JP4250893B2 - 電子装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、トランジスタ等の電子素子の製造方法、さらにはこれを備えた回路基板の製造方法、電子装置の製造方法、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及びこれらの製造方法に好適に用いられるパターニング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、トランジスタの製造方法としては、蒸着法（特開平８−２２８０３４、特開平８−２２８０３５、特開平２００１−９４１０７など）やインクジェット法（ＵＳＰ ６，０８７，１９６など）などにより、各構成要素を形成する方法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このようなトランジスタなどの電子素子の製造においては、各種構成要素に対する材料の多様化などにより、特に材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法の提供が望まれている。
そこで、本発明は、材料の選択自由度を高くした新たな製造方法を提供するとともに、この方法の実施に好適なパターニング装置を提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る第１の電子装置の製造方法は、複数の電子素子を基体上に備えた電子装置を製造する電子装置の製造方法であって、少なくとも一つの材料あるいは前記少なくとも一つの材料の前駆体を気化した状態で吐出するノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記ノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記ノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記ノズルと前記基体とを相対的に移動させつつ、気化した状態の前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体を前記基体に吐出して、複数の第１の薄膜を形成する第２の工程と、を含み、前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記ノズルから吐出された前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれており、前記第２の工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０ - １ Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていることを特徴とする。
本発明に係る第２の電子装置の製造方法は、複数の電子素子を基体上に備えた電子装置を製造する電子装置の製造方法であって、少なくとも一つの材料あるいは前記少なくとも一つの材料の前駆体を気化した状態で吐出するノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記ノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記ノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記ノズルと前記基体とを相対的に移動させ、気化した状態の前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体を前記基体の所定位置に吐出して、複数の第１の薄膜を形成する第２の工程を含み、前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記ノズルから吐出された前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれており、前記第２の工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０ - １ Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていることを特徴とする。
上記の電子装置の製造方法において、前記工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０ - ３ Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていてもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記複数の電子素子は、複数のダイオードあるいは複数のトランジスタであってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は、前記複数のトランジスタの各々のゲート電極を形成するための材料であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記少なくとも一つの材料は、半導体材料であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記少なくとも一つの材料は、絶縁材料であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記第２の工程において、前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は吐出の際に分子線状になることが好ましい。
上記の電子装置の製造方法において、前記第２の工程において、前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は、前記ノズルからキャリアガスと共に吐出されてもよい。
本発明に係る第３の電子装置の製造方法は、複数の電子素子を基体上に備えた電子装置の製造方法であって、第１の材料あるいは前記第１の材料の前駆体及び第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体を気化した状態で吐出する複数のノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記複数のノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記複数のノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記複数のノズルと前記基体とを相対的に移動させつつ、前記第１の材料あるいは前記第１の 材料の前駆体及び前記第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体を複数のノズルから同時に吐出することにより、前記基体上に、各々が前記第１の材料及び前記第２の材料を含む複数の薄膜を形成する第２の工程を含み、前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数のノズルから吐出された前記第１の材料あるいは前記第１の材料の前駆体及び前記第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、前記複数の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれることを特徴とする。
上記の電子装置の製造方法において、前記第２の工程は、前記基体が１．３３３２２×１０ -1 Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置された状態で行われてもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記第１の材料及び前記第２の材料は前記複数の薄膜の各々においてそれぞれホスト材料及びゲスト材料として機能するようにしてもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記複数の電子素子の各々は、有機エレクトロルミネッセンス素子であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層は前記第１の材料と前記第２の材料とを含み、前記第１の材料及び前記第２の材料は、それぞれ、発光物質と、前記発光物質のホストとして機能するようにしてもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記電子装置は、電気光学装置であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記電子装置は、液晶装置、電気泳動装置及び有機エレクトロルミネッセンス装置のいずれかであってもよい。
本発明に係る電子素子の製造方法は、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つの材料を備えた電子素子の製造方法であって、実質的に真空に調整された真空雰囲気中に基体を配置し、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つをノズルから前記真空雰囲気中に吐出し、前記基体上の所定位置に前記少なくとも一つの材料を配置することを特徴としている。
【０００５】
この電子素子の製造方法によれば、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つあるいはこれら材料の前駆体のうちの少なくとも一つをノズルから真空雰囲気中に吐出するので、前記材料あるいは前駆体を例えば気化した状態で、かつ理想的には分子線状に吐出することができる。したがって、前記材料あるいは前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、前記材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【０００６】
前記の電子素子の製造方法においては、電子素子がダイオードであるのが好ましい。
このようにすれば、ダイオードの形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【０００７】
前記の電子素子の製造方法においては、電子素子がトランジスタであるのが好ましい。
このようにすれば、トランジスタの形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【０００８】
前記の電子素子の製造方法においては、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つがゲート電極形成用の材料であり、基体上の所定位置に該材料を配置することによりゲート電極を形成するのが好ましい。
このようにすれば、ゲート電極の形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【０００９】
前記の電子素子の製造方法においては、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つが半導体材料であり、基体上の所定位置に該材料を配置することにより半導体層を形成するのが好ましい。
このようにすれば、半導体層の形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【００１０】
前記の電子素子の製造方法においては、前記半導体材料が有機半導体材料であるのが好ましい。
このようにすれば、半導体層の形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【００１１】
前記の電子素子の製造方法においては、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つが絶縁材料であり、基体上の所定位置に該材料を配置することによりゲート絶縁膜を形成するのが好ましい。
このようにすれば、ゲート絶縁膜の形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【００１２】
本発明の回路基板の製造方法では、前記の電子素子の製造方法によって電子素子を複数形成することを特徴としている。
この回路基板の製造方法によれば、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【００１３】
本発明の電子装置の製造方法では、前記の電子素子の製造方法を用いることを特徴としている。
この電子装置の製造方法によれば、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【００１４】
本発明の電気光学装置の製造方法では、前記の電子素子の製造方法を用いることを特徴としている。
この電気光学装置の製造方法によれば、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【００１５】
前記の電気光学装置の製造方法では、この電気光学装置が液晶素子を備えてなるのが好ましい。
このようにすれば、液晶素子を備えてなる電気光学装置の、材料の選択自由度を高めることができる。
【００１６】
前記の電気光学装置の製造方法では、この電気光学装置が電気泳動素子を備えてなるのが好ましい。
このようにすれば、電気泳動素子を備えてなる電気光学装置の、材料の選択自由度を高めることができる。
【００１７】
前記の電気光学装置の製造方法では、この電気光学装置が有機ＥＬ素子を備えてなるのが好ましい。
このようにすれば、有機ＥＬ素子を備えてなる電気光学装置の、材料の選択自由度を高めることができる。
【００１８】
前記の、有機ＥＬ素子を備えてなる電気光学装置の製造方法では、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つが有機ＥＬ素子における発光層、正孔注入層、正孔輸送層のうちの少なくとも一つの形成材料であり、基体上の所定位置に該材料を配置することにより有機ＥＬ素子を形成するのが好ましい。
このようにすれば、発光層、正孔注入層、正孔輸送層のうちの少なくとも一つの形成材料について、その選択自由度を高めることができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置では、前記の電気光学装置の製造方法によって得られることを特徴としている。
この電気光学装置によれば、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つあるいはこれら材料の前駆体のうちの少なくとも一つが、ノズルから真空雰囲気中に吐出されることにより、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つの材料が基体上の所定位置に配置されてなるので、前記材料あるいは前駆体が特に制限されることなく自由に選択して用いられることにより、材料の選択自由度が高いものとなる。
【００２０】
本発明の電子機器では、前記の電気光学装置を表示手段として備えてなることを特徴としている。
この電子機器によれば、表示手段とする電気光学装置が、これを製造する際にその材料の選択自由度が高いものとなる。
【００２１】
本発明のパターニング装置では、実質的に真空に調整される真空チャンバーと、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つの材料を吐出するノズルと、パターニングされる基体を載置するステージとを備えてなり、前記ノズルとステージ上の基体との位置を相対的に移動させる可動機構を備えたことを特徴としている。
このパターニング装置によれば、真空チャンバー内に材料を吐出することにより、この材料を容易にかつ安定して吐出することができる。したがって、可動機構によってノズルと基体との相対的な位置を移動させつつ、前記材料あるいはその前駆体を基体上に射出することにより、マスクを特に必要とすることなくパターニングを行うことができ、また、前記材料あるいは前駆体として特に制限されることなくこれを自由に選択して用いることができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。
図１は本発明のパターニング装置の概略構成を示す図であり、図１中符号１はパターニング装置である。このパターニング装置１は、真空チャンバー２と、この真空チャンバー２に取り付けられたノズル３と、真空チャンバー２内に設けられたステージ４とを備えて構成されたものである。
【００２３】
真空チャンバー２は、配管５を介して真空装置６に接続されたもので、その内部空間にステージ４を配設し、また被パターニング体となる基体Ｓの出し入れを行うためのドア（図示せず）を気密に取り付けたものである。なお、配管５は、その端部が真空チャンバー２内に開口しており、これによって後述する真空装置の作動により、真空チャンバー２内を排気して高真空雰囲気にし得るようになっている。
【００２４】
真空装置６は、分子ターボポンプやロータリーポンプなどが組み合わされたことによってチャンバー２内を高真空度に調整可能となるよう構成されたものである。ここで、真空チャンバー２内は、真空装置６によって好ましくは１０-3ｔｏｒｒ（１．３３３２２×１０-1Ｐａ）以下、より好ましくは１０-5ｔｏｒｒ（１．３３３２２×１０-3Ｐａ）以下の高真空雰囲気に調整されるようになっている。真空雰囲気を１０-3ｔｏｒｒ以下にすれば、例えば吐出されにくい材料についてもこれを容易に吐出することができ、１０-5ｔｏｒｒ以下にすれば、さらに多くの種類の材料を吐出可能にできるとともに、吐出する材料を気化させてこれを分子線状にし易くすることができる。なお、この真空装置６については、この装置を構成するポンプの振動が真空チャンバー２内に伝播しないよう、これらポンプを真空チャンバー２から十分に離しておくか、あるいはポンプ等に除振機能を付加させておくのが好ましい。
【００２５】
ノズル３は、ノズル孔３ａを形成した先端側が真空チャンバー２内に配置され、その後端側が真空チャンバー２の外側にて材料供給源となる材料供給室７に接続されたもので、さらにこの材料供給室７にはキャリアガス供給源８が接続されている。材料供給室７は、パターニング材料を収納保持するためのもので、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層や電子輸送層、正孔輸送層などの形成材料を、セルやルツボなどの保持具（図示せず）に保持した状態でこれを収納するものである。この材料供給室７には、前記保持具内に保持された形成材料を加熱してこれを液化させ、あるいは気化させるための加熱手段９が設けられている。加熱手段９としては、一般的な電気ヒータやＹＡＧレーザ等のレーザ、高周波加熱装置などが採用可能であり、材料に応じて、すなわち常温で液体か固体か、さらにはその沸点の高さなど気化し易さの度合いに応じて適宜に選択される。
【００２６】
キャリアガス供給源８は、主にヘリウム、アルゴン、窒素などの不活性ガスをキャリアガスとして材料供給室７に圧送するものである。なお、材料によっては、これと反応する反応性ガスをキャリアガスとして材料供給室７に圧送するようにしてもよい。材料供給室７に圧送されるキャリアガスは、材料供給源７内にて液化しあるいは気化している材料を後述する吐出機構側に同伴するものである。ここで、材料供給室７内での材料の調製、すなわち材料を液体の状態にするか気体の状態にするかといった調製については、後述するノズル３の吐出機構との関係で適宜に選択され、前記加熱手段９による加熱の度合いなどが決定されるようになっている。なお、ノズル３の吐出機構によっては、キャリアガス供給源８からのキャリアガスを使用することなく、材料を真空チャンバー２内に吐出するようにしてもよい。
【００２７】
ノズル３には、その先端部に吐出機構１０が設けられている。この吐出機構１０は、特に限定されることなく種々のタイプのものが使用可能である。例えば、一般的なメカニカルシャッターによる機構や、さらには帯電制御型、加圧振動型といった連続方式による機構、電気機械変換式（いわゆるピエゾタイプ）、電気熱変換方式、静電吸引方式といったオンデマンド方式による機構などが採用可能である。
【００２８】
ここで、メカニカルシャッターによる機構とは、ノズル孔３ａにシャッター（図示せず）を設けておき、これを機械的に開閉することで、キャリアガスに同伴され圧送されてきた材料を間欠的（パルス的）に吐出するようにしたものである。なお、キャリアガスを用いることなく、ノズル孔３ａの外側となる真空チャンバー２内とノズル３内との圧力差により、シャッターの開閉に伴ってノズル３内の材料を自発的にノズル孔３ａより吐出させるような構成としてもよい。
【００２９】
帯電制御型とは、送られてきた材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御してノズル孔３ａから吐出させるようにしたものである。また、加圧振動型とは、材料に３０ｋｇ／ｃｍ2 程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるもので、制御電圧をかけない場合に材料が直進してノズル孔３ａを吐出し、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料を飛散させてノズル孔３ａを通過しないようにしたものである。
【００３０】
また、電気機械変換方式とは、ピエゾ素子がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出してノズル孔３ａから吐出させるようにしたものである。ここで、材料を貯留する空間については、例えば材料供給室７の内部空間に連通する微小な材料貯留空間を形成するようにすればよい。
【００３１】
また、電気熱変換方式とは、一般には材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるようにしたものである。なお、本発明においては、これを加熱手段として用いることができる。
静電吸引方式とは、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すようにしたものである。
なお、これら帯電制御型、加圧振動型、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式といった各機構については、先のメカニカルシャッターによる機構を併用して用いることにより、材料の吐出制御をより確実に行うようにし、または間欠的な吐出を確実に行うようにしてもよい。
【００３２】
ステージ４は、前記ノズル孔３ａの直下に配置されたもので、例えば後述するように有機エレクトロルミネッセンス素子等からなる電気光学装置作製用の基体Ｓを保持固定するものである。このステージ４には、保持固定した基体Ｓを前記ノズル孔３ａに対してＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向に移動可能にする可動機構１１が設けられている。すなわち、この可動機構１１は、ノズル孔３ａに対して基体Ｓをその鉛直方向（Ｚ方向）に移動可能かつ位置決めするＺ可動部（図示せず）と、ステージ４をノズル孔３ａに対して水平方向（Ｘ方向、Ｙ方向）にそれぞれ移動させかつ位置決めするＸ可動部（図示せず）及びＹ可動部（図示せず）とを備えてなるもので、これらの可動部の動作をそれぞれ制御部（図示せず）で設定したとおりに制御できるように構成されたものである。なお、これらＸ可動部、Ｙ可動部及びＺ可動部は、例えばリニアモータによって構成されたものとなっている。
また、このステージ４には、その載置面側に水冷式等の温度調整手段（図示せず）が設けられており、これによってステージ４上の基体Ｓを所望温度に調整できるようになっている。
【００３３】
次に、このような構成のパターニング装置１によるパターニングを、電子素子の製造に適用した例について説明する。なお、ここで説明する例は、電子素子としての薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や容量素子の製造方法と、これら電子素子を複数形成してなる回路基板（本発明においては電子装置ともなる）の製造方法についての一例であり、具体的には、図２に示すように同一基板上にドライバー回路と画素部とを一体形成してなる液晶装置（電気光学装置）用のアクティブマトリクス型回路基板の製造方法についてである。ここで、図２においては、ドライバー回路を構成する基本回路としてＣＭＯＳ回路を示し、画素薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）としてダブルゲート構造のＴＦＴを示している。
【００３４】
まず、この製造方法によって得られる回路基板（電子装置）について、図２を参照してその概略構成を説明する。
図２において符号１０１は耐熱性を有する基板であり、この基板１０１には、石英基板、シリコン基板、セラミックス基板、金属基板（代表的にはステンレス基板）等が用いられている。ただし、いずれの基板が用いられていても、必要に応じて下地膜（好ましくは珪素を主成分とする絶縁膜）が設けられる。符号１０２は下地膜として設けられた酸化珪素膜であり、その上にドライバーＴＦＴの活性層、画素ＴＦＴの活性層および保持容量（容量素子）の下部電極となる半導体層が形成されている。
【００３５】
ドライバーＴＦＴの活性層は、Ｎチャネル型ＴＦＴ（以下、ＮＴＦＴという）のソース領域１０３、ドレイン領域１０４、ＬＤＤ（ライトドープトドレイン）領域１０５およびチャネル形成領域１０６、並びにＰチャネル型ＴＦＴ（以下、ＰＴＦＴという）のソース領域１０７、ドレイン領域１０８およびチャネル形成領域１０９で形成されている。
また、画素ＴＦＴ（ここではＮＴＦＴを用いる。）の活性層は、ソース領域１１０、ドレイン領域１１１、ＬＤＤ領域１１２ａ、１１２ｂおよびチャネル形成領域１１３ａ、１１３ｂで形成されている。さらに、ドレイン領域１１１から延長された半導体層が、保持容量の下部電極１１４として用いられている。
【００３６】
なお、図２では下部電極１１４が画素ＴＦＴのドレイン領域１１１と直接的に接続されているが、間接的に接続させて下部電極１１４とドレイン領域１１１とが電気的に接続するような構造としてもよい。この下部電極１１４には、半導体層に対して公知のドープ元素が添加されている。そして、活性層および保持容量の下部電極を覆ってゲート絶縁膜が形成されている。また、本例では、保持容量の誘電体１１８が、画素ＴＦＴのゲート絶縁膜１１７よりも薄く形成される。
【００３７】
このように、保持容量の下部電極１１４にドープ元素を含有させて下部電極１１４の低抵抗化を図り、さらに保持容量の誘電体を薄くすることで、容量を形成する面積を大きくすることなくキャパシティを稼ぐことができる。
また、ここでは、画素ＴＦＴのゲート絶縁膜１１７とドライバーＴＦＴのゲート絶縁膜１１５、１１６については同じ膜厚の同一絶縁膜としたが、例えば、回路特性に応じて同一基板上に異なるゲート絶縁膜を有するＴＦＴが少なくとも二種類以上存在する構成としてもよい。
【００３８】
ゲート絶縁膜１１５、１１６、１１７の上にはドライバーＴＦＴのゲート配線（ゲート電極）１１９、１２０と、画素ＴＦＴのゲート配線（ゲート電極）１２１が形成されている。また、同時に保持容量の誘電体１１８の上には保持容量の上部電極１２２が形成されており、これによって前記下部電極１１４、誘電体１１８、上部電極１２２により、保持電極（容量素子）が構成されている。ゲート配線１１９〜１２１および保持容量の上部電極１２２の形成材料としては、８００〜１１５０℃（好ましくは９００〜１１００℃）の温度に耐える耐熱性を有する導電膜が用いられている。具体的には、導電性を有する珪素膜（例えばリンドープシリコン膜、ボロンドープシリコン膜等）や金属膜（例えばタングステン膜、タンタル膜、モリブデン膜、チタン膜等）、さらには前記金属膜をシリサイド化したシリサイド膜、窒化した窒化膜（窒化タンタル膜、窒化タングステン膜、窒化チタン膜等）などが用いられ、これらは単層構造としても複数種のものを組み合わせた積層構造としてもよい。前記金属膜を用いる場合には、金属膜の酸化を防止するために珪素膜との積層構造とすることが望ましい。また、酸化防止という意味では、金属膜を窒化珪素膜で覆った構造が有効である。図２では、窒化珪素膜１２３を設けてゲート配線１１９〜１２１及び上部電極１２２の酸化を防止している。
【００３９】
また、符号１２４は第１層間絶縁膜であり、珪素を含む絶縁膜（単層または積層）で形成されている。珪素を含む絶縁膜としては、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜（酸素よりも窒素の含有量の方が多い）、窒化酸化珪素膜（窒素よりも酸素の含有量の方が多い）が用いられる。この第１層間絶縁膜１２４にはコンタクトホールが設けられており、ドライバーＴＦＴのソース配線（ソース電極）１２５、１２６、ドレイン配線（ドレイン電極）１２７、および画素ＴＦＴのソース配線（ソース電極）１２８、ドレイン配線（ドレイン電極）１２９が形成されている。その上にはパッシベーション膜１３０、第２層間絶縁膜１３１が形成され、さらにその上にはブラックマスク（遮光膜）１３２が形成されている。また、ブラックマスク１３２の上には第３層間絶縁膜１３３が形成され、コンタクトホールを設けた後、画素電極１３４が形成されている。
【００４０】
なお、図２では第２層間絶縁膜１３１上にはブラックマスク（遮光膜）１３２が形成されているが、特に限定されず、必要に応じて形成すればよい。例えば、対向基板に遮光膜を設ける構成としてもよいし、各ＴＦＴの下にゲート配線と同様の材料を用いた遮光膜を設けるような構造としてもよい。
第２層間絶縁膜１３１や第３層間絶縁膜１３３としては、比誘電率の小さい樹脂膜が好適に用いられ、具体的には、ポリイミド膜、アクリル膜、ポリアミド膜、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）膜などが用いられる。
【００４１】
また、画素電極１３４としては、透過型の液晶装置を作製するのであればＩＴＯ膜に代表される透明導電膜が、反射型の液晶装置を作製するのであればアルミニウム膜に代表される反射率の高い金属膜が用いられる。
なお、図２では画素電極１３４がドレイン電極１２９を介して画素ＴＦＴのドレイン領域１１１と電気的に接続されているが、画素電極１３４とドレイン領域１１１とが直接的に接続するような構造としてもよい。
【００４２】
次に、このような構成の回路基板（電子装置）の製造方法を説明する。なお、基本的には図２に示した回路基板を形成するものの、各構成要素の符号については、説明の便宜上、図２に示した符号とは異なる符号を用いて説明する。
まず、図３（ａ）に示すように基板として石英基板２０１を用意し、その上に２０ｎｍ厚の酸化珪素膜（下地膜）２０２と非晶質珪素膜（図示せず）とを大気開放しないまま連続的に成膜する。こうすることで非晶質珪素膜の下表面に大気中に含まれるボロン等の不純物が吸着することを防ぐことができる。なお、本例では非晶質珪素（アモルファスシリコン）膜を用いたが、他の半導体膜であっても構わない。微結晶質珪素（マイクロクリスタルシリコン）膜でもよいし、非晶質シリコンゲルマニウム膜でもよい。また、下地膜及び半導体膜の形成方法としては、ＰＣＶＤ法、ＬＰＣＶＤ法またはスパッタ法等を用いることができるが、図１に示したパターニング装置１を用いた成膜法を採用することもできる。
【００４３】
次に、非晶質珪素膜の結晶化を行う。本例では結晶化手段として、特開平９−３１２２６０号公報に記載された技術を用いた。同公報に記載された技術は、珪素膜の結晶化を助長する触媒元素としてニッケル、コバルト、パラジウム、ゲルマニウム、白金、鉄、銅から選ばれた元素を用いている。すなわち、触媒元素としてニッケルを選択し、非晶質珪素膜上にニッケルを含んだ層を形成し、５５０℃、１４時間の熱処理を行って結晶化した。そして、形成された結晶質珪素（ポリシリコン）膜をパターニングして、ドライバーＴＦＴの半導体層２０３、画素ＴＦＴの半導体層２０４を形成した。
なお、ドライバーＴＦＴおよび画素ＴＦＴの半導体層を形成する前後に、結晶質珪素膜に対してＴＦＴのしきい値電圧を制御するための不純物元素（リンまたはボロン）を添加してもよい。この工程はＮＴＦＴまたはＰＴＦＴのみに行ってもよいし、双方に行ってもよい。
【００４４】
次いで、図３（ｂ）に示すように、活性層２０３ａ、２０４ａの上にレジストマスク２０５ａ、２０５ｂを形成し、ドープ元素としてリンの添加を行う。添加するリンの濃度は、５×１０18〜１×１０20ａｔｏｍｓ／ｃｍ3 とするのが好ましい。このようにして、リンが添加されてなる領域（以下、リンドープ領域という）２０３ｂ、２０４ｂが形成される。
レジストマスク２０５ａについては、後にドライバーＴＦＴのソース領域またはドレイン領域となる領域の一部（または全部）を露出させるようにして形成配置する。また、同様にレジストマスク２０５ｂについても、後に画素ＴＦＴのソース領域またはドレイン領域の一部（または全部）を露出させるようにして形成配置する。このとき、保持容量の下部電極となる領域にはレジストマスクを配置しないため、リンが全面的に添加され、リンドープ領域２０４ｂとなる。
なお、レジストマスク２０５ａ、２０５ｂを形成する前に活性層表面を酸化しておくことが好ましい。酸化珪素膜を設けておくことで、活性層とレジストマスクとの密着性を高められる他、活性層が有機物で汚染されることを防げる。
【００４５】
次に、図３（ｃ）に示すようにレジストマスク２０５ａ、２０５ｂを除去し、５００〜６５０℃の熱処理を２〜１６時間加え、珪素膜の結晶化に用いた触媒元素のゲッタリングを行う。ゲッタリング作用を奏するためには熱履歴の最高温度から±５０℃程度の温度が必要であるが、結晶化のための熱処理が５５０〜６００℃で行われるため、５００〜６５０℃の熱処理で十分にゲッタリング作用を奏することができる。
本例では、６００℃、８時間の熱処理を加えることにより、触媒元素（ニッケル）を矢印方向に移動させ、リンドープ領域２０３ｂ、２０４ｂに含まれるリンによりゲッタリングして捕獲した。このようにしてゲッタリング領域（リンドープ領域２０３ｂ、２０４ｂに対応する領域）が形成され、また、これによって２０３ａ、２０４ａで示した領域に含まれるニッケルの濃度は十分に低減される。なお、このゲッタリング領域は、保持容量の下部電極として残り、ドライバーＴＦＴ及び画素ＴＦＴのソース領域またはドレイン領域の一部または全部として残る。
【００４６】
次に、図３（ｄ）に示すようにゲート絶縁膜２０６を形成する。このゲート絶縁膜２０６の形成方法としては、図１に示したパターニング装置１を用いる方法が好適に採用される。
すなわち、前記基板２０１を図１に示した真空チャンバー２内に入れ上面側を上に向けた状態でステージ４上に載置し、さらにここに保持固定するとともに、真空装置１４を作動させて真空チャンバー４内を真空雰囲気としておく。また、必要に応じて温度調整手段（図示せず）でステージ４上の基板２０１を所望温度（ノズル孔３ａから例えば気化した状態で射出されてきた形成材料を十分に冷却して、液化あるいは固化し得る温度）に調整しておく。また、予め材料供給室７内の保持具に保持させておいたゲート絶縁膜２０６の形成材料を加熱手段９によって所定温度にまで加熱しておく。
【００４７】
ここで、ゲート絶縁膜２０６の形成材料としては、酸化珪素が好適に用いられるが、酸化珪素に加えて窒化珪素を用いるようにしてもよい。その場合、酸化珪素からなる膜の上に窒化珪素からなる膜を設けた積層構造としてもよく、また、酸化珪素に窒素を添加した酸化窒化珪素膜としてもよい。
このような形成材料を前述したように加熱手段９で所定温度にまで加熱したら、キャリアガス供給源８からヘリウム等のキャリアガスを材料供給室７に導入するとともに、前記吐出機構１０を作動させて形成材料をキャリアガスに同伴させた状態でノズル孔３ａから真空チャンバー２内に吐出させる。すると、ほぼ常圧にあるノズル３内より十分に低い圧力雰囲気である真空チャンバー２内に形成材料が吐出されることにより、この形成材料は気化した状態で吐出されることになる。なお、真空チャンバー２が特に高い真空度にある理想的な場合には、形成材料が分子線状に吐出されることもある。
【００４８】
したがって、制御部によって可動機構１１の動作を制御し、これによりノズル孔３ａと基板２０１との相対的な位置関係を予め設定したとおりに移動させることにより、この形成材料を基板２０１上の所定位置に所望量射出することができる。このようにして形成材料を基板２０１上に射出すると、この形成材料は基板２０１の温度にまで冷却されることにより、固化してここに固定される。なお、ゲート絶縁膜２０６の形成については、パターニング装置１による方法に代えて、プラズマＣＶＤ法やスパッタ法で行うようにしてもよい。このようにして形成されるゲート絶縁膜２０６は、画素ＴＦＴのゲート絶縁膜として機能するものとなり、膜厚は例えば５０〜２００ｎｍ程度に形成される。
【００４９】
ゲート絶縁膜２０６を形成したら、これを真空チャンバー２から取り出し、図３（ｅ）に示すようレジストマスク（図示せず）を設けてゲート絶縁膜を選択的に除去する。このとき、画素ＴＦＴの上にゲート絶縁膜２０６を残し、ドライバーＴＦＴおよび保持容量となる領域の上は除去する。
次いで、８００〜１１５０℃（好ましくは９００〜１１００℃）の温度で１５分〜８時間（好ましくは３０分〜２時間）の熱処理工程を、酸化性雰囲気下で行う（熱酸化工程）。この熱処理工程では、活性層の結晶粒内の欠陥等が修復されるという効果が得られるため、極めて良好な結晶性を有する結晶質珪素膜が形成される。
なお、酸化性雰囲気としては、ドライ酸素雰囲気でもウェット酸素雰囲気でもよいし、酸素雰囲気中にハロゲン元素を含ませた雰囲気でもよい。ハロゲン元素を含ませた雰囲気による熱酸化工程とした場合、ニッケルを除去する効果も期待できるので有効である。
【００５０】
こうして熱酸化工程を行うことにより保持容量となる領域において露出した半導体層の表面には、図４（ａ）に示すように厚さ５〜５０ｎｍ程度の酸化珪素膜（熱酸化膜）２０７が形成される。最終的に、酸化珪素膜２０７は保持容量の誘電体として機能し、酸化珪素膜２０６は画素ＴＦＴ及びドライバーＴＦＴのゲート絶縁膜として機能する。
なお、簡略化のため図示しないが、画素ＴＦＴ及びドライバーＴＦＴに残存した酸化珪素膜からなるゲート絶縁膜２０６と、その下の半導体層２０３、２０４との界面においても酸化反応が進行する。そのため、最終的に画素ＴＦＴのゲート絶縁膜２０６の膜厚は５０〜２００ｎｍ程度となる。
【００５１】
こうして熱酸化工程を終了したら、次に、図４（ｂ）に示すようにドライバーＴＦＴのゲート配線（ゲート電極）２０９（ＮＴＦＴ側）、２１０（ＰＴＦＴ側）、画素ＴＦＴのゲート配線（ゲート電極）２１１、保持容量の上部配線（上部電極）２１２を形成する。これらの各配線（電極）の形成についても、図１に示したパターニング装置１を用いる方法が好適に採用される。
すなわち、酸化珪素膜２０７を形成した基板２０１を図１に示した真空チャンバー２内に入れてステージ４上に載置し、先にゲート絶縁膜２０６を形成した場合と同様にして配線（電極）材料、すなわち導電材料をステージ４上の基板２０１に吐出し、各ゲート配線２０９〜２１１、上部配線２１２を形成する。このとき、制御部によって可動機構１１の動作を制御し、ノズル孔３ａと基板２０１との相対的な位置関係を予め設定したとおりに移動させることにより、各配線材料を基板２０１上の所定位置に所望量射出することができ、したがってフォトリソグラフィー工程等を必要とすることなく、各配線のパターニングを行ってゲート配線２０９〜２１１、上部配線２１２をそれぞれ形成することができる。
【００５２】
このようにして各配線が形成され、特に上部配線２１２が形成されることにより、この上部配線２１２と前記のリンドープ領域２０４ｂ、および酸化珪素膜２０７とから、本発明の電子素子となる容量素子が形成される。
配線（電極）材料、すなわち導電材料としては、導電性を有する珪素（例えばリンドープシリコン、ボロンドープシリコン等）や金属（例えばタングステン、タンタル、モリブデン、チタン等）、さらには該金属をシリサイド化した金属シリサイド、窒化した窒化金属（窒化タンタル、窒化タングステン、窒化チタン等）などが用いられる。また、これら材料は、単一の材料からなる単層構造、あるいは複数種の材料からなる積層構造のいずれにも形成可能である。
【００５３】
なお、これらゲート配線２０９〜２１１、上部配線２１２に形成にあたっても、減圧熱ＣＶＤ法等を採用することができる。
また、ゲート配線２１１は画素ＴＦＴがダブルゲート構造であるためゲート配線を２本記載しているが、実際には同一配線である。
また、ゲート配線２０９〜２１１および保持容量の上部配線２１２として、下層から珪素膜／窒化タングステン膜／タングステン膜（または下層から珪素膜／タングステンシリサイド膜）という積層膜を用いることもでき、これ以外の導電膜を用いることもできる。
【００５４】
次いで、ゲート配線２０９〜２１１および保持容量の上部配線２１２を覆って２５ｎｍ程度の厚さの窒化珪素膜２１３を形成する。この窒化珪素膜２１３の形成についても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能であり、また、ＣＶＤ法等の従来からの方法も採用可能である。この窒化珪素膜２１３は、ゲート配線２０９〜２１１および保持容量の上部配線２１２の酸化を防ぐと同時に、後に珪素膜でなるサイドウォールを除去する際にエッチングストッパーとして機能するものとなる。
このとき、窒化珪素膜２１３を形成する前処理として、水素を含むガス（例えばアンモニアガス）を用いたプラズマ処理を行うことは有効である。この前処理によりプラズマによって活性化した（励起した）水素が活性層（半導体層）内に閉じこめられるため、効果的に水素終端が行われる。
さらに、水素を含むガスに加えて亜酸化窒素ガスを加えると、発生した水分によって被処理体の表面が洗浄され、特に大気中に含まれるボロン等による汚染を効果的に防ぐことができる。
【００５５】
次いで、非晶質珪素膜（図示せず）を形成し、塩素系ガスによる異方性エッチングを行って図４（ｃ）に示すようにサイドウォール２１４〜２１８を形成する。サイドウォール２１４〜２１８を形成したら、半導体層２０３、２０４に対し、ドープ元素としてリンの添加を行う。この時、ゲート配線２０９〜２１１、保持容量の上部電極２１２およびサイドウォール２１４〜２１８がマスクとなり、自己整合的に不純物領域２１９〜２２３が形成される。不純物領域２１９〜２２３に添加するリンの濃度については、５×１０19〜１×１０21ａｔｏｍｓ／ｃｍ3 となるように調節する。なお、リンの添加工程は、質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いてもよいし、質量分離を行わないプラズマドーピング法を用いてもよい。また、本例ではサイドウォールを用いて不純物の添加を行ったが特に限定されず、サイドウォールに代えて、フォトマスクを用いたレジストマスクを用いてもよい。
【００５６】
次いで、図４（ｄ）に示すようにサイドウォール２１４〜２１８を除去し、再びリンの添加工程を行う。この工程は先のリンの添加工程よりも低いドーズ量で添加する。こうして先にはサイドウォール２１４〜２１８がマスクとなってリンが添加されなかった領域に、低濃度不純物領域が形成される。この低濃度不純物領域に添加されるリンの濃度は、５×１０17〜５×１０18ａｔｏｍｓ／ｃｍ3 となるように調節する。
また、図４（ｃ）に示した工程と同様に、リンの添加工程は質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いてもよいし、質量分離を行わないプラズマドーピング法を用いてもよい。
【００５７】
この工程によりＣＭＯＳ回路を形成するＮＴＦＴのソース領域２２４、ＬＤＤ領域２２５、チャネル形成領域２２６が形成される。また、画素ＴＦＴのソース領域２２７、ドレイン領域２２８、ＬＤＤ領域２２９ａ、２２９ｂ、チャネル形成領域２３０ａ、２３０ｂが形成され。さらに、保持容量の下部電極２３１が形成される。また、ＣＭＯＳ回路のＰＴＦＴとなる領域にもＮＴＦＴと同様に低濃度不純物領域２３２が形成される。
【００５８】
次いで、図５（ａ）に示すようにＣＭＯＳ回路のＰＴＦＴとなる領域以外をレジストマスク２３３、２３４で覆い、ドープ元素としてボロンの添加を行う。この工程では、既に添加されているリンより高濃度の不純物領域を形成するようなドーズ量で添加する。具体的には、１×１０20〜３×１０21ａｔｏｍｓ／ｃｍ3 の濃度でボロンが添加されるように調節する。その結果、ＰＴＦＴとなる領域に形成されていたＮ型導電性を呈する不純物領域は、全てボロンによって導電型が反転し、Ｐ型導電性を呈する不純物領域となる。
もちろん、ボロンの工程も質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いてもよいし、質量分離を行わないプラズマドーピング法を用いてもよい。また、加速電圧やドーズ量の条件等は実施者が最適値を設定すればよい。
【００５９】
この工程により、ＣＭＯＳ回路を構成するＰＴＦＴのソース領域２３５、ドレイン領域２３６、チャネル形成領域２３７が形成される。また、ＣＭＯＳ回路のＮＴＦＴのドレイン領域２３８が形成される。
なお、前記ドーピング順序は本例に限定されず、例えば図４（ｂ）に示した工程後、サイドウォール２１４〜２１８の形成工程に先立ってリンを添加して低濃度不純物領域を形成する工程を行ってもよい。また、このリンの添加工程は、保持容量となる領域と、ゲート絶縁膜の膜厚が厚いドライバーＴＦＴおよび画素ＴＦＴとなる領域とで分けて行ってもよい。
【００６０】
このようにして全ての不純物領域を形成し終えたら、図５（ｂ）に示すようにレジストマスク２３３、２３４を除去する。そして、添加した不純物の活性化をレーザー光または熱処理によって行い、チャネル形成領域２３９〜２４１、ソース領域２４３〜２４５、ドレイン領域２４６〜２４８を形成する。活性化を行うだけであれば、３００〜７００℃の温度範囲で２時間程度で十分であるが、ここでは、７５０〜１１５０℃の温度範囲で２０分〜１２時間の熱処理工程を行う。この工程は、各不純物領域に添加されたリンまたはボロンを活性化すると同時に、チャネル形成領域に残存していたニッケル（結晶化時に用いた触媒元素）をリンのゲッタリング作用によってソース領域およびドレイン領域へと再度ゲッタリングする工程を兼ねたものとなっている。
【００６１】
次いで、図５（ｃ）に示すように酸化珪素膜からなる第１層間絶縁膜２４９を形成する。この第１層間絶縁膜２４９の形成についても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能であり、また、ＣＶＤ法等の従来からの方法も採用可能である。そして、この第１層間絶縁膜２４９にコンタクトホールを形成し、その後、該コンタクトホールに埋め込んだ状態でソース配線２５０〜２５２、ドレイン配線２５３、２５４を形成する。これら配線についても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能であり、この方法を用いれば、特にコンタクトホール内への配線材料の埋め込みが容易になる。すなわち、予め可動機構１１によってパターニング装置１のノズル孔３ａをコンタクトホールに対向させておき、その状態で配線材料を吐出することにより、気化した配線材料がコンタクトホール内に良好に入り込むからである。なお、このようにして形成するソース配線２５０〜２５２、ドレイン配線２５３、２５４については、例えばアルミニウムを主成分とする導電膜をチタン膜で挟んだ積層膜で形成するのが好ましく、その場合に、積層構造に合わせて材料を変え、パターニング装置１のノズル３からの吐出を行うようにする。
【００６２】
ここで、前記ドレイン配線２５３は、ＣＭＯＳ回路を形成するＮＴＦＴおよびＰＴＦＴに共通の配線として用いられる。また、前述のようにソース領域およびドレイン領域には高濃度にニッケルが含まれるため、ソース配線およびドレイン配線との良好なオーミックコンタクトが実現できる。このように各配線２５０〜２５２、２５３、２５４を形成することにより、本発明の電子素子となるドライバーＴＦＴおよび画素ＴＦＴが形成される。
その後、パッシベーション膜２５５を形成する。パッシベーション膜２５５としては、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、またはこれらの絶縁膜と酸化珪素膜との積層膜を用いることができる。このようなパッシベーション膜２５５の形成にあたっても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。
【００６３】
なお、窒化珪素膜を形成する前処理として、アンモニアガスを用いたプラズマ処理を行い、その後パッシベーション膜２５５を形成するようにしてもよい。このような前処理を行うと、プラズマで活性化した（励起した）水素がパッシベーション膜２５５によって閉じこめられるため、ＴＦＴの活性層（半導体層）の水素終端が促進される。さらに、水素を含むガスに加えて亜酸化窒素ガスを加えると、発生した水分によって被処理体の表面が洗浄され、特に大気中に含まれるボロン等による汚染を効果的に防ぐことができる。
【００６４】
次いで、第２層間絶縁膜２５６として例えば１μｍ厚のアクリル膜を形成する。そして、その上にチタン膜を２００ｎｍの厚さに形成してパターニングを行い、ブラックマスク２５７を形成する。ここで、これら第２層間絶縁膜２５６やブラックマスク２５７の形成にあたっても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。その場合、特にブラックマスク２５７の形成にあたっては、フォトリソグラフィー工程やエッチング工程を必要とすることなく、直接パターニングを行うことができる。
その後、第３層間絶縁膜２５８として再びアクリル膜を形成してコンタクトホールを形成し、ＩＴＯ膜でなる画素電極２５９を形成することにより、回路基板が得られる。なお、この画素電極２５９の形成にあたっても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。
【００６５】
また、この回路基板上に公知の液晶セルを設けて液晶素子を形成することにより、本発明において電気光学装置として定義される液晶装置となる。図６は、このような液晶素子を形成するための液晶セルの構造を説明するための図であり、図６中符号２６０は対向基板である。この対向基板２６０は、前記の回路基板（図示せず）と反対の側に配置されるもので、ガラス基板や石英基板等の透明基板からなるものである。この対向基板２６０の内面側には、対向基板２６０側から入射する光を前記の回路基板（図示せず）側に集光するためのマイクロレンズ２６１が多数設けられており、これらマイクロレンズ２６１を形成した側には、接着剤２６２によってカバーガラス２６３が貼着されている。
【００６６】
このカバーガラス２６３の内面側には、前記マイクロレンズ２６１間の境界と対応する位置にそれぞれ遮光膜２６４が形成されており、さらにこれを覆った状態でカバーガラス２６３のほぼ全面にＩＴＯ等の透明導電性材料からなる対向電極２６５が形成されている。そして、この対向電極２６５の内面側にポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる配向膜２６６が形成され、さらにこのように形成された対向基板２６０と前記回路基板との間に液晶２６７が封止されることにより、液晶装置が構成される。
このような構成からなる液晶装置の製造においても、その液晶セルにおける各構成要素、例えば遮光膜２６４や対向電極２６５、配向膜２６６等の形成において、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。
【００６７】
また、前記の回路基板は、液晶装置以外の電気光学装置として、例えば電気泳動装置にも適用可能である。電気泳動装置は、液体中に分散した帯電粒子が電界印加により泳動する電気泳動現象と称される現象を利用するもので、例えば染料で着色した分散液に帯電した顔料微粒子を分散させ、これを一対の電極間に挟んでセルを形成し、これによって電気泳動素子としたものである。
【００６８】
図７は、このような電気泳動装置における画素部の断面構造を示す図であり、この電気泳動装置は、基本的に図２に示した回路基板と同じ構成からなる回路基板３００上に対向基板３０１が貼設されて構成されたものである。
この対向基板３０１には共通電極３０２が形成されており、この共通電極３０２と画素電極３０３との間には電子インク層３０４が配設されている。画素電極３０３には、回路基板３００に形成されたスイッチング素子となるＴＦＴ（図示せず）のドレイン電極（図示せず）が接続されており、これによって印加する電圧を制御し、共通電極３０２との間の電子インク層にかかる電界を制御することができるようになっている。なお、この例では、共通電極３０２と画素電極３０３とのうちの少なくとも一方が透明電極となっており、電気泳動装置の表示面はこの透明電極側となっている。
【００６９】
電子インク層３０４は、図８（ａ）に示すように光透過性を有する透明なバインダ３０５と、このバインダ３０５の内部に均一かつ固定状態で分散させられた複数のマイクロカプセル３０６とから構成されたものである。電子インク層３０４は、その厚さがマイクロカプセル３０６の外経（直径）の１．５〜２倍程度に形成されており、バインダ３０５は、シリコン樹脂等によって形成されている。マイクロカプセル３０６は、光透過性を有する中空で球状のカプセル本体３０７と、その内部に充填された液体（溶媒）３０８と、この液体３０８中に分散させられた複数の帯電粒子３０９とからなるもので、液体３０８と帯電粒子３０９とがほぼ同じ比重に形成されたものである。帯電粒子３０９は負に帯電させたもので、核３１０とこの核３１０を被覆する被覆層３１１とから形成されている。このような帯電粒子３０９と前記液体３０８とは、それぞれの色が相互に異なるように設定されており、例えば、帯電粒子３０９の色は白、液体３０８の色は青、赤、緑、又は黒といったように形成される。
【００７０】
このような構成からなる電気泳動装置にあっては、マイクロカプセル３０６に外部から電界が印加されると、帯電粒子３０９がマイクロカプセル３０６内にて前記電界の方向と反対の方向に移動する。その結果、例えば図６において表示面が上側面（対向基板３０１側の面）であるとすると、帯電粒子３０９が図７において上側に移動した場合、液体３０８の色（例えば青、赤、緑、又は黒）を背景として浮き出る帯電粒子３０９の色（例えば白）が見えることになる（図８（ｂ）参照）。逆に、電界印加に伴って帯電粒子３０９が図７中の下側（回路基板３００側）に移動した場合、液体３０８の色（例えば青、赤、緑、又は黒）のみが見えることになる（図８（ｃ）参照）。なお、電界印加によってその電界方向とは反対の方向に移動させられた帯電粒子３０９は、その比重が液体３０８とほぼ同じであるので、電界を消失させた後もその位置に長い時間留まろうとする。すなわちち、表示面に現れた帯電粒子３０９又は液体３０８の色は暫くの間（数分から数十分）保持され、メモリ性を有することになる。従って電界の印加を画素毎に制御することで、その印加パターンに沿った情報が表示されることになるが、その情報も比較的長時間保持されるようになっているのである。
【００７１】
このような電気泳動装置においても、その回路基板については前述したとおり図１のパターニング装置１を用いる方法が採用可能であり、また、電気泳動素子を形成するセル側についても、例えばその共通電極の形成などに図１のパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。
また、このような電気泳動装置を表示部に適用した、例えば電子ペーパーのように柔軟性が要求される電子機器では、駆動素子を形成する回路基板について、特に前記駆動素子となる薄膜トランジスタとして、少なくともチャネル部が有機膜で形成された有機半導体素子を用いたものとするのが好ましい。なお、電子ペーパーとは、図９に示すように紙と同様の質感および柔軟性を有するリライタブルシート３２０と、前記した電気泳動装置からなる表示装置３２１とを備えて構成されたものである。
【００７２】
前記の有機半導体素子としては、例えば図１０に示すような構成のものがある。図１０において符号３５０は基板であり、この基板３５０上にはゲート電極３５１が形成されている。また、基板３５０上にはゲート電極３５１を覆った状態で高誘電率の絶縁体からなるゲート絶縁膜３５２が形成され、このゲート絶縁膜３５２上には有機半導体層３５３が形成されている。そして、この有機半導体層３５３上にソース電極３５４およびドレイン電極３５５が形成されることにより、薄膜トランジスタとなる有機半導体素子が形成される。
【００７３】
このような有機半導体素子の製造には、特に前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が好適に採用される。すなわち、まず、基板３５０上にゲート電極材料を設けてゲート電極３５１を形成するが、この形成にもパターニング装置１が好適に用いられる。パターニング装置１によってゲート電極３５１を形成するには、まず、前記基板２０１を真空チャンバー２内に入れ上面側を上に向けた状態でステージ４上に載置し、さらにここに保持固定させる。また、必要に応じて温度調整手段（図示せず）でステージ４上の基板２０１を所望温度（ノズル孔３ａから例えば気化した状態で射出されてきた形成材料を十分に冷却して、液化あるいは固化し得る温度）に調整しておく。また、予め材料供給室７内の保持具に保持させておいたゲート電極３５１の形成材料を加熱手段９によって所定温度にまで加熱しておく。
【００７４】
ここで、ゲート電極３５１形成用の材料としては、例えばクロム、チタン、銅、アルミニウム、モリブデン、タングステン、ニッケル、金、白金、パラジウム、インジウム等の金属やこれら金属を用いた合金、ポリシリコン、アモルファスシリコン、錫酸化物、酸化インジウム、インジウム・錫酸化物（ＩＴＯ）等の無機材料、また、導電性ポリアニリン、導電性ポリピロール、導電性ポリチオフェン等の有機材料が用いられ、これらのうちの一種あるいは複数種が選択されて用いられる。
このような形成材料を前述したように加熱手段９で所定温度、すなわち材料に応じた適宜な温度にまで加熱したら、キャリアガス供給源８からヘリウム等のキャリアガスを材料供給室７に導入するとともに、前記吐出機構１０を作動させて形成材料をキャリアガスに同伴させた状態でノズル孔３ａから真空チャンバー２内に吐出させる。すると、ほぼ常圧にあるノズル３内より十分に低い圧力雰囲気である真空チャンバー２内に形成材料が吐出されることにより、この形成材料は気化した状態で吐出されることになる。なお、真空チャンバー２が特に高い真空度にある理想的な場合には、形成材料が分子線状に吐出されることもある。
【００７５】
したがって、制御部によって可動機構１１の動作を制御し、これによりノズル孔３ａと基板２０１との相対的な位置関係を予め設定したとおりに移動させることにより、この形成材料を基板３５０上の所定位置に所望量射出することができる。このようにして形成材料を基板３５０上に射出すると、この形成材料は基板３５０の温度にまで冷却されることにより、固化してここに固定される。
このようにしてパターニング装置１でゲート電極３５１を形成すれば、マスクを必要とすることなく、したがってフォトリソグラフィー工程等を必要とすることなく、ゲート電極３５１を所望パターンに形成することができる。
【００７６】
次に、このゲート電極３５１を覆った状態にゲート絶縁膜３５２を形成するが、このゲート絶縁膜３５２の形成にも、前記の図１に示したパターニング装置１が好適に用いられる。ゲート絶縁膜３５２の形成材料としては、限定されることなく種々のものが使用可能であるが、特に高誘電率の絶縁体として、金属酸化物薄膜、好ましくはチタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、フッ化バリウムマグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、タンタル酸ニオブ酸ストロンチウムビスマス、ペントオキサイドタンタル、ジオキサイドチタン、トリオキサイドイットリウム、酸化タンタル、酸化バナジウム、酸化チタンなどの無機材料が好適に用いられる。また、ポリクロロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリオキシメチレン、ポリビニルクロライド、ポリフッ化ビニリデン、シアノエチルプルラン、ポリメチルメタクリレート、ポリサルファン、ポリカーボネート、ポリイミド等の有機材料も使用可能である。なお、特に前記の無機材料によってゲート絶縁膜３５２を形成する場合には、成膜後、さらにこれに１５０〜４００℃の範囲の適宜な温度でアニール処理を行うのが、膜品質を改善し、誘電率を増大させることができ好ましい。
【００７７】
次いで、このゲート絶縁膜３５２上に有機半導体層３５３を形成するが、この有機半導体層３５３の形成にも、前記の図１に示したパターニング装置１が好適に用いられる。有機半導体層３５３の形成材料としては、ゲート電圧が増加するにしたがって電界効果移動度の増大を示すポリマ半導体またはオリゴマー半導体が用いられ、具体的には、ナフタレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ヘキサセン、およびその誘導体や、ポリアセチレンのうちの１種以上が用いられる。また、特にｐ−チャネル用とされる場合には、２〜５個の炭素原子を介して結合された、オリゴ重合度が４以上８以下のチオフェンのオリゴマー；２〜５個の炭素原子を介して結合された、３〜６個のチオフェン環と末端基としてチオフェンを有するビニレンと、チエニレンとの交互共オリゴマー；ベンゾ［１，２−ｂ：４，５’］ジチオフェンの線状ダイマー及びトリマー；末端のチオフェンの４個又は５個の炭素原子上に置換基（例えば、炭素原子を１〜２０個有するアルキル置換基）を有する前記オリゴマー；ポリマーマトリックス中のｐ、ｐ’−ジアミノビフェニル複合体なども使用可能であり、特にα−ヘキサチエニレン（α−６Ｔ）が好適に用いられる。また、特にｐ−チャネル用とされる場合には、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボキシルジアンヒドライド（ＮＴＣＤＡ：naphthalene tetracarboxylic dianhydride ）、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボキシルジイミド（ＮＴＣＤＩ：naphthalene tetracarboxylic diimide ）、１１，１１，１２，１２−テトラシアノナフト−２，６−キノジメタン（ＴＣＮＮＱＤ：tetracyanonaphtho-2,6-quinodimethane）なども使用可能である。このような有機半導体材料を前記のパターニング装置１によって成膜した場合、特に溶剤を必要とすることなく直接これを基板３５０のゲート絶縁膜３５２上に成膜することができることから、処理が容易になり、また得られる膜質も溶剤に起因する劣化等がなく良好なものとなる。
【００７８】
その後、この有機半導体層３５３上にソース電極３５４およびドレイン電極３５５を形成するが、これらソース・ドレイン電極３５４、３５５の形成にも、図１に示したパターニング装置１が好適に用いられる。ソース・ドレイン電極３５４、３５５をパターニング装置１で形成すれば、前記のゲート電極３５１の場合と同様に、マスクを必要とすることなくこれらを所望パターンに形成することができる。なお、ソース・ドレイン電極３５４、３５５の形成材料としては、前記のゲート電極３５１に用いられる材料と同様の材料が使用可能である。
【００７９】
このようにして得られた有機半導体素子、すなわち本発明において電子素子となる有機半導体素子は、その構成要素の少なくとも一つが前記パターニング装置１によって形成されることにより、その材料選択の自由度が高まり、したがってより良好な組み合わせで素子を構成することができる。
【００８０】
また、本発明の電気光学装置としては、前記の液晶装置や電気泳動装置以外にも、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を備えてなる表示装置に適用可能である。
図１１、図１２は本発明の電気光学装置を、有機ＥＬ素子を用いたアクティブマトリクス型の表示装置に適用した場合の一例を示すもので、これらの図において符号２０は表示装置である。
【００８１】
この表示装置２０は、回路図である図１１に示すように透明の基体上に、複数の走査線３１と、これら走査線３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線３２と、これら信号線３２に並列に延びる複数の共通給電線３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線３１及び信号線３２の各交点毎に、画素（画素領域素）１Ａが設けられて構成されたものである。
信号線３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ側駆動回路２１が設けられている。一方、走査線３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路２２が設けられている。また、画素領域２０Ａの各々には、走査線３１を介して走査信号がゲート電極に供給される第１の薄膜トランジスタ４２と、この第１の薄膜トランジスタ４２を介して信号線３２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される第２の薄膜トランジスタ４３と、この第２の薄膜トランジスタ４３を介して共通給電線３３に電気的に接続したときに共通給電線３３から駆動電流が流れ込む画素電極４１と、この画素電極４１と対向電極５４との間に挟み込まれる発光部４０と、が設けられている。
【００８２】
このような構成のもとに、走査線３１が駆動されて第１の薄膜トランジスタ４２がオンとなると、そのときの信号線３２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、第２の薄膜トランジスタ４３の導通状態が決まる。そして、第２の薄膜トランジスタ４３のチャネルを介して共通給電線３３から画素電極４１に電流が流れ、さらに発光部４０を通じて対向電極５４に電流が流れることにより、発光部４０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。ここで、各画素２０Ａの平面構造は、対向電極や有機エレクトロルミネッセンス素子を取り除いた状態での拡大平面図である図１２に示すように、平面形状が長方形の画素電極４１の四辺が、信号線３２、共通給電線３３、走査線３１及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。
【００８３】
次に、このような表示装置２０の製造方法について、図１３〜図１５を用いて説明する。なお、図１３〜図１５では、説明を簡略化するべく、単一の画素２０Ａについてのみ図示する。
まず、基板を用意する。ここで、有機エレクトロルミネッセンス素子では後述する発光層による発光光を基板側から取り出すことも可能であり、また基板と反対側から取り出す構成とすることも可能である。発光光を基板側から取り出す構成とする場合、基板材料としてはガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明なものが用いられるが、特に安価なソーダガラスが好適に用いられる。ソーダガラスを用いた場合、これにシリカコートを施すのが、酸アルカリに弱いソーダガラスを保護する効果を有し、さらに基板の平坦性をよくする効果も有するため好ましい。
また、基板に色フィルター膜や発光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を配置して、発光色を制御するようにしてもよい。また、基板と反対側から発光光を取り出す構成の場合、基板は不透明であってもよく、その場合、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。
【００８４】
本例では、基板として図１３（ａ）に示すようにソーダガラス等からなる透明基板２３を用意する。そして、これに対し、必要に応じてＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約２００〜５００ｎｍのシリコン酸化膜からなる下地保護膜（図示せず）を形成する。
次に、透明基板２３の温度を約３５０℃に設定して、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により厚さ約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコン膜からなる半導体膜２４を形成する。
【００８５】
続いて、この半導体膜２４に対してレーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を行い、半導体膜２４をポリシリコン膜に結晶化する。レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は例えば２００ｍＪ／ｃｍ2 とする。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
次いで、図１３（ｂ）に示すように、半導体膜（ポリシリコン膜）２４をパターニングして島状の半導体膜２５とする。なお、この島状の半導体膜２５の形成にも、前記の図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能であり、この方法によって形成した場合、リソグラフィー工程、エッチング工程等によるパターニングの工程を不要にすることができる。
【００８６】
次いで、その表面に対しＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料として、プラズマＣＶＤ法により厚さ約６０〜１５０ｎｍのシリコン酸化膜または窒化膜からなるゲート絶縁膜２６を形成する。なお、このゲート絶縁膜２６の形成についても、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能である。ここで、半導体膜２５は、図１１に示した第２の薄膜トランジスタ４３のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においては第１の薄膜トランジスタ４２のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となる半導体膜も形成されている。つまり、図１３〜図１５に示す製造工程では二種類のトランジスタ４２、４３が同時に作られるのであるが、同じ手順で作られるため、以下の説明ではトランジスタに関しては、第２の薄膜トランジスタ４３についてのみ説明し、第１の薄膜トランジスタ４２についてはその説明を省略する。
【００８７】
次いで、図１３（ｃ）に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属からなる導電膜をスパッタ法により形成し、続いてこれをパターニングして、ゲート電極４３Ａを形成する。なお、このゲート電極４３Ａの形成にも、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能である。この方法によって形成すれば、ゲート電極４３Ａを直接所望形状に形成できるため、リソグラフィー工程、エッチング工程等によるパターニングの工程を不要にすることができる。
次いで、ゲート電極４３Ａを形成した状態で高濃度のリンイオンを打ち込み、半導体膜２５に、ゲート電極４３Ａに対して自己整合的にソース・ドレイン領域４３ａ、４３ｂを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域４３ｃとなる。
【００８８】
次いで、図１３（ｄ）に示すように、層間絶縁膜２７を形成した後、コンタクトホール６０、６１を形成し、これらコンタクトホール６０、６１内に中継電極６２、６３を埋め込む。このような中継電極６２、６３の埋め込みに対しても、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能であり、この方法を用いれば、前述したようにコンタクトホール内への電極材料の埋め込みが容易になる。すなわち、予め可動機構１１によってパターニング装置１のノズル孔３ａをコンタクトホール６０（６１）に対向させておき、その状態で電極材料を吐出することにより、気化した電極材料がコンタクトホール６０（６１）内に良好に入り込むからである。
【００８９】
次いで、図１３（ｅ）に示すように、層間絶縁膜２７上に、信号線３２、共通給電線３３及び走査線（図１３に示さず）を、図１に示したパターニング装置１を用いた方法、あるいはスパッタ法等による成膜法とフォトリソグラフィー及びエッチングによるパターニング法とからなる一連の方法で形成する。このとき、信号線３２、共通給電線３３及び走査線の各配線については、配線として必要な厚さに捕らわれることなく、後述するようにこれらを隔壁として機能させるべく十分に厚く形成する。具体的には、各配線を１〜２μｍ程度の厚さに形成する。ここで、これら各配線と前記の中継電極６３とは、同一工程で形成してもよく、その場合にも、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が好適に採用される。なお、その場合に中継電極６２については、後述する透明電極材料によって形成されることになる。
【００９０】
そして、各配線の上面をも覆うように層間絶縁膜２８を形成し、中継電極６２に対応する位置にコンタクトホール（図示せず）を形成し、そのコンタクトホール内にも埋め込まれるようにＩＴＯやフッ素をドープしてなるＳｎＯ2 、さらにＺｎＯやポリアニリン等の透明電極材料からなる膜を形成し、さらにこの膜をパターニングして、信号線３２、共通給電線３３及び走査線（図示せず）に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域４３ａに電気的に接続する画素電極４１を形成する。なお、この画素電極４１の形成にも、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能であり、この方法によって形成すれば、前述したようにリソグラフィー工程、エッチング工程等によるパターニングの工程を不要にすることができる。
【００９１】
ここで、信号線３２及び共通給電線３３、さらには走査線（図示せず）に挟まれた部分が、後述するように正孔輸送層や発光層の形成場所となっている。すなわち、これら配線とこれを覆う層間絶縁膜２８とから、画素２０Ａ間を隔てる隔壁５０が形成されているのである。そして、このような構成のもとに、正孔輸送層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布（射出）位置とその周囲の隔壁５０との間には、十分な高さの段差５５が形成されているのである。
このようにして各配線からなる隔壁５０を形成したら、隔壁５０に囲まれた画素２０Ａ内に正孔輸送層を形成する。この正孔輸送層、さらには後述する発光層については、特に図１に示したパターニング装置１を用いた方法が好適に用いられる。パターニング装置１によって正孔輸送層を形成するには、まず、基板２３を真空チャンバー２内に入れ上面側を上に向けた状態でステージ４上に載置し、さらにここに保持固定させる。また、必要に応じて温度調整手段（図示せず）でステージ４上の基板２３を所望温度に、すなわちノズル孔３ａから例えば気化した状態で射出されてきた形成材料を十分に冷却して、液化あるいは固化し得る温度に調整しておく。また、予め材料供給室７内の保持具に保持させておいた正孔輸送層の形成材料を加熱手段９によって所定温度にまで加熱しておく。
【００９２】
ここで、正孔輸送層の形成材料としては、特に限定されることなく公知のものが使用可能であり、例えばピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物等が挙げられる。具体的には、特開昭６３−７０２５７号、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号、同２−１３５３６１号、同２−２０９９８８号、同３−３７９９２号、同３−１５２１８４号公報に記載されているもの等が例示されるが、トリフェニルジアミン誘導体が好ましく、中でも４，４’−ビス（Ｎ（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニルが好適とされる。
なお、正孔輸送層に代えて正孔注入層を形成するようにしてもよく、さらに正孔注入層と正孔輸送層を両方形成するようにしてもよい。その場合、正孔注入層の形成材料としては、例えば銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）や、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム等が挙げられるが、特に銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を用いるのが好ましい。
【００９３】
このような形成材料を前述したように加熱手段９で所定温度にまで加熱したら、キャリアガス供給源８からヘリウム等のキャリアガスを材料供給室７に導入するとともに、前記吐出機構１０を作動させて形成材料をキャリアガスに同伴させた状態でノズル孔３ａから真空チャンバー２内に吐出させる。すると、ほぼ常圧にあるノズル３内より十分に低い圧力雰囲気である真空チャンバー２内に形成材料が吐出されることにより、図１４（ａ）に示すようにこの形成材料は気化した状態で吐出されることになる。
したがって、制御部によって可動機構１１の動作を制御し、これによりノズル孔３ａと基板２３との相対的な位置関係を予め設定したとおりに移動させることにより、この形成材料５６を基板２３上の所定位置、すなわち隔壁５０に囲まれた各画素２０Ａの領域に所望量射出することができる。このようにして形成材料を画素２０Ａ上に射出すると、この形成材料は基板２３の温度にまで冷却されることにより、液化しあるいは固化してここに固定される。このとき、吐出された形成材料５６が基板２３上にて液状となった場合には、その流動性によって水平方向に広がろうとするものの、射出された位置を囲んで隔壁５０が形成されていることにより、形成材料５６は隔壁５０を越えてその外側に広がることが防止されている。
【００９４】
このように吐出された形成材料５６が基板２３上にて液化した場合には、基板２３を真空チャンバー２内から一旦出し、必要に応じて冷却あるいは光照射等の処理を行うことにより、図１４（ｂ）に示すように画素電極４１上に、固状の正孔輸送層４０Ａを形成することもできる。ここで、吐出された形成材料５６が基板２３上にて固化した場合には、前記の処理を行うことなく、続けて発光層の形成を行う。
なお、このような正孔輸送層４０Ａの形成に代えて、前述したように銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）等を用いて正孔注入層を形成するようにしてもよい。また、特に正孔輸送層４０Ａの形成に先立って正孔注入層を画素電極４１側に形成し、さらに正孔輸送層４０Ａを形成するのが好ましい。このように正孔注入層を正孔輸送層４０Ａとともに形成することにより、駆動電圧の上昇を制御することができるとともに、駆動寿命（半減期）を長くすることもできる。
【００９５】
次いで、先の正孔輸送層（及び／又は正孔注入層）の形成材料の場合と同様にして、図１４（ｃ）に示すようにパターニング装置１により発光層の形成材料５７を基板２３上に吐出（射出）し、これによって図１５（ａ）に示すように発光層４０Ｂを形成する。発光層の形成材料５７としては、特に限定されることなく、低分子の有機発光色素や高分子発光体、すなわち各種の蛍光物質や燐光物質からなる発光物質が使用可能である。発光物質となる共役系高分子の中ではアリーレンビニレン構造を含むものが特に好ましい。低分子蛍光体では、例えばナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ペリレン誘導体、ポリメチン系、キサテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、８−ヒドロキノリンおよびその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン誘導体等、または特開昭５７−５１７８１、同５９−１９４３９３号公報等に記載されている公知のものが使用可能である。
【００９６】
発光層の形成材料として高分子蛍光体を用いる場合には、側鎖に蛍光基を有する高分子を用いることができるが、好ましくは共役系構造を主鎖に含むもので、特に、ポリチオフェン、ポリ−ｐ−フェニレン、ポリアリーレンビニレン、ポリフルオレンおよびその誘導体が好ましい。中でもポリアリーレンビニレンおよびその誘導体が好ましい。該ポリアリーレンビニレンおよびその誘導体は、下記化学式（１）で示される繰り返し単位を全繰り返し単位の５０モル％以上含む重合体である。繰り返し単位の構造にもよるが、化学式（１）で示される繰り返し単位が全繰り返し単位の７０％以上であることがさらに好ましい。
−Ａｒ−ＣＲ＝ＣＲ’− （１）
〔ここで、Ａｒは、共役結合に関与する炭素原子数が４個以上２０個以下からなるアリーレン基または複素環化合物基、Ｒ、Ｒ’はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数４〜２０の複素環化合物、シアノ基からなる群から選ばれた基を示す。〕
【００９７】
該高分子蛍光体は、化学式（１）で示される繰り返し単位以外の繰り返し単位として、芳香族化合物基またはその誘導体、複素環化合物基またはその誘導体、およびそれらを組み合わせて得られる基などを含んでいてもよい。また、化学式（１）で示される繰り返し単位や他の繰り返し単位が、エーテル基、エステル基、アミド基、イミド基などを有する非共役の単位で連結されていてもよいし、繰り返し単位にそれらの非共役部分が含まれていてもよい。
前記高分子蛍光体において化学式（１）のＡｒとしては、共役結合に関与する炭素原子数が４個以上２０個以下からなるアリーレン基または複素環化合物基であり、下記の化学式（２）で示す芳香族化合物基またはその誘導体基、複素環化合物基またはその誘導体基、およびそれらを組み合わせて得られる基などが例示される。
【００９８】
【化１】
（Ｒ１〜Ｒ９２は、それぞれ独立に、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基；炭素数６〜１８のアリール基およびアリールオキシ基；ならびに炭素数４〜１４の複素環化合物基からなる群から選ばれた基である。）
【００９９】
これらのなかでフェニレン基、置換フェニレン基、ビフェニレン基、置換ビフェニレン基、ナフタレンジイル基、置換ナフタレンジイル基、アントラセン−９，１０−ジイル基、置換アントラセン−９，１０−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、置換ピリジン−２，５−ジイル基、チエニレン基および置換チエニレン基が好ましい。さらに好ましくは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレンジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、チエニレン基である。
【０１００】
化学式（１）のＲ、Ｒ’が水素またはシアノ基以外の置換基である場合について述べると、炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ラウリル基などが挙げられ、メチル基、エチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基が好ましい。アリール基としては、フェニル基、４−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル基（Ｃ１〜Ｃ１２は炭素数１〜１２であることを示す。以下も同様である。）、４−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基などが例示される。
溶媒可溶性の観点からは化学式（１）のＡｒが、１つ以上の炭素数４〜２０のアルキル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基、炭素数６〜１８のアリール基およびアリールオキシ基ならびに炭素数４〜１４の複素環化合物基から選ばれた基を有していることが好ましい。
【０１０１】
これらの置換基としては以下のものが例示される。炭素数４〜２０のアルキル基としては、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ラウリル基などが挙げられ、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基が好ましい。また、炭素数４〜２０のアルコキシ基としては、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ラウリルオキシ基などが挙げられ、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基が好ましい。炭素数４〜２０のアルキルチオ基としては、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、デシルオキシ基、ラウリルチオ基などが挙げられ、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基が好ましい。アリール基としては、フェニル基、４−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル基、４−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基などが例示される。アリールオキシ基としては、フェノキシ基が例示される。複素環化合物基としては２−チエニル基、２−ピロリル基、２−フリル基、２−、３−または４−ピリジル基などが例示される。これら置換基の数は、該高分子蛍光体の分子量と繰り返し単位の構成によっても異なるが、溶解性の高い高分子蛍光体を得る観点から、これらの置換基が分子量６００当たり１つ以上であることがより好ましい。
【０１０２】
なお、前記高分子蛍光体は、ランダム、ブロックまたはグラフト共重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有する高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体であってもよい。蛍光の量子収率の高い高分子蛍光体を得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性を帯びたランダム共重合体やブロックまたはグラフト共重合体が好ましい。また、ここで形成する有機エレクトロルミネッセンス素子は、薄膜からの蛍光を利用することから、該高分子蛍光体は固体状態で蛍光を有するものが用いられる。
【０１０３】
該高分子蛍光体に対して溶媒を使用する場合に、好適なものとしては、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが例示される。高分子蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれらの溶媒に０．１ｗｔ％以上溶解させることができる。
また、前記高分子蛍光体としては、分子量がポリスチレン換算で１０3 〜１０7 であることが好ましく、それらの重合度は繰り返し構造やその割合によっても変わる。成膜性の点から一般には繰り返し構造の合計数で好ましくは４〜１００００、さらに好ましくは５〜３０００、特に好ましくは１０〜２０００である。
【０１０４】
このような高分子蛍光体の合成法としては、特に限定されないものの、例えばアリーレン基にアルデヒド基が２つ結合したジアルデヒド化合物と、アリーレン基にハロゲン化メチル基が２つ結合した化合物とトリフェニルホスフィンとから得られるジホスホニウム塩からのＷｉｔｔｉｇ反応が例示される。また、他の合成法としては、アリーレン基にハロゲン化メチル基が２つ結合した化合物からの脱ハロゲン化水素法が例示される。さらに、アリーレン基にハロゲン化メチル基が２つ結合した化合物のスルホニウム塩をアルカリで重合して得られる中間体から熱処理により該高分子蛍光体を得るスルホニウム塩分解法が例示される。いずれの合成法においても、モノマーとして、アリーレン基以外の骨格を有する化合物を加え、その存在割合を変えることにより、生成する高分子蛍光体に含まれる繰り返し単位の構造を変えることができるので、化学式（１）で示される繰り返し単位が５０モル％以上となるように加減して仕込み、共重合してもよい。これらのうち、Ｗｉｔｔｉｇ反応による方法が、反応の制御や収率の点で好ましい。
【０１０５】
さらに具体的に、前記高分子蛍光体の１つの例であるアリーレンビニレン系共重合体の合成法を説明する。例えば、Ｗｉｔｔｉｇ反応により高分子蛍光体を得る場合には、例えばまず、ビス（ハロゲン化メチル）化合物、より具体的には、例えば２，５−ジオクチルオキシ−ｐ−キシリレンジブロミドをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶媒中、トリフェニルホスフィンと反応させてホスホニウム塩を合成し、これとジアルデヒド化合物、より具体的には、例えば、テレフタルアルデヒドとを、例えばエチルアルコール中、リチウムエトキシドを用いて縮合させるＷｉｔｔｉｇ反応により、フェニレンビニレン基と２，５−ジオクチルオキシ−ｐ−フェニレンビニレン基を含む高分子蛍光体が得られる。このとき、共重合体を得るために２種類以上のジホスホニウム塩および／または２種類以上のジアルデヒド化合物を反応させてもよい。
これらの高分子蛍光体を発光層の形成材料として用いる場合、その純度が発光特性に影響を与えるため、合成後、再沈精製、クロマトグラフによる分別等の純化処理をすることが望ましい。
【０１０６】
また、前記の高分子蛍光体からなる発光層の形成材料としては、フルカラー表示をなすため、赤、緑、青の三色の発光層形成材料が用いられ、それぞれがパターニング装置１によって予め設定された位置の画素２０Ａに射出され、パターニングされる。
なお、前記の発光物質としては、ホスト材料にゲスト材料を添加した形態のものを用いることもできる。
【０１０７】
このような発光材料としては、ホスト材料として例えば高分子有機化合物や低分子材料が、またゲスト材料として得られる発光層の発光特性を変化させるための蛍光色素、あるいは燐光物質を含んでなるものが好適に用いられる。
高分子有機化合物としては、溶解性の低い材料の場合、例えば前駆体が塗布された後、以下の化学式（３）に示すように加熱硬化されることによって共役系高分子有機エレクトロルミネッセンス層となる発光層を生成し得るものがある。例えば、前駆体のスルホニウム塩の場合、加熱処理されることによりスルホニウム基が脱離し、共役系高分子有機化合物となるもの等がある。
また、溶解性の高い材料では、材料をそのまま塗布した後、溶媒を除去して発光層にし得るものもある。
【０１０８】
【化２】
【０１０９】
前記の高分子有機化合物は固体で強い蛍光を持ち、均質な固体超薄膜を形成することができる。しかも、形成能に富みＩＴＯ電極との密着性も高く、さらに、固化した後は強固な共役系高分子膜を形成する。
【０１１０】
このような高分子有機化合物としては、例えばポリアリーレンビニレンが好ましい。ポリアリーレンビニレンは水系溶媒あるいは有機溶媒に可溶で第２の基体１１に塗布する際の塗布液への調製が容易であり、さらに一定条件下でポリマー化することができるため、光学的にも高品質の薄膜を得ることができる。
このようなポリアリーレンビニレンとしては、ＰＰＶ（ポリ（パラ−フェニレンビニレン））、ＭＯ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ジメトキシ−１，４−フェニレンビニレン））、ＣＮ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ビスヘキシルオキシ−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）））、ＭＥＨ−ＰＰＶ（ポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシルオキシ）］−パラ−フェニレンビニレン）、等のＰＰＶ誘導体、ＰＴＶ（ポリ（２，５−チエニレンビニレン））等のポリ（アルキルチオフェン）、ＰＦＶ（ポリ（２，５−フリレンビニレン））、ポリ（パラフェニレン）、ポリアルキルフルオレン等が挙げられるが、なかでも化学式（４）に示すようなＰＰＶまたはＰＰＶ誘導体の前駆体からなるものや、化学式（５）に示すようなポリアルキルフルオレン（具体的には化学式（６）に示すようなポリアルキルフルオレン系共重合体）が特に好ましい。
ＰＰＶ等は強い蛍光を持ち、二重結合を形成するπ電子がポリマー鎖上で非極在化している導電性高分子でもあるため、高性能の有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。
【０１１１】
【化３】
【０１１２】
【化４】
【０１１３】
【化５】
【０１１４】
なお、前記ＰＰＶ薄膜の他に発光層を形成し得る高分子有機化合物や低分子材料、すなわち本例においてホスト材料として用いられるものは、例えばアルミキノリノール錯体（Ａｌｑ３）やジスチリルビフェニル、さらに化学式（７）に示すＢｅＢｑ２やＺｎ（ＯＸＺ）2 、そしてＴＰＤ、ＡＬＯ、ＤＰＶＢｉ等の従来より一般的に用いられているものに加え、ピラゾリンダイマー、キノリジンカルボン酸、ベンゾピリリウムパークロレート、ベンゾピラノキノリジン、ルブレン、フェナントロリンユウロピウム錯体等が挙げられ、これらの１種または２種以上を含む有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物を用いることができる。
【０１１５】
【化６】
【０１１６】
一方、このようなホスト材料に添加されるゲスト材料としては、前記したように蛍光色素や燐光物質が挙げられる。特に蛍光色素は、発光層の発光特性を変化させることができ、例えば、発光層の発光効率の向上、または光吸収極大波長（発光色）を変えるための手段としても有効である。すなわち、蛍光色素は単に発光層材料としてではなく、発光機能そのものを担う色素材料として利用することができる。例えば、共役系高分子有機化合物分子上のキャリア再結合で生成したエキシトンのエネルギーを蛍光色素分子上に移すことができる。この場合、発光は蛍光量子効率が高い蛍光色素分子からのみ起こるため、発光層の電流量子効率も増加する。したがって、発光層の形成材料中に蛍光色素を加えることにより、同時に発光層の発光スペクトルも蛍光分子のものとなるので、発光色を変えるための手段としても有効となる。
【０１１７】
なお、ここでいう電流量子効率とは、発光機能に基づいて発光性能を考察するための尺度であって、下記式により定義される。
ηE ＝放出されるフォトンのエネルギー／入力電気エネルギー
そして、蛍光色素のドープによる光吸収極大波長の変換によって、例えば赤、青、緑の３原色を発光させることができ、その結果フルカラー表示体を得ることが可能となる。
さらに蛍光色素をドーピングすることにより、エレクトロルミネッセンス素子の発光効率を大幅に向上させることができる。
【０１１８】
蛍光色素としては、赤色の発色光を発光する発光層を形成する場合、レーザー色素のＤＣＭ−１、あるいはローダミンまたはローダミン誘導体、ペニレン等を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素をＰＰＶなどホスト材料にドープすることにより、発光層を形成することができるが、これらの蛍光色素は水溶性のものが多いので、水溶性を有するＰＰＶ前駆体であるスルホニウム塩にドープし、その後、加熱処理すれば、より均一な発光層の形成が可能になる。このような蛍光色素として具体的には、ローダミンＢ、ローダミンＢベース、ローダミン６Ｇ、ローダミン１０１過塩素酸塩等が挙げられ、これらを２種以上混合したものであってもよい。
【０１１９】
また、緑色の発色光を発光する発光層を形成する場合、キナクリドン、ルブレン、ＤＣＪＴおよびその誘導体を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素についても、前記の蛍光色素と同様、ＰＰＶなどホスト材料にドープすることにより、発光層を形成することができるが、これらの蛍光色素は水溶性のものが多いので、水溶性を有するＰＰＶ前駆体であるスルホニウム塩にドープし、その後、加熱処理すれば、より均一な発光層の形成が可能になる。
【０１２０】
さらに、青色の発色光を発光する発光層を形成する場合、ジスチリルビフェニルおよびその誘導体を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素についても、前記の蛍光色素と同様、ＰＰＶなどホスト材料にドープすることにより、発光層を形成することができるが、これらの蛍光色素は水溶性のものが多いので、水溶性を有するＰＰＶ前駆体であるスルホニウム塩にドープし、その後、加熱処理すれば、より均一な発光層の形成が可能になる。
【０１２１】
また、青色の発色光を有する他の蛍光色素としては、クマリンおよびその誘導体を挙げることができる。これらの蛍光色素は、ＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。また、これらのうち特にクマリンは、それ自体は溶媒に不溶であるものの、置換基を適宜に選択することによって溶解性を増し、溶媒に可溶となるものもある。このような蛍光色素として具体的には、クマリン−１、クマリン−６、クマリン−７、クマリン１２０、クマリン１３８、クマリン１５２、クマリン１５３、クマリン３１１、クマリン３１４、クマリン３３４、クマリン３３７、クマリン３４３等が挙げられる。
【０１２２】
さらに、別の青色の発色光を有する蛍光色素としては、テトラフェニルブタジエン（ＴＰＢ）またはＴＰＢ誘導体、ＤＰＶＢｉ等を挙げることができる。これらの蛍光色素は、前記赤色蛍光色素等と同様に水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。
以上の蛍光色素については、各色ともに１種のみを用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。
なお、このような蛍光色素としては、化学式（８）に示すようなものや、化学式（９）に示すようなもの、さらに化学式（１０）に示すようなものが用いられる。
【０１２３】
【化７】
【０１２４】
【化８】
【０１２５】
【化９】
【０１２６】
これらの蛍光色素については、前記共役系高分子有機化合物等からなるホスト材料に対し、後述する方法によって０．５〜１０ｗｔ％添加するのが好ましく、１．０〜５．０ｗｔ％添加するのがより好ましい。蛍光色素の添加量が多過ぎると得られる発光層の耐候性および耐久性の維持が困難となり、一方、添加量が少な過ぎると、前述したような蛍光色素を加えることによる効果が十分に得られないからである。
【０１２７】
また、ホスト材料に添加されるゲスト材料としての燐光物質としては、化学式（１１）に示すＩｒ（ｐｐｙ）3 、Ｐｔ（ｔｈｐｙ）2 、ＰｔＯＥＰなどが好適に用いられる。
【０１２８】
【化１０】
【０１２９】
なお、前記の化学式（１１）に示した燐光物質をゲスト材料とした場合、ホスト材料としては、特に化学式（１２）に示すＣＢＰ、ＤＣＴＡ、ＴＣＰＢや、前記したＤＰＶＢｉ、Ａｌｑ３が好適に用いられる。
また、前記蛍光色素と燐光物質については、これらを共にゲスト材料としてホスト材料に添加するようにしてもよい。
【０１３０】
【化１１】
【０１３１】
なお、このようなホスト／ゲスト系の発光物質によって発光層４０Ｂを形成する場合、例えば予めパターニング装置１にノズル３等の材料供給系を複数形成しておき、これらノズル３からホスト材料とゲスト材料とを予め設定した量比で同時に吐出させることにより、ホスト材料に所望する量のゲスト材料が添加されてなる発光物質による、発光層４０Ｂを形成することができる。
【０１３２】
このようにして各画素２０Ａの正孔輸送層４０Ａ上に発光層４０Ｂを形成したら、これら正孔輸送層４０Ａ、発光層４０Ｂの場合と同様にして、パターニング装置１により電子輸送層の形成材料を基板２３上に吐出（射出）し、図１５（ｂ）に示すように電子輸送層４０Ｃを形成する。電子輸送層の形成材料としては、特に限定されることなく、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよびその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体等が例示される。具体的には、先の正孔輸送層の形成材料と同様に、特開昭６３−７０２５７号、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号、同２−１３５３６１号、同２−２０９９８８号、同３−３７９９２号、同３−１５２１８４号公報に記載されているもの等が例示され、特に２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８−キノリノール）アルミニウムが好適とされる。
【０１３３】
なお、前述した正孔輸送層４０Ａの形成材料や電子輸送層４０Ｃの形成材料を発光層４０Ｂの形成材料に混合し、発光層形成材料として使用してもよく、その場合に、正孔輸送層形成材料や電子輸送層形成材料の使用量については、使用する化合物の種類等によっても異なるものの、十分な成膜性と発光特性を阻害しない量範囲でそれらを考慮して適宜決定される。通常は、発光層形成材料に対して１〜４０重量％とされ、さらに好ましくは２〜３０重量％とされる。
【０１３４】
ここで、このようにして形成する正孔輸送層４０Ａ、発光層４０Ｂ、電子輸送層４０Ｃの膜厚については、予めノズル孔３ａからの吐出量を適宜に設定しておくことにより、好ましい厚さ（例えば６５ｎｍ）に形成する。なお、吐出量の調整については、ノズル孔３ａの内径やキャリアガスの流量を適宜に設定しておくことなどによって行うことができる。
その後、図１５（ｃ）に示すように、透明基板２３の表面全体に、あるいはストライプ状に対向電極５４を形成し、有機ＥＬ素子を得る。この対向電極５４の形成についても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能であるのはもちろんである。また、この対向電極５４については、Ａｌ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｃａなどの単体材料やＭｇ：Ａｇ（１０：１合金）の合金材料からなる１層で形成してもよく、２層あるいは３層からなる金属（合金を含む）層として形成してもよい。具体的には、Ｌｉ2 Ｏ（０．５ｎｍ程度）／ＡｌやＬｉＦ（０．５ｎｍ程度）／Ａｌ、ＭｇＦ2 ／Ａｌといった積層構造のものも使用可能である。
【０１３５】
このようにして得られた表示装置、すなわち本発明において電気光学装置となる表示装置は、その構成要素の少なくとも一つが前記パターニング装置１によって形成されることにより、その材料選択の自由度が高まり、したがってより良好な組み合わせで装置を構成することができる。
なお、前記の正孔注入層（図示せず）、正孔輸送層４０Ａ、発光層４０Ｂ、電子輸送層４０Ｃに加えて、ホールブロッキング層を例えば発光層４０Ｂの対向電極５４側に形成して、発光層４０Ｂの長寿命化を図ってもよい。このようなホールブロッキング層の形成材料としては、例えば化学式（１３）に示すＢＣＰや化学式（１４）で示すＢＡｌｑが用いられるが、長寿命化の点ではＢＡｌｑの方が好ましい。
【０１３６】
【化１２】
【０１３７】
【化１３】
【０１３８】
また、本例では各材料を気化させた状態で真空チャンバー２内に吐出させているが、真空チャンバー２内の真空度や加熱手段９による加熱の度合い等を調整することにより、材料を例えば霧状、ミスト状のような液体として吐出させてもよく、さらにはヒューム状に吐出させるようにしてもよい。
【０１３９】
また、本発明の電子装置としては、前記の半導体素子や液晶素子、電気泳動素子、有機ＥＬ素子を備えてなる装置以外にも、例えばＦＲＡＭ（Ferroelectric ＲＡＭ）やＭＲＡＭ(Magnetic ＲＡＭ）などのメモリ素子（電子素子）を備えた各種のメモリ装置や、発光ダイオードなどのダイオードからなる電子素子を備えた装置にも適用可能である。すなわち、ＦＲＡＭやＭＲＡＭなどのメモリ素子においては、例えばその強誘電体膜（絶縁膜）の形成に前記パターニング装置１を用いた方法が好適に採用され、その場合に強誘電体材料（絶縁材料）の選択自由度が高いことからより良好な素子を構成することが可能になる。
【０１４０】
また、発光ダイオードを備えた電子装置としては、例えば図１６に示すような装置に本発明が適用可能である。図１６に示した装置７０は、有機ＴＦＴ７１と有機ＬＥＤ７２とが同一基板７３上にモノシリックに集積化されてなるものである。有機ＴＦＴ７１は、基板７３上に形成されたゲート電極７４と、これを覆って形成された誘電体層７５と、この誘電体層７５上に形成されたソース電極７６およびドレイン電極７７と、これら電極を覆って形成された有機半導体層７８とから構成されたものである。ここで、有機ＴＦＴ７１は、この図１０に示した有機半導体素子と比べ、ソース・ドレイン電極と有機半導体層との位置がやや異なっているものの、基本的には同じ構造を有するものである。
【０１４１】
有機ＬＥＤ７２は、基板７３上に形成された陽極７９と、この陽極７９を覆って形成された正孔輸送層８０と、この正孔輸送層８０上に形成された電子輸送層８１と、この電子輸送／エミッタ層８１上に形成された陰極８２とから構成されたものである。なお、陽極７９は前記のドレイン電極７７がそのまま基板７３上に延びて形成されたものであり、また、正孔輸送層８０は前記有機半導体層７８が陽極７９上に延びて形成されたものである。
【０１４２】
このような装置７０にあっても、その製造に際しては、前記の図１に示したパターニング装置１を用いた方法が好適に採用される。例えば、ゲート電極７４やソース電極７６、ドレイン電極７７（陽極７９）はもちろん、有機半導体層７８（正孔輸送層８０）や電子輸送／エミッタ層８１、陰極８２の形成にもパターニング装置１による方法が好適に採用される。ここで、有機半導体層７８の形成材料としては、図１０に示した有機半導体素子の場合と同様のものが使用可能である。また、電子輸送／エミッタ層８１の形成材料としては、ポリフェニレン・ビニレン及びアルミニウム８−ヒドロオキシキノリネート（Ａｌｑ．）や、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−タートブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、２−ナフチル−４，５−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−オキサゾール）、ビス−（８−ヒドロオキシキナルジン）アルミニウム・フェノキシド及びビス（１０−ヒドロオキシベンゾ−キノリネート（亜鉛）（ＺｎＢｑ２）などが用いられる。また、陰極８２の形成材料としては、電子輸送／エミッタ層８１に効率よく電子注入することができる材料が用いられ、具体的にはアルミニウムやカルシウムが好適に用いられる。
【０１４３】
このような電子装置にあっても、その構成要素の少なくとも一つが前記パターニング装置１によって形成されることにより、その材料選択の自由度が高まり、したがってより良好な組み合わせで装置を構成することができる。
【０１４４】
次に、前記例の電気光学装置、すなわち液晶装置、電気泳動装置、あるいは有機ＥＬ素子を用いてなる表示装置が備えられた電子機器の具体例について説明する。
図１７（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１７（ａ）において、５００は携帯電話本体を示し、５０１は前記電気光学装置からなる表示手段を示している。
図１７（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１７（ｂ）において、６００は情報処理装置、６０１はキーボードなどの入力部、６０３は情報処理本体、６０２は前記電気光学装置からなる表示手段を示している。
図１７（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１７（ｃ）において、７００は時計本体を示し、７０１は前記電気光学装置からなる表示手段を示している。
図１７（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、前記電気光学装置が備えられたものであるので、その構成要素の選択自由度が高められていることにより、優れた表示品質が得られる表示手段を備えた電子機器となる。
【０１４５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の電子素子の製造方法にあっては、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つあるいはこれら材料の前駆体のうちの少なくとも一つをノズルから真空雰囲気中に吐出するので、前記材料あるいは前駆体を例えば気化した状態で、かつ理想的には分子線状に吐出することができる。したがって、前記材料あるいは前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、前記材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【０１４６】
本発明の回路基板の製造方法にあっては、前記の電子素子の製造方法によって電子素子を複数形成するので、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【０１４７】
本発明の電子装置の製造方法にあっては、前記の電子素子の製造方法を用いるので、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【０１４８】
本発明の電気光学装置の製造方法にあっては、前記の電子素子の製造方法を用いるので、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
また、本発明の電気光学装置にあっては、前記の電気光学装置の製造方法によって得られることから、前記材料あるいは前駆体が特に制限されることなく自由に選択して用いられることにより、材料の選択自由度が高いものとなる。
【０１４９】
本発明の電子機器にあっては、前記の電気光学装置を表示手段として備えているので、表示手段とする電気光学装置が、これを製造する際にその材料の選択自由度が高いものとなる。
【０１５０】
本発明のパターニング装置にあっては、真空チャンバー内に材料を吐出することにより、この材料を容易にかつ安定して吐出することができる。したがって、可動機構によってノズルと基体との相対的な位置を移動させつつ、前記材料あるいはその前駆体を基体上に射出することにより、マスクを特に必要とすることなくパターニングを行うことができ、また、前記材料あるいは前駆体として特に制限されることなくこれを自由に選択して用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のパターニング装置の一例の、概略構成を示す側面図である。
【図２】 本発明に係る回路基板（電子装置）の概略構成を示す側断面図である。
【図３】 （ａ）〜（ｅ）は図２に示した回路基板（電子装置）の製造方法を工程順に説明するための要部側断面図である。
【図４】 （ａ）〜（ｄ）は図３に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図５】 （ａ）〜（ｃ）は図４に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図６】 液晶セルの概略構成を説明するための側断面図である。
【図７】 電気泳動装置における、画素部の概略構成を示す要部側断面図である。
【図８】 （ａ）〜（ｃ）は電子インク層の概念的構成及び電圧印加時の動作を説明するための図である。
【図９】 図７に示した電気泳動装置によって形成される電子ペーパーの斜視図である。
【図１０】 有機半導体素子の一例の概略構成を示す側断面図である。
【図１１】 本発明に係る電気光学装置としての、有機ＥＬ素子を用いた表示装置の回路図である。
【図１２】 図１１に示した表示装置における画素部の平面構造を示す拡大平面図である。
【図１３】 （ａ）〜（ｅ）は図１１、図１２に示した表示装置の製造方法を工程順に説明するための要部側断面図である。
【図１４】 （ａ）〜（ｃ）は図１３に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図１５】 （ａ）〜（ｃ）は図１４に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図１６】 発光ダイオードを備えた電子装置の一例を説明するための要部側断面図である。
【図１７】 本発明の電気光学装置が備えられた電子機器の具体例を示す図であり、（ａ）は携帯電話に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｂ）は情報処理装置に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｃ）は腕時計型電子機器に適用した場合の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１…パターニング装置、２…真空チャンバー、３…ノズル、３ａ…ノズル孔、４…ステージ、１１…可動機構
【発明の属する技術分野】
本発明は、トランジスタ等の電子素子の製造方法、さらにはこれを備えた回路基板の製造方法、電子装置の製造方法、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及びこれらの製造方法に好適に用いられるパターニング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、トランジスタの製造方法としては、蒸着法（特開平８−２２８０３４、特開平８−２２８０３５、特開平２００１−９４１０７など）やインクジェット法（ＵＳＰ ６，０８７，１９６など）などにより、各構成要素を形成する方法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このようなトランジスタなどの電子素子の製造においては、各種構成要素に対する材料の多様化などにより、特に材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法の提供が望まれている。
そこで、本発明は、材料の選択自由度を高くした新たな製造方法を提供するとともに、この方法の実施に好適なパターニング装置を提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る第１の電子装置の製造方法は、複数の電子素子を基体上に備えた電子装置を製造する電子装置の製造方法であって、少なくとも一つの材料あるいは前記少なくとも一つの材料の前駆体を気化した状態で吐出するノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記ノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記ノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記ノズルと前記基体とを相対的に移動させつつ、気化した状態の前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体を前記基体に吐出して、複数の第１の薄膜を形成する第２の工程と、を含み、前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記ノズルから吐出された前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれており、前記第２の工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０ - １ Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていることを特徴とする。
本発明に係る第２の電子装置の製造方法は、複数の電子素子を基体上に備えた電子装置を製造する電子装置の製造方法であって、少なくとも一つの材料あるいは前記少なくとも一つの材料の前駆体を気化した状態で吐出するノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記ノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記ノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記ノズルと前記基体とを相対的に移動させ、気化した状態の前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体を前記基体の所定位置に吐出して、複数の第１の薄膜を形成する第２の工程を含み、前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記ノズルから吐出された前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれており、前記第２の工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０ - １ Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていることを特徴とする。
上記の電子装置の製造方法において、前記工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０ - ３ Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていてもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記複数の電子素子は、複数のダイオードあるいは複数のトランジスタであってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は、前記複数のトランジスタの各々のゲート電極を形成するための材料であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記少なくとも一つの材料は、半導体材料であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記少なくとも一つの材料は、絶縁材料であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記第２の工程において、前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は吐出の際に分子線状になることが好ましい。
上記の電子装置の製造方法において、前記第２の工程において、前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は、前記ノズルからキャリアガスと共に吐出されてもよい。
本発明に係る第３の電子装置の製造方法は、複数の電子素子を基体上に備えた電子装置の製造方法であって、第１の材料あるいは前記第１の材料の前駆体及び第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体を気化した状態で吐出する複数のノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記複数のノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記複数のノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記複数のノズルと前記基体とを相対的に移動させつつ、前記第１の材料あるいは前記第１の 材料の前駆体及び前記第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体を複数のノズルから同時に吐出することにより、前記基体上に、各々が前記第１の材料及び前記第２の材料を含む複数の薄膜を形成する第２の工程を含み、前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数のノズルから吐出された前記第１の材料あるいは前記第１の材料の前駆体及び前記第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、前記複数の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれることを特徴とする。
上記の電子装置の製造方法において、前記第２の工程は、前記基体が１．３３３２２×１０ -1 Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置された状態で行われてもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記第１の材料及び前記第２の材料は前記複数の薄膜の各々においてそれぞれホスト材料及びゲスト材料として機能するようにしてもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記複数の電子素子の各々は、有機エレクトロルミネッセンス素子であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層は前記第１の材料と前記第２の材料とを含み、前記第１の材料及び前記第２の材料は、それぞれ、発光物質と、前記発光物質のホストとして機能するようにしてもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記電子装置は、電気光学装置であってもよい。
上記の電子装置の製造方法において、前記電子装置は、液晶装置、電気泳動装置及び有機エレクトロルミネッセンス装置のいずれかであってもよい。
本発明に係る電子素子の製造方法は、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つの材料を備えた電子素子の製造方法であって、実質的に真空に調整された真空雰囲気中に基体を配置し、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つをノズルから前記真空雰囲気中に吐出し、前記基体上の所定位置に前記少なくとも一つの材料を配置することを特徴としている。
【０００５】
この電子素子の製造方法によれば、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つあるいはこれら材料の前駆体のうちの少なくとも一つをノズルから真空雰囲気中に吐出するので、前記材料あるいは前駆体を例えば気化した状態で、かつ理想的には分子線状に吐出することができる。したがって、前記材料あるいは前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、前記材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【０００６】
前記の電子素子の製造方法においては、電子素子がダイオードであるのが好ましい。
このようにすれば、ダイオードの形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【０００７】
前記の電子素子の製造方法においては、電子素子がトランジスタであるのが好ましい。
このようにすれば、トランジスタの形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【０００８】
前記の電子素子の製造方法においては、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つがゲート電極形成用の材料であり、基体上の所定位置に該材料を配置することによりゲート電極を形成するのが好ましい。
このようにすれば、ゲート電極の形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【０００９】
前記の電子素子の製造方法においては、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つが半導体材料であり、基体上の所定位置に該材料を配置することにより半導体層を形成するのが好ましい。
このようにすれば、半導体層の形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【００１０】
前記の電子素子の製造方法においては、前記半導体材料が有機半導体材料であるのが好ましい。
このようにすれば、半導体層の形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【００１１】
前記の電子素子の製造方法においては、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つが絶縁材料であり、基体上の所定位置に該材料を配置することによりゲート絶縁膜を形成するのが好ましい。
このようにすれば、ゲート絶縁膜の形成材料についての選択自由度を高めることができる。
【００１２】
本発明の回路基板の製造方法では、前記の電子素子の製造方法によって電子素子を複数形成することを特徴としている。
この回路基板の製造方法によれば、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【００１３】
本発明の電子装置の製造方法では、前記の電子素子の製造方法を用いることを特徴としている。
この電子装置の製造方法によれば、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【００１４】
本発明の電気光学装置の製造方法では、前記の電子素子の製造方法を用いることを特徴としている。
この電気光学装置の製造方法によれば、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【００１５】
前記の電気光学装置の製造方法では、この電気光学装置が液晶素子を備えてなるのが好ましい。
このようにすれば、液晶素子を備えてなる電気光学装置の、材料の選択自由度を高めることができる。
【００１６】
前記の電気光学装置の製造方法では、この電気光学装置が電気泳動素子を備えてなるのが好ましい。
このようにすれば、電気泳動素子を備えてなる電気光学装置の、材料の選択自由度を高めることができる。
【００１７】
前記の電気光学装置の製造方法では、この電気光学装置が有機ＥＬ素子を備えてなるのが好ましい。
このようにすれば、有機ＥＬ素子を備えてなる電気光学装置の、材料の選択自由度を高めることができる。
【００１８】
前記の、有機ＥＬ素子を備えてなる電気光学装置の製造方法では、前記材料のうちの少なくとも一つあるいは前記材料の前駆体のうちの少なくとも一つが有機ＥＬ素子における発光層、正孔注入層、正孔輸送層のうちの少なくとも一つの形成材料であり、基体上の所定位置に該材料を配置することにより有機ＥＬ素子を形成するのが好ましい。
このようにすれば、発光層、正孔注入層、正孔輸送層のうちの少なくとも一つの形成材料について、その選択自由度を高めることができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置では、前記の電気光学装置の製造方法によって得られることを特徴としている。
この電気光学装置によれば、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つあるいはこれら材料の前駆体のうちの少なくとも一つが、ノズルから真空雰囲気中に吐出されることにより、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つの材料が基体上の所定位置に配置されてなるので、前記材料あるいは前駆体が特に制限されることなく自由に選択して用いられることにより、材料の選択自由度が高いものとなる。
【００２０】
本発明の電子機器では、前記の電気光学装置を表示手段として備えてなることを特徴としている。
この電子機器によれば、表示手段とする電気光学装置が、これを製造する際にその材料の選択自由度が高いものとなる。
【００２１】
本発明のパターニング装置では、実質的に真空に調整される真空チャンバーと、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つの材料を吐出するノズルと、パターニングされる基体を載置するステージとを備えてなり、前記ノズルとステージ上の基体との位置を相対的に移動させる可動機構を備えたことを特徴としている。
このパターニング装置によれば、真空チャンバー内に材料を吐出することにより、この材料を容易にかつ安定して吐出することができる。したがって、可動機構によってノズルと基体との相対的な位置を移動させつつ、前記材料あるいはその前駆体を基体上に射出することにより、マスクを特に必要とすることなくパターニングを行うことができ、また、前記材料あるいは前駆体として特に制限されることなくこれを自由に選択して用いることができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。
図１は本発明のパターニング装置の概略構成を示す図であり、図１中符号１はパターニング装置である。このパターニング装置１は、真空チャンバー２と、この真空チャンバー２に取り付けられたノズル３と、真空チャンバー２内に設けられたステージ４とを備えて構成されたものである。
【００２３】
真空チャンバー２は、配管５を介して真空装置６に接続されたもので、その内部空間にステージ４を配設し、また被パターニング体となる基体Ｓの出し入れを行うためのドア（図示せず）を気密に取り付けたものである。なお、配管５は、その端部が真空チャンバー２内に開口しており、これによって後述する真空装置の作動により、真空チャンバー２内を排気して高真空雰囲気にし得るようになっている。
【００２４】
真空装置６は、分子ターボポンプやロータリーポンプなどが組み合わされたことによってチャンバー２内を高真空度に調整可能となるよう構成されたものである。ここで、真空チャンバー２内は、真空装置６によって好ましくは１０-3ｔｏｒｒ（１．３３３２２×１０-1Ｐａ）以下、より好ましくは１０-5ｔｏｒｒ（１．３３３２２×１０-3Ｐａ）以下の高真空雰囲気に調整されるようになっている。真空雰囲気を１０-3ｔｏｒｒ以下にすれば、例えば吐出されにくい材料についてもこれを容易に吐出することができ、１０-5ｔｏｒｒ以下にすれば、さらに多くの種類の材料を吐出可能にできるとともに、吐出する材料を気化させてこれを分子線状にし易くすることができる。なお、この真空装置６については、この装置を構成するポンプの振動が真空チャンバー２内に伝播しないよう、これらポンプを真空チャンバー２から十分に離しておくか、あるいはポンプ等に除振機能を付加させておくのが好ましい。
【００２５】
ノズル３は、ノズル孔３ａを形成した先端側が真空チャンバー２内に配置され、その後端側が真空チャンバー２の外側にて材料供給源となる材料供給室７に接続されたもので、さらにこの材料供給室７にはキャリアガス供給源８が接続されている。材料供給室７は、パターニング材料を収納保持するためのもので、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層や電子輸送層、正孔輸送層などの形成材料を、セルやルツボなどの保持具（図示せず）に保持した状態でこれを収納するものである。この材料供給室７には、前記保持具内に保持された形成材料を加熱してこれを液化させ、あるいは気化させるための加熱手段９が設けられている。加熱手段９としては、一般的な電気ヒータやＹＡＧレーザ等のレーザ、高周波加熱装置などが採用可能であり、材料に応じて、すなわち常温で液体か固体か、さらにはその沸点の高さなど気化し易さの度合いに応じて適宜に選択される。
【００２６】
キャリアガス供給源８は、主にヘリウム、アルゴン、窒素などの不活性ガスをキャリアガスとして材料供給室７に圧送するものである。なお、材料によっては、これと反応する反応性ガスをキャリアガスとして材料供給室７に圧送するようにしてもよい。材料供給室７に圧送されるキャリアガスは、材料供給源７内にて液化しあるいは気化している材料を後述する吐出機構側に同伴するものである。ここで、材料供給室７内での材料の調製、すなわち材料を液体の状態にするか気体の状態にするかといった調製については、後述するノズル３の吐出機構との関係で適宜に選択され、前記加熱手段９による加熱の度合いなどが決定されるようになっている。なお、ノズル３の吐出機構によっては、キャリアガス供給源８からのキャリアガスを使用することなく、材料を真空チャンバー２内に吐出するようにしてもよい。
【００２７】
ノズル３には、その先端部に吐出機構１０が設けられている。この吐出機構１０は、特に限定されることなく種々のタイプのものが使用可能である。例えば、一般的なメカニカルシャッターによる機構や、さらには帯電制御型、加圧振動型といった連続方式による機構、電気機械変換式（いわゆるピエゾタイプ）、電気熱変換方式、静電吸引方式といったオンデマンド方式による機構などが採用可能である。
【００２８】
ここで、メカニカルシャッターによる機構とは、ノズル孔３ａにシャッター（図示せず）を設けておき、これを機械的に開閉することで、キャリアガスに同伴され圧送されてきた材料を間欠的（パルス的）に吐出するようにしたものである。なお、キャリアガスを用いることなく、ノズル孔３ａの外側となる真空チャンバー２内とノズル３内との圧力差により、シャッターの開閉に伴ってノズル３内の材料を自発的にノズル孔３ａより吐出させるような構成としてもよい。
【００２９】
帯電制御型とは、送られてきた材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御してノズル孔３ａから吐出させるようにしたものである。また、加圧振動型とは、材料に３０ｋｇ／ｃｍ2 程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるもので、制御電圧をかけない場合に材料が直進してノズル孔３ａを吐出し、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料を飛散させてノズル孔３ａを通過しないようにしたものである。
【００３０】
また、電気機械変換方式とは、ピエゾ素子がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出してノズル孔３ａから吐出させるようにしたものである。ここで、材料を貯留する空間については、例えば材料供給室７の内部空間に連通する微小な材料貯留空間を形成するようにすればよい。
【００３１】
また、電気熱変換方式とは、一般には材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるようにしたものである。なお、本発明においては、これを加熱手段として用いることができる。
静電吸引方式とは、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すようにしたものである。
なお、これら帯電制御型、加圧振動型、電気機械変換式、電気熱変換方式、静電吸引方式といった各機構については、先のメカニカルシャッターによる機構を併用して用いることにより、材料の吐出制御をより確実に行うようにし、または間欠的な吐出を確実に行うようにしてもよい。
【００３２】
ステージ４は、前記ノズル孔３ａの直下に配置されたもので、例えば後述するように有機エレクトロルミネッセンス素子等からなる電気光学装置作製用の基体Ｓを保持固定するものである。このステージ４には、保持固定した基体Ｓを前記ノズル孔３ａに対してＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向に移動可能にする可動機構１１が設けられている。すなわち、この可動機構１１は、ノズル孔３ａに対して基体Ｓをその鉛直方向（Ｚ方向）に移動可能かつ位置決めするＺ可動部（図示せず）と、ステージ４をノズル孔３ａに対して水平方向（Ｘ方向、Ｙ方向）にそれぞれ移動させかつ位置決めするＸ可動部（図示せず）及びＹ可動部（図示せず）とを備えてなるもので、これらの可動部の動作をそれぞれ制御部（図示せず）で設定したとおりに制御できるように構成されたものである。なお、これらＸ可動部、Ｙ可動部及びＺ可動部は、例えばリニアモータによって構成されたものとなっている。
また、このステージ４には、その載置面側に水冷式等の温度調整手段（図示せず）が設けられており、これによってステージ４上の基体Ｓを所望温度に調整できるようになっている。
【００３３】
次に、このような構成のパターニング装置１によるパターニングを、電子素子の製造に適用した例について説明する。なお、ここで説明する例は、電子素子としての薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や容量素子の製造方法と、これら電子素子を複数形成してなる回路基板（本発明においては電子装置ともなる）の製造方法についての一例であり、具体的には、図２に示すように同一基板上にドライバー回路と画素部とを一体形成してなる液晶装置（電気光学装置）用のアクティブマトリクス型回路基板の製造方法についてである。ここで、図２においては、ドライバー回路を構成する基本回路としてＣＭＯＳ回路を示し、画素薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）としてダブルゲート構造のＴＦＴを示している。
【００３４】
まず、この製造方法によって得られる回路基板（電子装置）について、図２を参照してその概略構成を説明する。
図２において符号１０１は耐熱性を有する基板であり、この基板１０１には、石英基板、シリコン基板、セラミックス基板、金属基板（代表的にはステンレス基板）等が用いられている。ただし、いずれの基板が用いられていても、必要に応じて下地膜（好ましくは珪素を主成分とする絶縁膜）が設けられる。符号１０２は下地膜として設けられた酸化珪素膜であり、その上にドライバーＴＦＴの活性層、画素ＴＦＴの活性層および保持容量（容量素子）の下部電極となる半導体層が形成されている。
【００３５】
ドライバーＴＦＴの活性層は、Ｎチャネル型ＴＦＴ（以下、ＮＴＦＴという）のソース領域１０３、ドレイン領域１０４、ＬＤＤ（ライトドープトドレイン）領域１０５およびチャネル形成領域１０６、並びにＰチャネル型ＴＦＴ（以下、ＰＴＦＴという）のソース領域１０７、ドレイン領域１０８およびチャネル形成領域１０９で形成されている。
また、画素ＴＦＴ（ここではＮＴＦＴを用いる。）の活性層は、ソース領域１１０、ドレイン領域１１１、ＬＤＤ領域１１２ａ、１１２ｂおよびチャネル形成領域１１３ａ、１１３ｂで形成されている。さらに、ドレイン領域１１１から延長された半導体層が、保持容量の下部電極１１４として用いられている。
【００３６】
なお、図２では下部電極１１４が画素ＴＦＴのドレイン領域１１１と直接的に接続されているが、間接的に接続させて下部電極１１４とドレイン領域１１１とが電気的に接続するような構造としてもよい。この下部電極１１４には、半導体層に対して公知のドープ元素が添加されている。そして、活性層および保持容量の下部電極を覆ってゲート絶縁膜が形成されている。また、本例では、保持容量の誘電体１１８が、画素ＴＦＴのゲート絶縁膜１１７よりも薄く形成される。
【００３７】
このように、保持容量の下部電極１１４にドープ元素を含有させて下部電極１１４の低抵抗化を図り、さらに保持容量の誘電体を薄くすることで、容量を形成する面積を大きくすることなくキャパシティを稼ぐことができる。
また、ここでは、画素ＴＦＴのゲート絶縁膜１１７とドライバーＴＦＴのゲート絶縁膜１１５、１１６については同じ膜厚の同一絶縁膜としたが、例えば、回路特性に応じて同一基板上に異なるゲート絶縁膜を有するＴＦＴが少なくとも二種類以上存在する構成としてもよい。
【００３８】
ゲート絶縁膜１１５、１１６、１１７の上にはドライバーＴＦＴのゲート配線（ゲート電極）１１９、１２０と、画素ＴＦＴのゲート配線（ゲート電極）１２１が形成されている。また、同時に保持容量の誘電体１１８の上には保持容量の上部電極１２２が形成されており、これによって前記下部電極１１４、誘電体１１８、上部電極１２２により、保持電極（容量素子）が構成されている。ゲート配線１１９〜１２１および保持容量の上部電極１２２の形成材料としては、８００〜１１５０℃（好ましくは９００〜１１００℃）の温度に耐える耐熱性を有する導電膜が用いられている。具体的には、導電性を有する珪素膜（例えばリンドープシリコン膜、ボロンドープシリコン膜等）や金属膜（例えばタングステン膜、タンタル膜、モリブデン膜、チタン膜等）、さらには前記金属膜をシリサイド化したシリサイド膜、窒化した窒化膜（窒化タンタル膜、窒化タングステン膜、窒化チタン膜等）などが用いられ、これらは単層構造としても複数種のものを組み合わせた積層構造としてもよい。前記金属膜を用いる場合には、金属膜の酸化を防止するために珪素膜との積層構造とすることが望ましい。また、酸化防止という意味では、金属膜を窒化珪素膜で覆った構造が有効である。図２では、窒化珪素膜１２３を設けてゲート配線１１９〜１２１及び上部電極１２２の酸化を防止している。
【００３９】
また、符号１２４は第１層間絶縁膜であり、珪素を含む絶縁膜（単層または積層）で形成されている。珪素を含む絶縁膜としては、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜（酸素よりも窒素の含有量の方が多い）、窒化酸化珪素膜（窒素よりも酸素の含有量の方が多い）が用いられる。この第１層間絶縁膜１２４にはコンタクトホールが設けられており、ドライバーＴＦＴのソース配線（ソース電極）１２５、１２６、ドレイン配線（ドレイン電極）１２７、および画素ＴＦＴのソース配線（ソース電極）１２８、ドレイン配線（ドレイン電極）１２９が形成されている。その上にはパッシベーション膜１３０、第２層間絶縁膜１３１が形成され、さらにその上にはブラックマスク（遮光膜）１３２が形成されている。また、ブラックマスク１３２の上には第３層間絶縁膜１３３が形成され、コンタクトホールを設けた後、画素電極１３４が形成されている。
【００４０】
なお、図２では第２層間絶縁膜１３１上にはブラックマスク（遮光膜）１３２が形成されているが、特に限定されず、必要に応じて形成すればよい。例えば、対向基板に遮光膜を設ける構成としてもよいし、各ＴＦＴの下にゲート配線と同様の材料を用いた遮光膜を設けるような構造としてもよい。
第２層間絶縁膜１３１や第３層間絶縁膜１３３としては、比誘電率の小さい樹脂膜が好適に用いられ、具体的には、ポリイミド膜、アクリル膜、ポリアミド膜、ＢＣＢ（ベンゾシクロブテン）膜などが用いられる。
【００４１】
また、画素電極１３４としては、透過型の液晶装置を作製するのであればＩＴＯ膜に代表される透明導電膜が、反射型の液晶装置を作製するのであればアルミニウム膜に代表される反射率の高い金属膜が用いられる。
なお、図２では画素電極１３４がドレイン電極１２９を介して画素ＴＦＴのドレイン領域１１１と電気的に接続されているが、画素電極１３４とドレイン領域１１１とが直接的に接続するような構造としてもよい。
【００４２】
次に、このような構成の回路基板（電子装置）の製造方法を説明する。なお、基本的には図２に示した回路基板を形成するものの、各構成要素の符号については、説明の便宜上、図２に示した符号とは異なる符号を用いて説明する。
まず、図３（ａ）に示すように基板として石英基板２０１を用意し、その上に２０ｎｍ厚の酸化珪素膜（下地膜）２０２と非晶質珪素膜（図示せず）とを大気開放しないまま連続的に成膜する。こうすることで非晶質珪素膜の下表面に大気中に含まれるボロン等の不純物が吸着することを防ぐことができる。なお、本例では非晶質珪素（アモルファスシリコン）膜を用いたが、他の半導体膜であっても構わない。微結晶質珪素（マイクロクリスタルシリコン）膜でもよいし、非晶質シリコンゲルマニウム膜でもよい。また、下地膜及び半導体膜の形成方法としては、ＰＣＶＤ法、ＬＰＣＶＤ法またはスパッタ法等を用いることができるが、図１に示したパターニング装置１を用いた成膜法を採用することもできる。
【００４３】
次に、非晶質珪素膜の結晶化を行う。本例では結晶化手段として、特開平９−３１２２６０号公報に記載された技術を用いた。同公報に記載された技術は、珪素膜の結晶化を助長する触媒元素としてニッケル、コバルト、パラジウム、ゲルマニウム、白金、鉄、銅から選ばれた元素を用いている。すなわち、触媒元素としてニッケルを選択し、非晶質珪素膜上にニッケルを含んだ層を形成し、５５０℃、１４時間の熱処理を行って結晶化した。そして、形成された結晶質珪素（ポリシリコン）膜をパターニングして、ドライバーＴＦＴの半導体層２０３、画素ＴＦＴの半導体層２０４を形成した。
なお、ドライバーＴＦＴおよび画素ＴＦＴの半導体層を形成する前後に、結晶質珪素膜に対してＴＦＴのしきい値電圧を制御するための不純物元素（リンまたはボロン）を添加してもよい。この工程はＮＴＦＴまたはＰＴＦＴのみに行ってもよいし、双方に行ってもよい。
【００４４】
次いで、図３（ｂ）に示すように、活性層２０３ａ、２０４ａの上にレジストマスク２０５ａ、２０５ｂを形成し、ドープ元素としてリンの添加を行う。添加するリンの濃度は、５×１０18〜１×１０20ａｔｏｍｓ／ｃｍ3 とするのが好ましい。このようにして、リンが添加されてなる領域（以下、リンドープ領域という）２０３ｂ、２０４ｂが形成される。
レジストマスク２０５ａについては、後にドライバーＴＦＴのソース領域またはドレイン領域となる領域の一部（または全部）を露出させるようにして形成配置する。また、同様にレジストマスク２０５ｂについても、後に画素ＴＦＴのソース領域またはドレイン領域の一部（または全部）を露出させるようにして形成配置する。このとき、保持容量の下部電極となる領域にはレジストマスクを配置しないため、リンが全面的に添加され、リンドープ領域２０４ｂとなる。
なお、レジストマスク２０５ａ、２０５ｂを形成する前に活性層表面を酸化しておくことが好ましい。酸化珪素膜を設けておくことで、活性層とレジストマスクとの密着性を高められる他、活性層が有機物で汚染されることを防げる。
【００４５】
次に、図３（ｃ）に示すようにレジストマスク２０５ａ、２０５ｂを除去し、５００〜６５０℃の熱処理を２〜１６時間加え、珪素膜の結晶化に用いた触媒元素のゲッタリングを行う。ゲッタリング作用を奏するためには熱履歴の最高温度から±５０℃程度の温度が必要であるが、結晶化のための熱処理が５５０〜６００℃で行われるため、５００〜６５０℃の熱処理で十分にゲッタリング作用を奏することができる。
本例では、６００℃、８時間の熱処理を加えることにより、触媒元素（ニッケル）を矢印方向に移動させ、リンドープ領域２０３ｂ、２０４ｂに含まれるリンによりゲッタリングして捕獲した。このようにしてゲッタリング領域（リンドープ領域２０３ｂ、２０４ｂに対応する領域）が形成され、また、これによって２０３ａ、２０４ａで示した領域に含まれるニッケルの濃度は十分に低減される。なお、このゲッタリング領域は、保持容量の下部電極として残り、ドライバーＴＦＴ及び画素ＴＦＴのソース領域またはドレイン領域の一部または全部として残る。
【００４６】
次に、図３（ｄ）に示すようにゲート絶縁膜２０６を形成する。このゲート絶縁膜２０６の形成方法としては、図１に示したパターニング装置１を用いる方法が好適に採用される。
すなわち、前記基板２０１を図１に示した真空チャンバー２内に入れ上面側を上に向けた状態でステージ４上に載置し、さらにここに保持固定するとともに、真空装置１４を作動させて真空チャンバー４内を真空雰囲気としておく。また、必要に応じて温度調整手段（図示せず）でステージ４上の基板２０１を所望温度（ノズル孔３ａから例えば気化した状態で射出されてきた形成材料を十分に冷却して、液化あるいは固化し得る温度）に調整しておく。また、予め材料供給室７内の保持具に保持させておいたゲート絶縁膜２０６の形成材料を加熱手段９によって所定温度にまで加熱しておく。
【００４７】
ここで、ゲート絶縁膜２０６の形成材料としては、酸化珪素が好適に用いられるが、酸化珪素に加えて窒化珪素を用いるようにしてもよい。その場合、酸化珪素からなる膜の上に窒化珪素からなる膜を設けた積層構造としてもよく、また、酸化珪素に窒素を添加した酸化窒化珪素膜としてもよい。
このような形成材料を前述したように加熱手段９で所定温度にまで加熱したら、キャリアガス供給源８からヘリウム等のキャリアガスを材料供給室７に導入するとともに、前記吐出機構１０を作動させて形成材料をキャリアガスに同伴させた状態でノズル孔３ａから真空チャンバー２内に吐出させる。すると、ほぼ常圧にあるノズル３内より十分に低い圧力雰囲気である真空チャンバー２内に形成材料が吐出されることにより、この形成材料は気化した状態で吐出されることになる。なお、真空チャンバー２が特に高い真空度にある理想的な場合には、形成材料が分子線状に吐出されることもある。
【００４８】
したがって、制御部によって可動機構１１の動作を制御し、これによりノズル孔３ａと基板２０１との相対的な位置関係を予め設定したとおりに移動させることにより、この形成材料を基板２０１上の所定位置に所望量射出することができる。このようにして形成材料を基板２０１上に射出すると、この形成材料は基板２０１の温度にまで冷却されることにより、固化してここに固定される。なお、ゲート絶縁膜２０６の形成については、パターニング装置１による方法に代えて、プラズマＣＶＤ法やスパッタ法で行うようにしてもよい。このようにして形成されるゲート絶縁膜２０６は、画素ＴＦＴのゲート絶縁膜として機能するものとなり、膜厚は例えば５０〜２００ｎｍ程度に形成される。
【００４９】
ゲート絶縁膜２０６を形成したら、これを真空チャンバー２から取り出し、図３（ｅ）に示すようレジストマスク（図示せず）を設けてゲート絶縁膜を選択的に除去する。このとき、画素ＴＦＴの上にゲート絶縁膜２０６を残し、ドライバーＴＦＴおよび保持容量となる領域の上は除去する。
次いで、８００〜１１５０℃（好ましくは９００〜１１００℃）の温度で１５分〜８時間（好ましくは３０分〜２時間）の熱処理工程を、酸化性雰囲気下で行う（熱酸化工程）。この熱処理工程では、活性層の結晶粒内の欠陥等が修復されるという効果が得られるため、極めて良好な結晶性を有する結晶質珪素膜が形成される。
なお、酸化性雰囲気としては、ドライ酸素雰囲気でもウェット酸素雰囲気でもよいし、酸素雰囲気中にハロゲン元素を含ませた雰囲気でもよい。ハロゲン元素を含ませた雰囲気による熱酸化工程とした場合、ニッケルを除去する効果も期待できるので有効である。
【００５０】
こうして熱酸化工程を行うことにより保持容量となる領域において露出した半導体層の表面には、図４（ａ）に示すように厚さ５〜５０ｎｍ程度の酸化珪素膜（熱酸化膜）２０７が形成される。最終的に、酸化珪素膜２０７は保持容量の誘電体として機能し、酸化珪素膜２０６は画素ＴＦＴ及びドライバーＴＦＴのゲート絶縁膜として機能する。
なお、簡略化のため図示しないが、画素ＴＦＴ及びドライバーＴＦＴに残存した酸化珪素膜からなるゲート絶縁膜２０６と、その下の半導体層２０３、２０４との界面においても酸化反応が進行する。そのため、最終的に画素ＴＦＴのゲート絶縁膜２０６の膜厚は５０〜２００ｎｍ程度となる。
【００５１】
こうして熱酸化工程を終了したら、次に、図４（ｂ）に示すようにドライバーＴＦＴのゲート配線（ゲート電極）２０９（ＮＴＦＴ側）、２１０（ＰＴＦＴ側）、画素ＴＦＴのゲート配線（ゲート電極）２１１、保持容量の上部配線（上部電極）２１２を形成する。これらの各配線（電極）の形成についても、図１に示したパターニング装置１を用いる方法が好適に採用される。
すなわち、酸化珪素膜２０７を形成した基板２０１を図１に示した真空チャンバー２内に入れてステージ４上に載置し、先にゲート絶縁膜２０６を形成した場合と同様にして配線（電極）材料、すなわち導電材料をステージ４上の基板２０１に吐出し、各ゲート配線２０９〜２１１、上部配線２１２を形成する。このとき、制御部によって可動機構１１の動作を制御し、ノズル孔３ａと基板２０１との相対的な位置関係を予め設定したとおりに移動させることにより、各配線材料を基板２０１上の所定位置に所望量射出することができ、したがってフォトリソグラフィー工程等を必要とすることなく、各配線のパターニングを行ってゲート配線２０９〜２１１、上部配線２１２をそれぞれ形成することができる。
【００５２】
このようにして各配線が形成され、特に上部配線２１２が形成されることにより、この上部配線２１２と前記のリンドープ領域２０４ｂ、および酸化珪素膜２０７とから、本発明の電子素子となる容量素子が形成される。
配線（電極）材料、すなわち導電材料としては、導電性を有する珪素（例えばリンドープシリコン、ボロンドープシリコン等）や金属（例えばタングステン、タンタル、モリブデン、チタン等）、さらには該金属をシリサイド化した金属シリサイド、窒化した窒化金属（窒化タンタル、窒化タングステン、窒化チタン等）などが用いられる。また、これら材料は、単一の材料からなる単層構造、あるいは複数種の材料からなる積層構造のいずれにも形成可能である。
【００５３】
なお、これらゲート配線２０９〜２１１、上部配線２１２に形成にあたっても、減圧熱ＣＶＤ法等を採用することができる。
また、ゲート配線２１１は画素ＴＦＴがダブルゲート構造であるためゲート配線を２本記載しているが、実際には同一配線である。
また、ゲート配線２０９〜２１１および保持容量の上部配線２１２として、下層から珪素膜／窒化タングステン膜／タングステン膜（または下層から珪素膜／タングステンシリサイド膜）という積層膜を用いることもでき、これ以外の導電膜を用いることもできる。
【００５４】
次いで、ゲート配線２０９〜２１１および保持容量の上部配線２１２を覆って２５ｎｍ程度の厚さの窒化珪素膜２１３を形成する。この窒化珪素膜２１３の形成についても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能であり、また、ＣＶＤ法等の従来からの方法も採用可能である。この窒化珪素膜２１３は、ゲート配線２０９〜２１１および保持容量の上部配線２１２の酸化を防ぐと同時に、後に珪素膜でなるサイドウォールを除去する際にエッチングストッパーとして機能するものとなる。
このとき、窒化珪素膜２１３を形成する前処理として、水素を含むガス（例えばアンモニアガス）を用いたプラズマ処理を行うことは有効である。この前処理によりプラズマによって活性化した（励起した）水素が活性層（半導体層）内に閉じこめられるため、効果的に水素終端が行われる。
さらに、水素を含むガスに加えて亜酸化窒素ガスを加えると、発生した水分によって被処理体の表面が洗浄され、特に大気中に含まれるボロン等による汚染を効果的に防ぐことができる。
【００５５】
次いで、非晶質珪素膜（図示せず）を形成し、塩素系ガスによる異方性エッチングを行って図４（ｃ）に示すようにサイドウォール２１４〜２１８を形成する。サイドウォール２１４〜２１８を形成したら、半導体層２０３、２０４に対し、ドープ元素としてリンの添加を行う。この時、ゲート配線２０９〜２１１、保持容量の上部電極２１２およびサイドウォール２１４〜２１８がマスクとなり、自己整合的に不純物領域２１９〜２２３が形成される。不純物領域２１９〜２２３に添加するリンの濃度については、５×１０19〜１×１０21ａｔｏｍｓ／ｃｍ3 となるように調節する。なお、リンの添加工程は、質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いてもよいし、質量分離を行わないプラズマドーピング法を用いてもよい。また、本例ではサイドウォールを用いて不純物の添加を行ったが特に限定されず、サイドウォールに代えて、フォトマスクを用いたレジストマスクを用いてもよい。
【００５６】
次いで、図４（ｄ）に示すようにサイドウォール２１４〜２１８を除去し、再びリンの添加工程を行う。この工程は先のリンの添加工程よりも低いドーズ量で添加する。こうして先にはサイドウォール２１４〜２１８がマスクとなってリンが添加されなかった領域に、低濃度不純物領域が形成される。この低濃度不純物領域に添加されるリンの濃度は、５×１０17〜５×１０18ａｔｏｍｓ／ｃｍ3 となるように調節する。
また、図４（ｃ）に示した工程と同様に、リンの添加工程は質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いてもよいし、質量分離を行わないプラズマドーピング法を用いてもよい。
【００５７】
この工程によりＣＭＯＳ回路を形成するＮＴＦＴのソース領域２２４、ＬＤＤ領域２２５、チャネル形成領域２２６が形成される。また、画素ＴＦＴのソース領域２２７、ドレイン領域２２８、ＬＤＤ領域２２９ａ、２２９ｂ、チャネル形成領域２３０ａ、２３０ｂが形成され。さらに、保持容量の下部電極２３１が形成される。また、ＣＭＯＳ回路のＰＴＦＴとなる領域にもＮＴＦＴと同様に低濃度不純物領域２３２が形成される。
【００５８】
次いで、図５（ａ）に示すようにＣＭＯＳ回路のＰＴＦＴとなる領域以外をレジストマスク２３３、２３４で覆い、ドープ元素としてボロンの添加を行う。この工程では、既に添加されているリンより高濃度の不純物領域を形成するようなドーズ量で添加する。具体的には、１×１０20〜３×１０21ａｔｏｍｓ／ｃｍ3 の濃度でボロンが添加されるように調節する。その結果、ＰＴＦＴとなる領域に形成されていたＮ型導電性を呈する不純物領域は、全てボロンによって導電型が反転し、Ｐ型導電性を呈する不純物領域となる。
もちろん、ボロンの工程も質量分離を行うイオンインプランテーション法を用いてもよいし、質量分離を行わないプラズマドーピング法を用いてもよい。また、加速電圧やドーズ量の条件等は実施者が最適値を設定すればよい。
【００５９】
この工程により、ＣＭＯＳ回路を構成するＰＴＦＴのソース領域２３５、ドレイン領域２３６、チャネル形成領域２３７が形成される。また、ＣＭＯＳ回路のＮＴＦＴのドレイン領域２３８が形成される。
なお、前記ドーピング順序は本例に限定されず、例えば図４（ｂ）に示した工程後、サイドウォール２１４〜２１８の形成工程に先立ってリンを添加して低濃度不純物領域を形成する工程を行ってもよい。また、このリンの添加工程は、保持容量となる領域と、ゲート絶縁膜の膜厚が厚いドライバーＴＦＴおよび画素ＴＦＴとなる領域とで分けて行ってもよい。
【００６０】
このようにして全ての不純物領域を形成し終えたら、図５（ｂ）に示すようにレジストマスク２３３、２３４を除去する。そして、添加した不純物の活性化をレーザー光または熱処理によって行い、チャネル形成領域２３９〜２４１、ソース領域２４３〜２４５、ドレイン領域２４６〜２４８を形成する。活性化を行うだけであれば、３００〜７００℃の温度範囲で２時間程度で十分であるが、ここでは、７５０〜１１５０℃の温度範囲で２０分〜１２時間の熱処理工程を行う。この工程は、各不純物領域に添加されたリンまたはボロンを活性化すると同時に、チャネル形成領域に残存していたニッケル（結晶化時に用いた触媒元素）をリンのゲッタリング作用によってソース領域およびドレイン領域へと再度ゲッタリングする工程を兼ねたものとなっている。
【００６１】
次いで、図５（ｃ）に示すように酸化珪素膜からなる第１層間絶縁膜２４９を形成する。この第１層間絶縁膜２４９の形成についても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能であり、また、ＣＶＤ法等の従来からの方法も採用可能である。そして、この第１層間絶縁膜２４９にコンタクトホールを形成し、その後、該コンタクトホールに埋め込んだ状態でソース配線２５０〜２５２、ドレイン配線２５３、２５４を形成する。これら配線についても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能であり、この方法を用いれば、特にコンタクトホール内への配線材料の埋め込みが容易になる。すなわち、予め可動機構１１によってパターニング装置１のノズル孔３ａをコンタクトホールに対向させておき、その状態で配線材料を吐出することにより、気化した配線材料がコンタクトホール内に良好に入り込むからである。なお、このようにして形成するソース配線２５０〜２５２、ドレイン配線２５３、２５４については、例えばアルミニウムを主成分とする導電膜をチタン膜で挟んだ積層膜で形成するのが好ましく、その場合に、積層構造に合わせて材料を変え、パターニング装置１のノズル３からの吐出を行うようにする。
【００６２】
ここで、前記ドレイン配線２５３は、ＣＭＯＳ回路を形成するＮＴＦＴおよびＰＴＦＴに共通の配線として用いられる。また、前述のようにソース領域およびドレイン領域には高濃度にニッケルが含まれるため、ソース配線およびドレイン配線との良好なオーミックコンタクトが実現できる。このように各配線２５０〜２５２、２５３、２５４を形成することにより、本発明の電子素子となるドライバーＴＦＴおよび画素ＴＦＴが形成される。
その後、パッシベーション膜２５５を形成する。パッシベーション膜２５５としては、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、またはこれらの絶縁膜と酸化珪素膜との積層膜を用いることができる。このようなパッシベーション膜２５５の形成にあたっても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。
【００６３】
なお、窒化珪素膜を形成する前処理として、アンモニアガスを用いたプラズマ処理を行い、その後パッシベーション膜２５５を形成するようにしてもよい。このような前処理を行うと、プラズマで活性化した（励起した）水素がパッシベーション膜２５５によって閉じこめられるため、ＴＦＴの活性層（半導体層）の水素終端が促進される。さらに、水素を含むガスに加えて亜酸化窒素ガスを加えると、発生した水分によって被処理体の表面が洗浄され、特に大気中に含まれるボロン等による汚染を効果的に防ぐことができる。
【００６４】
次いで、第２層間絶縁膜２５６として例えば１μｍ厚のアクリル膜を形成する。そして、その上にチタン膜を２００ｎｍの厚さに形成してパターニングを行い、ブラックマスク２５７を形成する。ここで、これら第２層間絶縁膜２５６やブラックマスク２５７の形成にあたっても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。その場合、特にブラックマスク２５７の形成にあたっては、フォトリソグラフィー工程やエッチング工程を必要とすることなく、直接パターニングを行うことができる。
その後、第３層間絶縁膜２５８として再びアクリル膜を形成してコンタクトホールを形成し、ＩＴＯ膜でなる画素電極２５９を形成することにより、回路基板が得られる。なお、この画素電極２５９の形成にあたっても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。
【００６５】
また、この回路基板上に公知の液晶セルを設けて液晶素子を形成することにより、本発明において電気光学装置として定義される液晶装置となる。図６は、このような液晶素子を形成するための液晶セルの構造を説明するための図であり、図６中符号２６０は対向基板である。この対向基板２６０は、前記の回路基板（図示せず）と反対の側に配置されるもので、ガラス基板や石英基板等の透明基板からなるものである。この対向基板２６０の内面側には、対向基板２６０側から入射する光を前記の回路基板（図示せず）側に集光するためのマイクロレンズ２６１が多数設けられており、これらマイクロレンズ２６１を形成した側には、接着剤２６２によってカバーガラス２６３が貼着されている。
【００６６】
このカバーガラス２６３の内面側には、前記マイクロレンズ２６１間の境界と対応する位置にそれぞれ遮光膜２６４が形成されており、さらにこれを覆った状態でカバーガラス２６３のほぼ全面にＩＴＯ等の透明導電性材料からなる対向電極２６５が形成されている。そして、この対向電極２６５の内面側にポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる配向膜２６６が形成され、さらにこのように形成された対向基板２６０と前記回路基板との間に液晶２６７が封止されることにより、液晶装置が構成される。
このような構成からなる液晶装置の製造においても、その液晶セルにおける各構成要素、例えば遮光膜２６４や対向電極２６５、配向膜２６６等の形成において、前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。
【００６７】
また、前記の回路基板は、液晶装置以外の電気光学装置として、例えば電気泳動装置にも適用可能である。電気泳動装置は、液体中に分散した帯電粒子が電界印加により泳動する電気泳動現象と称される現象を利用するもので、例えば染料で着色した分散液に帯電した顔料微粒子を分散させ、これを一対の電極間に挟んでセルを形成し、これによって電気泳動素子としたものである。
【００６８】
図７は、このような電気泳動装置における画素部の断面構造を示す図であり、この電気泳動装置は、基本的に図２に示した回路基板と同じ構成からなる回路基板３００上に対向基板３０１が貼設されて構成されたものである。
この対向基板３０１には共通電極３０２が形成されており、この共通電極３０２と画素電極３０３との間には電子インク層３０４が配設されている。画素電極３０３には、回路基板３００に形成されたスイッチング素子となるＴＦＴ（図示せず）のドレイン電極（図示せず）が接続されており、これによって印加する電圧を制御し、共通電極３０２との間の電子インク層にかかる電界を制御することができるようになっている。なお、この例では、共通電極３０２と画素電極３０３とのうちの少なくとも一方が透明電極となっており、電気泳動装置の表示面はこの透明電極側となっている。
【００６９】
電子インク層３０４は、図８（ａ）に示すように光透過性を有する透明なバインダ３０５と、このバインダ３０５の内部に均一かつ固定状態で分散させられた複数のマイクロカプセル３０６とから構成されたものである。電子インク層３０４は、その厚さがマイクロカプセル３０６の外経（直径）の１．５〜２倍程度に形成されており、バインダ３０５は、シリコン樹脂等によって形成されている。マイクロカプセル３０６は、光透過性を有する中空で球状のカプセル本体３０７と、その内部に充填された液体（溶媒）３０８と、この液体３０８中に分散させられた複数の帯電粒子３０９とからなるもので、液体３０８と帯電粒子３０９とがほぼ同じ比重に形成されたものである。帯電粒子３０９は負に帯電させたもので、核３１０とこの核３１０を被覆する被覆層３１１とから形成されている。このような帯電粒子３０９と前記液体３０８とは、それぞれの色が相互に異なるように設定されており、例えば、帯電粒子３０９の色は白、液体３０８の色は青、赤、緑、又は黒といったように形成される。
【００７０】
このような構成からなる電気泳動装置にあっては、マイクロカプセル３０６に外部から電界が印加されると、帯電粒子３０９がマイクロカプセル３０６内にて前記電界の方向と反対の方向に移動する。その結果、例えば図６において表示面が上側面（対向基板３０１側の面）であるとすると、帯電粒子３０９が図７において上側に移動した場合、液体３０８の色（例えば青、赤、緑、又は黒）を背景として浮き出る帯電粒子３０９の色（例えば白）が見えることになる（図８（ｂ）参照）。逆に、電界印加に伴って帯電粒子３０９が図７中の下側（回路基板３００側）に移動した場合、液体３０８の色（例えば青、赤、緑、又は黒）のみが見えることになる（図８（ｃ）参照）。なお、電界印加によってその電界方向とは反対の方向に移動させられた帯電粒子３０９は、その比重が液体３０８とほぼ同じであるので、電界を消失させた後もその位置に長い時間留まろうとする。すなわちち、表示面に現れた帯電粒子３０９又は液体３０８の色は暫くの間（数分から数十分）保持され、メモリ性を有することになる。従って電界の印加を画素毎に制御することで、その印加パターンに沿った情報が表示されることになるが、その情報も比較的長時間保持されるようになっているのである。
【００７１】
このような電気泳動装置においても、その回路基板については前述したとおり図１のパターニング装置１を用いる方法が採用可能であり、また、電気泳動素子を形成するセル側についても、例えばその共通電極の形成などに図１のパターニング装置１を用いる方法が採用可能である。
また、このような電気泳動装置を表示部に適用した、例えば電子ペーパーのように柔軟性が要求される電子機器では、駆動素子を形成する回路基板について、特に前記駆動素子となる薄膜トランジスタとして、少なくともチャネル部が有機膜で形成された有機半導体素子を用いたものとするのが好ましい。なお、電子ペーパーとは、図９に示すように紙と同様の質感および柔軟性を有するリライタブルシート３２０と、前記した電気泳動装置からなる表示装置３２１とを備えて構成されたものである。
【００７２】
前記の有機半導体素子としては、例えば図１０に示すような構成のものがある。図１０において符号３５０は基板であり、この基板３５０上にはゲート電極３５１が形成されている。また、基板３５０上にはゲート電極３５１を覆った状態で高誘電率の絶縁体からなるゲート絶縁膜３５２が形成され、このゲート絶縁膜３５２上には有機半導体層３５３が形成されている。そして、この有機半導体層３５３上にソース電極３５４およびドレイン電極３５５が形成されることにより、薄膜トランジスタとなる有機半導体素子が形成される。
【００７３】
このような有機半導体素子の製造には、特に前記の図１に示したパターニング装置１を用いる方法が好適に採用される。すなわち、まず、基板３５０上にゲート電極材料を設けてゲート電極３５１を形成するが、この形成にもパターニング装置１が好適に用いられる。パターニング装置１によってゲート電極３５１を形成するには、まず、前記基板２０１を真空チャンバー２内に入れ上面側を上に向けた状態でステージ４上に載置し、さらにここに保持固定させる。また、必要に応じて温度調整手段（図示せず）でステージ４上の基板２０１を所望温度（ノズル孔３ａから例えば気化した状態で射出されてきた形成材料を十分に冷却して、液化あるいは固化し得る温度）に調整しておく。また、予め材料供給室７内の保持具に保持させておいたゲート電極３５１の形成材料を加熱手段９によって所定温度にまで加熱しておく。
【００７４】
ここで、ゲート電極３５１形成用の材料としては、例えばクロム、チタン、銅、アルミニウム、モリブデン、タングステン、ニッケル、金、白金、パラジウム、インジウム等の金属やこれら金属を用いた合金、ポリシリコン、アモルファスシリコン、錫酸化物、酸化インジウム、インジウム・錫酸化物（ＩＴＯ）等の無機材料、また、導電性ポリアニリン、導電性ポリピロール、導電性ポリチオフェン等の有機材料が用いられ、これらのうちの一種あるいは複数種が選択されて用いられる。
このような形成材料を前述したように加熱手段９で所定温度、すなわち材料に応じた適宜な温度にまで加熱したら、キャリアガス供給源８からヘリウム等のキャリアガスを材料供給室７に導入するとともに、前記吐出機構１０を作動させて形成材料をキャリアガスに同伴させた状態でノズル孔３ａから真空チャンバー２内に吐出させる。すると、ほぼ常圧にあるノズル３内より十分に低い圧力雰囲気である真空チャンバー２内に形成材料が吐出されることにより、この形成材料は気化した状態で吐出されることになる。なお、真空チャンバー２が特に高い真空度にある理想的な場合には、形成材料が分子線状に吐出されることもある。
【００７５】
したがって、制御部によって可動機構１１の動作を制御し、これによりノズル孔３ａと基板２０１との相対的な位置関係を予め設定したとおりに移動させることにより、この形成材料を基板３５０上の所定位置に所望量射出することができる。このようにして形成材料を基板３５０上に射出すると、この形成材料は基板３５０の温度にまで冷却されることにより、固化してここに固定される。
このようにしてパターニング装置１でゲート電極３５１を形成すれば、マスクを必要とすることなく、したがってフォトリソグラフィー工程等を必要とすることなく、ゲート電極３５１を所望パターンに形成することができる。
【００７６】
次に、このゲート電極３５１を覆った状態にゲート絶縁膜３５２を形成するが、このゲート絶縁膜３５２の形成にも、前記の図１に示したパターニング装置１が好適に用いられる。ゲート絶縁膜３５２の形成材料としては、限定されることなく種々のものが使用可能であるが、特に高誘電率の絶縁体として、金属酸化物薄膜、好ましくはチタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、フッ化バリウムマグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、タンタル酸ニオブ酸ストロンチウムビスマス、ペントオキサイドタンタル、ジオキサイドチタン、トリオキサイドイットリウム、酸化タンタル、酸化バナジウム、酸化チタンなどの無機材料が好適に用いられる。また、ポリクロロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリオキシメチレン、ポリビニルクロライド、ポリフッ化ビニリデン、シアノエチルプルラン、ポリメチルメタクリレート、ポリサルファン、ポリカーボネート、ポリイミド等の有機材料も使用可能である。なお、特に前記の無機材料によってゲート絶縁膜３５２を形成する場合には、成膜後、さらにこれに１５０〜４００℃の範囲の適宜な温度でアニール処理を行うのが、膜品質を改善し、誘電率を増大させることができ好ましい。
【００７７】
次いで、このゲート絶縁膜３５２上に有機半導体層３５３を形成するが、この有機半導体層３５３の形成にも、前記の図１に示したパターニング装置１が好適に用いられる。有機半導体層３５３の形成材料としては、ゲート電圧が増加するにしたがって電界効果移動度の増大を示すポリマ半導体またはオリゴマー半導体が用いられ、具体的には、ナフタレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ヘキサセン、およびその誘導体や、ポリアセチレンのうちの１種以上が用いられる。また、特にｐ−チャネル用とされる場合には、２〜５個の炭素原子を介して結合された、オリゴ重合度が４以上８以下のチオフェンのオリゴマー；２〜５個の炭素原子を介して結合された、３〜６個のチオフェン環と末端基としてチオフェンを有するビニレンと、チエニレンとの交互共オリゴマー；ベンゾ［１，２−ｂ：４，５’］ジチオフェンの線状ダイマー及びトリマー；末端のチオフェンの４個又は５個の炭素原子上に置換基（例えば、炭素原子を１〜２０個有するアルキル置換基）を有する前記オリゴマー；ポリマーマトリックス中のｐ、ｐ’−ジアミノビフェニル複合体なども使用可能であり、特にα−ヘキサチエニレン（α−６Ｔ）が好適に用いられる。また、特にｐ−チャネル用とされる場合には、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボキシルジアンヒドライド（ＮＴＣＤＡ：naphthalene tetracarboxylic dianhydride ）、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボキシルジイミド（ＮＴＣＤＩ：naphthalene tetracarboxylic diimide ）、１１，１１，１２，１２−テトラシアノナフト−２，６−キノジメタン（ＴＣＮＮＱＤ：tetracyanonaphtho-2,6-quinodimethane）なども使用可能である。このような有機半導体材料を前記のパターニング装置１によって成膜した場合、特に溶剤を必要とすることなく直接これを基板３５０のゲート絶縁膜３５２上に成膜することができることから、処理が容易になり、また得られる膜質も溶剤に起因する劣化等がなく良好なものとなる。
【００７８】
その後、この有機半導体層３５３上にソース電極３５４およびドレイン電極３５５を形成するが、これらソース・ドレイン電極３５４、３５５の形成にも、図１に示したパターニング装置１が好適に用いられる。ソース・ドレイン電極３５４、３５５をパターニング装置１で形成すれば、前記のゲート電極３５１の場合と同様に、マスクを必要とすることなくこれらを所望パターンに形成することができる。なお、ソース・ドレイン電極３５４、３５５の形成材料としては、前記のゲート電極３５１に用いられる材料と同様の材料が使用可能である。
【００７９】
このようにして得られた有機半導体素子、すなわち本発明において電子素子となる有機半導体素子は、その構成要素の少なくとも一つが前記パターニング装置１によって形成されることにより、その材料選択の自由度が高まり、したがってより良好な組み合わせで素子を構成することができる。
【００８０】
また、本発明の電気光学装置としては、前記の液晶装置や電気泳動装置以外にも、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を備えてなる表示装置に適用可能である。
図１１、図１２は本発明の電気光学装置を、有機ＥＬ素子を用いたアクティブマトリクス型の表示装置に適用した場合の一例を示すもので、これらの図において符号２０は表示装置である。
【００８１】
この表示装置２０は、回路図である図１１に示すように透明の基体上に、複数の走査線３１と、これら走査線３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線３２と、これら信号線３２に並列に延びる複数の共通給電線３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線３１及び信号線３２の各交点毎に、画素（画素領域素）１Ａが設けられて構成されたものである。
信号線３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ側駆動回路２１が設けられている。一方、走査線３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路２２が設けられている。また、画素領域２０Ａの各々には、走査線３１を介して走査信号がゲート電極に供給される第１の薄膜トランジスタ４２と、この第１の薄膜トランジスタ４２を介して信号線３２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される第２の薄膜トランジスタ４３と、この第２の薄膜トランジスタ４３を介して共通給電線３３に電気的に接続したときに共通給電線３３から駆動電流が流れ込む画素電極４１と、この画素電極４１と対向電極５４との間に挟み込まれる発光部４０と、が設けられている。
【００８２】
このような構成のもとに、走査線３１が駆動されて第１の薄膜トランジスタ４２がオンとなると、そのときの信号線３２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、第２の薄膜トランジスタ４３の導通状態が決まる。そして、第２の薄膜トランジスタ４３のチャネルを介して共通給電線３３から画素電極４１に電流が流れ、さらに発光部４０を通じて対向電極５４に電流が流れることにより、発光部４０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。ここで、各画素２０Ａの平面構造は、対向電極や有機エレクトロルミネッセンス素子を取り除いた状態での拡大平面図である図１２に示すように、平面形状が長方形の画素電極４１の四辺が、信号線３２、共通給電線３３、走査線３１及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。
【００８３】
次に、このような表示装置２０の製造方法について、図１３〜図１５を用いて説明する。なお、図１３〜図１５では、説明を簡略化するべく、単一の画素２０Ａについてのみ図示する。
まず、基板を用意する。ここで、有機エレクトロルミネッセンス素子では後述する発光層による発光光を基板側から取り出すことも可能であり、また基板と反対側から取り出す構成とすることも可能である。発光光を基板側から取り出す構成とする場合、基板材料としてはガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明なものが用いられるが、特に安価なソーダガラスが好適に用いられる。ソーダガラスを用いた場合、これにシリカコートを施すのが、酸アルカリに弱いソーダガラスを保護する効果を有し、さらに基板の平坦性をよくする効果も有するため好ましい。
また、基板に色フィルター膜や発光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を配置して、発光色を制御するようにしてもよい。また、基板と反対側から発光光を取り出す構成の場合、基板は不透明であってもよく、その場合、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。
【００８４】
本例では、基板として図１３（ａ）に示すようにソーダガラス等からなる透明基板２３を用意する。そして、これに対し、必要に応じてＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約２００〜５００ｎｍのシリコン酸化膜からなる下地保護膜（図示せず）を形成する。
次に、透明基板２３の温度を約３５０℃に設定して、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により厚さ約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコン膜からなる半導体膜２４を形成する。
【００８５】
続いて、この半導体膜２４に対してレーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を行い、半導体膜２４をポリシリコン膜に結晶化する。レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は例えば２００ｍＪ／ｃｍ2 とする。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
次いで、図１３（ｂ）に示すように、半導体膜（ポリシリコン膜）２４をパターニングして島状の半導体膜２５とする。なお、この島状の半導体膜２５の形成にも、前記の図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能であり、この方法によって形成した場合、リソグラフィー工程、エッチング工程等によるパターニングの工程を不要にすることができる。
【００８６】
次いで、その表面に対しＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料として、プラズマＣＶＤ法により厚さ約６０〜１５０ｎｍのシリコン酸化膜または窒化膜からなるゲート絶縁膜２６を形成する。なお、このゲート絶縁膜２６の形成についても、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能である。ここで、半導体膜２５は、図１１に示した第２の薄膜トランジスタ４３のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においては第１の薄膜トランジスタ４２のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となる半導体膜も形成されている。つまり、図１３〜図１５に示す製造工程では二種類のトランジスタ４２、４３が同時に作られるのであるが、同じ手順で作られるため、以下の説明ではトランジスタに関しては、第２の薄膜トランジスタ４３についてのみ説明し、第１の薄膜トランジスタ４２についてはその説明を省略する。
【００８７】
次いで、図１３（ｃ）に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属からなる導電膜をスパッタ法により形成し、続いてこれをパターニングして、ゲート電極４３Ａを形成する。なお、このゲート電極４３Ａの形成にも、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能である。この方法によって形成すれば、ゲート電極４３Ａを直接所望形状に形成できるため、リソグラフィー工程、エッチング工程等によるパターニングの工程を不要にすることができる。
次いで、ゲート電極４３Ａを形成した状態で高濃度のリンイオンを打ち込み、半導体膜２５に、ゲート電極４３Ａに対して自己整合的にソース・ドレイン領域４３ａ、４３ｂを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域４３ｃとなる。
【００８８】
次いで、図１３（ｄ）に示すように、層間絶縁膜２７を形成した後、コンタクトホール６０、６１を形成し、これらコンタクトホール６０、６１内に中継電極６２、６３を埋め込む。このような中継電極６２、６３の埋め込みに対しても、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能であり、この方法を用いれば、前述したようにコンタクトホール内への電極材料の埋め込みが容易になる。すなわち、予め可動機構１１によってパターニング装置１のノズル孔３ａをコンタクトホール６０（６１）に対向させておき、その状態で電極材料を吐出することにより、気化した電極材料がコンタクトホール６０（６１）内に良好に入り込むからである。
【００８９】
次いで、図１３（ｅ）に示すように、層間絶縁膜２７上に、信号線３２、共通給電線３３及び走査線（図１３に示さず）を、図１に示したパターニング装置１を用いた方法、あるいはスパッタ法等による成膜法とフォトリソグラフィー及びエッチングによるパターニング法とからなる一連の方法で形成する。このとき、信号線３２、共通給電線３３及び走査線の各配線については、配線として必要な厚さに捕らわれることなく、後述するようにこれらを隔壁として機能させるべく十分に厚く形成する。具体的には、各配線を１〜２μｍ程度の厚さに形成する。ここで、これら各配線と前記の中継電極６３とは、同一工程で形成してもよく、その場合にも、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が好適に採用される。なお、その場合に中継電極６２については、後述する透明電極材料によって形成されることになる。
【００９０】
そして、各配線の上面をも覆うように層間絶縁膜２８を形成し、中継電極６２に対応する位置にコンタクトホール（図示せず）を形成し、そのコンタクトホール内にも埋め込まれるようにＩＴＯやフッ素をドープしてなるＳｎＯ2 、さらにＺｎＯやポリアニリン等の透明電極材料からなる膜を形成し、さらにこの膜をパターニングして、信号線３２、共通給電線３３及び走査線（図示せず）に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域４３ａに電気的に接続する画素電極４１を形成する。なお、この画素電極４１の形成にも、図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能であり、この方法によって形成すれば、前述したようにリソグラフィー工程、エッチング工程等によるパターニングの工程を不要にすることができる。
【００９１】
ここで、信号線３２及び共通給電線３３、さらには走査線（図示せず）に挟まれた部分が、後述するように正孔輸送層や発光層の形成場所となっている。すなわち、これら配線とこれを覆う層間絶縁膜２８とから、画素２０Ａ間を隔てる隔壁５０が形成されているのである。そして、このような構成のもとに、正孔輸送層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布（射出）位置とその周囲の隔壁５０との間には、十分な高さの段差５５が形成されているのである。
このようにして各配線からなる隔壁５０を形成したら、隔壁５０に囲まれた画素２０Ａ内に正孔輸送層を形成する。この正孔輸送層、さらには後述する発光層については、特に図１に示したパターニング装置１を用いた方法が好適に用いられる。パターニング装置１によって正孔輸送層を形成するには、まず、基板２３を真空チャンバー２内に入れ上面側を上に向けた状態でステージ４上に載置し、さらにここに保持固定させる。また、必要に応じて温度調整手段（図示せず）でステージ４上の基板２３を所望温度に、すなわちノズル孔３ａから例えば気化した状態で射出されてきた形成材料を十分に冷却して、液化あるいは固化し得る温度に調整しておく。また、予め材料供給室７内の保持具に保持させておいた正孔輸送層の形成材料を加熱手段９によって所定温度にまで加熱しておく。
【００９２】
ここで、正孔輸送層の形成材料としては、特に限定されることなく公知のものが使用可能であり、例えばピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物等が挙げられる。具体的には、特開昭６３−７０２５７号、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号、同２−１３５３６１号、同２−２０９９８８号、同３−３７９９２号、同３−１５２１８４号公報に記載されているもの等が例示されるが、トリフェニルジアミン誘導体が好ましく、中でも４，４’−ビス（Ｎ（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニルが好適とされる。
なお、正孔輸送層に代えて正孔注入層を形成するようにしてもよく、さらに正孔注入層と正孔輸送層を両方形成するようにしてもよい。その場合、正孔注入層の形成材料としては、例えば銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）や、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム等が挙げられるが、特に銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を用いるのが好ましい。
【００９３】
このような形成材料を前述したように加熱手段９で所定温度にまで加熱したら、キャリアガス供給源８からヘリウム等のキャリアガスを材料供給室７に導入するとともに、前記吐出機構１０を作動させて形成材料をキャリアガスに同伴させた状態でノズル孔３ａから真空チャンバー２内に吐出させる。すると、ほぼ常圧にあるノズル３内より十分に低い圧力雰囲気である真空チャンバー２内に形成材料が吐出されることにより、図１４（ａ）に示すようにこの形成材料は気化した状態で吐出されることになる。
したがって、制御部によって可動機構１１の動作を制御し、これによりノズル孔３ａと基板２３との相対的な位置関係を予め設定したとおりに移動させることにより、この形成材料５６を基板２３上の所定位置、すなわち隔壁５０に囲まれた各画素２０Ａの領域に所望量射出することができる。このようにして形成材料を画素２０Ａ上に射出すると、この形成材料は基板２３の温度にまで冷却されることにより、液化しあるいは固化してここに固定される。このとき、吐出された形成材料５６が基板２３上にて液状となった場合には、その流動性によって水平方向に広がろうとするものの、射出された位置を囲んで隔壁５０が形成されていることにより、形成材料５６は隔壁５０を越えてその外側に広がることが防止されている。
【００９４】
このように吐出された形成材料５６が基板２３上にて液化した場合には、基板２３を真空チャンバー２内から一旦出し、必要に応じて冷却あるいは光照射等の処理を行うことにより、図１４（ｂ）に示すように画素電極４１上に、固状の正孔輸送層４０Ａを形成することもできる。ここで、吐出された形成材料５６が基板２３上にて固化した場合には、前記の処理を行うことなく、続けて発光層の形成を行う。
なお、このような正孔輸送層４０Ａの形成に代えて、前述したように銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）等を用いて正孔注入層を形成するようにしてもよい。また、特に正孔輸送層４０Ａの形成に先立って正孔注入層を画素電極４１側に形成し、さらに正孔輸送層４０Ａを形成するのが好ましい。このように正孔注入層を正孔輸送層４０Ａとともに形成することにより、駆動電圧の上昇を制御することができるとともに、駆動寿命（半減期）を長くすることもできる。
【００９５】
次いで、先の正孔輸送層（及び／又は正孔注入層）の形成材料の場合と同様にして、図１４（ｃ）に示すようにパターニング装置１により発光層の形成材料５７を基板２３上に吐出（射出）し、これによって図１５（ａ）に示すように発光層４０Ｂを形成する。発光層の形成材料５７としては、特に限定されることなく、低分子の有機発光色素や高分子発光体、すなわち各種の蛍光物質や燐光物質からなる発光物質が使用可能である。発光物質となる共役系高分子の中ではアリーレンビニレン構造を含むものが特に好ましい。低分子蛍光体では、例えばナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ペリレン誘導体、ポリメチン系、キサテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、８−ヒドロキノリンおよびその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン誘導体等、または特開昭５７−５１７８１、同５９−１９４３９３号公報等に記載されている公知のものが使用可能である。
【００９６】
発光層の形成材料として高分子蛍光体を用いる場合には、側鎖に蛍光基を有する高分子を用いることができるが、好ましくは共役系構造を主鎖に含むもので、特に、ポリチオフェン、ポリ−ｐ−フェニレン、ポリアリーレンビニレン、ポリフルオレンおよびその誘導体が好ましい。中でもポリアリーレンビニレンおよびその誘導体が好ましい。該ポリアリーレンビニレンおよびその誘導体は、下記化学式（１）で示される繰り返し単位を全繰り返し単位の５０モル％以上含む重合体である。繰り返し単位の構造にもよるが、化学式（１）で示される繰り返し単位が全繰り返し単位の７０％以上であることがさらに好ましい。
−Ａｒ−ＣＲ＝ＣＲ’− （１）
〔ここで、Ａｒは、共役結合に関与する炭素原子数が４個以上２０個以下からなるアリーレン基または複素環化合物基、Ｒ、Ｒ’はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数４〜２０の複素環化合物、シアノ基からなる群から選ばれた基を示す。〕
【００９７】
該高分子蛍光体は、化学式（１）で示される繰り返し単位以外の繰り返し単位として、芳香族化合物基またはその誘導体、複素環化合物基またはその誘導体、およびそれらを組み合わせて得られる基などを含んでいてもよい。また、化学式（１）で示される繰り返し単位や他の繰り返し単位が、エーテル基、エステル基、アミド基、イミド基などを有する非共役の単位で連結されていてもよいし、繰り返し単位にそれらの非共役部分が含まれていてもよい。
前記高分子蛍光体において化学式（１）のＡｒとしては、共役結合に関与する炭素原子数が４個以上２０個以下からなるアリーレン基または複素環化合物基であり、下記の化学式（２）で示す芳香族化合物基またはその誘導体基、複素環化合物基またはその誘導体基、およびそれらを組み合わせて得られる基などが例示される。
【００９８】
【化１】
【００９９】
これらのなかでフェニレン基、置換フェニレン基、ビフェニレン基、置換ビフェニレン基、ナフタレンジイル基、置換ナフタレンジイル基、アントラセン−９，１０−ジイル基、置換アントラセン−９，１０−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、置換ピリジン−２，５−ジイル基、チエニレン基および置換チエニレン基が好ましい。さらに好ましくは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレンジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、チエニレン基である。
【０１００】
化学式（１）のＲ、Ｒ’が水素またはシアノ基以外の置換基である場合について述べると、炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ラウリル基などが挙げられ、メチル基、エチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基が好ましい。アリール基としては、フェニル基、４−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル基（Ｃ１〜Ｃ１２は炭素数１〜１２であることを示す。以下も同様である。）、４−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基などが例示される。
溶媒可溶性の観点からは化学式（１）のＡｒが、１つ以上の炭素数４〜２０のアルキル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基、炭素数６〜１８のアリール基およびアリールオキシ基ならびに炭素数４〜１４の複素環化合物基から選ばれた基を有していることが好ましい。
【０１０１】
これらの置換基としては以下のものが例示される。炭素数４〜２０のアルキル基としては、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ラウリル基などが挙げられ、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基が好ましい。また、炭素数４〜２０のアルコキシ基としては、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ラウリルオキシ基などが挙げられ、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基が好ましい。炭素数４〜２０のアルキルチオ基としては、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、デシルオキシ基、ラウリルチオ基などが挙げられ、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基が好ましい。アリール基としては、フェニル基、４−Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシフェニル基、４−Ｃ１〜Ｃ１２アルキルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基などが例示される。アリールオキシ基としては、フェノキシ基が例示される。複素環化合物基としては２−チエニル基、２−ピロリル基、２−フリル基、２−、３−または４−ピリジル基などが例示される。これら置換基の数は、該高分子蛍光体の分子量と繰り返し単位の構成によっても異なるが、溶解性の高い高分子蛍光体を得る観点から、これらの置換基が分子量６００当たり１つ以上であることがより好ましい。
【０１０２】
なお、前記高分子蛍光体は、ランダム、ブロックまたはグラフト共重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有する高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体であってもよい。蛍光の量子収率の高い高分子蛍光体を得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性を帯びたランダム共重合体やブロックまたはグラフト共重合体が好ましい。また、ここで形成する有機エレクトロルミネッセンス素子は、薄膜からの蛍光を利用することから、該高分子蛍光体は固体状態で蛍光を有するものが用いられる。
【０１０３】
該高分子蛍光体に対して溶媒を使用する場合に、好適なものとしては、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが例示される。高分子蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれらの溶媒に０．１ｗｔ％以上溶解させることができる。
また、前記高分子蛍光体としては、分子量がポリスチレン換算で１０3 〜１０7 であることが好ましく、それらの重合度は繰り返し構造やその割合によっても変わる。成膜性の点から一般には繰り返し構造の合計数で好ましくは４〜１００００、さらに好ましくは５〜３０００、特に好ましくは１０〜２０００である。
【０１０４】
このような高分子蛍光体の合成法としては、特に限定されないものの、例えばアリーレン基にアルデヒド基が２つ結合したジアルデヒド化合物と、アリーレン基にハロゲン化メチル基が２つ結合した化合物とトリフェニルホスフィンとから得られるジホスホニウム塩からのＷｉｔｔｉｇ反応が例示される。また、他の合成法としては、アリーレン基にハロゲン化メチル基が２つ結合した化合物からの脱ハロゲン化水素法が例示される。さらに、アリーレン基にハロゲン化メチル基が２つ結合した化合物のスルホニウム塩をアルカリで重合して得られる中間体から熱処理により該高分子蛍光体を得るスルホニウム塩分解法が例示される。いずれの合成法においても、モノマーとして、アリーレン基以外の骨格を有する化合物を加え、その存在割合を変えることにより、生成する高分子蛍光体に含まれる繰り返し単位の構造を変えることができるので、化学式（１）で示される繰り返し単位が５０モル％以上となるように加減して仕込み、共重合してもよい。これらのうち、Ｗｉｔｔｉｇ反応による方法が、反応の制御や収率の点で好ましい。
【０１０５】
さらに具体的に、前記高分子蛍光体の１つの例であるアリーレンビニレン系共重合体の合成法を説明する。例えば、Ｗｉｔｔｉｇ反応により高分子蛍光体を得る場合には、例えばまず、ビス（ハロゲン化メチル）化合物、より具体的には、例えば２，５−ジオクチルオキシ−ｐ−キシリレンジブロミドをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶媒中、トリフェニルホスフィンと反応させてホスホニウム塩を合成し、これとジアルデヒド化合物、より具体的には、例えば、テレフタルアルデヒドとを、例えばエチルアルコール中、リチウムエトキシドを用いて縮合させるＷｉｔｔｉｇ反応により、フェニレンビニレン基と２，５−ジオクチルオキシ−ｐ−フェニレンビニレン基を含む高分子蛍光体が得られる。このとき、共重合体を得るために２種類以上のジホスホニウム塩および／または２種類以上のジアルデヒド化合物を反応させてもよい。
これらの高分子蛍光体を発光層の形成材料として用いる場合、その純度が発光特性に影響を与えるため、合成後、再沈精製、クロマトグラフによる分別等の純化処理をすることが望ましい。
【０１０６】
また、前記の高分子蛍光体からなる発光層の形成材料としては、フルカラー表示をなすため、赤、緑、青の三色の発光層形成材料が用いられ、それぞれがパターニング装置１によって予め設定された位置の画素２０Ａに射出され、パターニングされる。
なお、前記の発光物質としては、ホスト材料にゲスト材料を添加した形態のものを用いることもできる。
【０１０７】
このような発光材料としては、ホスト材料として例えば高分子有機化合物や低分子材料が、またゲスト材料として得られる発光層の発光特性を変化させるための蛍光色素、あるいは燐光物質を含んでなるものが好適に用いられる。
高分子有機化合物としては、溶解性の低い材料の場合、例えば前駆体が塗布された後、以下の化学式（３）に示すように加熱硬化されることによって共役系高分子有機エレクトロルミネッセンス層となる発光層を生成し得るものがある。例えば、前駆体のスルホニウム塩の場合、加熱処理されることによりスルホニウム基が脱離し、共役系高分子有機化合物となるもの等がある。
また、溶解性の高い材料では、材料をそのまま塗布した後、溶媒を除去して発光層にし得るものもある。
【０１０８】
【化２】
前記の高分子有機化合物は固体で強い蛍光を持ち、均質な固体超薄膜を形成することができる。しかも、形成能に富みＩＴＯ電極との密着性も高く、さらに、固化した後は強固な共役系高分子膜を形成する。
【０１１０】
このような高分子有機化合物としては、例えばポリアリーレンビニレンが好ましい。ポリアリーレンビニレンは水系溶媒あるいは有機溶媒に可溶で第２の基体１１に塗布する際の塗布液への調製が容易であり、さらに一定条件下でポリマー化することができるため、光学的にも高品質の薄膜を得ることができる。
このようなポリアリーレンビニレンとしては、ＰＰＶ（ポリ（パラ−フェニレンビニレン））、ＭＯ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ジメトキシ−１，４−フェニレンビニレン））、ＣＮ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ビスヘキシルオキシ−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）））、ＭＥＨ−ＰＰＶ（ポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシルオキシ）］−パラ−フェニレンビニレン）、等のＰＰＶ誘導体、ＰＴＶ（ポリ（２，５−チエニレンビニレン））等のポリ（アルキルチオフェン）、ＰＦＶ（ポリ（２，５−フリレンビニレン））、ポリ（パラフェニレン）、ポリアルキルフルオレン等が挙げられるが、なかでも化学式（４）に示すようなＰＰＶまたはＰＰＶ誘導体の前駆体からなるものや、化学式（５）に示すようなポリアルキルフルオレン（具体的には化学式（６）に示すようなポリアルキルフルオレン系共重合体）が特に好ましい。
ＰＰＶ等は強い蛍光を持ち、二重結合を形成するπ電子がポリマー鎖上で非極在化している導電性高分子でもあるため、高性能の有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。
【０１１１】
【化３】
【化４】
【化５】
なお、前記ＰＰＶ薄膜の他に発光層を形成し得る高分子有機化合物や低分子材料、すなわち本例においてホスト材料として用いられるものは、例えばアルミキノリノール錯体（Ａｌｑ３）やジスチリルビフェニル、さらに化学式（７）に示すＢｅＢｑ２やＺｎ（ＯＸＺ）2 、そしてＴＰＤ、ＡＬＯ、ＤＰＶＢｉ等の従来より一般的に用いられているものに加え、ピラゾリンダイマー、キノリジンカルボン酸、ベンゾピリリウムパークロレート、ベンゾピラノキノリジン、ルブレン、フェナントロリンユウロピウム錯体等が挙げられ、これらの１種または２種以上を含む有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物を用いることができる。
【０１１５】
【化６】
一方、このようなホスト材料に添加されるゲスト材料としては、前記したように蛍光色素や燐光物質が挙げられる。特に蛍光色素は、発光層の発光特性を変化させることができ、例えば、発光層の発光効率の向上、または光吸収極大波長（発光色）を変えるための手段としても有効である。すなわち、蛍光色素は単に発光層材料としてではなく、発光機能そのものを担う色素材料として利用することができる。例えば、共役系高分子有機化合物分子上のキャリア再結合で生成したエキシトンのエネルギーを蛍光色素分子上に移すことができる。この場合、発光は蛍光量子効率が高い蛍光色素分子からのみ起こるため、発光層の電流量子効率も増加する。したがって、発光層の形成材料中に蛍光色素を加えることにより、同時に発光層の発光スペクトルも蛍光分子のものとなるので、発光色を変えるための手段としても有効となる。
【０１１７】
なお、ここでいう電流量子効率とは、発光機能に基づいて発光性能を考察するための尺度であって、下記式により定義される。
ηE ＝放出されるフォトンのエネルギー／入力電気エネルギー
そして、蛍光色素のドープによる光吸収極大波長の変換によって、例えば赤、青、緑の３原色を発光させることができ、その結果フルカラー表示体を得ることが可能となる。
さらに蛍光色素をドーピングすることにより、エレクトロルミネッセンス素子の発光効率を大幅に向上させることができる。
【０１１８】
蛍光色素としては、赤色の発色光を発光する発光層を形成する場合、レーザー色素のＤＣＭ−１、あるいはローダミンまたはローダミン誘導体、ペニレン等を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素をＰＰＶなどホスト材料にドープすることにより、発光層を形成することができるが、これらの蛍光色素は水溶性のものが多いので、水溶性を有するＰＰＶ前駆体であるスルホニウム塩にドープし、その後、加熱処理すれば、より均一な発光層の形成が可能になる。このような蛍光色素として具体的には、ローダミンＢ、ローダミンＢベース、ローダミン６Ｇ、ローダミン１０１過塩素酸塩等が挙げられ、これらを２種以上混合したものであってもよい。
【０１１９】
また、緑色の発色光を発光する発光層を形成する場合、キナクリドン、ルブレン、ＤＣＪＴおよびその誘導体を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素についても、前記の蛍光色素と同様、ＰＰＶなどホスト材料にドープすることにより、発光層を形成することができるが、これらの蛍光色素は水溶性のものが多いので、水溶性を有するＰＰＶ前駆体であるスルホニウム塩にドープし、その後、加熱処理すれば、より均一な発光層の形成が可能になる。
【０１２０】
さらに、青色の発色光を発光する発光層を形成する場合、ジスチリルビフェニルおよびその誘導体を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素についても、前記の蛍光色素と同様、ＰＰＶなどホスト材料にドープすることにより、発光層を形成することができるが、これらの蛍光色素は水溶性のものが多いので、水溶性を有するＰＰＶ前駆体であるスルホニウム塩にドープし、その後、加熱処理すれば、より均一な発光層の形成が可能になる。
【０１２１】
また、青色の発色光を有する他の蛍光色素としては、クマリンおよびその誘導体を挙げることができる。これらの蛍光色素は、ＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。また、これらのうち特にクマリンは、それ自体は溶媒に不溶であるものの、置換基を適宜に選択することによって溶解性を増し、溶媒に可溶となるものもある。このような蛍光色素として具体的には、クマリン−１、クマリン−６、クマリン−７、クマリン１２０、クマリン１３８、クマリン１５２、クマリン１５３、クマリン３１１、クマリン３１４、クマリン３３４、クマリン３３７、クマリン３４３等が挙げられる。
【０１２２】
さらに、別の青色の発色光を有する蛍光色素としては、テトラフェニルブタジエン（ＴＰＢ）またはＴＰＢ誘導体、ＤＰＶＢｉ等を挙げることができる。これらの蛍光色素は、前記赤色蛍光色素等と同様に水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。
以上の蛍光色素については、各色ともに１種のみを用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。
なお、このような蛍光色素としては、化学式（８）に示すようなものや、化学式（９）に示すようなもの、さらに化学式（１０）に示すようなものが用いられる。
【０１２３】
【化７】
【化８】
【化９】
これらの蛍光色素については、前記共役系高分子有機化合物等からなるホスト材料に対し、後述する方法によって０．５〜１０ｗｔ％添加するのが好ましく、１．０〜５．０ｗｔ％添加するのがより好ましい。蛍光色素の添加量が多過ぎると得られる発光層の耐候性および耐久性の維持が困難となり、一方、添加量が少な過ぎると、前述したような蛍光色素を加えることによる効果が十分に得られないからである。
【０１２７】
また、ホスト材料に添加されるゲスト材料としての燐光物質としては、化学式（１１）に示すＩｒ（ｐｐｙ）3 、Ｐｔ（ｔｈｐｙ）2 、ＰｔＯＥＰなどが好適に用いられる。
【０１２８】
【化１０】
なお、前記の化学式（１１）に示した燐光物質をゲスト材料とした場合、ホスト材料としては、特に化学式（１２）に示すＣＢＰ、ＤＣＴＡ、ＴＣＰＢや、前記したＤＰＶＢｉ、Ａｌｑ３が好適に用いられる。
また、前記蛍光色素と燐光物質については、これらを共にゲスト材料としてホスト材料に添加するようにしてもよい。
【０１３０】
【化１１】
なお、このようなホスト／ゲスト系の発光物質によって発光層４０Ｂを形成する場合、例えば予めパターニング装置１にノズル３等の材料供給系を複数形成しておき、これらノズル３からホスト材料とゲスト材料とを予め設定した量比で同時に吐出させることにより、ホスト材料に所望する量のゲスト材料が添加されてなる発光物質による、発光層４０Ｂを形成することができる。
【０１３２】
このようにして各画素２０Ａの正孔輸送層４０Ａ上に発光層４０Ｂを形成したら、これら正孔輸送層４０Ａ、発光層４０Ｂの場合と同様にして、パターニング装置１により電子輸送層の形成材料を基板２３上に吐出（射出）し、図１５（ｂ）に示すように電子輸送層４０Ｃを形成する。電子輸送層の形成材料としては、特に限定されることなく、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよびその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体等が例示される。具体的には、先の正孔輸送層の形成材料と同様に、特開昭６３−７０２５７号、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号、同２−１３５３６１号、同２−２０９９８８号、同３−３７９９２号、同３−１５２１８４号公報に記載されているもの等が例示され、特に２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８−キノリノール）アルミニウムが好適とされる。
【０１３３】
なお、前述した正孔輸送層４０Ａの形成材料や電子輸送層４０Ｃの形成材料を発光層４０Ｂの形成材料に混合し、発光層形成材料として使用してもよく、その場合に、正孔輸送層形成材料や電子輸送層形成材料の使用量については、使用する化合物の種類等によっても異なるものの、十分な成膜性と発光特性を阻害しない量範囲でそれらを考慮して適宜決定される。通常は、発光層形成材料に対して１〜４０重量％とされ、さらに好ましくは２〜３０重量％とされる。
【０１３４】
ここで、このようにして形成する正孔輸送層４０Ａ、発光層４０Ｂ、電子輸送層４０Ｃの膜厚については、予めノズル孔３ａからの吐出量を適宜に設定しておくことにより、好ましい厚さ（例えば６５ｎｍ）に形成する。なお、吐出量の調整については、ノズル孔３ａの内径やキャリアガスの流量を適宜に設定しておくことなどによって行うことができる。
その後、図１５（ｃ）に示すように、透明基板２３の表面全体に、あるいはストライプ状に対向電極５４を形成し、有機ＥＬ素子を得る。この対向電極５４の形成についても、前記の図１に示したパターニング装置１を用いた方法が採用可能であるのはもちろんである。また、この対向電極５４については、Ａｌ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｃａなどの単体材料やＭｇ：Ａｇ（１０：１合金）の合金材料からなる１層で形成してもよく、２層あるいは３層からなる金属（合金を含む）層として形成してもよい。具体的には、Ｌｉ2 Ｏ（０．５ｎｍ程度）／ＡｌやＬｉＦ（０．５ｎｍ程度）／Ａｌ、ＭｇＦ2 ／Ａｌといった積層構造のものも使用可能である。
【０１３５】
このようにして得られた表示装置、すなわち本発明において電気光学装置となる表示装置は、その構成要素の少なくとも一つが前記パターニング装置１によって形成されることにより、その材料選択の自由度が高まり、したがってより良好な組み合わせで装置を構成することができる。
なお、前記の正孔注入層（図示せず）、正孔輸送層４０Ａ、発光層４０Ｂ、電子輸送層４０Ｃに加えて、ホールブロッキング層を例えば発光層４０Ｂの対向電極５４側に形成して、発光層４０Ｂの長寿命化を図ってもよい。このようなホールブロッキング層の形成材料としては、例えば化学式（１３）に示すＢＣＰや化学式（１４）で示すＢＡｌｑが用いられるが、長寿命化の点ではＢＡｌｑの方が好ましい。
【０１３６】
【化１２】
【化１３】
また、本例では各材料を気化させた状態で真空チャンバー２内に吐出させているが、真空チャンバー２内の真空度や加熱手段９による加熱の度合い等を調整することにより、材料を例えば霧状、ミスト状のような液体として吐出させてもよく、さらにはヒューム状に吐出させるようにしてもよい。
【０１３９】
また、本発明の電子装置としては、前記の半導体素子や液晶素子、電気泳動素子、有機ＥＬ素子を備えてなる装置以外にも、例えばＦＲＡＭ（Ferroelectric ＲＡＭ）やＭＲＡＭ(Magnetic ＲＡＭ）などのメモリ素子（電子素子）を備えた各種のメモリ装置や、発光ダイオードなどのダイオードからなる電子素子を備えた装置にも適用可能である。すなわち、ＦＲＡＭやＭＲＡＭなどのメモリ素子においては、例えばその強誘電体膜（絶縁膜）の形成に前記パターニング装置１を用いた方法が好適に採用され、その場合に強誘電体材料（絶縁材料）の選択自由度が高いことからより良好な素子を構成することが可能になる。
【０１４０】
また、発光ダイオードを備えた電子装置としては、例えば図１６に示すような装置に本発明が適用可能である。図１６に示した装置７０は、有機ＴＦＴ７１と有機ＬＥＤ７２とが同一基板７３上にモノシリックに集積化されてなるものである。有機ＴＦＴ７１は、基板７３上に形成されたゲート電極７４と、これを覆って形成された誘電体層７５と、この誘電体層７５上に形成されたソース電極７６およびドレイン電極７７と、これら電極を覆って形成された有機半導体層７８とから構成されたものである。ここで、有機ＴＦＴ７１は、この図１０に示した有機半導体素子と比べ、ソース・ドレイン電極と有機半導体層との位置がやや異なっているものの、基本的には同じ構造を有するものである。
【０１４１】
有機ＬＥＤ７２は、基板７３上に形成された陽極７９と、この陽極７９を覆って形成された正孔輸送層８０と、この正孔輸送層８０上に形成された電子輸送層８１と、この電子輸送／エミッタ層８１上に形成された陰極８２とから構成されたものである。なお、陽極７９は前記のドレイン電極７７がそのまま基板７３上に延びて形成されたものであり、また、正孔輸送層８０は前記有機半導体層７８が陽極７９上に延びて形成されたものである。
【０１４２】
このような装置７０にあっても、その製造に際しては、前記の図１に示したパターニング装置１を用いた方法が好適に採用される。例えば、ゲート電極７４やソース電極７６、ドレイン電極７７（陽極７９）はもちろん、有機半導体層７８（正孔輸送層８０）や電子輸送／エミッタ層８１、陰極８２の形成にもパターニング装置１による方法が好適に採用される。ここで、有機半導体層７８の形成材料としては、図１０に示した有機半導体素子の場合と同様のものが使用可能である。また、電子輸送／エミッタ層８１の形成材料としては、ポリフェニレン・ビニレン及びアルミニウム８−ヒドロオキシキノリネート（Ａｌｑ．）や、２−（４−ビフェニリル）−５−（４−タートブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、２−ナフチル−４，５−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−オキサゾール）、ビス−（８−ヒドロオキシキナルジン）アルミニウム・フェノキシド及びビス（１０−ヒドロオキシベンゾ−キノリネート（亜鉛）（ＺｎＢｑ２）などが用いられる。また、陰極８２の形成材料としては、電子輸送／エミッタ層８１に効率よく電子注入することができる材料が用いられ、具体的にはアルミニウムやカルシウムが好適に用いられる。
【０１４３】
このような電子装置にあっても、その構成要素の少なくとも一つが前記パターニング装置１によって形成されることにより、その材料選択の自由度が高まり、したがってより良好な組み合わせで装置を構成することができる。
【０１４４】
次に、前記例の電気光学装置、すなわち液晶装置、電気泳動装置、あるいは有機ＥＬ素子を用いてなる表示装置が備えられた電子機器の具体例について説明する。
図１７（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１７（ａ）において、５００は携帯電話本体を示し、５０１は前記電気光学装置からなる表示手段を示している。
図１７（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１７（ｂ）において、６００は情報処理装置、６０１はキーボードなどの入力部、６０３は情報処理本体、６０２は前記電気光学装置からなる表示手段を示している。
図１７（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１７（ｃ）において、７００は時計本体を示し、７０１は前記電気光学装置からなる表示手段を示している。
図１７（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、前記電気光学装置が備えられたものであるので、その構成要素の選択自由度が高められていることにより、優れた表示品質が得られる表示手段を備えた電子機器となる。
【０１４５】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の電子素子の製造方法にあっては、導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つあるいはこれら材料の前駆体のうちの少なくとも一つをノズルから真空雰囲気中に吐出するので、前記材料あるいは前駆体を例えば気化した状態で、かつ理想的には分子線状に吐出することができる。したがって、前記材料あるいは前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、前記材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【０１４６】
本発明の回路基板の製造方法にあっては、前記の電子素子の製造方法によって電子素子を複数形成するので、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【０１４７】
本発明の電子装置の製造方法にあっては、前記の電子素子の製造方法を用いるので、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
【０１４８】
本発明の電気光学装置の製造方法にあっては、前記の電子素子の製造方法を用いるので、材料あるいはその前駆体として特に制限されることなく自由に選択して用い、前記材料を配置することができる。また、材料あるいは前駆体を基体上の所定位置に配置することにより、マスクを必要とすることなくパターニングを行うことができる。
また、本発明の電気光学装置にあっては、前記の電気光学装置の製造方法によって得られることから、前記材料あるいは前駆体が特に制限されることなく自由に選択して用いられることにより、材料の選択自由度が高いものとなる。
【０１４９】
本発明の電子機器にあっては、前記の電気光学装置を表示手段として備えているので、表示手段とする電気光学装置が、これを製造する際にその材料の選択自由度が高いものとなる。
【０１５０】
本発明のパターニング装置にあっては、真空チャンバー内に材料を吐出することにより、この材料を容易にかつ安定して吐出することができる。したがって、可動機構によってノズルと基体との相対的な位置を移動させつつ、前記材料あるいはその前駆体を基体上に射出することにより、マスクを特に必要とすることなくパターニングを行うことができ、また、前記材料あるいは前駆体として特に制限されることなくこれを自由に選択して用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のパターニング装置の一例の、概略構成を示す側面図である。
【図２】 本発明に係る回路基板（電子装置）の概略構成を示す側断面図である。
【図３】 （ａ）〜（ｅ）は図２に示した回路基板（電子装置）の製造方法を工程順に説明するための要部側断面図である。
【図４】 （ａ）〜（ｄ）は図３に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図５】 （ａ）〜（ｃ）は図４に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図６】 液晶セルの概略構成を説明するための側断面図である。
【図７】 電気泳動装置における、画素部の概略構成を示す要部側断面図である。
【図８】 （ａ）〜（ｃ）は電子インク層の概念的構成及び電圧印加時の動作を説明するための図である。
【図９】 図７に示した電気泳動装置によって形成される電子ペーパーの斜視図である。
【図１０】 有機半導体素子の一例の概略構成を示す側断面図である。
【図１１】 本発明に係る電気光学装置としての、有機ＥＬ素子を用いた表示装置の回路図である。
【図１２】 図１１に示した表示装置における画素部の平面構造を示す拡大平面図である。
【図１３】 （ａ）〜（ｅ）は図１１、図１２に示した表示装置の製造方法を工程順に説明するための要部側断面図である。
【図１４】 （ａ）〜（ｃ）は図１３に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図１５】 （ａ）〜（ｃ）は図１４に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図１６】 発光ダイオードを備えた電子装置の一例を説明するための要部側断面図である。
【図１７】 本発明の電気光学装置が備えられた電子機器の具体例を示す図であり、（ａ）は携帯電話に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｂ）は情報処理装置に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｃ）は腕時計型電子機器に適用した場合の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１…パターニング装置、２…真空チャンバー、３…ノズル、３ａ…ノズル孔、４…ステージ、１１…可動機構
Claims (16)
- 複数の電子素子を基体上に備えた電子装置を製造する電子装置の製造方法であって、
少なくとも一つの材料あるいは前記少なくとも一つの材料の前駆体を気化した状態で吐出するノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記ノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記ノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、
前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記ノズルと前記基体とを相対的に移動させつつ、気化した状態の前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体を前記基体に吐出して、複数の第１の薄膜を形成する第２の工程と、を含み、
前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記ノズルから吐出された前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、
前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれており、
前記第２の工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０- １Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 複数の電子素子を基体上に備えた電子装置を製造する電子装置の製造方法であって、
少なくとも一つの材料あるいは前記少なくとも一つの材料の前駆体を気化した状態で吐出するノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記ノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記ノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、
前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記ノズルと前記基体とを相対的に移動させ、気化した状態の前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体を前記基体の所定位置に吐出して、複数の第１の薄膜を形成する第２の工程を含み、
前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記ノズルから吐出された前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、
前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれており、
前記第２の工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０ - １ Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１又は２に記載の電子装置の製造方法において、
前記第２の工程を行っている期間において、前記基体は、１．３３３２２×１０ - ３ Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置されていること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１乃至３のいずれかに記載の電子装置の製造方法において、
前記複数の電子素子は、複数のダイオードあるいは複数のトランジスタであること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項４に記載の電子装置の製造方法において、
前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は、前記複数のトランジスタの各々のゲート電極を形成するための材料であること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１乃至４のいずれかに記載の電子装置の製造方法において、
前記少なくとも一つの材料は、半導体材料であること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１乃至４のいずれかに記載の電子装置の製造方法において、
前記少なくとも一つの材料は、絶縁材料であること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１乃至７のいずれかに記載の電子装置の製造方法において、
前記第２の工程において、前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は吐出の際に分子線状になること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１乃至８のいずれかに記載の電子装置の製造方法において、
前記第２の工程において、前記少なくとも一つの材料あるいは前記前駆体は、前記ノズルからキャリアガスと共に吐出されること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 複数の電子素子を基体上に備えた電子装置の製造方法であって、
第１の材料あるいは前記第１の材料の前駆体及び第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体を気化した状態で吐出する複数のノズルに対して前記基体を水平方向及び鉛直方向に移動することを可能とし、かつ前記複数のノズルと前記基体との相対的な位置を決定する可動機構を用いて前記複数のノズルと前記基体との相対的な位置関係を予め設定する第１の工程と、
前記第１の工程において予め設定されたとおりに、前記複数のノズルと前記基体とを相対的に移動させつつ、前記第１の材料あるいは前記第１の材料の前駆体及び前記第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体を複数のノズルから同時に吐出することにより、前記基体上に、各々が前記第１の材料及び前記第２の材料を含む複数の薄膜を形成する第２の工程を含み、
前記第２の工程において、前記複数の第１の薄膜の各々は、前記複数のノズルから吐出された前記第１の材料あるいは前記第１の材料の前駆体及び前記第２の材料あるいは前記第２の材料の前駆体が冷却され、前記基体上で液化又は固化することにより形成され、
前記複数の薄膜の各々は、前記複数の電子素子の一つの電子素子に含まれること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１０に記載の電子装置の製造方法において、
前記第２の工程は、前記基体が１．３３３２２×１０-1Ｐａ以下の真空度に調整されたチャンバー内に配置された状態で行われること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１０又は１１に記載の電子装置の製造方法において、
前記第１の材料及び前記第２の材料は前記複数の薄膜の各々においてそれぞれホスト材料及びゲスト材料として機能すること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１０乃至１２のいずれかに記載の電子装置の製造方法において、
前記複数の電子素子の各々は、有機エレクトロルミネッセンス素子であること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１３に記載の電子装置の製造方法において、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層は前記第１の材料と前記第２の材料とを含み、前記第１の材料及び前記第２の材料は、それぞれ、発光物質と、前記発光物質のホストとして機能すること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１乃至１４のいずれかに記載の電子装置の製造方法において、
前記電子装置は、電気光学装置であること、
を特徴とする電子装置の製造方法。 - 請求項１５に記載の電子装置の製造方法において、
前記電子装置は、液晶装置、電気泳動装置及び有機エレクトロルミネッセンス装置のいずれかであること、
を特徴とする電子装置の製造方法。
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