々は同一又は異なる意味を有することを特徴とする方法。
2. 前記ｎが２ないし６の数を表わし、
   前記基Ｒ₂が炭素原子数２ないし６のアルキレン基を表わし、
   前記基Ａが−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基又は前記式（II）で表わされる基を表わし、
   前記基Ｒ₄及びＲ₅が、同一又は異なり、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし、
   又は−Ｎ（Ｒ₄）（Ｒ₅）基が更に４−モルホリニル基を表わし、
   前記基Ｘが＞ＮＲ₆基を表わし、
   前記基Ｒ₆が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そして
   前記基Ｂ及びＢ^*が、互いに独立して、前記基Ａに対して与えられた意味のうちの一つを表わす請求項１記載の方法。

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