JP4233728B2 - 光ビーム走査装置およびその補正方法 - Google Patents

光ビーム走査装置およびその補正方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は複数の光ビームを集めて共通の走査光学系により走査する光ビーム走査装置と、その補正方法とに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
複数のレーザビームなどの光ビームを、共通の走査光学系を用いて露光面に置いた記録シート上で走査させ、画像を記録する光ビーム走査装置が従来より考えられている。複数の光ビームを用いることにより画像記録を高速化できるからである(例えば米国特許第5502709号)。
【0003】
【従来技術の問題点】
この場合複数の光ビームの全て、あるいは少くとも基本となる光ビーム以外の光ビームは別々の光偏向素子によって独立に偏向され、各光ビームが描く走査線が記録シート上で等間隔な直線になるように制御される。各光ビームは共通の走査光学系を同時に通るから、走査光学系の経時的変化による影響は全ての光ビームに対して同一となるから通常問題ない。
【0004】
しかし各光ビームを合波光学系で合波する前の段階では、各光ビームの光学系は別々に分かれているため、これらの各光学系の経時的変化はただちに各光ビーム相互間の位置等に影響する。例えば各光ビームの光学系の温度変化や経時的変化により、各光ビーム間隔が変化したり走査線上の位相が変化する。このため記録した画像の画質が悪くなるという問題が生じる。
【0005】
そこで光ビームをビームスプリッタで分割し、この分割した光ビームをビーム位置検出素子に導いて光ビームの位置を検出している。例えば露光面と光学的に共役となる平面(共役面)上またはこの平面から僅かにずれた位置に4分割光ビーム検出素子やPSD(Position Sensing Device,二次元位置センサ)などを置いて、光ビームの位置を検出している。この検出結果から光ビームの位置が適正になるように光偏向素子による偏向を補正している。
【0006】
しかし光ビームはその径内における光パワーの分布が周方向に均一でないことが多い。このため露光面上の記録位置とビーム位置検出素子で検出したビーム位置とが正確に一致しないことがあることが解った。図9はその原因(露光面上の記録位置とビーム位置検出素子により検出したビーム位置とが不一致になる原因)を説明するための図である。この図で(A)は光ビームの光パワー分布を示すものであり、横軸xが光ビームに直交する平面上の位置を示し、縦軸pが光パワーを示している。このように光パワーpは光パワー最大の位置x0を中心にして非対称になっている。
【0007】
一方ビーム位置検出素子としては通常4分割ビーム検出素子やPSDが用いられるが、これらは光パワーの重心を検出するものである。すなわちこの図9の(A)では、光パワーpの曲線と横軸xとで囲まれる面積が左右等しくなる位置x1をビーム位置として検出する。これに対して光ビームが露光面上のフィルムで記録する記録濃度Dは、図9の(B)に示すようになる。この図において横軸xは露光面上の位置を、縦軸Dは記録濃度を示す。この記録濃度Dは光パワーpが最大となる位置x0で最も濃くなる。
【0008】
このため光ビームの光パワーが径方向に完全に対称でない場合は、ビーム位置検出素子で検出したビーム位置x1と露光されたビーム記録位置x0との間に誤差Δxが生じる。この誤差Δxは複数の光ビーム同志で常に発生するため、出力画質を低下させる原因となる。
【0009】
また高解像度の画像を出力する場合には、光ビーム径をビームエキスパンダで拡大してから露光面上にビームを小さく絞ることが必要である。この場合には口径の大きいレンズやミラーが必要になるが、これらの部材は製造上の制約から非点収差が大きくなり易い。この場合光ビームの位置は、ビームエキスパンダに入る前の小径の光ビームを分波してビーム位置検出素子に導いて検出するから、この光ビームの非点収差は小さい。このことをさらに図10を用いて説明する。
【0010】
この図10の(A)は円筒内面走査型の光ビーム走査装置の構成例を示す図である。この図ではレーザーからなる2本の光ビームLB1,LB2を合波するものを示す。2本の光ビームLB1,LB2はレーザーダイオードLD1,LD2から射出され、それぞれ音響光学偏向素子AOD1,AOD2によって偏向される。これらの光ビームLB1,LB2は十分に小径である。これらの小径な光ビームLB1,LB2は合波ミラーM1で合波され、レンズL1,L2で形成されるビームエキスパンダEXでその径が拡大される。
【0011】
この拡大された光ビームはアパーチャAPを通り、集光レンズL3に導かれ、さらにスピナーSPによって露光面Sに導かれる。ここにスピナーSPはエキスパンダEXおよび集光レンズL3と同軸上で高速回転するミラーを持つ。また露光面SはこのスピナーSPと同軸な円筒の内面で形成され、スピナーSPの回転に同期してスピナーSPの回転軸延伸方向に相対移動する。
【0012】
このような走査装置において、ビーム位置検出素子PSにはエキスパンダEXに入る前の小径の光ビームLB1,LB2が分波ミラーM2で分波され、集光レンズL4を通って導かれる。従って集光レンズL4は小径ですみその非点収差も小さくなる。同図の(B)はこのビーム位置検出素子PSにおける結像の様子を拡大して示す。この図から明らかなように結像面上の互いに直交する2方向(x方向およびy方向)から見た焦点位置の差(非点収差)はほぼゼロになる。
【0013】
一方同図の(C)は露光面S上での結像の様子を拡大して示す。この図から明らかなように、x方向から見た焦点位置とy方向から見た焦点位置との差(非点収差)αが大きくなっている。これは前記したように集光レンズL3の口径が大きいためである。
【0014】
このように図9で説明した光ビームの光パワーが非対称になることによる誤差Δxや、図10で説明した非点収差αによる誤差があると、記録する画質が低下する。特に高精度な画像記録が要求される印刷用イメージセッターの場合には、出力した画像に網かけ処理するために画像上に周期的に発生する僅かな濃度変化と網点とによるモアレ縞が発生することがある。このため画質品質の劣化を招くという問題があった。
【0015】
【発明の目的】
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであり、走査光学系より前の光学系の温度変化や経時変化により複数の光ビーム相互間の位置が変動するのを防ぎ、また光ビーム径内の光パワーの不均一性や光学系の非点収差などによる画質低下を防ぐことができる光ビーム走査装置の補正方法を提供することを第1の目的とする。またこの方法の実施に直接使用する光ビーム走査装置を提供することを第2の目的とする。
【0016】
【発明の構成】
本発明によればこの目的は、複数本の光ビームの少くとも一部の光ビームを光偏向素子で偏向した後、全ての光ビームを合波して共通の走査光学系により走査する光ビーム走査装置の補正方法において、前記複数本の光ビームの位置をビーム位置検出素子で別々に検出し、この検出した各光ビームの相対位置を一定に保つための光偏向素子に対するビーム位置補正データをメモリし、光ビーム露光面上に記録される各光ビームの記録位置からこれら記録位置の相対位置ずれを検出し、この記録位置の相対位置ずれを補正するための追加補正データを前記ビーム位置補正データに付加して前記光偏向素子を駆動するための最終補正データとすることを特徴とする光ビーム走査装置の補正方法、により達成される。
【0017】
光偏向素子は各光ビームのうち基本となる1本の光ビーム(基本ビーム)以外の光ビームに対して設け、基本とする1本の光ビーム(基本ビーム)は光偏向素子を通さずに走査光学系に導き、他の光ビームを光偏向素子で偏向させることができる。全ての光ビームに対してそれぞれ光偏向素子を設け、全ての光ビームを偏向させるようにしてもよい。
【0018】
ビーム位置補正データは第1のメモリ領域に記憶しておき、記録位置の相対位置ずれを補正するための追加補正データは光ビーム露光面上の出力解像度に対応して予め複数種を第2のメモリ領域に記憶しておくことにより、必要な出力解像度に対応する追加補正データを第2のメモリ領域から選び出してこれと第1のメモリ領域に入れたビーム位置補正データとを組合せて最終補正データとすることができる。
【0019】
第1のメモリ領域および第2のメモリ領域は、共通のメモリ内を複数のメモリ領域に分割し、異なるメモリ領域をそれぞれ第1および第2のメモリ領域としてもよい。第1および第2のメモリ領域は別個のメモリ素子で構成してもよい。
【0020】
追加補正データは、次のように求めることができる。ビーム位置検出素子のデータを用いて各ビームを一致させるように各光偏向素子を制御した後、実際に露光面に出力された記録位置にずれが生じているか否かを確認し、ずれが生じている場合にこのずれを修正するために必要となる光偏向素子の制御量の修正量を求め、この修正量を追加補正データとするものである。
【0021】
追加補正データは、露光面に出力された複数の光ビームによる出力ラインの間隔を測定し、この線間隔が一定になるように設定することによって求めてもよい。この間隔の測定は拡大レンズと測定ゲージを用いて目視により行うことができる。これらの追加補正データは記録面上の出力解像度に応じて予め複数種を第2のメモリ領域にメモリしておくことができる。
【0022】
第2の目的は、複数本の光ビームを合波して共通の走査光学系により走査する光ビーム走査装置において、複数の光ビームの少くとも一部の光ビームを偏向する光偏向素子と;この偏向された光ビームを含む全ての光ビームを合波する合波光学系と;この合波した合波ビームを露光面に導いて走査し画像を記録する走査光学系と;前記合波ビームを分割するビームスプリッタと;この分割された光ビームの位置を検出するビーム位置検出素子と;このビーム位置検出素子が検出した複数のビーム位置のデータと予めメモリした初期設定データとを比較して両データの差をビーム位置補正データとして求める第1演算手段と、このビーム位置補正データを記憶する第1のメモリ領域と;光ビーム露光面上に記録される各光ビームの記録位置から検出したこれら光ビームの記録位置の相対位置ずれを補正するための追加補正データを記憶する第2のメモリ領域と;前記ビーム位置補正データと前記追加補正データとに基づいて前記光偏向素子に対する最終補正データを求める第2演算手段と;前記走査光学系に同期して前記光偏向素子による偏向を前記最終補正データに基づいて制御する光偏向素子制御手段とを備えることを特徴とする光ビーム走査装置、により達成することができる。
【0023】
ここにビーム位置検出素子は2次元位置センサを用いることができる。光ビームはレーザーダイオードや固体レーザーから射出されるレーザービームとすることができる。走査光学系は円筒内面走査型のものとすることができ、この場合には光偏向素子は2次元に偏向できるものが適し、例えば2次元音響光学偏向素子を用いたり、1次元音響光学偏向素子を2個互いに直交方向に組合せて用いることができる。また光偏向素子は音響光学偏向素子に代えて、電気光学偏向素子を用いてもよい。
【0024】
第2のメモリに記憶する追加補正データは出力解像度に対応して複数種とし、選択したいずれかの追加補正データを用いて最終補正データを求めることができる。第1のメモリ領域の内容は適時に入力される書換え指令によって書き換えられるようにするのがよい。第1のメモリ領域に対する書換え指令は、例えば電源投入時、一定時間経過毎、一定ページ数の画像出力毎、オペレータが希望する時などに送出すればよい。
【0025】
【作用】
光ビーム走査装置は、各光ビームの相互の最適な位置情報を予め初期設定データとしてメモリしておく。まず最初に、光ビーム1本ごとのビーム位置をビーム位置検出素子で検出し、そのデータを求めて初期設定データとの差を求めこれをビーム位置補正データとする。このビーム位置補正データは第1のメモリ領域に記憶される。この補正データは全ての光ビームに対して同様にして別々にメモリされる。なお第2のメモリ領域には最初は出力解像度に対応した補正データだけを追加補正データとして記憶しておく。
【0026】
複数の光ビームのうち1本を基本ビームとし他の光ビームだけを光偏向素子で偏向させる場合には、基本ビームを走査光学系の光軸上に位置を合わせるように調整をしておく。そして他の光ビームに対して前記のようにビーム位置補正データをメモリすればよい。
【0027】
その後第1のメモリ領域の内容であるビーム位置補正データと第2のメモリ領域の内容である追加補正データ(出力解像度に対応した補正データ)とを用いて最終補正データを求めて各光ビームに対する光偏向素子の偏向量を補正しながら光ビーム走査を行う。すなわち各光ビームに対しては、出力解像度に応じた所定の偏向を与えるように光偏向素子を駆動することによって、各光ビームの相互の位置を適切に、すなわち走査線間隔を解像度に対応させて制御する。このようにして相互の位置を適切に保った合波ビームは、共通の走査光学系で走査されて記録シート上を走査する。
【0028】
このようにして露光面上で記録した各光ビームによる出力ラインを精査して線間隔の不揃いを検出する。この不揃いがあればこれを打ち消すための補正データ、すなわち記録位置の相対位置ずれを補正するためのデータを、前記した出力解像度に対応した補正データに加算することにより追加補正データを求める。そしてこれを第2のメモリ領域に記憶する。この追加補正データは、ビーム位置検出素子上で各光ビームが一致するように各光偏向素子を制御し、この時に露光面上で生じる各光ビームによる記録位置のずれを修正するように求めることもできる。
【0029】
第2演算手段は、第1のメモリ領域に記憶したビーム位置補正データと、第2のメモリ領域に記憶した追加補正データとを組合せて最終補正データを求める。光偏向素子制御手段はこの最終補正データを用いて光偏向素子を駆動する。このため複数の光ビームによる出力ライン間隔の不揃いが修正され、画質が向上する。
【0030】
【実施態様】
図1は本発明の一実施態様である円筒内面走査型光ビーム走査装置を示す概念図、図2はビームスプリッタの説明図、図3は光偏向素子の制御手段を示す図、図4は偏向補正手段を示す図、図5は本発明方法の手順を示す図、図6は第1および第2のメモリ領域の内容を説明する図である。
【0031】
これらの図において10(10a,10b,10c)は光ビーム出力手段としての3個のレーザダイオードであり、これらはほぼ同一波長かつほぼ同一強度のレーザビームL(La,Lb,Lc)を出力する。これらのレーザビームLa,Lb,Lcはそれぞれ図示しない光学系と、光偏向素子としての2次元音響光学偏向素子AOD(AODa,AODb,AODc)とを介し、合波光学系12により合波される。
【0032】
AODは後記するように所定周波数の超音波がトランスデューサより発生されることにより駆動され、この時の1次回折光が0次光カット板(図示せず)で選択されるものである。なお2値画像信号がオフの時にはレーザダイオード10の出力がオフとなる。
【0033】
3つのAODは、この実施態様ではそれぞれレーザビームLa,Lb,Lcをx軸方向およびy軸方向に2次元的に偏向させるものである。すなわち、AODにより、レーザビームLを互いに直交する2つの方向(x軸方向およびy軸方向)に偏向させ、主走査線の湾曲と間隔と長さとを修正するものである。
【0034】
合波光学系12は、全反射ミラーMと、ハーフミラーHM1、HM2とで形成される。
【0035】
そしてレーザビームLa,Lb,Lcはこの合波光学系12によりほぼ1つのレーザビームすなわち合波ビームLoに合波される。なおこの合波されたビームLoは図2〜4では1本のビームとして表しているが、実際には合波光学系12の部品誤差や調整誤差があるために、図1に示すように互いに分かれた3本の共軸ではないビームになる。
【0036】
この合波ビームLoは、さらにビームエキスパンダEXを構成するレンズL1およびL2においてビーム径の拡大・変更が行われる。このビームLoはドラム(円筒)Dの中心軸に沿ってドラムD内に導かれる。ドラムDの中心軸上には、走査光学系を形成する集光レンズL3およびスピナーSPが設けられている。
【0037】
このスピナーSPは中心軸(回転軸)に対して約45°の反射面を持ち、モータにより高速回転される。なおこのモータにはロータリーエンコーダENが取付けられ、スピナーSPの回転角(θ=ωt)が検出される。すなわち所定回転角ごとに出力されるパルス信号pと、1回転の基準位置を示す基準位置信号poとが出力される。なおこのスピナーSPに導かれるビームは、回転軸上にあるビームエキスパンダEXおよび集光レンズL3を通って、ドラムDの内周面あるいは記録シートSに合焦する。
【0038】
なおビームキスパンダEXにはビームスプリッタBS1が設けられ、このビームスプリッタBS1は合波ビームLoの一部を分割してレンズL1の焦点面P1と共役な他の焦点面P2に結像する。この焦点面P2上あるいはこれより僅かにずれた位置にはビーム位置検出素子としての2次元PSD(2次元位置センサ)14が設けられ、光ビームLa,Lb,Lcのビーム位置が検出される。
【0039】
図4において符号16はAOD制御手段であり、このスピナーSPの回転角θに同期してAODを制御する。図3はAOD制御手段16の回路構成例を示す図である。この図3では説明を簡単にするため1つのAODaのみの駆動回路を示すが、実際はこの図と同様な回路が他のAODb,AODcに対して別々に設けられる。
【0040】
この図3において18はクロック回路であり、エンコーダENがスピナーSPの一定回転角度ごとに出力するパルス信号pと基準位置信号poとに基づいて、制御クロック信号を出力する。20は正弦波生成回路、22は余弦波生成回路である。
【0041】
これら正弦波生成回路20と余弦波生成回路22は、それぞれx方向およびy方向の偏向データを出力するものである。これらの偏向データは、主走査線の湾曲と間隔と長さとを修正するために、レーザビームLをx軸方向およびy軸方向に偏位させるためにAODの駆動周波数に付加するものである。
【0042】
なおこれら正弦波生成回路20および余弦波生成回路22には偏向補正手段24から出力される補正データが入力される。これらの回路20,22の出力は、この補正データに基づき補正され、この結果光学系の温度変化や経時的変化などによる各光ビームLa,Lb,Lcの相互の位置ずれを打消すことができる。
【0043】
前記正弦波生成回路20および余弦波生成回路22は、スピナSPの回転角度すなわちクロック回路18が出力するクロック信号に基づいて、所定の振幅と位相とを持った正弦波(Sin)および余弦波(Cos)を出力する。一方偏向補正手段24は、通常これらの正弦波および余弦波の振幅や位相を修正するための補正データを出力する。従ってこれら補正データは通常定数である。この偏向補正手段24については後記する。
【0044】
26,28は電圧制御発振器(VCO)であり、正弦波および余弦波生成回路20,22の出力電圧変化に対応して周波数が変化する周波数変調信号F(Fx,Fy)を出力する。この信号Fは、それぞれ別々に増幅器(AMP)30,32で増幅された後、対応するAODに導かれ光ビームをx方向およびy方向に偏向させる。
【0045】
34は2値画像信号生成回路であり、図示しない画像処理回路から入力される画像信号に基づいて、3本のレーザビームLで記録する3本の主走査線を書込むための2値画像信号を出力する。これらの2値画像信号はレーザダイオード10(10a,10b,10c)に入力される。この結果各レーザダイオード10は、2値画像信号がオンの時にレーザビームを射出し、各AODは、レーザビームLの一次回折光をx,y両方向に偏向させる。この結果記録シートSには直線状の3本の主走査線を等間隔に記録させることができる。
【0046】
次に偏向補正手段24を図4に基づいて説明する。36は座標検出回路であり、ここには2次元PSD14の出力が増幅器38を介して入力される。座標検出回路36は2次元PSD14の複数の出力を比較することにより光ビームの位置を検出する。なお2次元PSD14は焦点面P2(図2)上またはこの位置から僅かにずれた位置に設けられ、光ビームの光束が或る程度広がった状態で入射する。このため2次元PSD14の複数の出力を比較することによって光ビームの位置を検出することができる。
【0047】
40は初期設定データを記憶するメモリ領域である。このメモリ領域40は3つの光ビームLa,Lb,Lcの適切な座標などを示すデータを予め記憶する。例えばスピナーSPの或る角度位置において各光ビームLa,Lb,Lcがそれぞれ位置すべき座標を記憶する。これらのデータはこの光ビーム走査装置の初期設定の際に入力され得るものである。
【0048】
42は第1演算手段であり、2次元PSD14で検出した1本の光ビームLaの位置を示すデータと、メモリ領域40に記憶した初期設定データとの差を求める。この差は、光学系や種々の素子の特性、あるいは光学系の経時変化や温度変化などにより決まるものであり、ビーム位置補正データfaとして第1のメモリ領域44に記憶される。同様に他の光ビームLb,Lcに対してもこの差すなわちビーム位置補正データfb,fcが求められ、同様に第1のメモリ領域44に記憶される。図6の(A)はこの第1のメモリ領域44の内容を示す。
【0049】
なおこの第1演算手段42による演算と第1のメモリ領域44の内容の書き換えは、書換え指令βによって行われる。この書換え指令βは、操作者が適宜入力してもよいが、電源スイッチの投入時や一定時間おきに自動的に出力されるようにしてもよい。また所定ページ数の画像出力が済む度に出力されるようにしてもよい。
【0050】
46は第2演算手段であり、この第1のメモリ領域44に記憶されたビーム位置補正データfa,fb,fcに対して追加補正データfoa,fob,focを付加(加算)することにより、最終補正データ(fa+foa),(fb+fob),(fc+foc)を求める。この最終補正データは第3のメモリ領域48に記憶される。
【0051】
ここで用いる追加補正データfoa,fob,focは、(1)出力解像度に対応した補正データと、(2)記録シートSに記録されたビーム記録位置とビーム位置検出素子14で検出したビーム位置との間の誤差を修正する補正データとを加算したもの、すなわち(1)+(2)であり、第2のメモリ領域50に記憶しておく。この第2のメモリ領域50に記憶される追加補正データfoa,fob,focは出力解像度に対応して複数種記憶される。
【0052】
すなわちこの第2のメモリ領域50には、第6図の(B)に示すように、出力解像度96res(走査線本数/mm,2438dpiに相当する)に対するデータがfoa(96),fob(96),foc(96)として記憶され、72resに対するデータがfoa(72),fob(72),foc(72)として記憶され、同時に他の出力解像度に対するデータがfoa(N),fob(N),foc(N)として記憶される。ここにNは出力解像度を示す。この追加補正データfoa,fob,focは例えば図5に示す手順によって求めることができる。
【0053】
この図5において、まず基準となる光ビーム(基本ビーム)をLbとしてこの基準ビームLbのみを射出させ、その露光面上すなわち記録シートS上の記録位置を検出し、この位置を原点とする(ステップ100)。次に他の光ビームLaを射出させ、このビーム位置を前記原点とするようにAODaを制御する。すなわち初期設定座標がビームLbと同一になるようにする。
【0054】
この状態でビームLaによる露光面上の位置を検出し、この記録位置が露光面上で基準ビームLbの記録位置に一致するようにAODaの駆動周波数を変化させる(ステップ102)。この時を基準にしてこの光ビームLaを出力解像度に対応した線間隔だけ離すために必要とするAODaの駆動周波数の修正分を追加補正データfoaとして第2のメモリ領域50に記憶する(ステップ104)。他のビームLcに対して同様の操作を繰り返し(ステップ106,108)、追加補正データfocとして第2のメモリ領域50に記憶する(ステップ102,104)。
【0055】
このようにして求めて追加補正データfoa,fob,focは、第2演算手段46でそれぞれビーム位置補正データfa,fb,fcと加算され(ステップ110)、その結果が最終補正データ(fa+foa),(fb+fob),(fc+foc)として第3のメモリ領域48に記憶される(ステップ112)。
【0056】
AOD制御手段16では、前記正弦波生成回路20および余弦波生成回路22が出力する偏向データを、この第3のメモリ領域48に記憶した最終補正データに基づいて補正する。すなわち最終補正データは偏向データに対する補正データとなる。この最終補正データは、通常前記した正弦波および余弦波の振幅や位相を修正するための定数である。
【0057】
次にこの実施態様の動作を説明する。書換え指令βが入力されると、1本の光ビームLaだけを出力させてそのビーム位置を2次元PSD14で検出する。そしてその時のスピナーSPの角度位置に対応した初期設定データと比較して両者の差を求め、ビーム位置補正データfaとして第1のメモリ領域44に記憶する。同様に他の光ビームLb,Lcに対しても差を求めてビーム位置補正データfb,fcとして第1のメモリ領域44に記憶する。
【0058】
また露光面上におけるビームLa,Lb,Lcの記録位置のずれを修正するための追加補正データfoa,fob,focを図5に示した手順に従って求め、第2のメモリ領域50に記憶しておく。そしてこの第2のメモリ領域50と第1のメモリ領域44の内容を用いて第2演算手順46で最終補正データ(fa+foa),(fb+fob),(fc+foc)を求めて第3のメモリ領域48に記憶しておく。
【0059】
このような準備が終わってから、2値画像信号生成回路34が出力する2値画像信号に基づいてレーザダイオード10a,10b,10cがオン・オフされ、スピナーSPが回転する。またAOD制御手段16の正弦波生成回路20および余弦波生成回路22は、第3のメモリ領域48の内容(最終補正データ)により補正された正弦波および余弦波を出力し、これらの正弦波および余弦波に対応した高周波でAODを駆動する。
【0060】
この結果3本の光ビームLa,Lb,LcはそれぞれのAODa,AODb,AODcにより適正に偏向され、相互の距離や位置が出力解像度に応じて適正に保たれる。このように互いにビーム位置が補正された3本の光ビームLa,Lb,Lcは合波光学系12で合波され、ビームエキスパンダEX、走査光学系(L3,SP)を介して記録シートSに導かれる。このため3本の光ビームLa,Lb,Lcにより記録シート上に描かれる3本の走査線を互いに平行な直線とし、それらの長さや位相も揃えることができ、記録画像の画質を向上させることができる。
【0061】
【他の実施態様】
図7は他の実施態様を示す図である。前記図1〜4に示した実施態様ではビームエキスパンダEXにビームスプリッタBS1を設けて合波ビームLoの一部を分割して2つの焦点面P1,P2を形成した。しかしビームスプリッタBS1に代えて図7に示すように光量を調整するための濃度フィルタNDを挿入することによって合波ビームLoの一部を分割し、集光レンズL4により焦点面P3に結像させてもよい。そしてこの焦点面P3上あるいはこの付近に配設した2次元PSD14Aで各光ビームの位置を検出すればよい。この場合にはこの焦点面P3はエキスパンダEXのレンズL1による焦点面P1と共役とする。
【0062】
【他の実施態様】
図8は他の実施態様を示す概念図である。この実施態様は3本の光ビームLa,Lb,Lcのうち1本の光ビームLbを基本ビームとし、他の光ビームLa,Lcだけを光偏向素子AODa,AODcで偏向させるようにした。すなわち、この基本ビームLbを走査光学系の光軸上に位置させるように調整することによって、この基本ビームLbに対する光偏向素子AODb(図1参照)を省いたものである。
【0063】
またこの実施態様ではビームスプリッタBSをビームエキスパンダEXの上流側で合波ビームLoを分割するようにした。合成ビームLoのビーム径はビームエキスパンダEXの上流側で小さいから、ビームスプリッタBSをこの位置に設けることにより、ビームスプリッタBSやレンズL4を小型化できる効果が得られる。なおこの図8では前記図1,7と同一部分に同一符号を付したからその説明は繰り返さない。
【0064】
以上の実施態様は円筒内面走査型の装置に適用したものであるが、本発明は円筒外面走査型や平面走査型などの装置にも適用でき、これらを含む。また光偏向素子は2次元のものに限らず、1次元のものをそれらの偏向方向が交差するように2つ組合せたもの、1次元のものであってもよい。光偏向素子は音響光学(AO)素子が望ましいが、他の素子例えば電気光学(EO)素子、ピエゾミラー、ガルバノミラーなどであってもよい。
【0065】
また光ビームの光源としてはレーザーダイオードを用いるのが望ましいが、固体レーザー、ガスレーザーなどの光源に変調素子、例えば音響光学素子や電気光学素子などを組合せたものを用いてもよい。なお第1のメモリ領域44には、ビーム位置検出素子が検出したビーム位置のデータと予めメモリした初期設定データとの差をそのまま記憶してもよいが、この差と実質的に同等な他の要素を含むビーム位置補正データを記憶してもよく本発明はこの場合を含む。
【0066】
【発明の効果】
請求項1〜5の発明は以上のように、ビーム位置検出素子で検出した複数の光ビームの相対位置を一定に保つためのビーム位置補正データをメモリする一方、露光面上における各光ビームの記録位置の相対位置ずれを検出して、この記録位置の相対位置ずれを補正するための追加補正データを前記したビーム位置補正データに付加して最終補正データとし、この最終補正データを用いて各光偏向素子を制御するものである。このため光学系の温度変化や経時変化による光ビーム間の位置ずれがビーム位置補正データによって補正され得る。また追加補正データによってビーム位置補正データを補正するから、光ビーム径内の光パワー分布の不均一性や光学系の非点収差などによる画質低下を防ぐことができる。
【0067】
ビーム位置検出素子は、光ビーム露光面の共役面上あるいはその付近に配設することができる(請求項2)。ビーム位置補正データは、第1のメモリ領域に記録しておき、追加補正データには出力解像度に応じた複数のデータを記憶しておき、この中から選択した出力解像度に対する追加補正データを用いて最終補正データを求めることができる(請求項3)。追加補正データは、複数のビームの位置をビーム位置検出素子の出力データを用いて一致させた時に、露光面上で発生する各ビームの記録位置のずれを検出し、このずれを修正するのに必要となる光偏向素子の制御量の修正量と、出力解像度に対応した補正量との加算値とすることができる(請求項4)。追加補正データは、ビーム位置補正データを用いて各光ビームで実際に露光面上に記録を行い、この記録位置の間隔を測定してこの測定値が出力解像度に対応した一定値になるような光偏向素子の制御量の修正量とすることができる(請求項5)。
【0068】
請求項6の発明によれば、この方法の実施に直接使用する光ビーム走査装置が得られる。この場合に、ビームスプリッタに代えて合波ビームの光路中に挿入される反射ミラーを用い、この反射ミラーで光ビームをビーム位置検出素子に導くようにしてもよい(請求項7)。ここで用いる反射ミラーは、透過光量を調整する濃度フィルタと兼用させることができる(請求項8)。またビームスプリッタまたは反射ミラー(濃度フィルタ)で反射された光ビームを、集光レンズによって露光面の共役面あるいはその付近に配設した位置検出器に集光させてもよい(請求項9)。
【0069】
ビーム位置検出素子は2次元位置センサとすることができ(請求項10)、走査光学系は円筒内面走査型とすることができる(請求項11)。光ビームはレーザーダイオードあるいは固体レーザーから射出されるレーザービームとすることができる(請求項12)。光偏向素子は2次元に偏向できる2次元音響光学偏向素子あるいは電気光学偏向素子とすることにより、各光ビームによる複数の走査線の直線性および間隔と、長さや位相を適正に制御できる(請求項13)。
【0070】
第2のメモリに記憶する追加補正データは、出力解像度に対応して複数種とし、そのいずれかを選択して用いるようにしてもよい(請求項14)。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施態様を示す概念図
【図2】ビームスプリッタの説明図
【図3】光偏向素子(AOD)の制御手段を示す図
【図4】偏向補正手段を示す図
【図5】本発明方法の手順を示す図
【図6】第1および第2のメモリの内容を説明する図
【図7】他の実施態様を示す概念図
【図8】他の実施態様を示す概念図
【図9】光ビームの光パワー分布の不均一性による問題点を説明するための図
【図10】非点収差による問題点を説明するための図
【符号の説明】
10 レーザーダイオード
12 合波光学系
14、14A ビーム位置検出素子としての2次元PSD
16 AOD制御手段
18 クロック回路
20 正弦波生成回路
22 余弦波生成回路
24 偏向補正手段
36 座標検出回路
40 初期設定座標のメモリ領域
42 第1演算手段
44 ビーム位置補正データを記憶する第1のメモリ領域
46 第2演算手段
48 最終補正データを記憶する第3のメモリ領域
50 追加補正データを記憶する第2のメモリ領域
AOD 光偏向素子としての2次元音響光学偏向素子
EX ビームエキスパンダ
BS1 ビームスプリッタ
1、P2、P3 焦点面
SP 走査光学系を形成するスピナー
a、Lb、Lc、LB1、LB2 光ビーム
o 合波ビーム
β 書換え指令
4 集光レンズ
ND 濃度フィルタ
a、fb、fc ビーム位置補正データ
oa、fob、foc 追加補正データ

Claims (14)

  1. 複数本の光ビームの少くとも一部の光ビームを光偏向素子で偏向した後、全ての光ビームを合波して共通の走査光学系により走査する光ビーム走査装置の補正方法において、
    前記複数本の光ビームの位置をビーム位置検出素子で別々に検出し、この検出した各光ビームの相対位置を一定に保つための光偏向素子に対するビーム位置補正データをメモリし、光ビーム露光面上に記録される各光ビームの記録位置からこれら記録位置の相対位置ずれを検出し、この記録位置の相対位置ずれを補正するための追加補正データを前記ビーム位置補正データに付加して前記光偏向素子を駆動するための最終補正データとすることを特徴とする光ビーム走査装置の補正方法。
  2. ビーム位置検出素子は、光ビーム露光面の共役面上あるいはその付近に配設されている請求項1の光ビーム走査装置の補正方法。
  3. ビーム位置補正データは第1のメモリ領域に記憶しておく一方、前記追加補正データは光ビーム露光面上の出力解像度に対応して複数種第2のメモリ領域に記憶し、前記第1のメモリ領域から読出したビーム位置補正データと前記第2のメモリから読出したいずれか1つの出力解像度に対応する追加補正データとを用いて光偏向素子の最終補正データを求める請求項1または2の光ビーム走査装置の補正方法。
  4. ビーム位置検出素子のデータを用いて基準となる光ビームと他の光ビームの記録位置を順次一致させるように各光偏向素子を制御し、露光面上における前記基準の光ビームの記録位置に対する前記他の光ビームの記録位置のずれを検出し、このずれを修正するために必要となる各光偏向素子の制御量の修正量と出力解像度に対応した補正量とを加算して追加補正データとする請求項1または2または3の光ビーム走査装置の補正方法。
  5. 追加補正データは、光ビーム露光面に複数の光ビームにより記録された複数の記録ラインの線間隔を測定し、この線間隔が解像度に対応した一定値になるように設定される請求項1または2または3の光ビーム走査装置の補正方法。
  6. 複数本の光ビームを合波して共通の走査光学系により走査する光ビーム走査装置において、
    複数の光ビームの少くとも一部の光ビームを偏向する光偏向素子と;
    この偏向された光ビームを含む全ての光ビームを合波する合波光学系と;
    この合波した合波ビームを露光面に導いて走査し画像を記録する走査光学系と;
    前記合波ビームを分割するビームスプリッタと;
    この分割された光ビームの位置を検出するビーム位置検出素子と;
    このビーム位置検出素子が検出した複数のビーム位置のデータと予めメモリした初期設定データとを比較して両データの差をビーム位置補正データとして求める第1演算手段と、
    このビーム位置補正データを記憶する第1のメモリ領域と;
    光ビーム露光面上に記録される各光ビームの記録位置から検出したこれら光ビームの記録位置の相対位置ずれを補正するための追加補正データを記憶する第2のメモリ領域と;
    前記ビーム位置補正データと前記追加補正データとに基づいて前記光偏向素子に対する最終補正データを求める第2演算手段と;
    前記走査光学系に同期して前記光偏向素子による偏向を前記最終補正データに基づいて制御する光偏向素子制御手段とを備えることを特徴とする光ビーム走査装置。
  7. 請求項6において、ビームスプリッタに代えて合波ビームの光路中に挿入される反射ミラーを用い、ビーム位置検出素子にはこの反射ミラーで反射された光ビームが導かれるようにした光ビーム走査装置。
  8. 請求項7において、反射ミラーは透過光量を調整する濃度フィルタを兼ねるようにした光ビーム走査装置。
  9. 請求項6または7または8において、ビームスプリッタまたは反射ミラーで分割または反射した光ビームを、集光レンズによって露光面の共役面上あるいはその付近に配設したビーム位置検出素子に集光させるようにした光ビーム走査装置。
  10. ビーム位置検出素子は2次元位置センサである請求項6〜9のいずれかの光ビーム走査装置。
  11. 走査光学系は円筒内面走査型である請求項6〜10のいずれかの光ビーム走査装置。
  12. 光ビームはレーザーダイオードまたは固体レーザーから射出されるレーザービームである請求項6〜11のいずれかの光ビーム走査装置。
  13. 光偏向素子は光ビームを2次元に偏向する音響光学偏向素子または電気光学素子である請求項12の光ビーム走査装置。
  14. 追加補正データは光ビーム露光面上の出力解像度に対応して複数種あり、選択されたいずれか1つの出力解像度に対応する追加補正データを用いて最終補正データを求める請求項6〜13のいずれかの光ビーム走査装置。
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