JP4266133B2 - ウエハ状の基板上に形成された被検査体の電気的特性を真空下で検査するための検査方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は一般に被検査体を真空中で検査するプローブ装置に関する。特に、シリコンウエハ等のウエハ状の基板上に形成された集積回路、マイクロマシン、若しくは液晶表示装置などの電気的特性を真空中で検査するプローブ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
マイクロマシンとしては、例えば数ミリメートル以下の大きさ、さらにはサブミリ以下の大きさを持つマイクロマシン技術を応用した超小型電子機械式システム(MEMS)がある。マイクロマシンは、半導体集積回路の製造に用いられるフォトファブリケーション技術とともに、深い溝を掘るエッチング技術や接合技術などの立体的な微細加工を行うマイクロマシニング(微細加工技術)により、種々のマイクロマシンがウエハ状の基板上に作られることができる。
【0003】
マイクロマシンは半導体ウエハ状の基板の表面に作られることができる。マイクロマシンは、極めて微細なメカニズムのため、空気の流れや大気への熱伝導により素子の動きが影響を受ける。このようなマイクロマシンの電気的特性の検査は、真空環境下で実施することが求められる。
【0004】
特許文献1には、フラットパネル等の電気的特性評価を真空中で実施するプローバが開示されている。このプローバはプローブピンを固定した基板(プロービングカード)で大気と真空とを区分けする構造が特徴である。
【0005】
このプローバは信頼性の高い評価をする為の高真空環境を作るのが目的であり、チャンバ内の放出ガスを最小にして、チャンバ内を高真空に保つことができる。しかし、特性評価が、放出ガスにより影響される特別な評価でない場合は、このような構造を用いて高真空環境を作る必要はない。
【0006】
特許文献2は、バキュームコンタクタを開示している。このバキュームコンタクタは、ウエハ状の基板とコンタクタの間にOリングを入れて密閉空間を作りそこを真空引きすることによりコンタクト圧力がかかる構造となっている。真空力を変えることでコンタクト圧力を変えることができる。密閉空間の真空度はコンタクト圧力の可変が目的であって、検査環境としての真空度については考慮されていない。
【0007】
特許文献3は、図14に示すように、被検査体を真空環境で検査するプローブ装置100xを開示している。このプローブ装置の密閉室は、ヘッドプレート12xの下部に設けられた筒体10xと、移動機構によりZ方向に上昇されるメインチャック6xの上面とにより形成される。この密閉室には、メインチャックと対向し、かつ複数のプローブを有するプロービングカード14xが配置される。この密閉室は真空にされ、且つプロービングカードの複数のプローブが、メインチャック上に載置された被検査体の各電極に接触した状態で、被検査体の電気的特性が検査される。
【0008】
このプローブ装置は、プローブ室全体を真空引きする必要がなく、密閉空間の容積も小さいため所望の真空度に短時間で到達することができる。しかし、真空状態において、メインチャックはXY方向に移動できないため、各被検査体を検査するたびに、真空状態と大気状態を繰り返し作る必要がある。このためスループットが遅いという課題を有していた。
【0009】
特許文献4には、真空環境で実施される低温試験装置が開示されている。この低温試験装置はプローブ全体を真空引きしている。このメインチャック移動機構のXYZθ軸は、真空に対応することが必要があり、また大能力の真空ポンプを必要とする。したがって、非常に高価なプローブ装置となっている。
【0010】
【特許文献1】
特開平11−337572号公報
【0011】
【特許文献2】
特開平10−256323号公報
【0012】
【特許文献3】
特願2002−28991号
【0013】
【特許文献4】
特開2001−284417号公報
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
本願発明は、従来のプローブ装置に使用される検査ステージに改良を加え、上記従来技術が有していた課題の内の少なくとも一つを解決し、検査に適した真空環境下で被検査体Woの電気的特性を検査することができるプローブ装置用の検査ステージを提供することを目的とする。
【0015】
本発明の他の目的及び利点は、以下の明細書に記載されているか、その一部は該記載から自明であるか、又は本発明の実行により得られ得る。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本願発明の第1の観点に従って、下記を具備する、ウエハ状の基板上に形成された被検査体を真空状態で検査する真空プローブ装置のための検査ステージが提供される、大気ステージ(該大気ステージは大気雰囲気下に配置される)、該大気ステージ上に配置され、ウエハ状の基板を支持するように構成された第一の支持機構(該第一の支持機構はアーム部と、該アーム部の先端部に設けられた支持部とを具備する)、該第一の支持機構をX、Y、Z方向に移動するように構成された第一の移動機構;大気ステージに隣接して配置された真空ステージ(該真空ステージは、真空雰囲気下に配置される)、該真空ステージ内部に配置されたプロービングカード。
【0017】
該真空ステージは、下記a)乃至j)の少なくとも1つを具備することが好ましい。さらに、該真空ステージは、下記a)乃至j)の中の二つ以上を組み合わせて具備することが好ましい。
【0018】
a) 該第一の支持機構の該アーム部に設けられたアライメント用撮影機構。
【0019】
b)該真空ステージが配置される真空室(該真空室は、真空排気機構、開口部、該開口部を開閉するための開閉機構を具備し、該第一の支持機構は支持したウエハ状の基板を該開口部を介して真空室の内と外の間で移動する)。
【0020】
c) 該アライメント用撮影機構は、該アーム部の上面部に配置された第一のカメラと該アーム部の下面部に配置された第二のカメラの内の少なくとも1つのカメラを具備する。
【0021】
d) 該支持部はバキュームパッドを具備する。
【0022】
e) 該真空ステージは、下記を具備する、
ウエハ状の基板Wを載置するように構成されたチャックトップ機構、該チャックトップ機構をX,Y及びθ方向に移動するように構成された第2の移動機構、該真空室の内部において、該プロービングカードをZ方向に移動させる第3の移動機構。
【0023】
f) 第2の移動機構及び第3の移動機構の内の少なくとも1つは、下記の駆動機構を具備する、
真空室を貫通して配置された1つの軸、真空室の外部に位置する該軸の部分の外周に配置されたベーローズ、該軸を軸方向に移動させる移動機構、X軸の端部をチャックトップ機構に取り付けるための取付機構(該取付機構は、チャックトップ機構が各軸に直角でかつ水平方向にスライド可能に各軸の先端をチャックトップ機構に取り付ける)。
【0024】
g) 該プローブ機構はさらに下記を具備する、
ウエハ状の基板Wを載置するように構成されたチャックトップ機構、該チャックトップ機構に設けられたウエハ状の基板Wの固定機構(該固定機構は、押さえ具(該押さえ具は、ウエハ状の基板Wをチャックトップ上に押圧することにより、ウエハ状の基板Wを固定すると、該押さえ具を昇降させるように構成された第1の昇降機構を具備する。)。
【0025】
h) チャックトップ機構上で、ウエハ状の基板Wを昇降させるように構成された複数の支柱体、及び複数の該支柱体を昇降させるように構成される第2の昇降機構。
【0026】
i) 該検査ステージの大気ステージは、アライメント用の撮影機構の光軸位置及び焦点位置の少なくとも1つをチェックするための固定ターゲットを具備する。
【0027】
j) 該被検査体は、ウエハ状の基板の上に形成されたマイクロマシン及び集積回路の内の1つである。
【0028】
本願発明の第2の観点に従って、下記(s1)乃至(s13)を具備する、ウエハ状の基板上に形成された被検査体の電気的特性を真空下で検査するための検査方法が提供される(該検査方法は大気環境下にある大気ステージ及び真空環境下にある真空ステージを具備する検査ステージ上で実施される)、
(S1) 大気環境下にある大気ステージに配置されたアライメント用の撮影機構の光軸位置及び焦点位置に関するデータを得る、
(S2) ローダー部のウエハカセットからウエハ状の基板を取り出し、大気ステージ上に配置された第一の支持機構にウエハ状の基板を渡す、
(S3) 第一の支持機構は、そのアームの先端部を、真空室内にある真空ステージ上に移動し、その先端部が支持していたウエハ状の基板を、真空ステージ上に配置されたチャックトップ上に載置し、固定する、
(S4) 第一の支持機構の先端部に設けられた少なくとも1つのカメラによる撮影データと、撮影機構の光軸位置及び焦点位置に関するデータとを使用して、被検査体と、チャックトップの上方に配置されたプロービングカードとのアライメントを行う、
(S5) 第一の支持機構を真空室から退出させ、ゲートバルブを閉めて真空室内を所定の真空度にする、
(S6) プロービングカードを下降させ、その複数のプローブを被検査体の各電極にオーバードライブ状態で接触させる、
(S7) 被検査体の電気的特性を検査する、
(S8) プロービングカードを上昇させ、ウエハ状の基板を次の被検査体まで移動させる、
(S9) 上記(S6)乃至(S8)を繰り返すことにより、所定の被検査体の電気的特性の検査を終了させる、
(S10) ウエハ状の基板をチャックトップ上から移動可能な状態にする、
(S11) 真空室内を大気圧とする、
(S12) 第1の支持機構の先端部に設けた支持部が、チャックトップ上から検査済みのウエハ状の基板を受け取り、真空ステージから搬出し、ローダー部のウエハカセットに戻す、
(S13) 上記(S2)乃至(S12)を所定回数繰り返す。
【0029】
【発明の実施の形態】
添付した図面は、明細書の一部と連携しかつ一部を構成し、本発明の好適な実施例を図示する。そして、該図面は上記で記述した一般的な記述と以下に記述する好適な実施例に関する詳細な説明とにより、本発明の説明に資するものである。
【0030】
本願発明は、シリコンウエハ等のウエハ状の基板上に形成されたマイクロマシン、集積回路、或いは液晶表示パネルなど種々の電子回路部品を検査対象とすることができる。しかし、本願発明をより具体的に説明する便宜上から、以下被検査体Woとして、シリコンウエハ状の基板上に作られた集積回路の電気的特性を検査するプローブ装置及びプローブ方法が説明される。
【0031】
以下、図1乃至図10に基づいて本発明の実施形態を説明する。図1は、本発明の一実施例におけるプローブ装置100の本体の上面図である。図2は、同正面図である。図1及び図2に示されるように、プローバ室29のトッププレート29a上に、大気ステージ10及び真空ステージ20を有する検査ステージ41が配置されることができる。大気ステージ10及び真空ステージ20を有する検査ステージ41はプローバ室内に配置されることもできる。真空ステージ20は、開口部22aを有する真空室21内に配置される。
【0032】
本実施例によるプローブ装置100は、プローバ室29(図2)のトッププレート29a上に検査ステージ41を備える。検査ステージ41は、大気ステージ10と真空ステージ20を有する。
【0033】
図1及び図3において、ローダー部1は、複数のウエハ状の基板Wを収容したウエハカセット3を備えている。例えばピンセット状をした搬送機構2は、ウエハカセット3の中からウエハ状の基板Wを一枚づつ取り出して、大気ステージ10(後述)に引き渡す。搬送機構2によって、ローダー部1のカセット3から取り出されたウエハ状の基板Wは、大気ステージ10上に配置された第一の支持機構14の支持部14cに受け取られる。この作業は、図3に示されるように、ウエハ状の基板Wは、搬送機構2から支持部14cに直接渡されることができる。しかし、図4A及び図4Bに示されるように、ウエハ状の基板Wは、受渡しテーブル2bを介して、搬送機構2から支持部14cに渡されることもできる。
【0034】
第一の支持機構14は、アーム部14aを有することができる。アーム部14aはXテーブル上に配置された昇降軸13dに固定されることができる。昇降軸13dは、昇降機構13iにより、ガイド筒13eの中で昇降される。アーム部14aは、その先端部14bに支持部14cを有する。該支持部14cは搬送機構2により搬送されてきたウエハ状の基板Wを受け取りウエハ状の基板Wを支持する。第一の支持機構14としては、ウエハ状の基板Wを受け取り、支持することができるいずれの支持機構も採用されることができる。
【0035】
図3に示されるように、第一の支持機構14は、第一の移動機構13により、X,Y,Z方向に移動することができる。図3において、XはXテーブルの移動方向、YはYテーブルの移動方向、Zは昇降軸13dの昇降方向である。第一の移動機構13は、第一の支持機構14をZ方向に移動するために、昇降軸13d、ガイド筒13e及び昇降機構13iよりなる昇降機構13fを具備する。この昇降機構13fは、さらに、昇降軸13dを回転させるための回転機構も具備することができる。
【0036】
さらに、第一の移動機構13は、第一の支持機構14をX,Y方向に移動するためのX方向移動機構13gとY方向移動機構13hとを具備する。X方向移動機構13gは、Xテーブル13a、一対のガイドレール13b、モーター13cとを具備することができる。モーター13cの駆動力により、Xテーブルはガイドレール13b上をX方向に移動されることができる。
【0037】
Y方向移動機構16hは、Yテーブル16a、一対のガイドレール16b、モーター16cとを具備することができる。Yテーブル16aは、モーター16cの駆動力により、Y方向に移動することができる。
【0038】
第一の支持機構14は、Xテーブル13a上に載置され、Xテーブル13aはYテーブル16a上に載置される。第一の移動機構13は、昇降機構13f、第一のX方向移動機構13g、第一のY方向移動機構16hにより、第一の支持機構14をX,Y,Z方向に移動させることができる。
【0039】
この第一の移動機構13は、図3に示された機構に限られるものではない。要は、第一の支持機構14をX,Y,Z方向に移動することができるいずれの機構も、第一の移動機構として採用されることができる。例えば、第一のX方向移動機構13g及び第一のY方向移動機構16hに代わって、リニアモーターの原理に基いて、1つのテーブル上で第一の支持機構14をX,Y方向に移動することができる機構も採用されることができる。
図1、図2及び図5に示すように、プローバー室29内には、大気ステージ10に隣接して、真空室21が配置される。真空室21は、開口部22a、該開口部22aを開閉するための開閉機構(以下、「ゲートバルブ」という)22b及び真空ステージ20を具備することができる。
【0040】
図5において、真空室21内には、真空ステージ20、その上のチャックトップ機構(以下、チャックトップいう)24及びプロービングカード28が配置されることができる。大気ステージ10に配置された第一の支持機構14は、その支持部14cで支持したウエハ状の基板Wを開口部22aを介してチャックトップ24上に移動する。
【0041】
図6及び図7には、チャックトップ24をX,Y,θ方向に移動させるように構成された第2の移動機構23の例が示されている。
【0042】
第2の移動機構23は、チャックトップ24を支持するXテーブル25aと、Xテーブル25aを移動させるためのXテーブル移動機構25、該Xテーブル25aを支持するYテーブル27aとYテーブルを移動させるためのYテーブル移動機構27、及びチャックトップを回転させるθ軸駆動機構26を具備することができる。
【0043】
Xテーブル移動機構25は、真空室21を貫通して配置されたX軸ロッド25bを移動させることにより、Xテーブル25aを移動させる。X軸ロッド25bの先端は、取付機構25iを介してXテーブル25aに取り付けられている。Xテーブル移動機構25は、真空室21内に配置することもできる。この場合、回転軸25f,モータ25g、ガイド25hは真空対応の部品とすることが必要である。
【0044】
取付機構25iは、チャックトップ24が、X軸ロッドに直角でかつ水平方向にスライド可能なようにX軸ロッドの先端をチャックトップ24に取り付けることができる。取付機構25iは、スライド構造を採用することができる。
【0045】
X軸ロッド25bを紙面上下方向に移動させるための機構の例が説明される。X軸ロッドの他端は、移動体25eに固定されることができる。真空室21外にあるX軸ロッド25bの外周には、ベローズ25dが配置されることが好ましい。ベローズ25dは、真空室21と大気との間を遮断するために配置されることができる。
【0046】
移動体25eは雌ネジを有し、回転軸25fは雄ネジを有する。これら両ネジが嵌合する状態で、回転軸25fは移動体25eに取り付けられる。回転軸25fがモータ25gにより回転されることにより、移動体25eは、ガイド25hに沿って移動する。
【0047】
この移動体25eの移動により、該移動体25eにその他端が固定されたX軸ロッドも、ガイドロール25cに案内されて紙面上下方向に移動する。X軸ロッド25bの移動により、X軸ロッド25bの先端に取付機構25iを介して取り付けられたXテーブル25aは、一対のガイドレール13b,13b上を矢印X方向に移動する。
【0048】
本願発明が採用できる、X軸ロッド25bを紙面上下方向に移動させるための機構は、上記の例に限定されることはない。例えば、X軸ロッド25bをリニアモーターで直接移動させる機構も採用することができる。
【0049】
一対のガイドレール13b,13bは、Yテーブル27a上に固定されている。このYテーブル27aは、Xテーブル移動機構25と同様のYテーブル移動機構27により、矢印Y方向に移動されることができる。
【0050】
本実施例では、Yテーブル移動機構27は、Y軸ロッド27b,ベローズ27d,移動体27e,回転軸27f、モータ27g,ガイド27hを具備する。Yテーブル移動機構27は、真空室21内に配置することもできる。この場合、回転軸27f,モータ27g,ガイド27hは真空対応の部品とすることが必要である。
【0051】
Yテーブル移動機構27は、Yテーブル27aを、真空ステージ上に固定された一対のガイドレール16b、16b上を矢印Y方向に移動する。
【0052】
Xテーブル25a上に回転可能に配置されたチャックトップ24を回転させるためのθ軸駆動機構26の例が説明される。チャックトップ24の外周に、θ軸駆動機構26が配置される。θ軸駆動機構26は、チャックトップ24の外周に回転力を印加する。チャックトップ24は、この回転力により、矢印θ方向に回転する。θ軸駆動機構26は、上記例に限られない。例えば、θ軸駆動機構26は、チャックトップ24を支持する回転軸を直接回転させる機構でもよい。
【0053】
以上のように、チャックトップ24上に載置される被検査体Woの位置合わせのため、或いは個々の被検査体Woの電気的特性を検査する時に被検査体Woをプローブに接触させていくため等に、チャックトップ24は、Xテーブル移動機構25、Yテーブル移動機構27、θ軸駆動機構26により、X、Y及びθ方向に正確に移動することができる。本実施例では、チャックトップ24はX、Y及びθ方向に移動可能なように構成されている。さらに、チャックトップ24は、Z方向にも移動可能なように構成されることもできる。
【0054】
図7を参照して、真空室21内に配置されるプロービングカード28と、プロービングカード28をZ方向に移動させるための第3の移動機構30を説明する。
【0055】
真空室21内には、真空ステージ20、真空ステージ20上のベース20a上に配置されたYテーブル27a、Yテーブル上に配置されたXテーブル25a、Xテーブル25a上に配置されたチャックトップ24が配置されることができる。さらに、Xテーブル24の上方には、プロービングカード28が、矢印Z方向に移動可能に配置されることができる。
【0056】
プロービングカード28は、複数のプローブ28gを有している。これらのプローブ28gはテスタ34(図示せず)に接続されている。プロービングカード28は、複数の支柱28e、支持体28bを具備するプロービングカード支持機構28aにより支持されることができる。プロービングカード28は、プロービングカード支持機構28aに交換可能に取り付けられることができる。支持体28e及びプロービングカード28は、第3の移動機構30により、Z方向に移動されることもできる。
【0057】
第3の移動機構30は、Xテーブル移動機構25と同様の機構とされることができる。すなわち、第3の移動機構30は、真空室21を貫通するZ軸ロッド30b、ガイドローラ30c、ベローズ30d、移動体30e、回転軸30f、モータ30g、ガイド30h、を具備することができる。ガイドローラ30cは、4方向からZ軸ロッド30bを挟み込むのが好ましい。
【0058】
プロービングカード支持機構28a、及び第3の移動機構30は、上記の実施例に限定されない。例えば、Z軸ロッド30bは、真空室21を貫通させずに、真空室21内に配置することもできる。この場合、真空室21の必要スペースが大きくなる。Z軸ロッド30bは、モータにより直接Z方向に移動されることができる。
【0059】
本実施例のプローブ装置100の第一の支持機構14のアーム部14aの先端部14bには、ウエハ状の基板Wを支持するための支持部14cが設けられる。この支持部14cは、ウエハ状の基板Wを支持した状態で、ウエハ状の基板Wを大気ステージ10と真空ステージ20の間で移動させることが可能ないずれの構造も採用されることができる。例えば、図11Aに示されるピンセット構造14c’、或いは図11Bに示されるバキュームパッド構造14dを採用することができる。
【0060】
図9には、メインチャック24上に、ウエハ状の基板Wを固定するための固定機構24aの例が示されている。この固定機構24aは、ウエハ状の基板Wの周囲を押さえる押さえ具(以下、クランプリングという)24cを採用している。
【0061】
図10Aに示されるように、クランプリング24cは、リング24caと、リング状のつば部24cbとネジ孔24ccを具備することができる。このクランプリング24cは、図10Bに示したように、チャックトップ24に固定具(例、ネジ)40で固定されることにより、ウエハ状の基板Wを押圧して台形状エリア24mに固定することができる。
【0062】
図9Aを用いて、固定機構24aに弾性体(例、ばね材)24nを採用した機構が説明される。図9Aに示されるように、この固定機構24aは、チャックトップ支持台24bを貫通して配置される複数の支持柱24d、支持柱24dの周囲に配置されたバネ材24n、複数の支持柱24dを一括して固定する固定部材24k、固定部材24kを昇降させるための昇降機構24pを具備することができる。
【0063】
昇降機構24pは、真空室の底24jを貫通して昇降可能なロッド24g、ロッド24gの外周に配置したベローズ24h、ロッド24gを昇降させる駆動機構24q、及びロッド24gの先端により押圧される座金24fとを具備することができる。
【0064】
図9Aに示されるように、駆動機構24qがロッド24gを下降させた状態では、クランプリング24cはバネ材24nの圧縮力により、押し下げられる。この結果、ウエハ状の基板Wは、クランプリング24cにより、チャックトップ24上に押圧され固定される。この押圧された状態で、被検査体Woの電気的特性が検査される。
【0065】
図9A及び図9Bは、クランプリング24cによりウエハ状の基板Wを押圧する作業を自動化する機構を示す。
【0066】
図9Bは、例えば、被検査体Woの電気的特性の検査が終了した後、駆動機構24qがロッド24gを上昇させ、座金24fを介して、固定部材24kを上昇させた状態を示している。この状態では、クランプリング24cはウエハ状の基板Wから離れており、ウエハ状の基板Wはチャックトップ24上で移動可能な状態になっている。
【0067】
図9Aに示されるように、複数のピン24iが固定部材24kに設けられることもできる。図9Bに示すように、固定部材24kが上昇し、クランプリング24cがウエハ状の基板Wから離れた後、これらのピン24iも上昇し、ウエハ状の基板Wをチャックトップ24から持ち上げる。持ち上げられたウエハ状の基板Wは、その下部に図11Aに示された支持部14cを挿入し、支持部14cを持ち上げることにより(或いは、ロッド24gを下げることにより、ウエハ状の基板Wは支持部14cに渡される。
【0068】
図8は、複数の押さえ具24cによりウエハ状の基板Wを押圧する作業を自動化する他の機構を示す。図8に示された固定機構24aは、押さえ具24c、移動体24r、駆動機構24sより構成されることができる。押さえ具24cは移動体24rに固定され、移動体24rは駆動機構24sにより、図中の矢印方向(ウエハ状の基板Wに向かって進退方向)に移動させられる。図8は押さえ具24cがウエハ状の基板Wを固定している状態を示している。これらのパーツは、ベース24t上に配置されることができる。
【0069】
本実施例のプローブ装置100に採用されることができるアライメント機構15が説明される。
【0070】
図11A,図11Bにおいて、第一の支持機構のアーム部14aの先端部14bに、アライメント用の撮影機構(例、CCDカメラ。以下、カメラという)15を設けることができる。カメラ15は、先端部14bの上面及び下面のそれぞれに上カメラ15a及び下カメラ15bを設けることができる。しかし、必要がなければ、いずれか1つのカメラのみを採用することもできる。上カメラ15aはプロービングカードのアライメント用マーク(例、プローブの先端)を撮影し、下カメラ15bはウエハ状の基板W上のアライメント用マーク(例、パッド)を撮影する。
【0071】
アライメント作業に入る前に、上カメラ15a及び下カメラ15bの各光軸位置と、各焦点位置をチェックすることが必要なケースがある。これらのチェックは、図12Aに示された薄い透明ガラス上の固定マーク33(例、直径30μm)を使用して行われることができる。図12Bに示されるように、固定マーク33は、梁部材31bの先端に取り付けられることができる。梁部材31bの他端は、大気ベース10上のベース31dに固定された支持台31cに固定されることができる。
【0072】
上カメラ15aの光軸位置と焦点位置のチェック作業が、図12Bを参照しつつ説明される。上カメラ15aを固定マーク33の下部に移動する。第一支持機構14をX、Y、Z方向に移動させて、上カメラ15aが固定マークを的確に撮影する。この撮影位置から、上カメラ15aの光軸位置と焦点位置のデータを得ることができる。図12Cに示すように、第一支持機構14を固定マーク33の下から後退させ、図12Dに示すように、下カメラ15bを固定マーク33の上部に移動させる。図12Bと同様に、第一の支持機構14を移動させて、下カメラで固定マークを的確に撮影する。この撮影位置から、下カメラ15bの光軸位置と焦点位置のデータを得ることができる。これらのデータを得る際には、透明ガラスの厚さと屈折率も考慮することが好ましい。
【0073】
図13を参照して、アライメントの作業工程が説明される。図5に示されるように、第一の支持機構14のアーム14aを開口部22aを介して真空室21に挿入し、そのカメラ15bをチャックトップ24上に載置されたウエハ状の基板Wの上方に移動させる。この移動は、大気ステージに配置された第一の移動機構13(図3参照)により第一の支持機構14を移動させることにより実施することができる。
【0074】
第一の移動機構13(図3)は、大気環境下に配置されることから、第一の移動機構13を構成する各パーツ(例、昇降回転機構13i、モーター13c,16c)の仕様は真空環境に対応可能とする条件を求められない。
【0075】
図13を参照して、第一の移動機構により上カメラ15aをX、Y及びZ方向に移動させて、上カメラ15aで、真空室21内の上部に配置されたプロービングカード28のアライメント用マーク(例、所定のプローブ28gの先端)を撮影する。この撮影位置と、上カメラ15aの光軸位置と焦点位置に関する上記データから、プロービングカード28の位置を特定する。
【0076】
同様に、大気ステージに設置された第一の支持機構14を第一の移動機構によりX、Y及びZ方向に移動させることにより、下カメラ15bでウエハ状の基板W上のアライメント用マークを撮影する。この撮影に際しては、チャックトップ24をθ方向に回転させて、下カメラ15bとアライメント用マークとのアライメントも行う。この撮影位置と、下カメラ15bの光軸位置と焦点位置に関する上記データから、ウエハ状の基板Wの位置を特定する。また、下カメラ15bの焦点をウエハ状の基板W上のアライメントマークに合わせた後で、下カメラ15bの位置を固定して、チャックトップ24をX,Y及びθ方向に回転させて、アライメントすることができる。
【0077】
以上の作業により、把握したプロービングカード28の位置と、ウエハ状の基板Wの位置とに基いて、チャックトップ24をX,Y方向に移動させて、ウエハ状の基板Wとプロービングカード28とのアライメントを行う。
【0078】
次に、本実施例による検査ステージを用いたプローブ装置100を用いて、ウェハ状の被検査体Woの電気的特性を真空中で検査する方法を説明する。
【0079】
(S1) 図12A乃至図12Dを参照して説明したように、アライメント用カメラの光軸位置及び焦点位置に関するデータを得る。
【0080】
(S2)図1において、ローダー部1の搬送装置2はウエハカセットからウエハ状の基板Wを取り出し、大気ステージ10上の第一の支持機構14の支持部14cにウエハ状の基板Wを引き渡す。
【0081】
(S3) 第一の支持機構14は、第一の移動機構13(図3)によりX、Y及びZ方向に移動され、そのアーム14aの先端部14bは開口部22aを通って真空室21内に移動される。先端部14bが支持していたウエハ状の基板Wは、チャックトップ24上に載置される。
【0082】
図9A,Bにおいて、昇降機構24pがロッド24gを下降させる。クランプリング24cは下降し、ウエハ状の基板Wはクランプリング24cによりチャックトップ24上に押圧され、固定される。
【0083】
(S4) 第一の支持機構14の先端部14bに設けられたカメラ15(15a,15b)と、チャックトップ24をX、Y及びθ方向に移動させる第2の移動機構25,26,27(図6)、プロービングカード28をZ方向に移動させる第3の移動機構30(図7)などを使用して、被検査体Woとプロービングカード28とのアライメントを行う。
【0084】
(S5)図1において、第一の支持機構14が真空室21から退出し、真空室21のゲートバルブ22bが閉じられる。排気ポンプ21bが、バルブ21aを介して、真空室21内から空気を排気し、真空室21内を所定の真空度にする。
【0085】
(S6)図7において、第3の移動機構30が、プロービングカード28を下降させ、その複数のプローブを被検査体Woの電極にオーバードライブ状態で接触させる。
【0086】
テスタは、複数のプローブ28gを介して、被検査体Woとの間で測定用信号と測定結果信号を送信・受信することにより、被検査体Woの電気的特性を検査する。電気的特性の検査は、1つの被検査体(集積回路)毎に実施されることも、複数の被検査体毎に実施されることもできる。
【0087】
(S7)) プロービングカードを上昇させ、ウエハ状の基板を次の被検査体まで移動させる。
【0088】
(S8) 上記(S6)乃至(S7)を繰り返すことにより、所定の被検査体の電気的特性の検査を終了させる、
(S9)図7において、第3の移動機構30が、プロービングカード28を上昇させる。駆動機構24qがロッド24gを上昇させることにより、クランプリング24cを上昇させる。この結果、ウエハ状の基板Wはチャックトップ上から移動可能な状態にされる。
【0089】
(S10)図1において、真空室21のバルブ21aを開き、真空室21内を大気圧にし、ゲートバルブ22bを開く。
【0090】
(S11) 大気ステージ10上の第1の支持機構14の支持部14cを真空室内に挿入し、支持部14cはチャックトップ24上から検査済みのウエハ状の基板Wを受け取り、真空室21から搬出する。第一の支持機構14は、真空室21から搬出した検査済みウエハ状の基板Wをローダ部1の搬送機構2に引き渡す。
【0091】
(S12) ローダ部1の搬送機構2は、検査済みのウエハ状の基板Wを、例えばウエハカセット3に収納するとともに、ウエハカセット3から未検査のウエハ状の基板Wを取り出し、大気ステージ10上の第一の支持機構14に引き渡す。
【0092】
以下、上記(S1)乃至(S12)の操作を繰り返すことにより、全てのウエハ状の基板Wに対する検査を終了する。
【0093】
さらなる特徴及び変更は、当技術分野の当業者には着想されるところである。それ故に、本発明はより広い観点に立つものであり、特定の詳細な及びここに開示された代表的な実施例に限定されるものではない。従って、特許請求の範囲に規定された広い発明概念及びその均等物の解釈と範囲において、そこから離れることなく、種々の変更をおこなうことができる。
【0094】
【発明の効果】
本願発明の実施例によれば、チャックトップやプロービングカードなどの最低限必要な検査用機器を真空環境下の真空ステージ上に配置する一方で、被検査体の移動機構やアライメント機構を大気環境下に配置する。この結果、被検査体の移動機構やアライメント機構は、真空環境に対応するための仕様を有する必要がなく、簡便かつ安価な機器を使用することができる。また、真空室内からの放出ガスも少ない。
【0095】
本願発明の実施例によれば、例えばマイクロマシンや集積回路などの被検査体Woの電気的特性を、必要最小限の容積の真空室で実施することができる。また、真空室とその関連構造をシンプルにすることができる。プローブ装置全体を真空にするために必要な大型の排気ポンプの必要性が無く、所定の真空度にするための時間が短いため、検査時間のスピードアップを図ることができる。また、真空室の容積を最小にすることができ、真空室を迅速に高真空にすることができる。
本願発明の実施例によれば、例えばマイクロマシンや集積回路などの被検査体Woの電気的特性を、大気ステージ10に配置した機器をも活用して、真空下で検査することができる。この結果、大気ステージに配置した機器に対する対真空対策の必要性を除くことができる。
【0096】
本願発明の実施例によれば、真空室の真空度は、検査に必要な検査環境(所定の真空度下の環境)を確保する観点から決定されることができる。
【0097】
本願発明の実施例によれば、プロービングカードを昇降させることにより、その複数のプローブと被検査体とをオーバードライブ状態で接触させる機構を採用することができる。この機構を採用することにより、所定のオーバードライブ状態を正確に設定することができる。
【0098】
本願発明の実施例によれば、真空室の開口部を開閉する開閉機構を採用することができる。この採用により、真空室用の密閉空間をよりシンプルな機構により実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本願発明の実施例における検査ステージの上面図である。
【図2】 本願発明の実施例における、検査ステージを具備するプローブ装置の正面図である。
【図3】 本願発明の実施例における、検査ステージを構成する大気ステージの概観図である。
【図4】 本願発明の実施例における、基板受渡台を具備する大気ステージの概観図である。図4Aはその斜視図であり、図4Bは基板受渡の状況例を示す図である。
【図5】 本願発明の実施例における、検査ステージを構成する真空ステージの概観図である。
【図6】 本願発明の実施例における、チャックトップ機構を移動させるX及びYテーブル移動機構の上面図である。
【図7】 本願発明の実施例における、プロービングカードをZ方向に移動させるための第三の移動機構の側面図である
【図8】 本願発明の実施例における、ウエハ状基板の固定機構の側面図である。
【図9】 本願発明の実施例における、他のウエハ状基板の固定機構の側面図である。図9Aはウエハ状基板が固定された状態をしめし、図9Bはウエハ状基板が固定されていない状態をしめす。
【図10】 本願発明の実施例におけるクランプリングを示す図である。図10Aはクランプリングの概観図、図10Bはクランプリングの側面図である。
【図11】 本願発明の実施例におけるアーム部の側面図である。
図11Aはピンセット状の支持部を有するアーム部の側面図であり、図11Bはバキュウムパッドの支持部を有するアーム部の側面図である。
【図12】 図12A乃至Dは、本願発明の実施例における、撮影機構の光軸位置及び焦点位置の検出機構を説明する図である。
【図13】 本願発明の実施例における、プロービングカードと被検査体とをアライメントする状況を説明する図である。
【図14】 従前の真空プロービング装置の側面図である。
【符号の説明】
1…ローダー部、2…搬送機構、3…ウエハカセット、10…大気ステージ、14…第一の支持機構、15…撮影機構、20…真空ステージ、21…真空室。
Claims (1)
- ウエハ状の基板上に形成された被検査体の電気的特性を真空下で検査するための検査方法、該検査方法は大気環境下にある大気ステージ及び真空環境下にある真空ステージを具備する検査ステージ上で実施され、該検査方法は下記を具備する:
(S1) 大気環境下にある大気ステージに配置されたアライメント用の撮影機構の光軸位置及び焦点位置に関するデータを得る;
(S2) ローダー部のウエハカセットからウエハ状の基板を取り出し、大気ステージ上に配置された第一の支持機構にウエハ状の基板を渡す。
(S3) 第一の支持機構は、そのアームの先端部を、真空室内にある真空ステージ上に移動し、その先端部が支持していたウエハ状の基板を、真空ステージ上に配置されたチャックトップ上に載置し、固定する。
(S4) 第一の支持機構の先端部に設けられた少なくとも1つのカメラによる撮影データと、撮影機構の光軸位置及び焦点位置に関するデータとを使用して、被検査体と、チャックトップの上方に配置されたプロービングカードとのアライメントを行う。
(S5) 第一の支持機構を真空室から退出させ、ゲートバルブを閉めて真空室内を所定の真空度にする。
(S6) プロービングカードを下降させ、その複数のプローブを被検査体の各電極にオーバードライブ状態で接触させる。
(S7) 被検査体の電気的特性を検査する。
(S8) プロービングカードを上昇させ、ウエハ状の基板を次の被検査体まで移動させる。
(S9) 上記(S6)乃至(S8)を繰り返すことにより、所定の被検査体の電気的特性の検査を終了させる。
(S10) ウエハ状の基板をチャックトップ上から移動可能な状態にする。
(S11) 真空室内を大気圧とする。
(S12) 第1の支持機構の先端部に設けた支持部が、チャックトップ上から検査済みのウエハ状の基板を受け取り、真空ステージから搬出し、ローダー部のウエハカセットに戻す。
(S13) 上記(S2)乃至(S12)を所定回数繰り返す。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003163769A JP4266133B2 (ja) | 2003-06-09 | 2003-06-09 | ウエハ状の基板上に形成された被検査体の電気的特性を真空下で検査するための検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003163769A JP4266133B2 (ja) | 2003-06-09 | 2003-06-09 | ウエハ状の基板上に形成された被検査体の電気的特性を真空下で検査するための検査方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008023210A Division JP4729056B2 (ja) | 2008-02-01 | 2008-02-01 | 真空プローブ装置のための検査ステージ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005005300A JP2005005300A (ja) | 2005-01-06 |
JP4266133B2 true JP4266133B2 (ja) | 2009-05-20 |
Family
ID=34090781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003163769A Expired - Fee Related JP4266133B2 (ja) | 2003-06-09 | 2003-06-09 | ウエハ状の基板上に形成された被検査体の電気的特性を真空下で検査するための検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4266133B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008147202A (ja) * | 2005-02-25 | 2008-06-26 | Yoshito Tanaka | 半導体検査装置およびこれを用いた半導体検査システム |
JP5358138B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2013-12-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査装置 |
-
2003
- 2003-06-09 JP JP2003163769A patent/JP4266133B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005005300A (ja) | 2005-01-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060531 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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