JP4264071B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents

Description

本発明は、偏光光学素子を備えるリソグラフィ装置に関する。

偏光器
もっとも簡単なグリッドエレメント偏光器は、平行な導電ワイヤのグリッドからなるデバイスである。光がグリッドに入射すると、照射の各直交成分はワイヤグリッド偏光器とそれぞれ異なって交差する。ワイヤに平行なフィールドの成分は電子を各ワイヤの長手方向に沿ってドライブし、これにより電流が発生する。電子はまた格子原子と衝突し、エネルギーをこれに付与し、これによりワイヤを加熱する。このようにしてエネルギーはフィールドからグリッドに伝達される。さらにワイヤに平行に加速する電子は前方向と後方向の両方に放射する。入射波は前方向に放射される波により相殺される傾向にあり、そのためフィールドのその成分は透過しないか、またはほとんど透過しない。後方向に伝播する放射は単純に反射波として現れる。反対に、ワイヤに垂直の波の成分は実質的に変化せずグリッドを通過して伝播する。（Eugene Hecht, Optics, Chapter 8, pp.333-334, Addison Wesley, San Francisco(2002)）
１９６０年にGeorge R. BirdとMaxfield Parish, Jr.は１ｍｍ当たりに２１６０本のワイヤを有する、マイクロ波領域で使用するためのグリッド偏光器を開示している（G.R. BirdとM. Parish,Jr.,J. Opt. Soc. Am. 50:886(1960)）。この刊行物によれば、このことは金（またはアルミニウム）原子流を密な入射角でプラスチックの回折格子レプリカに蒸着させることにより達成された。回折格子の各ステップのエッジに沿って堆積する金属は薄い顕微鏡的ワイヤを形成し、このワイヤの幅と間隔は波長よりも小さい。

グリッド偏光器はＩＲおよび可視スペクトルの両方で使用するために開発された。例えばＵＳ特許第６１２２１０３号には、ワイヤグリッド偏光器を可視スペクトルに対して前置することが記載されている。この偏光器は基板上に支持された複数の伸長素子を有する。米国特許第５７４８３６８号にはまた、光を可視光スペクトルに偏光するワイヤグリッド偏光器が記載されている。

リソグラフ
より高速にかつより精巧な回路を形成するために、半導体製造業は回路素子の大きさを低減する努力を続けている。回路は基本的にフォトリソグラフにより製造される。このプロセスで、回路は半導体ウェハの上に、感光性材料のコーティングを光に露光することによってプリントされる。感光性材料はしばしば「フォトレジスト」またはレジストと称される。クロムまたは他の不透明材料からなるマスクを、透明基板上に形成する。光をこのマスクに通過させると所望の回路パターンが発生する。このマスクはまた、透明基板の表面にエッチングされた比較的高い領域と比較的低い領域のパターンにより形成することもできる。またはこれら２つの技術を組み合わせることもできる。引き続き、熱的または化学的プロセスによりこのレジストの露光された部分または露光されなかった部分（材料に依存する）だけを除去し、露出された基板領域を残す。この領域がさらなるプロセスでは電子回路の製造に使用される。

レチクルでの偏光はレンズのリソグラフ能力にさまざまな形で影響する。まず第１に、レチクルのフューチャが例えばクロムの濃度線の場合、これと照明との交差は偏光により変化する。その結果、マスクの透過と散乱は光の偏光とマスクのフューチャに依存する。第２に、レンズおよびミラーの表面での反射は偏光に依存するものであり、そのためアポディゼーションと、それより程度は小さいが投影光学系（Ｐ．Ｏ．）での波面は偏光に依存する。またレジスト表面からの反射も偏光に依存し、これもまた偏光に依存するアポディゼーションである。最後にレチクルから回折された光線が共にウェハへ戻されると、これもイメージの形成を妨害する。しかし電界の平行成分だけが干渉するため、ウェハにおける各光線の偏光状態がコヒーレントなイメージに影響を与える。完璧なレンズであってもウェハに到来する光線の３次元幾何形状がコントラストを低減することがある。

偏光照明器を検討する第１の理由は、ウェハに形成されるイメージを、ウェハで回折される光線の干渉を改善することにより向上させるためである。このことはとりわけ開口数の大きなシステムで有利である。濃度線のバイナリマスクに入射するダイポール照明を考えてみる。照明器瞳中の各小さな領域（すなわちロー・シグマ・ダイポールの各ポール）は瞳にある他の領域とはコヒーレントではなく、固有のイメージをウェハに形成する。従ってダイポール照明のシングルポールと見なすことができる。光はレチクルから回折し、濃度線は密な回折配列を形成する。小さなフューチャに対しては、２つの回折配列だけがＰ．Ｏ．に許容される。ウェハではこれらの回折配列が再結合して、マスクのイメージを形成する。マスクのイメージはコントラストに依存し、このコントラストは偏光に依存する。

上記のように、レチクルにおける照明の偏光状態は、リソグラフではウェハに形成されるイメージを改善することができる。リソグラフは紫外線スペクトルの光を使用するから、このようなＵＶ適用に対する偏光器が必要である。発明者はワイヤグリッド偏光器の利点を認識する。この種の偏光器は、適用に応じてパターンをワイヤエレメントにカスタマイズできる。このような偏光器は例えば偏光パターンを、光学システムの照明器の瞳に形成したり、リソグラフシステムの投影光学系に形成したりするのに必要である。
米国特許第６１２２１０３号 米国特許第５７４８３６８号 米国特許第４０４９９４４号 米国特許第４５１４４７９号 Eugene Hecht, Optics, Chapter 8, pp.333-334, Addison Wesley, San Francisco(2002) G.R. BirdとM. Parish,Jr. J. Opt. Soc. Am. 50:886(1960) "Grid polarizer for the visible spectral region", Proceedings of the SPIE, vol.2213, pp.288-296

本発明の課題は、紫外線スペクトルにわたって高い透過効率を有するパターン化グリッド偏光器を提供することである。

この課題は本発明により、リソグラフに使用するパターン化グリッド偏光器が、（ａ）紫外線（ＵＶ）光に対して透過の基板と、（ｂ）基板上にパターン化されたワイヤエレメントのアレイを有し、このワイヤエレメントが紫外線光を偏光することにより解決される。

本発明のグリッド偏光器は一般的に、パターン化されたワイヤエレメントを備える基板からなる。本発明の偏光器を出射する光の偏光はこの基板上のワイヤエレメントのパターンに依存する。

実施例では、ワイヤエレメントがグループで、放射状に光軸の周囲に配置されており、接線方向に偏光された出射光を形成する。別の実施例では、ワイヤエレメントは同心円として光軸の周囲にパターン化されており、半径方向に偏光された出射光を形成する。

本発明はさらに、本発明の偏光器を有するリスグラフシステムを含む光学システムを提供する。このようなリスグラフシステムは、ウェハでのイメージングを強化する偏光パターンの恩恵を受ける。

本発明のさらなる実施例、フューチャ、利点、および種々の実施例の構造と動作を以下、添付図面を参照して詳細に説明する。

１つの実施例ではパターン化グリッド偏光器がリソグラフでの使用のために提供される。このような偏光器は紫外線光に対して透明な基板と、基板上にパターン化されたワイヤエレメントのアレイを有し、このワイヤエレメントが紫外線光を偏光する。

グリッドエレメントパターン
本発明は、さまざまな手法で基板上にパターン化されたワイヤエレメントを備えるＵＶ偏光器を提供する。本発明では、基板上のワイヤエレメントのパターンが偏光器を出射する光の偏光を規定するように構成されている。

リソグラフシステムの光学システムまたは投影光学系の照明器の瞳に偏光パターンを有すると種々の理由からイメージングに有利である。例えばこのような偏光パターンは良好なイメージングのために比較的大きなコントラストをウェハに提供することができる。

本発明の実施例によれば、本発明の偏光器は偏光光を形成するために基板上にパターン化されたワイヤエレメントを有し、光の偏光パターンはワイヤエレメントのパターンにより規定される。

例えばワイヤエレメントを基板上にパターン化し、接線方向に（すなわち偏光器の円筒対称に対して接線方向）偏光された出射光を到来する非偏光光から形成することができる。ここで到来する光は偏光器上に入射して、偏光器を出射する。

択一的にワイヤエレメントを基板上にパターン化して、半径方向に（すなわち偏光器の円筒対称を基準にして半径方向）偏光された出射光を到来する非偏光光から形成することができる。ここで到来する光は偏光器上に入射して、偏光器を出射する。

しかし本発明は、接線方向または半径方向に偏光された光の形成に限定されるものではない。本発明はさらに、特定のリソグラフ適用に依存してワイヤエレメントのパターンが変化する偏光器も包含するものである。このようなパターンは、ソフトウエアアプリケーションまたは特注パターンを形成するための他の設計技術を使用することにより得ることができる。従って本発明は、所定のリソグラフ適用に対して専用のワイヤエレメントのパターンを有する紫外線偏光器を提供する。

図１は、本発明のワイヤグリッド偏光器の実施例を一般的に１００により示す。この実施例では、ワイヤグリッド偏光器上のワイヤエレメントのパターンが接線方向に偏光された光を形成するように構成されている。図示のようにワイヤエレメント１０５は線形であり、複数の群（例えば２つの群１２０と１２５）にパターン化されている。ここで各群は複数のワイヤエレメントからなり、群は光軸（ＯＡ）を中心にする円形パターンに配置されている。破線１１５はワイヤエレメント間の分割線を示す。この実施例では、一方の群のワイヤエレメントは隣接する他方の群のワイヤエレメントに対して平行ではない。例えば群１２０は群１２５に隣接し、群１２０内のワイヤエレメントは相互に平行であり、群１２５のワイヤエレメントに対しては平行でない。

図１の偏光器では、延長された複数の導電性ワイヤエレメント１０５が透明基板１１０により支持されている。ワイヤエレメントの寸法とワイヤエレメント配置の寸法は使用される波長により決められ、紫外線光の全スペクトルに対して、または広いスペクトルに対して適合されている。所定の群ではワイヤエレメントはすべてが同じ長さではなく、群のエッジに向かって比較的に短くなる。このようにして、各群１２０、１２５は適切な「エッジ」形状を有し、これらの群を、光軸ＯＡを中心にして放射状に円形パターンで配置することができる。

図２は、本発明のワイヤグリッド偏光器の別の実施例を一般的に２００により示す。この実施例では、ワイヤグリッド偏光器上のワイヤエレメント２５０のパターンが、半径方向に偏光された光を形成するように構成されている。図示のように、複数のワイヤエレメント２５０が基板２５５上に同心円でパターン化されている。ここでもワイヤエレメントの寸法、およびワイヤエレメント配置の寸法は使用される波長により決められ、紫外線の全スペクトルに対して、または広いスペクトルに対して最適化されている。

グリッドワイヤエレメントと基板
本発明の実施例では、ワイヤエレメントが基板上にパターン化されており、導電材料、例えば金属から形成される。ワイヤエレメントは例えばアルミニウム、銀または金から形成することができる。このようなワイヤエレメントは制限されるものではないが、ワイヤまたはマイクロワイヤを含む。

本発明の別の実施例では、偏光器の基板が紫外線光に対してすべて透過性であるかまたは部分的に透過性である。また制限されるものではないが基板は石英ガラス、フッ化カルシウム、サファイヤ、水晶およびフッ化マグネシウムのいずれかから形成される。本発明はこれに限定されるものではなく、他の厚さおよび材料を当業者であれば明白なように使用することができる。

ワイヤエレメント間の間隔は使用される波長により決められる。ワイヤエレメント間の間隔は同心円パターンのワイヤエレメントに対してピッチと称される。このピッチは２つの隣接するワイヤエレメント上の対応するポイント間の間隔である。

本発明の実施例では、ワイヤエレメントの間隔は光の波長よりも小さい。従ってピッチは平行ワイヤエレメントまたは同心円ワイヤエレメントに対して近似的に２００ｎｍより小さくすることができ、平行ワイヤエレメントに対しては隣接する平行でない２つのワイヤエレメント間の最も広いポイントにおいて２００ｎｍより小さい。実施例ではワイヤエレメントは、紫外線光の波長の１／１０と波長の２倍の間の間隔で配置されている。

ワイヤエレメント間の間隔は光の波長よりも小さくすることができるが、本発明はこれに制限されるものではない。ワイヤエレメント間の間隔、およびとりわけ平行なワイヤエレメントのゾーン間の境界は光の波長より大きくすることもできる。

実施例では、本発明の偏光器のワイヤエレメントが紫外線波長の約１／４の周期、または約４５ｎｍから９５ｎｍの間の周期を有する。しかしこれに制限されるものではなく、他の周期と波長を使用することもできる。

実施例ではピッチは近似的に光波長の１／１０または１００ｎｍである。比較的に長い周期（近似的に光波長の２倍より大きい）を備えるグリッドは回折格子として動作する。比較的に短い周期（近似的に光波長の１／２）のグリッドは偏光器として動作する。そして前記２つの周期の間の領域の周期のグリッドは回折格子として動作し、共振を基準にしての突然の変化または異常性を特徴とする。さらに偏光器のワイヤエレメントは規則的または等しい間隔を有する。択一的に本発明はこれに限定されるものではなく、不規則な間隔を有することもできる。

ワイヤエレメントが線形である本発明の実施例では、ワイヤエレメントは比較的長くて薄い。例えば各ワイヤエレメントは一般的に紫外線波長よりも長い長さを有することができる。実施例ではこのワイヤエレメントは近似的に４００ｎｍから６０ｎｍの間の長さを有するが、これより長くても良い。

付加的に各ワイヤエレメントはピッチの１０％から９０％の幅を有する。従ってこのワイヤエレメントは約１０ｎｍより大きな厚さを有し、約２００ｎｍよりは薄い。有利にはこのワイヤエレメントは近似的に２０ｎｍから１００ｎｍの間の厚さを有する。

ワイヤエレメント幅は偏光器デバイスの性能を所定の適用に対して最適化するように選択することができる。一般的にピッチを基準にしてワイヤエレメント幅を増大すると、平行偏光に対する反射性をほぼ１００％まで増大させることができる。一方、直交偏光に対する反射性も０％である理想値から増大してしまう。従って典型的には間隔に対するワイヤエレメント幅の比を大きくすると、透過光に対して高い吸光比が生じる。なぜなら平行偏光が透過しないからである。しかし直交偏光の一部が反射されるため高い効率は必要としない。逆に言えば一般的にピッチに対するワイヤエレメント幅の比が小さければ、反射されるビームに対して高い吸光比が生じるが、その際に高効率は必要ない。平行ビームに対する反射率と直交ビームに対する透過率の積として定義される全体効率は、ワイヤエレメント幅のワイヤエレメントピッチに対する比が４０％から６０％であるときに最高となる。

装置
本発明はさらに本発明の偏光器を使用する装置を提供する。例えば本発明の偏光器は紫外線光を偏光するための装置に使用することができる。このような装置は例えば紫外線スペクトル中に少なくとも１つの波長を有する光ビームを形成する光源を有し、さらに基板を有し、この基板は紫外線スペクトルにある光に対して透明であり、光ビーム路に配置されており、さらに基板上にリソグラフでエッチングされたワイヤエレメントのアレイを有する。ここで基板上にリソグラフでエッチングされたワイヤエレメントのアレイは偏光された出射光を形成する。

実施例では光源から放射された紫外線光は少なくとも２つの偏光方向を有し、ワイヤグリッド偏光器は第１偏光方向の光の大部分を反射し、第２偏光方向の光の大部分を透過する。

本発明はまた、ワイヤグリッド偏光器と照明器を有しており、光軸に沿った露光ビームを供給するための装置を提供する。ここで偏光器は紫外線光に対して透明な基板と、基板上にパターン化されたワイヤエレメントのアレイとを有し、ワイヤエレメントは紫外線光を偏光し、偏光器は照明器の瞳に偏光パターンを形成する。

本発明はさらに、光軸に沿って露光ビームを供給するための装置を提供するものであり、この装置はワイヤグリッド偏光器と投影光学系を有する。ここで偏光器は紫外線光に対して透明な基板と、基板上にパターン化されたワイヤエレメントのアレイを有し、ワイヤエレメントは紫外線光を偏光し、偏光器は投影光学系に偏光パターンを形成する。

本発明のワイヤグリッド偏光器はとりわけリソグラフの分野で有利であり、偏光された光を使用して、ウェハに比較的大きなコントラストを形成することができ、結果としてイメージングが改善される。一般的に偏光はリソグラフに４つの作用を及ぼす。（１）レチクルフィーチャの透過と回折、（２）投影光学系レンズでのフレネル損失、（３）レジスト表面でのフレンネル反射、そして（４）ベクトル干渉である。これら４つの要因を考慮すれば、リソグラフに対する偏光の理想的パターンを所定のレチクルおよび照明条件に対して変化することができる。

リソグラフに対する理想的偏光パターンを変化することができるが、接線方向の偏光がしばしば満足できる選択肢である。レチクルは反復構造を有し、通常は水平方向または垂直方向にマスクと交差する。この構造はまた別の配向でも同様にレチクル上で反復される。構造を反復することは、１次元の回折格子のように行うことができ、光を１つの行で少数の密なビームに回折する。これらのビームが共にウェハに戻された場合、良好に干渉するなら、良好なイメージが得られる。非常に小さなフューチャをイメージングするのがもっとも困難である。非常に小さなフューチャの構造を反復すると、２つの回折配列が投影光学系瞳の対向エッジに形成される。多くの場合、接線方向の偏光がこのようなフューチャのイメージングに有利である。

同様に半径方向の偏光も所定の状況では有利である。例えば半径方向の偏光を使用することによりフレンネル損失を最小にすることができ、このことは光強度をさらに大きくする。従って半径方向の偏光が有利であるのは、高い光強度が所望される場合である。別の実施例では半径方向の偏光は、既に良好なコントラストを有するフューチャをイメージングするのに有利である。一方、コントラストの制限されたフューチャ（通常は非常に小さなフューチャ）をイメージングする場合には接線方向の偏光が所望されることとなる。

従って本発明は、半導体ウェハ上の感光性材料の層を露光するための光学的リソグラフシステム３００を提供するものであり、このリソグラフシステムは本発明の偏光器を含む。図３に示すように、このようなシステム３００は有利には放射エネルギー源としての光源３１０、本発明のワイヤグリッド偏光器１００、マスク３２０，レンズ系のような投影光学系３３０，そして感光性材料の層３４０を含むウェハを有する。実施例では光源からの放射エネルギーは偏光器１００を通過し、偏光器は光を所定の方向に偏光し、偏光された放射エネルギービーム３１８をマスク３２０に出力する。偏光された放射エネルギービーム３１８はマスク３２０を通過し、層３３４０を所定のパターンで露光する。

リソグラフではしばしば瞳全体が使用されないことを述べておく。従って瞳の所定の領域だけが所定のリソグラフ適用では照明される。例えば「ダイポール」照明では瞳のエッジで２つの領域だけが照明される。従ってリソグラフシステムの所定の実施例では、偏光器から出射するビームのすべてが使用されるわけではない。例えば偏光のパターンは瞳全体にわたって均一ではなく、または不完全である。このような場合、所望の偏光を有する瞳の一部だけが使用される。

本発明の別の実施例では、ワイヤグリッド偏光器１００，２００が有することのできる円弧が非常に広い角度を許容する。これにより偏光パターンを、光学システムのいずれの瞳面にも導入することができる。グリッドワイヤエレメントは偏光器として動作するから、さらなる簡素化のために非偏光ビームを上流側で使用することができる。いずれの偏光パターンも、ワイヤエレメントのパターンを選択することにより簡単に達成される。

方法
導電性ワイヤエレメントのアレイを基板上に配置することは、複数の周知技術により実行することができる。例えば米国特許第４０４９９４４号および米国特許第４５１４４７９号には、ホログラム干渉リソグラフを使用して、微細な格子構造をフォトレジストに形成し、続いてイオンビームによりエッチングしてこの構造体を基礎となる金属フィルムに変換することが記載されている。Stenkampは（“Grid polarizer for the visible spectral region”, Proceedings of the SPIE, vol.2213, pp.288-296）、ダイレクトe-beamリソグラフを使用してレジストパターンを形成し、続いてリアクティブイオンエッチングによりパターンを金属フィルムに変換することを開示している。極紫外線リソグラフおよびＸ線リソグラフ、Ｘ線ホログラム干渉リソグラフを含む他の高解像度リソグラス技術もレジストパターンを形成するに使用することができる。他のエッチングメカニズムおよびリフトオフプロセスを含む他の技術もパターンをレジストから金属フィルムに変換するのに使用することができる。導電性ワイヤエレメントのアレイを形成するために使用される正確なプロセスは本発明に対しては重要でない。

本発明の偏光器の実施例を概略的に示す図である。 本発明の偏光器の別の実施例を概略的に示す図である。 本発明の偏光器を含むリソグラフシステムを概略的に示す図である。

Claims (23)

1. （ａ）紫外線スペクトル中に少なくとも１つの波長を有する光ビームを形成する光源と、
   （ｂ）マスクと、
   （ｃ）紫外線スペクトルの光に対して透明であり、前記光ビームの経路に配置され、該光ビームの入射面、および該入射面に垂直な中心軸を有する基板と、
   （ｄ）前記基板上にパターン化されたワイヤエレメントのアレイと、
   を有し、
   前記ワイヤエレメントのアレイは、互いに平行な複数のワイヤエレメントを有する複数の切頭くさび形状群に分割されており、当該ワイヤエレメントへの入射紫外線光を偏光して前記基板の前記中心軸に対して円の接線方向に偏光された光を出射し、
   前記複数の切頭くさび形状群は、前記基板の前記中心軸の周りに配置され、前記基板の中心部にパターン化されていない透過開口が形成されている、
   ことを特徴とするリソグラフィ装置。
2. 前記複数の切頭くさび形状群のそれぞれの前記ワイヤエレメントは、前記光ビームの波長の約１／４のピッチを有する、
   請求項１記載のリソグラフィ装置。
3. 前記複数の切頭くさび形状群のそれぞれの前記ワイヤエレメントは、約０．１λと２λの間のピッチを有し、ここでλは前記光ビームの波長である、
   請求項１記載のリソグラフィ装置。
4. 前記複数の切頭くさび形状群のそれぞれの前記ワイヤエレメントは約０．１λと０．５λの間のピッチを有し、ここでλは前記光ビームの波長である、
   請求項１記載のリソグラフィ装置。
5. 前記複数の切頭くさび形状群のそれぞれの前記ワイヤエレメントは、前記入射紫外線光の波長の約１／４のピッチを有する、
   請求項３記載のリソグラフィ装置。
6. 前記複数の切頭くさび形状群のそれぞれの前記ワイヤエレメントは、約４５ｎｍから９５ｎｍの間のピッチを有する、
   請求項３記載のリソグラフィ装置。
7. 前記ワイヤエレメントの厚さは、０．０４μｍから０．３μｍの間である、
   請求項１記載のリソグラフィ装置。
8. 前記基板は、石英ガラス、フッ化カルシウム、サファイヤ、水晶、または、フッ化マグネシウムを含む、
   請求項１記載のリソグラフィ装置。
9. 前記ワイヤエレメントへの入射紫外線光は、少なくとも２つの偏光方向を有し、前記ワイヤエレメントは、前記少なくとも２つの偏光方向のうちの第１の偏光方向の光の大部分を反射し、前記少なくとも２つの偏光方向のうちの第２の偏光方向の光の大部分を透過する、
   請求項１記載のリソグラフィ装置。
10. 光経路に沿って露光ビームを供給するためのリソグラフィ装置であって、
    （ａ）ワイヤグリッド偏光器と、
    （ｂ）瞳を備える照明器であって、前記瞳の少なくとも一部が前記ワイヤグリッド偏光器によって偏光された光を透過させる照明器と、
    （ｃ）マスクと、
    を有し、
    前記偏光器は、紫外線光に対して透明であり且つ該光ビームの入射面および該入射面に垂直な中心軸を有する基板、及び、前記基板上の前記中心軸の周りにパターン化された同心円状のワイヤエレメントのアレイを備え、前記基板の中心部にパターン化されていない透過開口が形成されており、
    前記ワイヤエレメントのアレイは、当該ワイヤエレメントへの入射紫外線光を偏光して前記基板の前記中心軸に対して円の半径方向に偏光された光を出射する、
    ことを特徴とするリソグラフィ装置。
11. 前記ワイヤエレメントの材料は、アルミニウム、銀または金を含む、
    請求項１記載のリソグラフィ装置。
12. 前記ワイヤエレメントへの入射紫外線光は、偏光されていない、請求項１記載のリソグラフィ装置。
13. 前記複数の切頭くさび形状群のそれぞれの前記ワイヤエレメントは、不定のピッチを有する、
    請求項１記載のリソグラフィ装置。
14. 前記複数の切頭くさび形状群のそれぞれの前記ワイヤエレメントは、一定のピッチを有する、
    請求項１記載のリソグラフィ装置。
15. 前記同心円状のワイヤエレメントは約０．１λと２λの間のピッチを有し、ここでλは前記露光ビームの波長である、
    請求項１０記載のリソグラフィ装置。
16. 前記同心円状のワイヤエレメントは、約４５ｎｍから９５ｎｍの間のピッチを有する、
    請求項１０記載のリソグラフィ装置。
17. 前記同心円状のワイヤエレメントは、前記露光ビームの波長の約１／４のピッチを有する、
    請求項１０記載のリソグラフィ装置。
18. 前記同心円状のワイヤエレメントは、不定のピッチを有する、
    請求項１０記載のリソグラフィ装置。
19. 前記同心円状のワイヤエレメントは、一定のピッチを有する、
    請求項１０記載のリソグラフィ装置。
20. 前記基板は、石英ガラス、フッ化カルシウム、サファイヤ、水晶、または、フッ化マグネシウムを含む、
    請求項１０記載のリソグラフィ装置。
21. 前記ワイヤエレメントの材料は、アルミニウム、銀または金を含む、
    請求項１０記載のリソグラフィ装置。
22. 前記ワイヤエレメントへの入射紫外線光は、少なくとも２つの偏光方向を有し、前記ワイヤエレメントは、前記少なくとも２つの偏光方向のうちの第１の偏光方向の光の大部分を反射し、前記少なくとも２つの偏光方向のうちの第２の偏光方向の光の大部分を透過する、
    請求項１０記載のリソグラフィ装置。
23. 前記ワイヤエレメントへの入射紫外線光は、偏光されていない、請求項１０記載のリソグラフィ装置。

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