JP4231887B2 - 不揮発ラッチ回路および不揮発性フリップフロップ回路 - Google Patents

不揮発ラッチ回路および不揮発性フリップフロップ回路 Download PDF

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Description

本発明は、不揮発ラッチ回路および不揮発性フリップフロップ回路に関する。
トランジスタの微細化が進むにつれ、サブスレショルド・リーク電流だけでなくゲートリーク電流が増え、これらリーク電流による消費電力はLSI全消費電力の大半を占めるようになってきた。これまでに回路・システムレベルの低消費電力化では、駆動電圧を下げること、動作周波数を下げること、を基本原理とする技術が提案されている(例えば、非特許文献1参照)。
さらなる低消費電力化を狙って、LSIをいくつかの回路ブロックに分割し、動作していないブロックの電源を遮断するという技術が提案されている(例えば、非特許文献2参照)。しかし、この提案はデータを保持しておく必要のあるブロックの電源は遮断することができないため、実施できるブロックが限定されてしまうという問題があった。
一方、フリップフロップなどの順序回路に強誘電体キャパシタからなる不揮発性メモリ素子を組み込んで不揮発性順序回路とする技術が提案されている(例えば、特許文献1、非特許文献3参照)。この不揮発順序回路は、電源遮断前に0,1のデータを強誘電体キャパシタの誘電残留分極の差として記憶することによって、電源を遮断してもデータが保持され、電源再投入後にそのデータを読み出すことが可能である。このような不揮発順序回路が実現できれば、動作していない時はその順序回路を含めて電源を遮断できるため、劇的な低消費電力化が期待できる。しかし、前述の不揮発順序回路は、記憶素子に強誘電体キャパシタを用いていることから、微細化すると読み出しマージンが低下するというスケーラビリティーの問題を抱えている。
また、近年、2端子素子であること、Si単結晶基板を必要としないこと、を特徴とした新材料を用いた様々な不揮発性メモリ素子の研究が盛んである。それらの不揮発性メモリ素子は小型で配線層部分に作りこむことが可能であると考えられており、この不揮発性メモリ素子を使用することによって不揮発性ラッチ回路が小型に実現できるという提案がなされている(例えば、非特許文献4、特許文献2参照)。この非特許文献4では不揮発性メモリ素子としてスケーラビリティーに優れ、かつ書き換え耐性の高いスピン注入型MTJ(Magnetic Tunnel Junction)素子が挙げられている。
LongRun (Jan. 2000) http://www.transmeta.com/index.html Shimizu, T.; Arakawa, F.; Kawahara, T.; VLSI Circuits, 2001. Digest of Technical Papers. 2001 Symposium on 14-16 June 2001 Page(s):55-56 特開2000−124776号公報 Fujimori, Y.; Nakamura, T.; Takasu, H.; Technical Report of IEICE. ICD2002-10 Page(s):13-18 Keiko Abe, Shinobu Fujita, and Thomas H. Lee, EUROPEAN MICRO and NANO SYSTEMS 2004 米国特許公開第2006/0083047号明細書
上記不揮発性ラッチ回路を2段つなげてフリップフロップとする場合、クロックの周期ごとに記憶素子にデータが書き込まれるため、動作周波数1GHzで動かそうとした場合、記憶素子には1日で8.64x1013回という膨大な書き換え耐性が要求される。このような膨大な書き換え耐性を満たすことが可能な不揮発性ラッチ回路は知られていない。
本発明は、上記事情を考慮してなされたものであって、微細化してもスケーラビリティーに優れ、膨大な書き換え耐性が不要となる不揮発性ラッチ回路および不揮発性フリップフロップ回路を提供することを目的とする。
本発明の第1の態様による不揮発性ラッチ回路は、入力信号を受ける入力ノードと、ゲート信号に基づいて前記入力信号の取り込みまたは遮断を制御する第1ゲート部と、駆動電源および接地電源に接続され、前記第1ゲート部から前記入力信号を受ける第1入力端子および第1制御信号を受ける第2入力端子を有し、前記第1制御信号に応じてインバータかまたは一定電圧を出力するゲートとして動作する第1論理ゲートと、前記駆動電源および前記接地電源に接続され、前記第1論理ゲートの出力を受ける第1入力端子および前記第1制御信号を受ける第2入力端子を有し、前記第1制御信号に応じてインバータかまたは前記一定電圧を出力するゲートとして動作する第2論理ゲートと、前記ゲート信号の反転信号に基づいて前記第2論理ゲートの出力の取り込みまたは遮断を制御し、前記第2論理ゲートの出力を前記第1論理ゲートの前記第1入力端子に送出する第2ゲート部と、前記駆動電源または前記接地電源の一方と、前記第1および第2論理ゲートとの間に設けられ、電流の流れる方向によって抵抗が変化する第1および第2抵抗素子と、前記第1および第2抵抗素子と、前記第1および第2論理ゲートとの間に設けられた第1および第2データ書き込み信号線と、前記第2論理回路の出力を出力信号として出力する第1出力ノードと、前記第1論理回路の出力を前記出力信号の反転信号として出力する第2出力ノードと、を備えていることを特徴とする。
また、本発明の第の態様による不揮発性フリップフロップ回路は、上記記載の不揮発性ラッチ回路を備えていることを特徴とする。
本発明によれば、微細化してもスケーラビリティーに優れ、膨大な書き換え耐性が不要となる。
本発明の実施形態を以下に図面を参照して詳細に説明する。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態による不揮発性ラッチ回路を図1に示す。本実施形態の不揮発性ラッチ回路は、論理回路10、20と、スピン注入型MTJ(Magnetic Tunnel Junction)素子R1、R2と、pチャネルトランジスタTr1、Tr2、Tr3と、トランスミッションゲートTMG1、TMG2、TMG3、TMG4と、を備えている。
論理回路10,20は、制御信号NV_RWに応じて、一定の論理値(本実施形態においては「0」)を出力するか、またはインバータとして動作するように構成されている。
論理回路10の一具体例としては、直列に接続されたpチャネルトランジスタ11、12からなる直列回路と、並列に接続されたnチャネルトランジスタ13、14からなる並列回路と、が直列に接続された構成となっている。pチャネルトランジスタ12およびnチャネルトランジスタ13はゲートが共通に接続されて制御信号NV_RWを受ける。pチャネルトランジスタ11およびnチャネルトランジスタ14はゲートが共通に接続されて論理回路10の入力端子となり、共通に接続されたpチャネルトランジスタ12のドレインとnチャネルトランジスタ13のドレインとが論理回路10の出力端子となる。nチャネルトランジスタ13、14のソースは接地電源GNDに接続される。
同様に、論理回路20の一具体例としては、直列に接続されたpチャネルトランジスタ21,22からなる直列回路と、並列に接続されたnチャネルトランジスタ23,24からなる並列回路と、が直列に接続された構成となっている。pチャネルトランジスタ22およびnチャネルトランジスタ23はゲートが共通に接続されて制御信号NV_RWを受ける。pチャネルトランジスタ21およびnチャネルトランジスタ24はゲートが共通に接続されて論理回路20の入力端子となり、共通に接続されたpチャネルトランジスタ22のドレインとnチャネルトランジスタ23のドレインとが論理回路20の出力端子となる。nチャネルトランジスタ23、24のソースは接地電源GNDに接続される。
したがって、論理回路10、20は、制御信号NV_RWの値が「1」のとき「0」を出力し、制御信号NV_RWの値が「0」のときインバータとして動作する。制御信号NV_RWを一つの入力信号としてみれば、論理回路10、20は、NOR回路として動作することになる。
本実施形態においては、論理回路10の入力端子はトランスミッションゲートTMG1を介してデータ入力Dを受ける。論理回路10の出力端子は論理回路20の入力端子に接続され、論理回路20の出力端子はトランスミッションゲートTMG2を介して論理回路10の入力端子に接続される。すなわち、論理回路10、20はクロスカップルされている。
スピン注入型MTJ素子R1、R2は、磁化の向きが固着された強磁性層を有する磁化固着層と、磁化の向きが変化する強磁性層を有する磁化自由層と、これらの磁化固着層と磁化自由層との間に設けられたトンネル絶縁膜とを備えた構成を有し、電流の流す向きによって、磁化自由層の磁化の向きが磁化固着層の磁化の向きに対して平行(同じ向き)となるか、または反平行(逆の向き)となり、これにより抵抗値が変化する不揮発性メモリ素子である。
スピン注入型MTJ素子R1の一端は論理回路10のpチャネルトランジスタ11のソースに接続され、他端はpチャネルトランジスタTr1を介して電源Vddに接続されている。また、スピン注入型MTJ素子R2の一端は論理回路20のpチャネルトランジスタ21のソースに接続され、他端はpチャネルトランジスタTr1を介して電源Vddに接続されている。すなわち、pチャネルトランジスタTr1はゲートに制御信号NV_RWを受け、スピン注入型MTJ素子R1、R2の上記他端と電源Vddをショートさせる。
また、pチャネルトランジスタTr2は、一端が電源Vddに接続され、他端がスピン注入型MTJ素子R1の上記一端に接続されている。pチャネルトランジスタTr3は、一端が電源Vddに接続され、他端がスピン注入型MTJ素子R2の上記一端に接続されている。そして、pチャネルトランジスタTr2、Tr3は、ゲートに制御信号NVを受ける。したがって、pチャネルトランジスタTr2、Tr3は第1および第2論理ゲートと前記駆動電源または接地電源の前記一方の間をショートさせる。
また、スピン注入型MTJ素子R1の一端と論理回路10のpチャネルトランジスタ11のソースとの共通接続ノードにトランスミッションゲートTMG3を介してデータ入力Dが入力される。スピン注入型MTJ素子R2の一端と論理回路20のpチャネルトランジスタ21のソースとの共通接続ノードにトランスミッションゲートTMG4を介してデータ入力Dの反転入力データDBが入力される。
このように構成された本実施形態の不揮発性ラッチ回路は、ラッチ操作がトランスミッションゲートTMG1、TMG2へ入力する制御信号G、GBによって制御され、不揮発性操作となるメモリへの読み書き操作が制御信号NV_RW、NV、Wによって制御される不揮発性Dラッチとなる。なお、論理回路20の出力が出力Qとなり、論理回路10の出力が反転出力QBとなる。
次に、本実施形態の具体的な動作について説明する。
この不揮発Dラッチは制御信号がそれぞれNV_RW=0、NV=0およびW=0のとき、pチャネルトランジスタTr1、Tr2、Tr3、12、22がオンし、nチャネルトランジスタ13、23がオフし、図2に示すような状態となる。
非特許文献4に開示された不揮発Dラッチはラッチ動作の際にCLK信号の変化のたびにメモリ素子に書き込みまたは読み出しをするしくみのため、ラッチ動作速度がメモリ素子の書き込みまたは読み出し速度に応じて遅くなるという問題がある。
しかし、本実施形態では、ラッチ動作の際はメモリ素子R1,R2への書き込みまたは読み出しを行わない。また、pチャネルトランジスタTr2、Tr3のオン抵抗をスピン注入型MTJ素子R1、R2の抵抗値より低くしておくことによって、電源の伝播遅延が低く抑えられることから、従来のDラッチと同等の速度で動作させることができる。
次に、現在のデータを書き込む時、図3(a)に示すように制御信号をそれぞれNV_RW=1、NV=1およびW=1とする。この状態では、図1に示すpチャネルトランジスタTr1、Tr2、Tr3、12、22がオフし、nチャネルトランジスタ13、23がオンする。これにより、入力データDの値に応じてスピン注入型MTJ素子R1、R2にそれぞれ反対方向の電流が流れ、スピン注入型MTJ素子R1、R2はそれぞれ異なった抵抗値へと変化する。この抵抗値はスピン注入MTJ素子の不揮発性により保持されるため、このラッチの電源を遮断してもデータが失われることはない。また、制御信号Gは「1」、「0」どちらの状態であっても書き込み操作を行うことができるが、書込み操作をG=0のときに限定する場合、図3(b)に示すように制御信号NV、GBを用いてトランスミッションゲートTMG3、TMG4に入力される制御信号Wを合成することができる。
記憶させたデータを読み出す操作は、電源を投入した後、1)プリチャージ動作、2)読み出し動作の2段階で行う。非特許文献4に開示されている不揮発Dラッチはプリチャージの仕組みがないため、データの読み出しを誤る可能性がある。
まず1)プリチャージする場合は、図4に示すように制御信号をそれぞれNV_RW=1、NV=1、G=0およびW=0とする。この状態では、pチャネルトランジスタTr1、Tr2、Tr3、12、22がオフし、nチャネルトランジスタ13、23がオンするため、論理回路10、20の出力は「0」となりクロスカップルされた論理回路10、20の両方のノードA、Bはどちらも等しく、「0」にプリチャージされる。
続いて2)読み出し動作として、図5に示すように、制御信号NV_RWだけ「1」から「0」へと状態変化させる。するとクロスカップルされた論理回路10、20はクロスカップルされたインバータの動作をし、スピン注入型MTJ素子R1、R2の抵抗値に応じた遅延の差によりクロスカップルされた論理回路10、20のノードA、Bの値が「1」かまたは「0」に決定される。このノードA、Bの値が記憶させた状態Q、QBに相当することになる。これにより、プリチャージ機能を備えたことによってデータの読み出しエラーを低減することができる。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性ラッチ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
また、本実施形態においては、トランジスタTr1、Tr2、Tr3が設けられているので動作周波数の低下を抑えることができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態による不揮発性ラッチ回路を図6(a)に示す。本実施形態の不揮発性ラッチ回路は、論理回路30、40と、スピン注入型MTJ(Magnetic Tunnel Junction)素子R1、R2と、nチャネルトランジスタTr4、Tr5、Tr6と、トランスミッションゲートTMG1、TMG2、TMG3、TMG4と、を備えている。
論理回路30、40は、制御信号NV_RWBに応じて、一定の論理値(本実施形態においては「1」)を出力するか、またはインバータとして動作するように構成されている。
論理回路30の一具体例としては、並列に接続されたpチャネルトランジスタ31、32からなる並列回路と、直列に接続されたnチャネルトランジスタ33、34からなる直列回路と、が直列に接続された構成となっている。pチャネルトランジスタ32およびnチャネルトランジスタ33はゲートが共通に接続されて制御信号NV_RWBを受ける。pチャネルトランジスタ31およびnチャネルトランジスタ34はゲートが共通に接続されて論理回路30の入力端子となり、共通に接続されたpチャネルトランジスタ32のドレインとnチャネルトランジスタ33のドレインとが論理回路30の出力端子となる。pチャネルトランジスタ31、32のソースは電源Vddに接続される。
同様に、論理回路40の一具体例としては、並列に接続されたpチャネルトランジスタ41、42からなる並列回路と、直列に接続されたnチャネルトランジスタ43、44からなる直列回路と、が直列に接続された構成となっている。pチャネルトランジスタ42およびnチャネルトランジスタ43はゲートが共通に接続されて制御信号NV_RWBを受ける。pチャネルトランジスタ41およびnチャネルトランジスタ44はゲートが共通に接続されて論理回路40の入力端子となり、共通に接続されたpチャネルトランジスタ42のドレインとnチャネルトランジスタ43のドレインとが論理回路40の出力端子となる。pチャネルトランジスタ41、42のソースは電源Vddに接続される。
したがって、論理回路30、40は、制御信号NV_RWBの値が「1」のときインバータとして動作、制御信号NV_RWBの値が「0」のとき「1」を出力する。制御信号NV_RWBを一つの入力信号としてみれば、論理回路30、40は、NAND回路として動作することになる。
本実施形態においては、論理回路30の入力端子はトランスミッションゲートTMG1を介してデータ入力Dを受ける。論理回路30の出力端子は論理回路40の入力端子に接続され、論理回路40の出力端子はトランスミッションゲートTMG2を介して論理回路30の入力端子に接続される。すなわち、論理回路30、40はクロスカップルされている。
スピン注入型MTJ素子R1の一端は論理回路30のnチャネルトランジスタ34のソースに接続され、他端はnチャネルトランジスタTr4を介して接地電源GNDに接続されている。また、スピン注入型MTJ素子R2の一端は論理回路40のnチャネルトランジスタ44のソースに接続され、他端はnチャネルトランジスタTr4を介して接地電源GNDに接続されている。すなわち、nチャネルトランジスタTr4はゲートに制御信号NV_RWBを受け、スピン注入型MTJ素子R1、R2の上記他端と電源Vddをショートさせる。
また、nチャネルトランジスタTr5は、一端が接地電源GNDに接続され、他端がスピン注入型MTJ素子R1の上記一端に接続されている。nチャネルトランジスタTr6は、一端が接地電源GNDに接続され、他端がスピン注入型MTJ素子R2の上記一端に接続されている。そして、nチャネルトランジスタTr5、Tr6は、ゲートに制御信号NVBを受ける。したがって、nチャネルトランジスタTr5、Tr6は第1および第2論理ゲートと前記駆動電源または接地電源の前記一方の間をショートさせる。
また、スピン注入型MTJ素子R1の一端と論理回路30のnチャネルトランジスタ34のソースとの共通接続ノードにトランスミッションゲートTMG3を介して反転データ入力DBが入力される。スピン注入型MTJ素子R2の一端と論理回路40のnチャネルトランジスタ44のソースとの共通接続ノードにトランスミッションゲートTMG4を介してデータ入力Dが入力される。
このように構成された本実施形態の不揮発性ラッチ回路は、ラッチ操作がトランスミッションゲートTMG1、TMG2へ入力する制御信号G、GBによって制御され、不揮発性操作となるメモリへの読み書き操作が制御信号NV_RWB、NVB、Wによって制御される不揮発性Dラッチとなる。なお、論理回路40の出力が出力Qとなり、論理回路30の出力が反転出力QBとなる。
次に、本実施形態の具体的な動作について説明する。
本実施形態の不揮発性Dラッチは、制御信号がそれぞれNV_RWB=1、NV=0(NVB=1)、およびW=0のとき、従来と同様のDラッチとして機能する。
次に、現在のデータを記憶させる時、制御信号をそれぞれNV_RWB=0、NV=1、G=0およびW=1とする。この状態では、入力データDの値に応じてスピン注入型MTJ素子R1、R2にそれぞれ反対方向の電流が流れ、スピン注入型MTJ素子R1、R2はそれぞれ異なった抵抗値へと変化する。この抵抗値はスピン注入型MTJ素子R1、R2の不揮発性により保持されるため、このラッチの電源を遮断してもデータが失われることはない。また、制御信号Gは値が「1」、「0」どちらの状態であっても書き込み操作を行うことができるが、書込み操作をG=「0」のときに限定する場合、図6(b)に示すように制御信号NVBとGBを用いてWを合成することができる。
記憶させたデータを読み出す操作は電源を投入した後、1)プリチャージ動作、2)読み出し動作の2段階で行う。
まず1)プリチャージ動作として制御信号をそれぞれNV_RWB=0、NV=1、G=0およびW=0とする。この状態では、論理回路30、40の出力は「1」となりクロスカップルドNANDの両方のノードA、Bはどちらも等しく「1」にプリチャージされる。
続いて2)読み出し動作として、制御信号NV_RWBだけ「0」から「1」へと状態変化させる。するとクロスカップルされた論理回路30、40はクロスカップルされたインバータの動作をし、スピン注入型MTJ素子R1、R2の抵抗値に応じた遅延の差によりクロスカップルされた論理回路30、40のノードA、Bの値が「1」かまたは「0」に決定される。このA、Bの値が記憶させた状態Q、QBに相当することになる。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性ラッチ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
また、本実施形態においては、トランジスタTr4、Tr5、Tr6が設けられているので動作周波数の低下を抑えることができる。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態による不揮発性ラッチ回路を図7に示す。本実施形態の不揮発性ラッチ回路は、図1に示す第1実施形態の不揮発性ラッチ回路において、クロスカップルされた論理回路10、20の左右のノードのインピーダンスマッチングをとるために、トランスミッションゲートTMG2と同じサイズのトランスミッションゲートTMG5を論理回路10の出力と論理回路20の入力との間に配置した構成となっている。
このような構成にすると、スピン注入型MTJ素子R1、R2の抵抗値の違いを読み出しやすくなる。また、トランスミッションゲートTMG5は常にON状態であるよう、ゲートにそれぞれGNDまたはVddを接続しておく。
以上説明したように、本実施形態も第1実施形態と同様に、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性ラッチ回路を得ることができ、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第4実施形態)
次に、本発明の第4施形態による不揮発性ラッチ回路を図8に示す。本実施形態の不揮発性ラッチ回路は、図6(a)に示す第2実施形態の不揮発性ラッチ回路において、クロスカップルされた論理回路30、40の左右のノードのインピーダンスマッチングをとるために、トランスミッションゲートTMG2と同じサイズのトランスミッションゲートTMG5を論理回路30の出力と論理回路40の入力との間に配置した構成となっている。
このような構成にすると、スピン注入型MTJ素子R1、R2の抵抗値の違いを読み出しやすくなる。また、トランスミッションゲートTMG5は常にON状態であるよう、ゲートにそれぞれGNDまたはVddを接続しておく。
以上説明したように、本実施形態も第2実施形態と同様に、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性ラッチ回路を得ることができ、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図9に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、マスタースレーブ型Dフリップフロップにおいて、マスター側のDラッチを図7に示す第3実施形態の不揮発性ラッチ回路に置き換えた構成となっている。
次に、具体的な動作について説明する。この不揮発性Dフリップフロップは制御信号がそれぞれNV_RW=0、NV=0およびW=0のとき図10に示すような状態となり、従来と同様のDフリップフロップとして機能する。
次に、現在のデータを記憶させる時、図11に示すように、制御信号をそれぞれNV_RW=1、NV=1、CK=1およびW=1とする。この状態では、出力データQの値に応じてスピン注入型MTJ素子R1、R2にそれぞれ反対方向の電流が流れ、スピン注入型MTJ素子R1、R2はそれぞれ異なった抵抗値へと変化する。この抵抗値はスピン注入型MTJ素子の不揮発性により保持されるため、このフリップフロップの電源を遮断してもデータが失われることはない。また、書込み操作はこの場合CK=1の時に行われるので、制御信号NVとCKを用いてWを合成することができる。
記憶させたデータを読み出す操作は、電源を投入した後、1)プリチャージ動作、2)読み出し動作の2段階で行う。
まず1)プリチャージ動作として図12に示すように制御信号をそれぞれNV_RW=1、NV=1、CK=0およびW=0とする。この状態では、論理回路10、20の出力は「0」となりマスター側のクロスカップルされた論理回路10、20の両方のノードA、Bはどちらも等しく「0」にプリチャージされる。
続いて2)読み出し動作として、図13に示すように、制御信号NV_RWを1から0へと状態変化させる。するとクロスカップルされた論理回路10、20はクロスカップルされたインバータの動作をし、スピン注入型MTJ素子R1、R2の抵抗値に応じた遅延の差によりノードA、Bの値が「1」か「0」に決定される。このA、Bの値が記憶させた状態QB、Qに相当することになる。読み出された値はスレーブ側でラッチされることになる。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第6実施形態)
次に、本発明の第6実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図14に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、マスタースレーブ型Dフリップフロップにおいて、スレーブ側のDラッチを図7に示す第3実施形態の不揮発性ラッチ回路に置き換えた構成となっている。この場合、書き込み用のノードはQ、QBではなくC、Dを用いることになる。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第7実施形態)
次に、本発明の第7実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図15に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、マスタースレーブ型Dフリップフロップにおいて、マスター側のDラッチを図8に示す第4実施形態の不揮発性ラッチ回路に置き換えた構成となっている。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第8実施形態)
次に、本発明の第8実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図16に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、マスタースレーブ型Dフリップフロップにおいて、スレーブ側のDラッチを図8に示す第4実施形態の不揮発性ラッチ回路に置き換えた構成となっている。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第9実施形態)
次に、本発明の第9実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図17に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、図7に示す第3実施形態の不揮発性ラッチ回路をClear端子付きフリップフロップの構成要素として用いた構成となっている。
この場合、NV_RWとClear信号を共通線C/NV_RWとすることができ、信号線の増加を抑えることができる。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第10実施形態)
次に、本発明の第10実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図18に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、図8に示す第4実施形態の不揮発性ラッチ回路をClear端子付きフリップフロップの構成要素として用いた構成となっている。
この場合、NV_RWとClear信号を共通線C/NV_RWとすることができ、信号線の増加を抑えることができる。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第11実施形態)
次に、本発明の第11実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図19に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、図7に示す第3実施形態の不揮発性ラッチ回路をSet端子付きフリップフロップの構成要素として用いた構成となっている。
この場合、NV_RWとSet信号を共通線S/NV_RWとすることができ、信号線の増加を抑えることができる。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第12実施形態)
次に、本発明の第12実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図20に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、図8に示す第4実施形態の不揮発性ラッチ回路をSet端子付きフリップフロップの構成要素として用いた構成となっている。
この場合、NV_RWとSet信号を共通線S/NV_RWとすることができ、信号線の増加を抑えることができる。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第13実施形態)
次に、本発明の第13実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図21に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、図7に示す第3実施形態の不揮発性ラッチ回路をSet/Clear端子付きフリップフロップの構成要素として用いた構成となっている。
この場合、図21の上側に位置するNV_RWとClear信号を共通化してC/NV_RW、図21の下側に位置するNV_RWとSet信号を共通化してS/NV_RWとすることができ、信号線の増加を抑えることができる。また、読み出しの際C/NV_RWとS/NV_RWの信号を同じタイミングで変化させるため、制御信号NVを利用して読み出し操作前に両方の信号線をショートさせる。こうすることにより読み出しエラーの確率を下げることができる。信号線をショートさせる方法はこれに限らない。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリとして備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
(第14実施形態)
次に、本発明の第14実施形態による不揮発性フリップフロップ回路を図22に示す。本実施形態の不揮発性フリップフロップ回路は、図8に示す第4実施形態の不揮発性ラッチ回路をSet/Clear端子付きフリップフロップの構成要素として用いた構成となっている。
この場合、図22の上側に位置するNV_RWとClear信号を共通化してC/NV_RW、図22の下側に位置するNV_RWとSet信号を共通化してS/NV_RWとすることができ、信号線の増加を抑えることができる。また、読み出しの際C/NV_RWとS/NV_RWの信号を同じタイミングで変化させるため、制御信号NVを利用して読み出し操作前に両方の信号線をショートさせる。こうすることにより読み出しエラーの確率を下げることができる。信号線をショートさせる方法はこれに限らない。
以上説明したように、本実施形態によれば、スピン注入型MTJ素子を不揮発性メモリ素子として備えているので、微細化してもスケーラビリティーに優れた不揮発性フリップフロップ回路を得ることができ、また、データの書き換えは、クロックの周期毎に行われず、制御信号に基づいて行われるので、膨大な書き換え耐性が不要となる。
なお、上記第1乃至第14実施形態においては、不揮発性メモリ素子として、スピン注入型MTJ素子を用いたが、電流の流れる方向によって抵抗が異なる抵抗素子であれば、スピン注入型MTJ素子の代わりに用いることができる。
本発明の第1実施形態による不揮発性ラッチ回路を示す回路図。 第1実施形態において、不揮発性Dラッチの動作をする場合の回路図。 第1実施形態において、書き込み動作するときの回路図。 第1実施形態において、プリチャージ動作するときの回路図。 第1実施形態において、読み出し動作するときの回路図。 第2実施形態による不揮発性ラッチ回路の回路図。 第3実施形態による不揮発性ラッチ回路の回路図。 第4実施形態による不揮発性ラッチ回路の回路図。 第5実施形態による不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第5実施形態において、不揮発性Dラッチの動作をする場合の回路図。 第5実施形態において、書き込み動作するときの回路図。 第5実施形態において、プリチャージ動作するときの回路図。 第5実施形態において、読み出し動作するときの回路図。 第6実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第7実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第8実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第9実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第10実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第11実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第12実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第13実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。 第14実施形態の不揮発性フリップフロップ回路の回路図。
符号の説明
10 論理回路(NOR回路)
20 論理回路(NOR回路)
30 論理回路(NAND回路)
40 論理回路(NAND回路)

Claims (10)

  1. 入力信号を受ける入力ノードと、
    第1ゲート信号に基づいて前記入力信号の取り込みまたは遮断を制御する第1ゲート部と、
    駆動電源に電気的に接続され、前記第1ゲート部から前記入力信号を受ける第1入力端子および第1制御信号を受ける第2入力端子を有し、前記第1制御信号に応じてインバータかまたは一定電圧を出力するゲートとして動作する第1論理ゲートと、
    前記駆動電源に電気的に接続され、前記第1論理ゲートの出力を受ける第1入力端子および前記第1制御信号を受ける第2入力端子を有し、前記第1制御信号に応じてインバータかまたは前記一定電圧を出力するゲートとして動作する第2論理ゲートと、
    前記第1ゲート信号の反転信号に基づいて前記第2論理ゲートの出力の取り込みまたは遮断を制御し、前記第2論理ゲートの出力を前記第1論理ゲートの前記第1入力端子に送出する第2ゲート部と、
    前記駆動電源と前記第1論理ゲートとの間に設けられ、電流の流れる方向によって抵抗が変化するスピン注入型の第1MTJ素子と、
    前記駆動電源と、前記第2論理ゲートとの間に設けられ、電流の流れる方向によって抵抗が変化するスピン注入型の第2MTJ素子と、
    入力端子に前記入力信号を受け、出力端子が前記第1MTJ素子と前記第1論理ゲートとの間に接続され、前記第1ゲート信号と異なる第2ゲート信号に基づいて前記入力信号の取り込みまたは遮断を制御する第3ゲート部と、
    入力端子に前記入力信号の反転信号を受け、出力端子が前記第2MTJ素子と前記第2論理ゲートとの間に接続され、前記第2ゲート信号に基づいて前記入力信号の反転信号の取り込みまたは遮断を制御する第4ゲート部と、
    前記第2論理ゲートの出力を出力信号として出力する第1出力ノードと、
    前記第1論理ゲートの出力を前記出力信号の反転信号として出力する第2出力ノードと、
    前記第1制御信号に基づいて前記第1および第2MTJ素子と、前記駆動電源との間をショートさせる第1トランジスタと、
    第2制御信号に基づいて前記第1および第2論理ゲートと前記駆動電源との間をそれぞれショートさせる第2および第3トランジスタと、
    を備えていることを特徴とする不揮発性ラッチ回路。
  2. 入力信号を受ける入力ノードと、
    第1ゲート信号に基づいて前記入力信号の取り込みまたは遮断を制御する第1ゲート部と、
    接地電源に電気的に接続され、前記第1ゲート部から前記入力信号を受ける第1入力端子および第1制御信号を受ける第2入力端子を有し、前記第1制御信号に応じてインバータかまたは一定電圧を出力するゲートとして動作する第1論理ゲートと、
    前記接地電源に電気的に接続され、前記第1論理ゲートの出力を受ける第1入力端子および前記第1制御信号を受ける第2入力端子を有し、前記第1制御信号に応じてインバータかまたは前記一定電圧を出力するゲートとして動作する第2論理ゲートと、
    前記第1ゲート信号の反転信号に基づいて前記第2論理ゲートの出力の取り込みまたは遮断を制御し、前記第2論理ゲートの出力を前記第1論理ゲートの前記第1入力端子に送出する第2ゲート部と、
    前記接地電源と、前記第1論理ゲートとの間に設けられ、電流の流れる方向によって抵抗が変化するスピン注入型の第1MTJ素子と、
    前記接地電源と、前記第2論理ゲートとの間に設けられ、電流の流れる方向によって抵抗が変化するスピン注入型の第2MTJ素子と、
    入力端子に前記入力信号の反転信号を受け、出力端子が前記第1MTJ素子と前記第1論理ゲートとの間に接続され、前記第1ゲート信号と異なる第2ゲート信号に基づいて前記入力信号の反転信号の取り込みまたは遮断を制御する第3ゲート部と、
    入力端子に前記入力信号を受け、出力端子が前記第2MTJ素子と前記第2論理ゲートとの間に接続され、前記第2ゲート信号に基づいて前記入力信号の取り込みまたは遮断を制御する第4ゲート部と、
    前記第2論理ゲートの出力を出力信号として出力する第1出力ノードと、
    前記第1論理ゲートの出力を前記出力信号の反転信号として出力する第2出力ノードと、
    前記第1制御信号に基づいて前記第1および第2MTJ素子と、前記接地電源との間をショートさせる第1トランジスタと、
    第2制御信号に基づいて前記第1および第2論理ゲートと前記接地電源との間をそれぞれショートさせる第2および第3トランジスタと、
    を備えていることを特徴とする不揮発性ラッチ回路。
  3. 前記第1および第2論理ゲートは、NORゲートであることを特徴とする請求項1または2記載の不揮発性ラッチ回路。
  4. 前記第1および第2論理ゲートは、直列に接続された第1および第2のpチャネルトランジスタを有する直列回路と、並列に接続された第1および第2のnチャネルトランジスタを有する並列回路とを備え、前記直列回路と前記並列回路が直列に接続されていることを特徴とする請求項3記載の不揮発性ラッチ回路。
  5. 前記第1および第2論理ゲートは、NANDゲートであることを特徴とする請求項1または2記載の不揮発性ラッチ回路。
  6. 前記第1および第2論理ゲートは、並列に接続された第1および第2のpチャネルトランジスタを有する並列回路と、直列に接続された第1および第2のnチャネルトランジスタを有する直列回路とを備え、前記並列回路と前記直列回路が直列に接続されていることを特徴とする請求項5記載の不揮発性ラッチ回路。
  7. 前記第1制御信号により前記第1および第2論理ゲートのそれぞれの第1入力端子を同電位にプリチャージした後、前記第1制御信号を変化させることにより前記第1および第2MTJ素子に保持されたデータを再生することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の不揮発性ラッチ回路。
  8. 前記第1論理ゲートの出力端子と前記第2論理ゲートの第1入力端子との間に、前記第1論理ゲートの出力端子と前記第2論理ゲートの第1入力端子との間をショートさせる、前記第2ゲート部と実質的に同じサイズの第ゲート部が設けられていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の不揮発性ラッチ回路。
  9. マスター側のラッチ回路と、スレーブ側のラッチ回路とを備え、前記マスター側のラッチ回路は、前記請求項1乃至8のいずれかに記載の不揮発性ラッチ回路を備え、前記第3ゲート部の入力端子にスレーブ側の出力信号を受け、前記第4ゲート部の入力端子にスレーブ側の出力信号の反転信号を受けることを特徴とする不揮発性フリップフロップ回路。
  10. マスター側のラッチ回路と、スレーブ側のラッチ回路とを備え、前記スレーブ側のラッチ回路は、前記請求項1乃至8のいずれかに記載の不揮発性ラッチ回路を備え、前記第3ゲート部の入力端子にマスター側の出力信号を受け、前記第4ゲート部の入力端子にマスター側の出力信号の反転信号を受けることを特徴とする不揮発性フリップフロップ回路。
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5170706B2 (ja) * 2007-08-31 2013-03-27 国立大学法人東京工業大学 スピン注入磁化反転mtjを用いた不揮発性sram/ラッチ回路
KR20090027042A (ko) * 2007-09-11 2009-03-16 주식회사 동부하이텍 리텐션 기능을 갖는 mtcmos 플립플롭
WO2009060625A1 (ja) * 2007-11-08 2009-05-14 Panasonic Corporation 不揮発性ラッチ回路および不揮発性フリップフロップ回路
JP5238430B2 (ja) 2008-09-25 2013-07-17 株式会社東芝 記憶装置
US7961502B2 (en) * 2008-12-04 2011-06-14 Qualcomm Incorporated Non-volatile state retention latch
KR101611416B1 (ko) 2009-12-09 2016-04-12 삼성전자주식회사 비휘발성 논리 회로, 상기 비휘발성 논리 회로를 포함하는 집적 회로 및 상기 집적 회로의 동작 방법
US8437177B2 (en) 2011-01-20 2013-05-07 Panasonic Corporation Nonvolatile latch circuit and nonvolatile flip-flop circuit
WO2012108151A1 (ja) 2011-02-07 2012-08-16 パナソニック株式会社 不揮発性ラッチ回路、不揮発性フリップフロップ回路および不揮発性信号処理装置
KR101813175B1 (ko) 2011-02-21 2017-12-29 삼성전자주식회사 논리 회로, 상기 논리 회로를 포함하는 집적 회로 및 상기 집적 회로의 동작 방법
US8681535B2 (en) 2011-06-03 2014-03-25 Alexander Mikhailovich Shukh Nonvolatile latch circuit
US8405421B2 (en) 2011-06-03 2013-03-26 Alexander Mikhailovich Shukh Nonvolatile full adder circuit
KR101813182B1 (ko) 2011-11-16 2017-12-29 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 소자를 포함하는 다치 논리 장치
US8792268B2 (en) 2011-11-22 2014-07-29 Panasonic Corporation Nonvolatile latch circuit, nonvolatile flip-flop circuit, and nonvolatile signal processing device
KR102149882B1 (ko) * 2012-01-01 2020-08-31 고쿠리츠다이가쿠호진 도호쿠다이가쿠 집적회로
US9196337B2 (en) * 2012-04-25 2015-11-24 Qualcomm Incorporated Low sensing current non-volatile flip-flop
EP3174061B1 (en) * 2012-05-18 2019-12-18 Japan Science And Technology Agency Memory circuit provided with bistable circuit and non-volatile element
US8773896B2 (en) 2012-05-18 2014-07-08 Alexander Mikhailovich Shukh Nonvolatile latch circuit
JP6213092B2 (ja) * 2012-12-17 2017-10-18 凸版印刷株式会社 不揮発性フリップフロップ、不揮発性ラッチおよび不揮発性メモリ素子
US8942027B1 (en) * 2013-07-10 2015-01-27 Industrial Technology Research Institute Memory storage circuit and method of driving memory storage circuit
JP6252934B2 (ja) * 2013-11-18 2017-12-27 国立大学法人東北大学 省電力機能を備える論理回路
US9722584B1 (en) * 2016-04-20 2017-08-01 National Tsing Hua University Non-volatile latch
CN106251896B (zh) * 2016-07-11 2018-10-23 北京航空航天大学 基于自旋霍尔效应磁隧道结的非易失性锁存单元
CN108616268B (zh) * 2016-12-13 2022-05-17 中电海康集团有限公司 一种基于磁性隧道结的状态保持电源门控单元
KR102220044B1 (ko) * 2019-12-03 2021-02-24 인천대학교 산학협력단 비휘발성 플립플롭의 데이터 복원 모드에서의 동작 방법

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08256044A (ja) 1995-03-16 1996-10-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 記憶回路およびフリップフロップ回路
US6269027B1 (en) 1998-04-14 2001-07-31 Honeywell, Inc. Non-volatile storage latch
JP2002216468A (ja) 2000-11-08 2002-08-02 Canon Inc 半導体記憶装置
US6304477B1 (en) 2001-01-31 2001-10-16 Motorola, Inc. Content addressable magnetic random access memory
US6650158B2 (en) * 2001-02-21 2003-11-18 Ramtron International Corporation Ferroelectric non-volatile logic elements
JP4282919B2 (ja) 2001-04-27 2009-06-24 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション レジスタ
JP3834787B2 (ja) 2001-11-22 2006-10-18 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 不揮発性ラッチ回路
KR100479810B1 (ko) * 2002-12-30 2005-03-31 주식회사 하이닉스반도체 불휘발성 메모리 장치
US7286393B2 (en) * 2005-03-31 2007-10-23 Honeywell International Inc. System and method for hardening MRAM bits

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