JP4281432B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、視認性に優れた薄型表示デバイスとしてテレビジョン受像機などに使用されるＡＣ型で面放電型のプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネルは、駆動形式としてＡＣ型とＤＣ型があり、放電形式として面放電型と対向放電型の２種類がある。高精細度、大画面化および製造の簡便性などから、現状ではＡＣ型で面放電型のプラズマディスプレイパネルが主流を占めるようになってきている。
【０００３】
プラズマディスプレイパネルは、ガラス基板上に電極や隔壁などとなる各種の凸部を形成して前面パネルと背面パネルを製造し、前面パネルと背面パネルとを対向させた後、周囲をシールしてその内部に放電ガスとなる不活性ガスを封入している。
【０００４】
以下、一般的なＡＣ型で面放電型のプラズマディスプレイパネルの構成について図１を用いて説明する。図６はＡＣ型面放電プラズマディスプレイパネルの構成斜視図、図７は図６のＡ−Ａ線における断面図、図８は図６のＢ−Ｂ線における断面図である。ガラス基板などの透明な表面側の基板１上には、走査電極２と維持電極３とで対をなすストライプ状の表示電極４が複数対形成され、そして表面側の基板１上の隣り合う表示電極４間には遮光層５が配置形成されている。この走査電極２および維持電極３は、それぞれ透明電極２ａ、３ａとこの透明電極２ａ、３ａに電気的に接続された銀（Ａｇ）などの母線２ｂ、３ｂとから構成されている。また、表面側の基板１には、複数対の表示電極４を覆うように誘電体層６が形成され、さらに誘電体層６上には保護膜および２次電子放出膜として働く酸化マグネシウム（ＭｇＯ）膜７が形成されている。これらにより前面パネル２０が形成されている。
【０００５】
また、表面側の基板１に対向配置される背面側の基板８上には、走査電極２および維持電極３よりなる表示電極４と直交する方向に、誘電体層９で覆われた複数のストライプ状のデータ電極１０が形成されている。このデータ電極１０間の誘電体層９上には、データ電極１０と平行にストライプ状の複数の隔壁１１が配置され、隣接する隔壁１１間において、隔壁１１の側面および誘電体層９の表面に蛍光体層１２が設けられている。これらにより背面パネル３０が形成されている。
【０００６】
前面パネル２０と背面パネル３０とは、走査電極２および維持電極３とデータ電極１０とが直交するように、微小な放電空間を挟んで対向配置されるとともに、周囲が封止される。放電空間には、ヘリウム（Ｈｅ）、ネオン（Ｎｅ）、アルゴン（Ａｒ）、キセノン（Ｘｅ）のうちの１種または混合ガスが放電ガスとして封入されている。放電空間は、隔壁１１によって複数の区画に仕切ることにより、表示電極４とデータ電極１０との交点が放電セル１３を形成している。
【０００７】
複数の放電セル１３のうち、データ電極１０によって選択された放電セル１３において、最初、表示電極４とデータ電極１０との間に書込放電を発生させる。その後、走査電極２と維持電極３との間で主放電を発生させることによって真空紫外光が発生し、その真空紫外光が蛍光体層１２に当たって蛍光体層１２からの可視光に変換され、プラズマディスプレイパネルとしてのディスプレイ表示が行われる。
【０００８】
また、隣接する各放電セル１３には、赤色、緑色および青色となるようにＲ、Ｇ、Ｂの各色の蛍光体層１２が１色ずつ順次配置され、各放電セル１３間は遮光層５によって覆われており、隣接する放電セル１３から漏洩する光を遮断している。
【０００９】
プラズマディスプレイパネルは、高画質化の要求に対し、高精細度化が進んでいる。高精細のプラズマディスプレイパネルはディスプレイ表示面の単位面積当たりの画素数、すなわち、放電セル１３の数が増える。したがって、画面サイズが同じであると、１画素当たりの放電セル１３の面積が小さくなるため真空紫外光にさらされる蛍光体層１２の表面積が減少し、パネル輝度が低下する。
【００１０】
一方、パネル輝度を向上させる例として放電セル内に隔壁よりも高さの小さい突起を設け、その突起上にも蛍光体を塗布することで蛍光体表面積を増加させる例や、蛍光体が塗布される隔壁や誘電体層に凹凸を設けて蛍光体層の表面積を増加させる例が開示されている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３）。
【００１１】
【特許文献１】
特開２０００−７７００２号公報
【特許文献２】
特開２００１−２７３８５４号公報
【特許文献３】
特開２００２−８５４４号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような放電セル内に隔壁よりも高さの小さい突起を設ける例や、隔壁あるいは誘電体層表面に凹凸を設ける方法は、特に高精細の放電セルとなるとこれらの突起、凹凸を形成する形成プロセスが煩雑になる。また、突起や凹凸が放電空間の体積を小さくすることによって放電に悪影響を及ぼすといった課題を有していた。
【００１３】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、高精細のプラズマディスプレイパネルにおいても、放電空間の体積を減少させることなく蛍光体層の表面積を増加させ、輝度を向上させることができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に、少なくとも電極と、電極を覆って設けられた誘電体層と、誘電体層上に電極に平行して設けられた隔壁とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、少なくとも、有機溶媒と有機溶媒に対して溶解する樹脂成分と有機溶媒に対してゲル化する樹脂成分とを加熱溶解して有機バインダを作製する有機バインダ作製工程と、有機バインダに蛍光体粒子を混錬して蛍光体ペーストを作製する蛍光体ペースト作製工程と、蛍光体ペーストを隣接する隔壁間に塗布し蛍光体塗布膜を形成する蛍光体塗布工程と、隔壁間に塗布された蛍光体塗布膜を乾燥する乾燥工程と、蛍光体塗布膜を加熱焼成して有機バインダを焼失させる焼成工程とを有している。
【００１９】
この製造方法によれば、ペースト作製工程において、有機溶媒に対して溶解する樹脂成分はこれらの溶媒とよく溶解し、有機溶媒に対してゲル化する樹脂成分は溶解せずにゲル化するため、そのゲル化した部分が焼成工程において焼失する際に蛍光体層に凹凸部を形成することができため、簡便に蛍光体層の有効表面積を拡大することができる。
【００２０】
さらに、有機溶媒がα−ターピネオール（α−ＴＰＯ）とブチルカービトール（ＢＣＡ）の混合溶媒であり、有機溶媒に対して溶解する樹脂成分と有機溶媒に対してゲル化する樹脂成分がエトキシル基含有率の異なるエチルセルロースである。また樹脂成分が、エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロースと、エトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロースとである。
【００２１】
そのため、エトキシル基含有率の高いエチルセルロースはこれらの溶媒とよく溶解し、エトキシル基含有率の低いエチルセルロースが溶解せずにゲル化するため、蛍光体層に凹凸部を形成することが可能となる。
【００２２】
また、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に、少なくとも電極と、電極を覆って設けられた誘電体層と、誘電体層上に電極に平行して設けられた隔壁とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロースとエトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロースが溶解する有機溶媒とを加熱溶解して第１有機バインダを作製する工程と、第１有機バインダに蛍光体粒子を混錬して第１蛍光体ペーストを作製する第１蛍光体ペースト作製工程と、第１蛍光体ペーストを隣接する隔壁間に塗布し第１蛍光体塗布膜を形成する第１蛍光体塗布工程と、エトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロースとエトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロースがゲル化する有機溶媒とを加熱溶解して第２有機バインダを作製する工程と、第２有機バインダに蛍光体粒子を混錬して第２蛍光体ペーストを作製する第２蛍光体ペースト作製工程と、第２蛍光体ペーストを第１蛍光体塗布膜上に塗布して第２蛍光体塗布膜を形成する第２蛍光体塗布工程と、隔壁間に塗布された第１蛍光体塗布膜と第２蛍光体塗布膜とを乾燥する乾燥工程と、第１蛍光体塗布膜および第２蛍光体塗布膜を加熱焼成して第１有機バインダおよび第２有機バインダを焼失させる焼成工程とを有している。
【００２３】
この製造方法によれば、蛍光体層を２層構造とし、放電空間に面した蛍光体層の表層部に形成される蛍光体層にのみ凹凸部を形成することができ、下層部での紫外光反射効果と表層部での有効表面積の拡大効果の両方を実現することが可能となる。
【００２４】
さらに、焼成工程は、エトキシル基含有率の異なる樹脂成分による有機バインダを焼失させる複数の温度保持領域を有している。そのため、ゲル化したエトキシル基含有率の小さな樹脂成分で作製した有機バインダをも完全に焼失させることができ、残留ガスなどによるパネル劣化などのない信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを実現することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００２６】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１におけるプラズマディスプレイパネルの背面パネルへ蛍光体層を形成する工程図、図２は背面パネルの焼成工程における温度プロファイルを示す図、図３は蛍光体ペーストの構造を模式的に示す図である。
【００２７】
なお、本発明の実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの全体構成は、図６に示した一般的なＡＣ型で面放電型のプラズマディスプレイパネルと同様であり、背面パネルの蛍光体層の形状が異なるのみである。したがって、同一構成要素については同一符号を付している。
【００２８】
図１を用いて本発明の実施の形態１における背面パネルへの蛍光体層を形成する工程について説明する。ステップ１は有機バインダ作製工程であり、樹脂成分としてのエチルセルロースと溶媒としてのα−ターピネオール（α−ＴＰＯ）やブチルカービトール（ＢＣＡ）を加熱溶解させて有機バインダを作製する。ここで、エチルセルロースを用いて有機バインダを作製する目的は、後の工程で蛍光体ペーストを作製する際に、蛍光体粒子の溶媒への分散性を向上させることである。なお、本発明の実施の形態では、エチルセルロースの樹脂成分として、エトキシル基含有率の異なる複数の樹脂成分を用いている。エトキシル基含有率の小さい樹脂は水溶性を示すため、α−ターピネオール（α−ＴＰＯ）、ブチルカービトール（ＢＣＡ）などの極性の有機溶媒には溶解せずゲル化する。したがって、ステップ１にて作製された有機バインダは一部にゲル化した数十μｍ〜数百μｍの粒状の樹脂を含んでいる。本実施の形態では、エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロース１８％と、エトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロース２％と、α−ターピネオール（α−ＴＰＯ）６０％と、ブチルカービトール（ＢＣＡ）２０％とを加熱しながら溶解させて有機バインダを作製した。なお、エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロースは極性の有機溶媒にほとんど溶解し、エトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロースは溶解せずゲルを形成しやすくなることが実験的に確認されている。
【００２９】
なお、有機バインダとして、ＰＭＡの高分子を、溶媒として、ジエチレングリコール、メチルエーテルなどの有機溶媒を用いることもできる。
【００３０】
次に、ステップ２は上述の有機バインダと赤色、青色、緑色各色の蛍光体粒子とを混錬して蛍光体ペーストを作製する工程である。ここで用いられる蛍光体としては、赤色蛍光体としては、（Ｙ、Ｇｄ）_1-XＢＯ₃：Ｅｕ_X、またはＹ_2-XＯ₃：Ｅｕ_Xで表される化合物、緑色蛍光体としては、Ｂａ_1-XＡｌ₁₂Ｏ₁₉：Ｍｎ_X、またはＺｎ_2-XＳｉＯ₄：Ｍｎ_Xで表される化合物、青色蛍光体としては、Ｂａ_1-XＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ_X、またはＢａ_1-x-yＳｒ_yＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ_Xで表される化合物が用いられる。各蛍光体の粒子径はそれぞれの蛍光体によって異なるが、平均粒径で２μｍ〜３μｍであり、最小粒径で０．１μｍ、最大粒径で５μｍ程度である。蛍光体ペーストは、各色の蛍光体粒子と有機バインダとが混合され、１５００センチポアズ（ＣＰ）〜３００００センチポアズ（ＣＰ）となるように調合され、必要に応じて、界面活性剤、シリカ、分散剤（０．１ｗｔ％〜５ｗｔ％）などを添加してもよい。ここでは、ステップ１で作製した有機バインダ４０％〜８０％と各色蛍光体粒子２０％〜６０％とを３本ロールなどで混錬して蛍光体ペーストを作製する。
【００３１】
次に、ステップ３は、ステップ２で作製した蛍光体ペーストをプラズマディスプレイパネルの背面パネル３０の背面側の基板８上に形成された隔壁１１間に塗布し、蛍光体層１２となる蛍光体塗布膜を形成する工程である。蛍光体塗布膜を形成する方法としては、ノズルから蛍光体ペーストを吐出させながら塗布するインクジェット法や、フォトリソ法、スクリーン印刷法など種々の方法を利用することができる。
【００３２】
次に、ステップ４は、ステップ３で塗布された蛍光体塗布膜を乾燥し、有機溶媒を取り除く工程である。１００℃〜１５０℃に制御された加熱炉によって所定時間キープし、有機溶媒を取り除いている。この時、エトキシル基含有率の小さな樹脂によって形成されゲル化した数十μｍ〜数百μｍの粒状の樹脂が、乾燥、凝縮してその大きさを減少させる。また、ゲル化した樹脂は有機溶媒が蒸発する過程で蛍光体塗布膜の表層部に集まりやすくなる。
【００３３】
次に、ステップ５は、蛍光体塗布膜を加熱焼成して有機バインダを焼失させる焼成工程であり、蛍光体層１２を形成する最終工程である。この工程によって蛍光体層１２が完成する。焼成工程は連続焼成炉にて焼成温度プロファイルを変化させながら処理を行っている。図２に本実施の形態における焼成工程の温度プロファイルを示す。図２に示すように、温度プロファイルはＳ１からＳ７までのプロファイルを有している。
【００３４】
昇温過程Ｓ１では、ステップ４の乾燥工程で取り除かれた有機溶媒の残存分がさらに追い出される。キープステージＳ２では、有機バインダのうちエトキシル基含有率の大きな樹脂を焼失させる脱バイが行われる。さらにゲル化した樹脂の大きさが減少し数μｍ〜数十μｍとなる。
【００３５】
次に、キープステージＳ４で、有機バインダのうちエトキシル基含有率の小さな樹脂を焼失させる脱バイを行い、ゲル化してそれまでの熱処理過程で数μｍ〜数十μｍとなった樹脂を焼失させている。次にキープステージＳ６で残存不純物などを焼失させることによって蛍光体層１２を完成させることができる。なお、本実施の形態では脱バイのためにＳ２、Ｓ４のふたつのキープステージを設けているが、キープ時間を調整することによってひとつにすることも可能である。また、Ｓ３、Ｓ５は次ステージへの昇温過程であり、Ｓ７は降温過程である。
【００３６】
図３に、これらの工程によって隔壁１１間に塗布された蛍光体ペーストの構造が変化する様子を模式的に示している。図３（ａ）に示すように、蛍光体ペーストが隔壁１１間に塗布され蛍光体塗布膜５０を形成した直後には、粒径分布が０．１μｍ〜５μｍで平均粒径が２μｍ程度の蛍光体粒子５１の周囲に、樹脂と有機溶媒により形成された有機バインダ５２が絡み合い、さらにエトキシル基含有率の小さな樹脂によって形成されたゲル状物質５３が分布している。ゲル状物質５３のサイズはこの時数十μｍ〜数百μｍと大きなサイズである。
【００３７】
乾燥工程と焼成工程における昇温過程Ｓ１を経た蛍光体塗布膜５０は、有機溶媒が蒸発するとともにゲル状物質５３が凝縮してサイズが減少する。
【００３８】
次に、焼成工程のキープステージＳ２においてエトキシル基含有率の大きな樹脂を脱バイした後の蛍光体塗布膜５０は、蛍光体粒子５１間の有機バインダが焼失して蛍光体粒子５１が緻密に充填され、表層部５４にはさらにサイズが縮小して数μｍ〜数十μｍのサイズとなったゲル状物質５３が分散している。しかしながら、この場合にゲル状物質５３が全て表層部５４にあるとは限らず、蛍光体塗布膜５０の内部にも存在している。
【００３９】
次に、焼成工程のキープステージＳ４およびキープステージＳ６を経た蛍光体塗布膜５０は、ゲル状物質５３が焼失しその領域に空洞部５５を形成する。そのため、蛍光体塗布膜５０の表層部５４は、蛍光体粒子５１の最大粒径よりも幅あるいは深さの大きな凹凸部が形成され、蛍光体の有効表面積を増加させることができる。
【００４０】
なお、従来の蛍光体層を形成する方法でも、蛍光体塗布膜の表面はある粗さを有しているが、その粗さは蛍光体の粒子径に依存し、実効的に表面積を増加させることは困難である。特に、最近は蛍光体の特性を向上させるために蛍光体粒子径が小さくなっているため、表層部の粗さが小さくなり実効的な表面積は減少する傾向にあった。しかしながら、本発明の実施の形態によれば、蛍光体の粒子径によらず、粗さを制御することが可能であり、有機バインダを作製する際に、エトキシル基含有率と樹脂の分子量あるいはその配合を制御することで表面積を変えることが可能である。
【００４１】
プラズマディスプレイパネルは、隣接する各放電セル１３に１色ずつ順次配置した赤色、緑色および青色の各色蛍光体層１２の表面積を制御し、赤色、緑色および青色のバランスを取るように設計されている場合が多い。例えば、隔壁１１間隔を変えて青色の放電セルの面積、すなわち青色蛍光体の表面積を大きくしたり、図６に示す表示電極４に印加するパルス数によって視感度の高い緑色の発光を抑えたりしている。本発明によれば、各色の蛍光体ペーストに混入する有機物の粒径、形状、混合比率を赤色、緑色、青色の各色毎に独立に制御して各色蛍光体層１２の表面積を制御することで高輝度かつ高精細で色温度の高い白色を表現できる。
【００４２】
図４は、各色の蛍光体層の表面積を変えた背面パネルの断面図である。図４（ａ）は図３に示す焼成工程でのキープステージＳ２の後の状態を示し、図４（ｂ）は焼成工程終了後の状態を示す。図４（ａ）に示すように、赤色蛍光体層１２ａ、青色蛍光体層１２ｂ、緑色蛍光体層１２ｃのそれぞれで、表層部のゲル状物質５３ａ、５３ｂ、５３ｃの数を制御している。すなわち、赤色蛍光体層１２ａのゲル状物質５３ａと緑色蛍光体層１２ｃのゲル状物質５３ｃに比べて、青色蛍光体層１２ｂのゲル状物質５３ｂの数が多くなるように有機バインダを調整している。この状態で焼成工程を経ると、図４（ｂ）に示すように、青色蛍光体層１２ｂの表面積を赤色蛍光体層１２ａや緑色蛍光体層１２ｃに比べて大きくすることができる。そのため、等間隔で隔壁を形成することができ背面パネル３０の製造の歩留まりが向上するだけでなく、極めて視感度が高く、輝度の高いプラズマディスプレイパネルを実現することが可能となる。なお、ゲル状物質の数でなく、その大きさをそれぞれの色の蛍光体層で変えて、その表面積を制御できることも当然である。
【００４３】
なお、本発明の実施の形態では、ゲル状物質の焼失によって形成される凹凸部の幅あるいは深さを５μｍ〜１０μｍとしている。そのため、使用蛍光体粒子径の最大粒子径よりも大きな凹凸部を形成することができ、実効的な表面積の増大を図ることができる。例えば、各色の放電セル面積を同じにして、赤色蛍光体で１．１倍、緑色蛍光体で１．０５倍、青色蛍光体で１．２倍の表面積の増加を実現し、輝度として１．１倍の向上を実現することができた。
【００４４】
（実施の形態２）
なお、実施の形態１では、各色の蛍光体層を形成する際に、エトキシル基含有率の異なる複数の樹脂を混ぜたひとつの蛍光体ペーストを用いていた。しかしながら、蛍光体層の表層部の表面積の確実な増大効果と、蛍光体層内部に空洞部を発生させないためには、蛍光体層を多層構成とすることが有効である。
【００４５】
すなわち、蛍光体層の下層部にはゲル状物質が形成されにくい蛍光体ペーストを用い、表層部にゲル状物質が形成されやすい蛍光体ペーストを用いることができる。図５は本発明の実施の形態２におけるプラズマディスプレイパネルの背面パネルへ蛍光体層を形成する工程図である。
【００４６】
図５に示すように、実施の形態２では、蛍光体塗布工程までをふたつに分けている。すなわち、ステップ１〜ステップ３の第１有機バインダ作製工程、第１蛍光体ペースト作製工程、第１蛍光体塗布工程と、同じく第２有機バインダ作製工程、第２蛍光体ペースト作製工程、第２蛍光体塗布工程である。第１有機バインダを用いた蛍光体ペーストは蛍光体層の下層部を形成し、第２有機バインダを用いた蛍光体ペーストは蛍光体層の上層部、すなわち表層部を形成するように、２層に分けて塗布している。第１有機バインダはエトキシル基含有率の大きいエチルセルロースを用い、ゲル状物質が発生しない蛍光体ペーストを作製し、蛍光体粒子の充填密度を高めた蛍光体層を形成することができる。また、第２有機バインダには、エトキシル基含有率の小さなエチルセルロースを用いてゲル状物質が発生しやすくしている。そのため、蛍光体層の表層部に凹凸部を発生させて、表面積を増加させることができる。
【００４７】
なお、実施の形態２では、第１有機バインダとしては、エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロース２０％と、α−ターピネオール（α−ＴＰＯ）６０％と、ブチルカービトール（ＢＣＡ）２０％とを加熱しながら溶解させて作製した。また、第２有機バインダとしては、エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロース１２％と、エトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロース８％との混合樹脂と、α−ターピネオール（α−ＴＰＯ）６０％と、ブチルカービトール（ＢＣＡ）２０％とを加熱しながら溶解させて作製した。また、蛍光体は実施の形態１で述べたのと同様であり、ステップ３、ステップ４、ステップ５は同様の工程としている。
【００４８】
実施の形態２によれば、蛍光体層の下層部の蛍光体充填密度を高め、下層部での紫外光反射効果を増大させることができるとともに、表層部での表面積の増大効果によってさらにパネル輝度を向上させることができる。なお、蛍光体層をさらに複数層に分けて形成することや、各色に応じて表層部の表面性を変えることも可能である。
【００４９】
以上のように、本発明の実施の形態によれば、放電セル内に隔壁よりも高さの小さい突起を設けることや、蛍光体が塗布される隔壁や誘電体層に凹凸を設ける必要がないため、簡便に蛍光体層の表面積を増加させて、輝度特性に優れたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することができる。
【００５０】
【発明の効果】
以上のように、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、放電セルの放電空間を減少させることなく、蛍光体層の表面積を拡大させて、高輝度化を達成することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施の形態１におけるプラズマディスプレイパネルの背面パネルへ蛍光体層を形成する工程図
【図２】 本発明の実施の形態１における背面パネルの焼成工程における温度プロファイルを示す図
【図３】 本発明の実施の形態１における蛍光体ペーストの構造を模式的に示す図
【図４】 本発明の実施の形態１における各色の蛍光体層の表面積を変えた背面パネルの断面図
【図５】 本発明の実施の形態２におけるプラズマディスプレイパネルの背面パネルへ蛍光体層を形成する工程図
【図６】 ＡＣ型面放電プラズマディスプレイパネルの構成斜視図
【図７】 図６のＡ−Ａ線における断面図
【図８】 図６のＢ−Ｂ線における断面図
【符号の説明】
１ 表面側の基板
２ 走査電極
２ａ，３ａ 透明電極
２ｂ，３ｂ 母線
３ 維持電極
４ 表示電極
５ 遮光層
６，９ 誘電体層
７ 酸化マグネシウム（ＭｇＯ）膜
８ 背面側の基板
１０ データ電極
１１ 隔壁
１２ 蛍光体層
１２ａ 赤色蛍光体層
１２ｂ 青色蛍光体層
１２ｃ 緑色蛍光体層
１３ 放電セル
２０ 前面パネル
３０ 背面パネル
５０ 蛍光体塗布膜
５１ 蛍光体粒子
５２ 有機バインダ
５３，５３ａ，５３ｂ，５３ｃ ゲル状物質
５４ 表層部
５５ 空洞部

Claims (6)

1. 基板上に、少なくとも電極と、前記電極を覆って設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に前記電極に平行して設けられた隔壁とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
   少なくとも、有機溶媒と前記有機溶媒に対して溶解する樹脂成分と前記有機溶媒に対してゲル化する樹脂成分とを加熱溶解して有機バインダを作製する有機バインダ作製工程と、
   前記有機バインダに蛍光体粒子を混錬して蛍光体ペーストを作製する蛍光体ペースト作製工程と、
   前記蛍光体ペーストを隣接する前記隔壁間に塗布し蛍光体塗布膜を形成する蛍光体塗布工程と、
   前記隔壁間に塗布された前記蛍光体塗布膜を乾燥する乾燥工程と、
   前記蛍光体塗布膜を加熱焼成して前記有機バインダを焼失させる焼成工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. 有機溶媒がα−ターピネオール（α−ＴＰＯ）とブチルカービトール（ＢＣＡ）の混合溶媒であり、前記有機溶媒に対して溶解する樹脂成分と前記有機溶媒に対してゲル化する樹脂成分がエトキシル基含有率の異なるエチルセルロースであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
3. 樹脂成分が、エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロースと、エトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロースとであることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
4. 基板上に、少なくとも電極と、前記電極を覆って設けられた誘電体層と、前記誘電体層上に前記電極に平行して設けられた隔壁とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
   エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロースと前記エトキシル基含有率が４８．０％〜４９．５％のエチルセルロースが溶解する有機溶媒とを加熱溶解して第１有機バインダを作製する第１有機バインダ作製工程と、
   前記第１有機バインダに蛍光体粒子を混錬して第１蛍光体ペーストを作製する第１蛍光体ペースト作製工程と、
   前記第１蛍光体ペーストを隣接する前記隔壁間に塗布し第１蛍光体塗布膜を形成する第１蛍光体塗布工程と、
   エトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロースと前記エトキシル基含有率が４５．０％〜４７．０％のエチルセルロースがゲル化する有機溶媒とを加熱溶解して第２有機バインダを作製する第２有機バインダ作製工程と、
   前記第２有機バインダに蛍光体粒子を混錬して第２蛍光体ペーストを作製する第２蛍光体ペースト作製工程と、
   前記第２蛍光体ペーストを前記第１蛍光体塗布膜上に塗布して第２蛍光体塗布膜を形成する第２蛍光体塗布工程と、
   前記隔壁間に塗布された前記第１蛍光体塗布膜と前記第２蛍光体塗布膜とを乾燥する乾燥工程と、
   前記第１蛍光体塗布膜および第２蛍光体塗布膜を加熱焼成して前記第１有機バインダおよび第２有機バインダを焼失させる焼成工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法。
5. 有機溶媒がα−ターピネオール（α−ＴＰＯ）とブチルカービトール（ＢＣＡ）の混合溶媒であることを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
6. 焼成工程が、エトキシル基含有率の異なる樹脂成分による有機バインダを焼失させる複数の温度保持領域を有していることを特徴とする請求項２から５のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。

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