JP4250552B2 - 製造装置管理システム、製造装置管理方法及びプログラム - Google Patents
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Description
本発明の第1の実施の形態に係る製造装置管理システムは、図1に示すように、装置パラメータデータベース22、生産管理データベース24、ウェーハテストデータベース26、不良パターン分類データベース28、特徴量データベース30、リアルタイムモニタデータベース32、複数のリアルタイムモニタユニット6a、6b、・・・、6n、及び中央処理制御装置(CPU)10等を備える。装置パラメータデータベース22は、装置パラメータ収集サーバ8に設置されている。生産管理データベース24は、生産管理サーバ16に設置されている。ウェーハテストデータベース26は、テスタサーバ20に設置されている。リアルタイムモニタユニット6a、6b、・・・、6n、装置パラメータ収集サーバ8、生産管理サーバ16、及びテスタサーバ20はCPU10に接続されている。また、CPU10には、入力装置12、出力装置14、不良パターン分類データベース28、特徴量データベース30、リアルタイムモニタデータベース32、及び外部メモリ34が接続されている。更に、CPU10は、製造情報入力部40、不良パターン分類部42、特徴量算出部44、特徴量解析部46、異常パラメータ抽出部48、及び内部メモリ50等を備えている。
本発明の第2の実施の形態に係る製造装置管理システムは、図22に示すように、装置パラメータデータベース22、生産管理データベース24、ウェーハテストデータベース26、欠陥情報データベース66、及びCPU10a等を備える。装置パラメータデータベース22は、装置パラメータ収集サーバ8に配置されている。生産管理データベース24は、生産管理サーバ16に配置されている。ウェーハテストデータベース26は、テスタサーバ20に配置されている。欠陥情報データベース66は、欠陥情報サーバ64に配置されている。装置パラメータ収集サーバ8、生産管理サーバ16、テスタサーバ20、及び欠陥情報サーバ64はCPU10aに接続されている。また、CPU10aには、入力装置12、出力装置14、装置パラメータ分類データベース68、最適装置パラメータデータベース70、及び外部メモリ34が接続されている。更に、CPU10aは、製造情報入力部40、検査情報入力部72、対象プロセスモジュール設定部74、歩留り算出部76、最適パラメータ抽出部78、及び内部メモリ50a等を備えている。
上記のように、本発明の実施の形態を記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者にはさまざまな代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
4a〜4i、4n 装置パラメータ取得ユニット
6a、6b、6n リアルタイムモニタユニット
8…装置パラメータ収集サーバ
10、10a CPU
12 入力装置
14 出力装置
16 生産管理サーバ
18 テスタ
20 テスタサーバ
22 装置パラメータデータベース
24 生産管理データベース
26 ウェーハテストデータベース
28 不良パターン分類データベース
30 特徴量データベース
32 リアルタイムモニタデータベース
34 外部メモリ
40 製造情報入力部
42 不良パターン分類部
44 特徴量算出部
46 特徴量解析部
48 異常パラメータ抽出部
50 内部メモリ
60a、60b、60c プロセスモジュール
62 欠陥検査装置
64 欠陥情報サーバ
66 欠陥情報データベース
68 装置パラメータ分類データベース
70 最適装置パラメータデータベース
72 検査情報入力部
74 対象プロセスモジュール設定部
76 歩留り算出部
78 最適パラメータ抽出部
90a〜90f 不良マップ
92 クラスタリング不良
Claims (5)
- 複数の製造装置をそれぞれ制御する装置パラメータの時系列データを取得する製造情報入力部と、
前記複数の製造装置で製造されたウェーハ上の不良半導体装置のウェーハ面内分布傾向を不良パターンに分類する不良パターン分類部と、
前記時系列データのそれぞれを複数のアルゴリズムにより統計的に処理して前記複数のアルゴリズムのそれぞれに対応し、一定期間の前記装置パラメータそれぞれの値の時系列データの波形を一つのスカラー量で表現した複数の特徴量を算出する特徴量算出部と、
前記複数の特徴量のそれぞれについて、前記不良パターンの有無のそれぞれに対する前記特徴量の頻度分布を求め、前記不良パターンの有無による前記頻度分布間の有意差検定を実施する特徴量解析部と、
前記有意差検定で求められた検定値を検定基準値と比較して前記不良パターンの発生原因特徴量を抽出する異常パラメータ抽出部
とを備えることを特徴とする製造装置管理システム。 - 前記発生原因特徴量を参照して前記製造装置の動作を監視するリアルタイムモニタユニットを更に備えることを特徴とする請求項1に記載の製造装置管理システム。
- 複数の製造装置をそれぞれ制御する装置パラメータの時系列データを取得し、
前記複数の製造装置で製造されたウェーハ上の不良半導体装置のウェーハ面内分布傾向を不良パターンに分類し、
前記時系列データのそれぞれを複数のアルゴリズムにより統計的に処理して前記複数のアルゴリズムのそれぞれに対応し、一定期間の前記装置パラメータそれぞれの値の時系列データの波形を一つのスカラー量で表現した複数の特徴量を算出し、
前記複数の特徴量のそれぞれについて、前記不良パターンの有無のそれぞれに対する前記特徴量の頻度分布を求め、前記不良パターンの有無による前記頻度分布間の有意差検定を実施し、
前記有意差検定で求められた検定値を検定基準値と比較して前記不良パターンの発生原因を特定する
ことを含むことを特徴とする製造装置管理方法。 - 前記発生原因特徴量を参照して前記製造装置の動作を監視することを更に含むことを特徴とする請求項3に記載の製造装置管理方法。
- 複数の製造装置をそれぞれ制御する装置パラメータの時系列データを製造情報入力部に取得させる命令と、
前記複数の製造装置で製造されたウェーハ上の不良半導体装置のウェーハ面内分布傾向を不良パターン分類部で不良パターンに分類させる命令と、
前記時系列データのそれぞれを複数のアルゴリズムにより統計的に処理して前記複数のアルゴリズムのそれぞれに対応し、一定期間の前記装置パラメータそれぞれの値の時系列データの波形を一つのスカラー量で表現した複数の特徴量を特徴量算出部に算出させる命令と、
前記複数の特徴量のそれぞれについて、前記不良パターンの有無のそれぞれに対する前記特徴量の頻度分布を求め、前記不良パターンの有無による前記頻度分布間の有意差検定を特徴量解析部に実施させる命令と、
前記有意差検定で求められた検定値を検定基準値と比較して前記不良パターンの発生原因を異常パラメータ抽出部に特定させる命令
とをコンピュータに実行させるためのプログラム。
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