JP4230169B2 - フッ素の発生方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フッ化物の合成原料や薄膜堆積装置などのクリーニングに有用なフッ素を安全に大量供給するためのフッ素の発生方法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
フッ素(F2)は、各種フッ化物の合成原料やクリーニングガスとして有用な物質であることが知られている。しかし、F2は、非常に反応性が高くボンベに高濃度ガスを高圧充填することが困難であるため大量に輸送できないという問題がある。また合成原料、クリーングガスとして使用する場合、F2の純度はできる限り高いほうが好ましい。通常、フッ素の発生方法としては、フッ化水素−フッ化カリウム溶融塩の電気分解による方法が工業的に最も良く利用されている。また近年、オンサイトでフッ素を供給可能な電気分解装置も市販されている。しかしながら、電気分解では電極の消耗や陽極効果による異常などのように安定性に問題があり、メンテンナンス時には非常に危険なフッ化水素を取り扱うことが必要になるため、高純度のF2を供給する方法としては、K3NiF7を加熱する方法が知られている(式▲1▼参照、Larned B Asprey, Journal Fluorine chemistry, vol.7, 359-361, 1976)。
【0003】
K3NiF7 → K3NiF6 + 0.5F2・・・・▲1▼
しかしながら、この方法では固体フッ素化合物の重量に対して発生可能なフッ素量が少なく、大量にフッ素を輸送すると言う観点からは問題が残る。またF2供給法としては、NF3プラズマを発生させN2とF2に分解させる方法も知られている。しかし、この方法ではF2がN2で希釈されることや条件にもよるがNFxラジカルの生成による不純物が生成する可能性がある。また、活性種の寿命が長いため、例えば有機物合成などには発火の危険性がある場合は使用できない。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題点に鑑み鋭意検討の結果、フッ素発生剤を熱分解してF2を発生させた後、フッ素化剤、またはこれらのガスに少量(1〜20vol%)のF2を添加したフッ素化剤で再生処理することにより大量にF2を取り出す方法を見出し本発明に至った。
【0005】
すなわち本発明は、K 3 NiF 7 またはCoF 3 であるフッ素発生剤を加熱することによりフッ素を発生させる方法において、フッ素を発生させ、その後、ClF、ClF 3 、ClF 5 、BrF、BrF 3 、BrF 5 、IF 3 、IF 5 、IF 7 、NF 3 、N 2 F 4 、N 2 F 2 、N 3 F、H 2 NF、HNF 2 、NOF、NO 2 Fの内から選ばれる少なくとも1種の化合物、または該フッ素化剤にF 2 を1〜20vol%添加したこれらの化合物の内から選ばれる少なくとも1種の化合物であるフッ素化剤でフッ素発生剤を再フッ素化する操作を交互に行うことを特徴とするフッ素の発生方法を提供するものである。
【0006】
本発明において、フッ素発生剤としてK3NiF7を使用する場合、F2発生のための加熱条件は、200〜800℃の温度範囲で、更に好ましくは300〜400℃の温度範囲であり、インターハロゲンガス(ClF、ClF3、ClF5、BrF、BrF3、BrF5、IF3、IF5、IF7)での再生条件は、20〜200℃の温度範囲で、更に好ましくは50〜150℃の温度範囲が良く、更に好ましくは130〜150℃の温度範囲が良い。K3NiF7の加熱条件に於いて、200℃以下であると発生速度(分解速度)が遅く非効率的であり、また800℃以上であると充填管がフッ素による損傷(腐蝕)を激しく受けるため好ましくない。インターハロゲンガスでの再生フッ素化は、比較的低温でも可能であるが、特に冷却する必要などないため20℃以上200℃以下で有れば良い。200℃以上であると分解との競争反応になり再生効率が落ちるため好ましくない。再生反応をNF3を使用する場合は、K3NiF7充填管に導入する前に加熱式活性化装置あるいはプラズマ式活性化装置でNF3の活性化(分解)を行っておく必要がある。この際のK3NiF7の加熱温度はインターハロゲンガスでの加熱条件と同じである。加熱式装置でのNF3の活性化は、300〜800℃の温度範囲が好ましい。プラズマ式活性化装置の場合、分解に用いる周波数は高周波領域でもマイクロ波領域でも構わないが、できる限り大気圧近くで分解できる方が装置的に簡易であり好ましい。
【0007】
次にフッ素発生剤としてCoF3を使用し、加熱してF2を発生させる場合、450〜800℃の温度範囲で、更に好ましくは550〜700℃の温度範囲である。800℃以下が好ましい理由は、K3NiF7と同様であり、450℃以下では分解が効率的に進まない問題がある。CoF3を分解するとCoF2が生成する。CoF2のCoF3への再生にインターハロゲンガスを使用する場合もしくは前述の方法と同様にNF3を予め活性化させて行う場合、500℃以下の温度で行うことが好ましい。500℃以上であるとCoF3の生成と分解が競争的に起こるため非効率的である。
【0008】
【実施例】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はかかる実施例に限定されるものではない。
【0009】
実施例1
示差熱重量分析装置内にK3NiF7を仕込み、Ar気流中で加熱した結果、約200℃から重量が急速に減少した。なお、発生したガスはF2であった。また、K3NiF7を加熱しF2を発生させた後の試料(K3NiF6と推定される)をClF3雰囲気中で加熱した場合、示差熱重量分析からClF3で暴露すると共に重量増加が起こり、130℃以上で急速な重量増加が起こった。また、他のインターハロゲンガスを使用しても同様の結果を得ることができた。以上のことからフッ素系インターハロゲンガスを使用する場合、K3NiF7からのF2発生は、200℃以上、再生処理は室温でも構わないが130℃以上が好ましいことが解った。
【0010】
実施例2
K3NiF7を5g充填した内容積50ccのダブルエンドのステンレスシリンダを真空ポンプで約1Paまで脱気して300℃に加熱したところ、ブルドン管式圧力計での指示値が0.25MPaに上昇した。シリンダ内のガスをGC−MSで分析しところF2であった。管内のガスを真空ポンプで脱気して温度を200℃まで落とし、ClF3を0.1MPaまで充填し圧力減少が止まるまで放置する操作を5回ほど行った。その後、管内を真空に脱気して再び300℃に加熱したところ、管内の圧力は0.25MPaまで上昇した。この操作を更に繰り返し4回ほど行ったがClF3で処理した後にK3NiF7を加熱することによりF2を得ることができた。また、ClF3に変えてBrF3、BrF5、IF5、IF7、N2F2、N2F4、NOF、NO2Fで同様の実験を行ったが再生処理後にF2を得ることができた。
【0011】
実施例3
図1に示した直径2.5cm、長さ100cmのステンレス製のシリンダーにK3NiF7を100g充填し350℃に加熱したところ発生したフッ素により反応器内部圧力が約6MPaに上昇した。管内圧力を1Pa、管内温度を約150℃に低下させたのち、NF3(100SCCM)をマイクロ波発信管を通じてシリンダ内に2時間流通させ圧力を13.3kPaで保持した。しかるのちマイクロ波(1.45GHz、1.5KW)を発信管に印加してNF3の分解を行いシリンダ内にその分解ガスを流通させた。その後、再加熱したところF2の発生によりシリンダー内圧力は約6MPaまで上昇した。この操作を加熱とNF3による再処理を繰り返し5回実施したが、再生処理後に加熱するとF2を発生しシリンダ内ガスによる圧力上昇が起こった。
【0012】
実施例4
実施例3と同様の装置にK3NiF7を100g充填し350℃に加熱したところ発生したフッ素により反応器内部圧力が約6MPaに上昇した。管内圧力を1Pa、管内温度を約150℃に低下させたのち、NF3(100SCCM)を800℃に加熱したアルミナ管を通じてシリンダ内に3時間流通させ圧力を13.3kPaで保持した。しかるのちマイクロ波(1.45GHz、1.5KW)を発信管に印加してNF3の分解を行いシリンダ内にその分解ガスを流通させた。その後、再加熱したところF2の発生によりシリンダー内圧力は約6MPaまで上昇した。この操作を加熱とNF3による再処理を繰り返し5回実施したが、再生処理後に加熱するとF2を発生しシリンダ内ガスによる圧力上昇が起こった。
【0013】
実施例5
実施例3で使用したマイクロ波プラズマ発生装置に変えて誘導結合型高周波プラズマ発生装置(1.2kW、2MHz)を取り付けて同様の実験を行った(但し、圧力は0.1kPa)。ガスとしてNF3、NOF、F2添加NF3、N2F4、N2F2で各々実施した。その結果、K3NiF7は再生され繰り返しF2発生が可能である結果が得られた。
【0014】
実施例6
実施例3で用いた実験装置のシリンダをアルミナ管に変え、K3NiF7に替えてCoF3を用いてF2の発生及びその後の再生試験を行った。CoF3は650℃で加熱することによりF2を発生させた。また、再生処理時にはヒータを450℃設定にしたが、管の構造上CoF3充填部の温度は400〜100℃であった。再生処理の結果、CoF3からF2を再放出可能であった。またNF3に替えてN2F2、N2F4、NOF、NO2F、5vol%F2添加NF3を使用しても同様の結果が得られた。
【0015】
実施例7
図2は、F2発生装置の概念図を示したものであるが、K3NiF7(50g)を充填したカラム(φ25cm×L40cm)を2本(カラムA、カラムB)並列に接続し、それらを加熱(250℃)しておき、まずカラムA2から10SCCMでF2を抜き出した。カラムA2の圧力が大気圧まで低下した時点で、カラムB3からF2を取り出し、カラムB3の温度を150℃まで低下させて、ClF3充填管(フッ素化剤充填管1)からClF3を取り出し充填した(0.2MPa)。カラムA2にClF3を充填後、圧力が大気圧まで低下した時点でClF3をガス排気装置7を介して排気口から廃棄しながらガス流量制御装置4で10SCCMでカラムA2に1時間供給した。ClF3の供給を止め、カラムA2をN2でパージした後、真空引きし、250℃まで加熱した。次にカラムB3からのF2の供給を停止した時点で250℃に昇温したカラムA2からF2を10SCCMで取り出した。この間、カラムB3にClF3を流通させてカラムA2で行ったと同様の操作で再生処理を行った。前述の一連の操作を繰り返し行うことにより連続してガス流量制御装置5を介してF2をCVD装置6にF2を供給することが可能であった。また、F2を供給しながらSi皮膜が付着したガラス板の洗浄を実施したところ(100℃、1kPa)、Si膜は除去洗浄されていた。F2の再生処理をNF3プラズマで実施したところ、連続したF2供給が可能であった。
【0016】
【発明の効果】
本発明は、反応性が非常に高濃度ガスを高圧充填できないため大量に輸送供給不可能であったF2を大量に供給可能とする。このことにより半導体工業におけるデバイス製造装置等において、装置内壁、治具、配管等に堆積した不要な堆積物を除去するクリーニングガスや合成原料としてのF2の利用が促進できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ステンレス製シリンダの構造を示す。
【図2】F2発生装置の概念図を示す。
【符号の説明】
1・・・フッ素化剤充填管
2・・・カラムA
3・・・カラムB
4、5・・・ガス流量制御装置
6・・・CVD装置
7・・・ガス排気装置
8・・・プラズマ発生装置(必要に応じて設置)
Claims (1)
- K 3 NiF 7 またはCoF 3 であるフッ素発生剤を加熱することによりフッ素を発生させる方法において、フッ素を発生させ、その後、ClF、ClF 3 、ClF 5 、BrF、BrF 3 、BrF 5 、IF 3 、IF 5 、IF 7 、NF 3 、N 2 F 4 、N 2 F 2 、N 3 F、H 2 NF、HNF 2 、NOF、NO 2 Fの内から選ばれる少なくとも1種の化合物、または該フッ素化剤にF 2 を1〜20vol%添加したこれらの化合物の内から選ばれる少なくとも1種の化合物であるフッ素化剤でフッ素発生剤を再フッ素化する操作を交互に行うことを特徴とするフッ素の発生方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002137468A JP4230169B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | フッ素の発生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002137468A JP4230169B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | フッ素の発生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003327412A JP2003327412A (ja) | 2003-11-19 |
JP4230169B2 true JP4230169B2 (ja) | 2009-02-25 |
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ID=29699222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002137468A Expired - Fee Related JP4230169B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | フッ素の発生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4230169B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4828185B2 (ja) * | 2004-09-24 | 2011-11-30 | 昭和電工株式会社 | フッ素ガスの製造方法 |
JP5037021B2 (ja) * | 2005-12-19 | 2012-09-26 | 昭和電工株式会社 | フッ素ガスの供給方法およびその装置 |
JP2007176768A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Showa Denko Kk | フッ素ガスの製造方法 |
TW200932681A (en) * | 2007-12-11 | 2009-08-01 | Solvay Fluor Gmbh | Method for preparing manganese tetrafluoride |
JP2013203571A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Central Glass Co Ltd | フッ素ガスの製造方法とその装置 |
-
2002
- 2002-05-13 JP JP2002137468A patent/JP4230169B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JP2003327412A (ja) | 2003-11-19 |
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A621 | Written request for application examination |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070604 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081203 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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