JP4227616B2 - 基板処理装置及び半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、半導体デバイス等の基板等を処理するための基板処理装置及び半導体デバイスの製造方法に関する。
ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体デバイスを製造する工程においては、減圧ＣＶＤ法（化学的気相成長法）によって、基板上に薄膜を形成することが行われている。この種の基板を処理するに際し、基板や処理室から不純物が生成され、この不純物が様々な悪影響を及ぼす。
従来の技術の一つとして、基板にナイトライド膜を形成する場合、石英製の反応管内壁面にポリシリコン膜をコーティングし、反応管内壁の石英と反応管内壁面に付着しようとするナイトライド膜との双方に対する接着強度が強いポリシリコン膜を設け、ナイトライド膜の脱落を防止するようにすることが公知となっている（例えば特開昭６３−２９５２２号公報参照）。
また、上記従来例とは別の技術として、減圧ＣＶＤ法によって、エピタキシャルシリコン膜（以下、Ｅｐｉ−Ｓｉ膜という。）やエピタキシャルシリコンゲルマニウム膜（以下、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜という）を形成することが知られている。Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜は、ヘテロジャンクションバイポーラトランジスタ（以下、ＨＢＴという）のベース層に用いられており、通信用高速ＬＳＩにおいて高い発信周波数特性を実現している。また、電界効果型トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）のウルトラシャロージャンクション形成のためのエレベーテッドソースドレイン成膜や近年開発が加速しているキャリアモビリティ向上のための歪シリコンチャネル成膜にも用いられている。
従来の技術の一つとして、基板にナイトライド膜を形成する場合、石英製の反応管内壁面にポリシリコン膜をコーティングし、反応管内壁の石英と反応管内壁面に付着しようとするナイトライド膜との双方に対する接着強度が強いポリシリコン膜を設け、ナイトライド膜の脱落を防止するようにすることが公知となっている（例えば特開昭６３−２９５２２号公報参照）。
また、上記従来例とは別の技術として、減圧ＣＶＤ法によって、エピタキシャルシリコン膜（以下、Ｅｐｉ−Ｓｉ膜という。）やエピタキシャルシリコンゲルマニウム膜（以下、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜という）を形成することが知られている。Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜は、ヘテロジャンクションバイポーラトランジスタ（以下、ＨＢＴという）のベース層に用いられており、通信用高速ＬＳＩにおいて高い発信周波数特性を実現している。また、電界効果型トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）のウルトラシャロージャンクション形成のためのエレベーテッドソースドレイン成膜や近年開発が加速しているキャリアモビリティ向上のための歪シリコンチャネル成膜にも用いられている。
減圧ＣＶＤ法によって、結晶性が良好なＥｐｉ−Ｓｉ膜及びＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を形成する絶対条件の一つに、Ｅｐｉ−Ｓｉ膜及びＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜とＳｉ基板の酸素濃度を１０１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダに抑えることがある。１０１８（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダ以上の酸素がＥｐｉ−Ｓｉ膜又はＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜とＳｉ基板の界面に存在すると、結晶性の良好な膜は形成できない。
本発明者らは、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜の成膜処理を低温（例えば５００°Ｃ）で行うのを繰り返すと、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜とＳｉ基板との界面に著しく酸素が増加してしまうことを発見した。
本発明者らは、この原因について究明したところ、以下であることが判明した。
一般的に、室温・大気中ではＳｉよりもＧｅの方が酸化が起こりやすく、高温ではＧｅＯがＳｉＯより気化されやすい。一方、一度Ｅｐｉ−ＳｉＧ成膜処理を行うと、処理室の内壁や基板支持体にＧｅ原子を含む副生成物が付着し、基板支持体をロードロック室から搬出する際、処理室はゲートバルブにより閉鎖されているので、酸素を含んだ大気雰囲気に直接接触することはないが、基板支持体は大気雰囲気と接触し、この基板支持体に付着したＧｅ原子が酸化されるなどして、Ｇｅ含有化合物（一例として、Ｇｅ含有酸化物：ＧｅＯ）となって基板支持体に残る。また、基板支持体が大気雰囲気に晒された際、前記基板支持体には、水分などの酸素を含む物質も付着する。そして、前記基板支持体を処理室にロードする際、前記基板支持体に付着したＧｅＯや水分の一部が脱離し、処理室内壁に付着しているＧｅ原子を酸化する。前記基板支持体に付着した水分などの酸素を含む物質は処理室内を排気する際に、処理室外に容易に排出されるが、ＧｅＯは化合物であるため排気によって処理室外に排出することが困難である。そして、次のＥｐｉ−Ｓｉ膜又はＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜の成膜処理時の熱により、処理室内壁や基板支持体に付着したＧｅＯから酸素が脱離する。この酸素は直接、基板に取り込まれたり、又、処理室内壁に付着したＧｅ原子と反応してＧｅＯになった後、再び脱離して基板に取り込まれたりして、基板界面の酸素濃度を増加させる。
尚、高温でＥｐｉ−Ｓｉ膜又はＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を成膜させる場合は、水素ベークを例えば１０００°Ｃ程度の高温で行うので、処理室内壁や基板支持体に付着したＧｅＯが水素により還元気化され、処理室外に排出される可能性がある。ところが、Ｅｐｉ−Ｓｉ膜又はＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を低温（例えば５００°Ｃ）で成膜させる場合は、水素ベーク温度も７００°Ｃ〜８００°Ｃの低温で行うので、処理室内壁や基板支持体に付着したＧｅＯに対する還元作用が低下し、多くの酸素が基板に取り込まれることになる。
本発明の目的は、Ｇｅ含有ガスを供給してＥｐｉ−ＳｉＧｅ等の成膜処理をする場合に、基板界面の酸素濃度上昇を抑え、良好な膜を形成することができる基板処理装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、処理室外で酸素を含む雰囲気に晒された基板支持体によって基板に酸素が取り込まれるのを防止することができる基板処理装置を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、結晶性の良好なＥｐｉ−ＳｉＧｅ等を基板上に形成することができる半導体デバイスの製造方法を提供することにある。
本発明の第１の特徴とするところは、基板を収容する処理室と、前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、前記基板を加熱する加熱手段と、前記処理室にゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を処理する成膜処理と、前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記成膜処理により形成されたゲルマニウム（Ｇｅ）含有化合物が付着された前記処理室内の所定の部分に対してコーティングするコーティング処理とを行うよう前記ガス供給手段及び前記加熱手段を制御する制御手段とを具備する基板処理装置にある。
本発明の第２の特徴とするところは、基板を収容する処理室と、前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、前記基板を加熱する加熱手段と、前記基板を支持する基板支持体と、前記基板支持体を処理室内外に移動させる移動手段と、処理室外で酸素を含む雰囲気に晒された基板支持体を処理室内に挿入した状態で、処理室内に処理ガスを供給して前記基板支持体をコーティングするよう前記ガス供給手段、前記加熱手段及び前記移動手段を制御する制御手段と、を具備する基板処理装置にある。
本発明の第３の特徴とするところは、基板を収容する処理室と、前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、前記基板を加熱する加熱手段と、前記基板を支持する基板支持体と、前記基板支持体を処理室内外に移動させる移動手段と、酸素を含む雰囲気に晒された前記基板支持体を処理室外から処理室内に挿入した後、次の基板処理を行う前に処理室内に処理ガスを供給して前記基板支持体をコーティングするよう前記ガス供給手段、前記加熱手段及び前記移動手段を制御する制御手段と、を具備する基板処理装置にある。
本発明の第４の特徴とするところは、基板を収容する処理室と、前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、前記基板を加熱する加熱手段と、前記処理室にゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を処理する第１の成膜処理と、前記第１の成膜処理に続いて前記処理室に所望の処理ガスを供給して前記基板とは別の基板に対し処理する第２の成膜処理と、前記第１の成膜処理と第２の成膜処理との間に、前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記処理室内の所定の部分に対し、コーティングするコーティング処理とを行うよう前記ガス供給手段及び前記加熱手段を制御する制御手段と、を具備する基板処理装置にある。
好ましくは、前記基板を支持する基板支持体と、この基板支持体を前記処理室内外に移動させる移動手段とを有し、前記制御手段は、前記第１の成膜処理後、処理済みの基板を支持した前記基板支持体が前記移動手段により前記処理室から払い出され、基板を支持していない前記基板支持体が前記移動手段により前記処理室に挿入された後、前記処理室内にＳｉ含有ガスを供給し処理室内の基板支持体をコーティングするよう前記ガス供給手段、前記加熱手段及び前記移動手段を制御する。
また、好ましくは、前記制御手段は、処理室内にＳｉ含有ガスを供給し処理室内の基板支持体をコーティングした後、基板支持体に未処理の基板を載置し、処理室内にてＧｅ含有ガスを用いた第２の成膜処理を行うよう制御する。
また、好ましくは、前記成膜処理は、処理ガスとしてＧｅ含有ガスを用いたＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理である。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、Ｓｉ含有ガスを用いて前記基板支持体をコーティングする。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、前記処理ガスとしてＳｉ含有ガスも用いる。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、前記成膜処理がボロンをドープしたボロン含有Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理とし、Ｓｉコーティング膜の膜厚を３０ｎｍ〜４０ｎｍとする。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、Ｓｉ含有ガスは、ＳｉＨ４，Ｓｉ２Ｈ６又はＳｉＨ２Ｃｌ２である。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、Ｇｅ含有化合物はＧｅ酸化物である。
本発明の第６の特徴とするところは、処理室にゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を処理する成膜処理と、前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記成膜処理により形成されたゲルマニウム含有化合物が付着された前記処理室内の所定の部分に対してコーティングするコーティング処理と、を行うよう処理室に所望のガスを供給するガス供給手段及び前記基板を加熱する加熱手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置を使用し、基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、基板を前記処理室内に搬送する工程と、前記処理室内に前記ガス供給手段により所望のガスを供給するガス供給工程と、前記基板を前記加熱手段により加熱する工程とを含む半導体デバイスの製造方法にある。
本発明の第７の特徴とするところは、処理室に所望のガスを供給して基板を処理する成膜処理と、前記処理室外で酸素を含む雰囲気に晒された基板支持体を処理室内に挿入した状態で、処理室内に処理ガスを供給して前記基板支持体をコーティングするコーティング処理と、を行うよう処理室に所望のガスを供給するガス供給手段及び前記基板を加熱する加熱手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置を使用し、基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、基板を前記処理室内に搬送する工程と、前記処理室内に前記ガス供給手段により所望のガスを供給するガス供給工程と、前記基板を前記加熱手段により加熱する工程とを含む半導体デバイスの製造方法にある。
本発明の第８の特徴とするところは、処理室に所望のガスを供給して基板を処理する成膜処理と、酸素を含む雰囲気に晒された前記基板支持体を処理室外から処理室内に挿入した後、次の基板処理を行う前に処理室内に処理ガスを供給して前記基板支持体をコーティングするコーティング処理と、を行うよう処理室に所望のガスを供給するガス供給手段及び前記基板を加熱する加熱手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置を使用し、基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、基板を前記処理室内に搬送する工程と、前記処理室内に前記ガス供給手段により所望のガスを供給するガス供給工程と、前記基板を前記加熱手段により加熱する工程とを含む半導体デバイスの製造方法にある。
本発明の第９の特徴とするところは、処理室に所望のガスを供給して基板を処理する成膜処理と、前記処理室にゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を処理する第１の成膜処理と、前記第１の成膜処理に続いて前記処理室に所望の処理ガスを供給して前記基板とは別の基板に対し処理する第２の成膜処理と、前記第１の成膜処理と第２の成膜処理との間に、前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記処理室内の所定の部分に対し、コーティングするコーティング処理と、を行うよう処理室に所望のガスを供給するガス供給手段及び前記基板を加熱する加熱手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置を使用し、基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、基板を前記処理室内に搬送する工程と、前記処理室内に前記ガス供給手段により所望のガスを供給するガス供給工程と、前記基板を前記加熱手段により加熱する工程とを含む半導体デバイスの製造方法にある。
なお、本発明は、前述した公知例とは、次の点で異なる。
特許文献１には、基板支持体に付着したＧｅＯ等の酸化物による汚染によって生成膜の結晶性が悪化する点の記載がなく、また前記酸化物をコーティングで封じ込める点の開示もない。特に、Ｇｅは酸化されやすく、また昇温時に酸素成分を放出しやすいので、Ｇｅ含有ガスを使用する場合は、生成膜の結晶性の悪化が顕著に現われる。本発明は、この点を解決したもので、Ｇｅ含有ガスで基板処理を行う場合に有効な技術であり、特許文献１にはこの点に関して開示や示唆する記載はない。
また、特許文献１は、処理室内壁に対してコーティングする点のみが開示され、請求項２又は３に係る本発明のように基板支持体に対してコーティングする点については開示されていない。特許文献１では、基板支持体が処理室外の酸素を含む雰囲気に晒され、基板支持体に酸素を含む化合物が付着したとしても、このような化合物を封じ込めることはできないものである。
本発明者らは、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜の成膜処理を低温（例えば５００°Ｃ）で行うのを繰り返すと、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜とＳｉ基板との界面に著しく酸素が増加してしまうことを発見した。
本発明者らは、この原因について究明したところ、以下であることが判明した。
一般的に、室温・大気中ではＳｉよりもＧｅの方が酸化が起こりやすく、高温ではＧｅＯがＳｉＯより気化されやすい。一方、一度Ｅｐｉ−ＳｉＧ成膜処理を行うと、処理室の内壁や基板支持体にＧｅ原子を含む副生成物が付着し、基板支持体をロードロック室から搬出する際、処理室はゲートバルブにより閉鎖されているので、酸素を含んだ大気雰囲気に直接接触することはないが、基板支持体は大気雰囲気と接触し、この基板支持体に付着したＧｅ原子が酸化されるなどして、Ｇｅ含有化合物（一例として、Ｇｅ含有酸化物：ＧｅＯ）となって基板支持体に残る。また、基板支持体が大気雰囲気に晒された際、前記基板支持体には、水分などの酸素を含む物質も付着する。そして、前記基板支持体を処理室にロードする際、前記基板支持体に付着したＧｅＯや水分の一部が脱離し、処理室内壁に付着しているＧｅ原子を酸化する。前記基板支持体に付着した水分などの酸素を含む物質は処理室内を排気する際に、処理室外に容易に排出されるが、ＧｅＯは化合物であるため排気によって処理室外に排出することが困難である。そして、次のＥｐｉ−Ｓｉ膜又はＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜の成膜処理時の熱により、処理室内壁や基板支持体に付着したＧｅＯから酸素が脱離する。この酸素は直接、基板に取り込まれたり、又、処理室内壁に付着したＧｅ原子と反応してＧｅＯになった後、再び脱離して基板に取り込まれたりして、基板界面の酸素濃度を増加させる。
尚、高温でＥｐｉ−Ｓｉ膜又はＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を成膜させる場合は、水素ベークを例えば１０００°Ｃ程度の高温で行うので、処理室内壁や基板支持体に付着したＧｅＯが水素により還元気化され、処理室外に排出される可能性がある。ところが、Ｅｐｉ−Ｓｉ膜又はＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を低温（例えば５００°Ｃ）で成膜させる場合は、水素ベーク温度も７００°Ｃ〜８００°Ｃの低温で行うので、処理室内壁や基板支持体に付着したＧｅＯに対する還元作用が低下し、多くの酸素が基板に取り込まれることになる。
本発明の目的は、Ｇｅ含有ガスを供給してＥｐｉ−ＳｉＧｅ等の成膜処理をする場合に、基板界面の酸素濃度上昇を抑え、良好な膜を形成することができる基板処理装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、処理室外で酸素を含む雰囲気に晒された基板支持体によって基板に酸素が取り込まれるのを防止することができる基板処理装置を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、結晶性の良好なＥｐｉ−ＳｉＧｅ等を基板上に形成することができる半導体デバイスの製造方法を提供することにある。
本発明の第１の特徴とするところは、基板を収容する処理室と、前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、前記基板を加熱する加熱手段と、前記処理室にゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を処理する成膜処理と、前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記成膜処理により形成されたゲルマニウム（Ｇｅ）含有化合物が付着された前記処理室内の所定の部分に対してコーティングするコーティング処理とを行うよう前記ガス供給手段及び前記加熱手段を制御する制御手段とを具備する基板処理装置にある。
本発明の第２の特徴とするところは、基板を収容する処理室と、前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、前記基板を加熱する加熱手段と、前記基板を支持する基板支持体と、前記基板支持体を処理室内外に移動させる移動手段と、処理室外で酸素を含む雰囲気に晒された基板支持体を処理室内に挿入した状態で、処理室内に処理ガスを供給して前記基板支持体をコーティングするよう前記ガス供給手段、前記加熱手段及び前記移動手段を制御する制御手段と、を具備する基板処理装置にある。
本発明の第３の特徴とするところは、基板を収容する処理室と、前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、前記基板を加熱する加熱手段と、前記基板を支持する基板支持体と、前記基板支持体を処理室内外に移動させる移動手段と、酸素を含む雰囲気に晒された前記基板支持体を処理室外から処理室内に挿入した後、次の基板処理を行う前に処理室内に処理ガスを供給して前記基板支持体をコーティングするよう前記ガス供給手段、前記加熱手段及び前記移動手段を制御する制御手段と、を具備する基板処理装置にある。
本発明の第４の特徴とするところは、基板を収容する処理室と、前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、前記基板を加熱する加熱手段と、前記処理室にゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を処理する第１の成膜処理と、前記第１の成膜処理に続いて前記処理室に所望の処理ガスを供給して前記基板とは別の基板に対し処理する第２の成膜処理と、前記第１の成膜処理と第２の成膜処理との間に、前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記処理室内の所定の部分に対し、コーティングするコーティング処理とを行うよう前記ガス供給手段及び前記加熱手段を制御する制御手段と、を具備する基板処理装置にある。
好ましくは、前記基板を支持する基板支持体と、この基板支持体を前記処理室内外に移動させる移動手段とを有し、前記制御手段は、前記第１の成膜処理後、処理済みの基板を支持した前記基板支持体が前記移動手段により前記処理室から払い出され、基板を支持していない前記基板支持体が前記移動手段により前記処理室に挿入された後、前記処理室内にＳｉ含有ガスを供給し処理室内の基板支持体をコーティングするよう前記ガス供給手段、前記加熱手段及び前記移動手段を制御する。
また、好ましくは、前記制御手段は、処理室内にＳｉ含有ガスを供給し処理室内の基板支持体をコーティングした後、基板支持体に未処理の基板を載置し、処理室内にてＧｅ含有ガスを用いた第２の成膜処理を行うよう制御する。
また、好ましくは、前記成膜処理は、処理ガスとしてＧｅ含有ガスを用いたＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理である。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、Ｓｉ含有ガスを用いて前記基板支持体をコーティングする。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、前記処理ガスとしてＳｉ含有ガスも用いる。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、前記成膜処理がボロンをドープしたボロン含有Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理とし、Ｓｉコーティング膜の膜厚を３０ｎｍ〜４０ｎｍとする。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、Ｓｉ含有ガスは、ＳｉＨ４，Ｓｉ２Ｈ６又はＳｉＨ２Ｃｌ２である。
また、好ましくは、前記基板処理装置において、Ｇｅ含有化合物はＧｅ酸化物である。
本発明の第６の特徴とするところは、処理室にゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を処理する成膜処理と、前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記成膜処理により形成されたゲルマニウム含有化合物が付着された前記処理室内の所定の部分に対してコーティングするコーティング処理と、を行うよう処理室に所望のガスを供給するガス供給手段及び前記基板を加熱する加熱手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置を使用し、基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、基板を前記処理室内に搬送する工程と、前記処理室内に前記ガス供給手段により所望のガスを供給するガス供給工程と、前記基板を前記加熱手段により加熱する工程とを含む半導体デバイスの製造方法にある。
本発明の第７の特徴とするところは、処理室に所望のガスを供給して基板を処理する成膜処理と、前記処理室外で酸素を含む雰囲気に晒された基板支持体を処理室内に挿入した状態で、処理室内に処理ガスを供給して前記基板支持体をコーティングするコーティング処理と、を行うよう処理室に所望のガスを供給するガス供給手段及び前記基板を加熱する加熱手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置を使用し、基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、基板を前記処理室内に搬送する工程と、前記処理室内に前記ガス供給手段により所望のガスを供給するガス供給工程と、前記基板を前記加熱手段により加熱する工程とを含む半導体デバイスの製造方法にある。
本発明の第８の特徴とするところは、処理室に所望のガスを供給して基板を処理する成膜処理と、酸素を含む雰囲気に晒された前記基板支持体を処理室外から処理室内に挿入した後、次の基板処理を行う前に処理室内に処理ガスを供給して前記基板支持体をコーティングするコーティング処理と、を行うよう処理室に所望のガスを供給するガス供給手段及び前記基板を加熱する加熱手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置を使用し、基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、基板を前記処理室内に搬送する工程と、前記処理室内に前記ガス供給手段により所望のガスを供給するガス供給工程と、前記基板を前記加熱手段により加熱する工程とを含む半導体デバイスの製造方法にある。
本発明の第９の特徴とするところは、処理室に所望のガスを供給して基板を処理する成膜処理と、前記処理室にゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を処理する第１の成膜処理と、前記第１の成膜処理に続いて前記処理室に所望の処理ガスを供給して前記基板とは別の基板に対し処理する第２の成膜処理と、前記第１の成膜処理と第２の成膜処理との間に、前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記処理室内の所定の部分に対し、コーティングするコーティング処理と、を行うよう処理室に所望のガスを供給するガス供給手段及び前記基板を加熱する加熱手段を制御する制御手段を備えた基板処理装置を使用し、基板上に半導体デバイスを製造する方法であって、基板を前記処理室内に搬送する工程と、前記処理室内に前記ガス供給手段により所望のガスを供給するガス供給工程と、前記基板を前記加熱手段により加熱する工程とを含む半導体デバイスの製造方法にある。
なお、本発明は、前述した公知例とは、次の点で異なる。
特許文献１には、基板支持体に付着したＧｅＯ等の酸化物による汚染によって生成膜の結晶性が悪化する点の記載がなく、また前記酸化物をコーティングで封じ込める点の開示もない。特に、Ｇｅは酸化されやすく、また昇温時に酸素成分を放出しやすいので、Ｇｅ含有ガスを使用する場合は、生成膜の結晶性の悪化が顕著に現われる。本発明は、この点を解決したもので、Ｇｅ含有ガスで基板処理を行う場合に有効な技術であり、特許文献１にはこの点に関して開示や示唆する記載はない。
また、特許文献１は、処理室内壁に対してコーティングする点のみが開示され、請求項２又は３に係る本発明のように基板支持体に対してコーティングする点については開示されていない。特許文献１では、基板支持体が処理室外の酸素を含む雰囲気に晒され、基板支持体に酸素を含む化合物が付着したとしても、このような化合物を封じ込めることはできないものである。
図１は、本発明の実施形態に係る基板処理装置を示す斜視図である。
図２は、本発明の実施形態に係る基板処理装置に用いた処理炉及びその周辺を示す断面図である。
図３は、本発明の実施形態に係る基板処理装置に用いた処理炉を示す断面図である。
図４は、本発明の実施形態に係る基板処理装置の制御装置によって制御される基板処理工程を示すフローチャートである。
図５は、本発明の実施例におけるＳＩＭＳ分析結果を示すチャートである。
図６は、比較例におけるＳＩＭＳ分析結果を示すチャートである。
図２は、本発明の実施形態に係る基板処理装置に用いた処理炉及びその周辺を示す断面図である。
図３は、本発明の実施形態に係る基板処理装置に用いた処理炉を示す断面図である。
図４は、本発明の実施形態に係る基板処理装置の制御装置によって制御される基板処理工程を示すフローチャートである。
図５は、本発明の実施例におけるＳＩＭＳ分析結果を示すチャートである。
図６は、比較例におけるＳＩＭＳ分析結果を示すチャートである。
次に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１には、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０が示されている。この基板処理装置１０は、例えば縦型であり、主要部が配置された筺体１２を有する。この筐体１２内部の前面側には、図示しない外部搬送装置との間で基板収納容器としてのカセット１４の授受を行う保持具授受部材としてのカセットステージ１６が設けられ、該カセットステージ１６の後側には昇降手段としてのカセットエレベータ１８が設けられ、該カセットエレベータ１８には搬送手段としてのカセット移載機２０が取り付けられている。カセットエレベータ１８の後側には、カセット１４の載置手段としてのカセット棚２２が設けられ、このカセット棚２２はスライドステージ２３上に横行可能に設けられている。また、カセット棚２２の上方にはカセット１４の載置手段としてのバッファカセット棚２４が設けられている。このバッファカセット棚２４の後側にはクリーンユニット２６が設けられ、クリーンエアを前記筺体１２の内部を流通させるように構成されている。
筐体１２の後部上方には、処理炉２８が設けられ、この処理炉２８内には、基板３６に所定の処理を行う処理室８８が形成されている。前記処理室８８の下側には、半円筒形状の気密室としてのロードロック室３０が仕切弁としてのゲートバルブ３２により連接され、このロードロック室３０の前面にはカセット棚２２と対向する位置に仕切手段としてのロードロックドア３４が設けられている。ロードロック室３０内には、基板３６を水平姿勢で多段に保持する基板支持体（ボート）３８を、処理室８８に昇降させる昇降手段としてのボートエレベータ４０が内設され、このボートエレベータ４０には蓋体としてのシールキャップ４２が取り付けられ、基板支持体３８を垂直に支持している。ロードロック室３０とカセット棚２２との間には図示しない昇降手段としての移載エレベータが設けられ、この移載エレベータには搬送手段としての基板移載機４４が取り付けられている。また、ロードロック室３０には、パージガスを導入するためのパージノズル４６が接続されている。
なお、前記カセット移載機２０等の搬送動作を制御する搬送制御手段４８がカセットステージ１６の下方に設けられている。
以下、基板処理装置における一連の動作を説明する。
図示しない外部搬送装置から搬送されたカセット１４は、カセットステージ１６に載置され、このカセットステージ１６でカセット１４はその姿勢を９０度変換され、更に、カセットエレベータ１８の昇降動作、横行動作及びカセット移載機２０の進退動作の協働によりカセット棚２２又はバッファカセット棚２４に搬送される。
基板移載機４４によりカセット棚２２から基板支持体３８へ基板３６が移載される。この基板３６を移載する準備として、基板支持体３８が前記ボートエレベータ４０により降下され、ゲートバルブ３２により処理室８８が閉塞され、更にロードロック室３０の内部にパージノズル４６から窒素ガス等のパージガスが導入される。ロードロック室３０が大気圧に復圧された後、ロードロックドア３４が開かれる。
スライドステージ２３はカセット棚２２を水平移動させ、移載の対象となるカセット１４を基板移載機４４に対峙するように位置決めする。基板移載機４４は昇降動作、回転動作の協働により基板３６をカセット１４から基板支持体３８へと移載する。基板３６の移載はいくつかのカセット１４に対して行われ、基板支持体３８に所定枚数の基板３６の移載が完了した後、ロードロックドア３４が閉じられ、ロードロック室３０が真空引きされる。
真空引きが完了した後に再びパージノズル４６よりパージガスが導入され、ロードロック室３０内部が大気圧に復圧されるとゲートバルブ３２が開かれ、ボートエレベータ４０により基板支持体３８が処理室８８内に挿入され、ゲートバルブ３２が閉じられる。尚、真空引き完了後に前記ロードロック室３０内部を大気圧に復圧させず大気圧未満の状態で基板支持体３８を処理室８８内に挿入しても良い。処理室８８内で基板３６に所定の処理が為された後、ゲートバルブ３２が開かれ、ボートエレベータ４０により基板支持体３８が引き出され、さらにロードロック室３０内部を大気圧に復圧させた後にロードロックドア３４が開かれる。
処理後の基板３６は上記した作動と逆の手順により基板支持体３８からカセット棚２２を経てカセットステージ１６に移載され、図示しない外部搬送装置により搬出される。
カセット移載機２０等の搬送動作は、搬送制御手段４８により制御される。
次に、本発明の実施形態に係る基板処理装置の処理炉２８周辺の構成を図２に示す。
気密室としてのロードロック室３０の外面に下基板５０が設けられ、この下基板５０に立設したガイドシャフト５２の上端に上基板５４が設けられ、下基板５０と上基板５４間にボール螺子５６が回転自在に設けられている。このボール螺子５６は上基板５４に設けられた昇降モータ５８に連結され、この昇降モータ５８により回転される。昇降台６０は、ガイドシャフト５２に昇降自在に嵌合していると共に、ボール螺子５６に螺合している。
昇降台６０には中空の昇降シャフト６２が垂設され、昇降台６０と昇降シャフト６２との支持部は気密となっている。昇降シャフト６２はロードロック室３０を構成する天板６４を遊貫し、この昇降シャフト６２の下端がロードロック室３０の底面近くに到達するようになっている。天板６４の貫通部は昇降シャフト６２の昇降動に対して接触することがないよう充分な余裕があり、またロードロック室３０と昇降台６０との間には昇降シャフト６２の突出部分を覆う伸縮性を有するベローズ６６が気密に設けられ、このベローズ６６は昇降台６０の昇降量に対応できる充分な伸縮量を有し、ベローズ６６の内径は昇降シャフト６２の外形に比べ充分に大きくベローズ６６の伸縮で接触することがないようになっている。
昇降シャフト６０の下端には昇降基板６８が水平に固着される。この昇降基板６８の下面には駆動部カバー７０が取付けられ、駆動部収納ケース７２が構成されている。昇降基板６８と駆動部カバー７０との接合部にはＯリング等のシール部材により密閉される。従って、駆動部収納ケース７２内部はロードロック室３０内の雰囲気と隔離される。
また、昇降基板６８の下面には基板支持体３８を回転するための回転機構７４が設けられ、この回転機構７４の周辺に冷却手段７６が設けられ、この冷却手段７６により回転機構７４が冷却されるようになっている。
電力供給ケーブル７８が昇降シャフト６０の上端から中空部を通って回転機構７４に導かれて接続されている。また冷却手段７６と前述したシールキャップ４２には冷却流路８０が形成されており、この冷却流路８０には冷却水を供給する冷却水配管８２が接続され、この冷却水配管８２は昇降シャフト６２の上端から昇降シャフト６２の中空部を通っている。
昇降基板６８の上面には、シールキャップ４２が気密に設けられる。昇降モータ５８を駆動すると、前述したボール螺子５６を回転することで昇降台６０及び昇降シャフト６２を介して駆動部収納ケース７２が上昇、下降するようになっている。
昇降台６０の上死点近傍で前記シールキャップ４２が処理室８８の開口部である炉口８４を閉塞し、基板処理が可能な状態とする。基板処理が完了すると、昇降モータ５８が駆動されて、基板支持体３８が降下され、基板３６を外部に搬出できる状態となる。
本発明の実施形態に係る基板処理装置に用いた処理炉２８の詳細を図３に示す。
処理炉２８は、上部が閉鎖された円筒状のアウタチューブ８６を有し、このアウタチューブ８６内に処理室８８が形成されている。この処理室８８には、上方が開放された円筒状のインナチューブ９０が配置され、このインナチューブ９０内に前述した基板支持体３８が挿入される。アウタチューブ８６の外側には、発熱素線と断熱材よりなる加熱手段を構成するヒータ９４が配置されている。また、アウタチューブ８６は、円筒状のマニホールド９５に支持されている。このマニホールド９５には、ガス排気管９８が設けられ、シールキャップ４２には、前記シールキャップ４２を貫通するようガス供給管９６が設けられている。ガス供給管９６は、開閉バルブ１００、１０２、１０４、１０６及びマスフローコントローラ（ＭＦＣ）１０８、１１０、１１２を介して第１乃至第３のガス供給源１１４、１１６、１１８に接続されており、これらによりガス供給手段が構成されている。一方、ガス排気管９８は、排気バルブ１２０を介して真空ポンプ１２２に接続されている。ガス供給菅９６から処理室８８内に導入されたガスは、矢印で示すように、インナチューブ９０内を通り、インナチューブ９０とアウタチューブ８６との間に形成されたガス通路を介してガス排気管９８から排気される。
例えばコンピュータから構成された制御装置１２４は、ヒータ９４による加熱を制御し、開閉バルブ１００，１０２，１０４，１０６、ＭＦＣ１０８，１１０，１１２、排気バルブ１２０等のガス供給、排気を制御し、さらに基板支持体３８の処理室８８への搬入、搬出等を制御するようになっている。
次に上記基板処理装置をＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜装置として用いた場合の工程について説明する。
なお、前述した第１のガス供給源１１４には、Ｓｉ含有ガスとしてＳｉＨ４，Ｓｉ２Ｈ６又はＳｉＨ２Ｃｌ２が封入され、第２のガス供給源１１６には、Ｇｅ含有ガスとしてＧｅＨ４が封入され、第３のガス供給源１１８にはＨ２が封入されている。
図４は、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理フローを示すフローチャートである。
まず、ステップＳ１０において、処理室８８をクリーニングガス等によりクリーニングする。次のステップＳ１１において、処埋室８８内や基板支持体３８に付着した副生成物がクリーニングされた後の初回のＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理であるか否かを判定する。初回であれば次のステップＳ１２〜Ｓ１４を飛ばし、ステップＳ１５へ進む。初回でなければ（二回目以降であれば）ステップＳ１２へ進む。このステップＳ１２においては、基板支持体３８のみ（基板３６を載置していない状態の基板支持体３８）を処理室８８にロードする。
ステップＳ１２により基板支持体３８のみを処理室８８にロードすると、次のステップＳ１３において、Ｓｉコーティングを実施する。即ち、処理室８８内の雰囲気を排気し、ヒータ９４によって処理室８８内を例えば６５０°Ｃ〜６８０°Ｃの温度に維持し、ＭＦＣ１０８，１１２の開度を調節し、開閉バルブ１００，１０２，１０６を開き、第１のガス供給源１１４及び第３のガス供給源１１８から処理室８８内にＳｉ含有ガス及びＨ２を導入し、所定時間経過後にＳｉ含有ガス及びＨ２を排気する。これにより基板支持体３８及び処理室８８内壁（アウタチューブ８６、インナチューブ９０等を含む）に例えば３０ｎｍ〜１μｍの膜厚を有するＳｉ膜をコーティングする。
次のステップＳ１４において、Ｓｉコーティングされた基板支持体３８を処理室８８からアンロードし、次のステップ１５において、アンロードされた基板支持体３８に基板３６を載置し、次のステップＳ１６において、基板３６が載置された基板支持体３８を処理室８８にロードする。
次のステップＳ１７においては水素ベークを実施する。即ち、ヒータ９４によって処理室８８内を例えば７００°Ｃ〜８００°Ｃの温度に維持し、ＭＦＣ１１２の開度を例えば５ｓｌｍの流量が流れるように調節し、開閉バルブ１００，１０６を開き、第３のガス供給源１１８から処理室８８内にＨ２ガスを導入し、例えば３０分経過後にＨ２ガスを排気する。これにより基板３６の表面に存在する酸素を還元し、基板３６の表面の酸素濃度を１０１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダまで低下させる。
次のステップＳ１８においてはＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理を実施する。即ち、処理室８８内の雰囲気を排気し、ヒータ９４によって処理室８８内を例えば４５０°Ｃ〜５５０°Ｃの温度に維持し、ＭＦＣ１０８，１１０，１１２の開度を調節し、開閉バルブ１００，１０２，１０４，１０６を開き、第１のガス供給源１１４、第２のガス供給源１１６及び第３のガス供給源１１８から処理室８８内にＳｉ含有ガス、Ｇｅ含有ガス及びＨ２を導入し、所定時間経過後にこれらのガスを排気する。これにより基板３６の表面にエピタキシャル成長したＳｉＧｅ膜を生成する。
次のステップＳ１９において、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理した基板３６を載置した基板支持体３８をアンロードし、次のステップＳ２０において、ロードロック室３０から基板３６を払い出し、次のステップＳ２１において、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理が最終回か否かを判定し、最終回でなければステップＳ１１に戻り、最終回であれば処理を終了する。
ステップＳ１８において、一度Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理を行うと、処理室８８の内壁や基板支持体３８にＧｅ原子を含む副生成物が付着し、ステップＳ２０において基板支持体３８をロードロック室３０から搬出する際、処理室８８はゲートバルブ３２により閉鎖されているので、酸素を含んだ大気雰囲気に直接接触することはないが、基板支持体３８は大気雰囲気と接触し、この基板支持体３８に付着したＧｅ原子が酸化され、ＧｅＯとなって基板支持体３８に残る。また、基板支持体３８が大気雰囲気に晒された際、前記基板支持体３８には、水分などの酸素を含む物質も付着する。そして、前記基板支持体３８を処理室８８にロードする際、前記基板支持体３８に付着したＧｅＯや水分の一部が脱離し、処理室８８内壁に付着しているＧｅ原子を酸化する。前記基板支持体３８に付着した水分などの酸素を含む物質は処理室８８内を排気する際に、処理室８８外に容易に排出されるが、ＧｅＯは化合物であるため排気によって処理室８８外に排出することが困難である。そのままでは次のＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜の成膜処理時の熱により、処理室８８内壁や基板支持体３８に付着したＧｅＯから酸素が脱離し、基板３６に取り込まれ、基板３６の界面の酸素濃度を増加させる。
しかしながら、この実施形態においては、初回を除いてステップＳ１３において処理室８８内壁、基板支持体３８等の所定部分に対し、Ｓｉコーティングを実施しているので、処理室８８内壁や基板支持体３８に残ったＧｅＯ及びＧｅ原子はＳｉコーティングにより封じ込まれ、ＧｅＯから酸素が脱離するのを防止することができる。特にこの実施形態のように、ＳｉコーティングするＳｉ含有ガスをＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理に用いるものと同じにすれば、ガス供給源を新たに設ける必要がなく、装置の原価を低減することができる。また、ＳｉとＧｅは特性（熱膨張係数等）が似ているので、ＧｅＯ上に形成されたＳｉコーティングは剥れにくく、パーティクル発生の原因とはならない。また、例えばコーティングとして窒化膜を使用した場合は、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜時の熱により窒素が脱離し、この脱離した窒素が基板に取り込まれ、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜の結晶性に悪影響を及ぼすおそれがある。
次に実施例及び比較例について説明する。
図１には、本発明の実施形態に係る基板処理装置１０が示されている。この基板処理装置１０は、例えば縦型であり、主要部が配置された筺体１２を有する。この筐体１２内部の前面側には、図示しない外部搬送装置との間で基板収納容器としてのカセット１４の授受を行う保持具授受部材としてのカセットステージ１６が設けられ、該カセットステージ１６の後側には昇降手段としてのカセットエレベータ１８が設けられ、該カセットエレベータ１８には搬送手段としてのカセット移載機２０が取り付けられている。カセットエレベータ１８の後側には、カセット１４の載置手段としてのカセット棚２２が設けられ、このカセット棚２２はスライドステージ２３上に横行可能に設けられている。また、カセット棚２２の上方にはカセット１４の載置手段としてのバッファカセット棚２４が設けられている。このバッファカセット棚２４の後側にはクリーンユニット２６が設けられ、クリーンエアを前記筺体１２の内部を流通させるように構成されている。
筐体１２の後部上方には、処理炉２８が設けられ、この処理炉２８内には、基板３６に所定の処理を行う処理室８８が形成されている。前記処理室８８の下側には、半円筒形状の気密室としてのロードロック室３０が仕切弁としてのゲートバルブ３２により連接され、このロードロック室３０の前面にはカセット棚２２と対向する位置に仕切手段としてのロードロックドア３４が設けられている。ロードロック室３０内には、基板３６を水平姿勢で多段に保持する基板支持体（ボート）３８を、処理室８８に昇降させる昇降手段としてのボートエレベータ４０が内設され、このボートエレベータ４０には蓋体としてのシールキャップ４２が取り付けられ、基板支持体３８を垂直に支持している。ロードロック室３０とカセット棚２２との間には図示しない昇降手段としての移載エレベータが設けられ、この移載エレベータには搬送手段としての基板移載機４４が取り付けられている。また、ロードロック室３０には、パージガスを導入するためのパージノズル４６が接続されている。
なお、前記カセット移載機２０等の搬送動作を制御する搬送制御手段４８がカセットステージ１６の下方に設けられている。
以下、基板処理装置における一連の動作を説明する。
図示しない外部搬送装置から搬送されたカセット１４は、カセットステージ１６に載置され、このカセットステージ１６でカセット１４はその姿勢を９０度変換され、更に、カセットエレベータ１８の昇降動作、横行動作及びカセット移載機２０の進退動作の協働によりカセット棚２２又はバッファカセット棚２４に搬送される。
基板移載機４４によりカセット棚２２から基板支持体３８へ基板３６が移載される。この基板３６を移載する準備として、基板支持体３８が前記ボートエレベータ４０により降下され、ゲートバルブ３２により処理室８８が閉塞され、更にロードロック室３０の内部にパージノズル４６から窒素ガス等のパージガスが導入される。ロードロック室３０が大気圧に復圧された後、ロードロックドア３４が開かれる。
スライドステージ２３はカセット棚２２を水平移動させ、移載の対象となるカセット１４を基板移載機４４に対峙するように位置決めする。基板移載機４４は昇降動作、回転動作の協働により基板３６をカセット１４から基板支持体３８へと移載する。基板３６の移載はいくつかのカセット１４に対して行われ、基板支持体３８に所定枚数の基板３６の移載が完了した後、ロードロックドア３４が閉じられ、ロードロック室３０が真空引きされる。
真空引きが完了した後に再びパージノズル４６よりパージガスが導入され、ロードロック室３０内部が大気圧に復圧されるとゲートバルブ３２が開かれ、ボートエレベータ４０により基板支持体３８が処理室８８内に挿入され、ゲートバルブ３２が閉じられる。尚、真空引き完了後に前記ロードロック室３０内部を大気圧に復圧させず大気圧未満の状態で基板支持体３８を処理室８８内に挿入しても良い。処理室８８内で基板３６に所定の処理が為された後、ゲートバルブ３２が開かれ、ボートエレベータ４０により基板支持体３８が引き出され、さらにロードロック室３０内部を大気圧に復圧させた後にロードロックドア３４が開かれる。
処理後の基板３６は上記した作動と逆の手順により基板支持体３８からカセット棚２２を経てカセットステージ１６に移載され、図示しない外部搬送装置により搬出される。
カセット移載機２０等の搬送動作は、搬送制御手段４８により制御される。
次に、本発明の実施形態に係る基板処理装置の処理炉２８周辺の構成を図２に示す。
気密室としてのロードロック室３０の外面に下基板５０が設けられ、この下基板５０に立設したガイドシャフト５２の上端に上基板５４が設けられ、下基板５０と上基板５４間にボール螺子５６が回転自在に設けられている。このボール螺子５６は上基板５４に設けられた昇降モータ５８に連結され、この昇降モータ５８により回転される。昇降台６０は、ガイドシャフト５２に昇降自在に嵌合していると共に、ボール螺子５６に螺合している。
昇降台６０には中空の昇降シャフト６２が垂設され、昇降台６０と昇降シャフト６２との支持部は気密となっている。昇降シャフト６２はロードロック室３０を構成する天板６４を遊貫し、この昇降シャフト６２の下端がロードロック室３０の底面近くに到達するようになっている。天板６４の貫通部は昇降シャフト６２の昇降動に対して接触することがないよう充分な余裕があり、またロードロック室３０と昇降台６０との間には昇降シャフト６２の突出部分を覆う伸縮性を有するベローズ６６が気密に設けられ、このベローズ６６は昇降台６０の昇降量に対応できる充分な伸縮量を有し、ベローズ６６の内径は昇降シャフト６２の外形に比べ充分に大きくベローズ６６の伸縮で接触することがないようになっている。
昇降シャフト６０の下端には昇降基板６８が水平に固着される。この昇降基板６８の下面には駆動部カバー７０が取付けられ、駆動部収納ケース７２が構成されている。昇降基板６８と駆動部カバー７０との接合部にはＯリング等のシール部材により密閉される。従って、駆動部収納ケース７２内部はロードロック室３０内の雰囲気と隔離される。
また、昇降基板６８の下面には基板支持体３８を回転するための回転機構７４が設けられ、この回転機構７４の周辺に冷却手段７６が設けられ、この冷却手段７６により回転機構７４が冷却されるようになっている。
電力供給ケーブル７８が昇降シャフト６０の上端から中空部を通って回転機構７４に導かれて接続されている。また冷却手段７６と前述したシールキャップ４２には冷却流路８０が形成されており、この冷却流路８０には冷却水を供給する冷却水配管８２が接続され、この冷却水配管８２は昇降シャフト６２の上端から昇降シャフト６２の中空部を通っている。
昇降基板６８の上面には、シールキャップ４２が気密に設けられる。昇降モータ５８を駆動すると、前述したボール螺子５６を回転することで昇降台６０及び昇降シャフト６２を介して駆動部収納ケース７２が上昇、下降するようになっている。
昇降台６０の上死点近傍で前記シールキャップ４２が処理室８８の開口部である炉口８４を閉塞し、基板処理が可能な状態とする。基板処理が完了すると、昇降モータ５８が駆動されて、基板支持体３８が降下され、基板３６を外部に搬出できる状態となる。
本発明の実施形態に係る基板処理装置に用いた処理炉２８の詳細を図３に示す。
処理炉２８は、上部が閉鎖された円筒状のアウタチューブ８６を有し、このアウタチューブ８６内に処理室８８が形成されている。この処理室８８には、上方が開放された円筒状のインナチューブ９０が配置され、このインナチューブ９０内に前述した基板支持体３８が挿入される。アウタチューブ８６の外側には、発熱素線と断熱材よりなる加熱手段を構成するヒータ９４が配置されている。また、アウタチューブ８６は、円筒状のマニホールド９５に支持されている。このマニホールド９５には、ガス排気管９８が設けられ、シールキャップ４２には、前記シールキャップ４２を貫通するようガス供給管９６が設けられている。ガス供給管９６は、開閉バルブ１００、１０２、１０４、１０６及びマスフローコントローラ（ＭＦＣ）１０８、１１０、１１２を介して第１乃至第３のガス供給源１１４、１１６、１１８に接続されており、これらによりガス供給手段が構成されている。一方、ガス排気管９８は、排気バルブ１２０を介して真空ポンプ１２２に接続されている。ガス供給菅９６から処理室８８内に導入されたガスは、矢印で示すように、インナチューブ９０内を通り、インナチューブ９０とアウタチューブ８６との間に形成されたガス通路を介してガス排気管９８から排気される。
例えばコンピュータから構成された制御装置１２４は、ヒータ９４による加熱を制御し、開閉バルブ１００，１０２，１０４，１０６、ＭＦＣ１０８，１１０，１１２、排気バルブ１２０等のガス供給、排気を制御し、さらに基板支持体３８の処理室８８への搬入、搬出等を制御するようになっている。
次に上記基板処理装置をＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜装置として用いた場合の工程について説明する。
なお、前述した第１のガス供給源１１４には、Ｓｉ含有ガスとしてＳｉＨ４，Ｓｉ２Ｈ６又はＳｉＨ２Ｃｌ２が封入され、第２のガス供給源１１６には、Ｇｅ含有ガスとしてＧｅＨ４が封入され、第３のガス供給源１１８にはＨ２が封入されている。
図４は、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理フローを示すフローチャートである。
まず、ステップＳ１０において、処理室８８をクリーニングガス等によりクリーニングする。次のステップＳ１１において、処埋室８８内や基板支持体３８に付着した副生成物がクリーニングされた後の初回のＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理であるか否かを判定する。初回であれば次のステップＳ１２〜Ｓ１４を飛ばし、ステップＳ１５へ進む。初回でなければ（二回目以降であれば）ステップＳ１２へ進む。このステップＳ１２においては、基板支持体３８のみ（基板３６を載置していない状態の基板支持体３８）を処理室８８にロードする。
ステップＳ１２により基板支持体３８のみを処理室８８にロードすると、次のステップＳ１３において、Ｓｉコーティングを実施する。即ち、処理室８８内の雰囲気を排気し、ヒータ９４によって処理室８８内を例えば６５０°Ｃ〜６８０°Ｃの温度に維持し、ＭＦＣ１０８，１１２の開度を調節し、開閉バルブ１００，１０２，１０６を開き、第１のガス供給源１１４及び第３のガス供給源１１８から処理室８８内にＳｉ含有ガス及びＨ２を導入し、所定時間経過後にＳｉ含有ガス及びＨ２を排気する。これにより基板支持体３８及び処理室８８内壁（アウタチューブ８６、インナチューブ９０等を含む）に例えば３０ｎｍ〜１μｍの膜厚を有するＳｉ膜をコーティングする。
次のステップＳ１４において、Ｓｉコーティングされた基板支持体３８を処理室８８からアンロードし、次のステップ１５において、アンロードされた基板支持体３８に基板３６を載置し、次のステップＳ１６において、基板３６が載置された基板支持体３８を処理室８８にロードする。
次のステップＳ１７においては水素ベークを実施する。即ち、ヒータ９４によって処理室８８内を例えば７００°Ｃ〜８００°Ｃの温度に維持し、ＭＦＣ１１２の開度を例えば５ｓｌｍの流量が流れるように調節し、開閉バルブ１００，１０６を開き、第３のガス供給源１１８から処理室８８内にＨ２ガスを導入し、例えば３０分経過後にＨ２ガスを排気する。これにより基板３６の表面に存在する酸素を還元し、基板３６の表面の酸素濃度を１０１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダまで低下させる。
次のステップＳ１８においてはＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理を実施する。即ち、処理室８８内の雰囲気を排気し、ヒータ９４によって処理室８８内を例えば４５０°Ｃ〜５５０°Ｃの温度に維持し、ＭＦＣ１０８，１１０，１１２の開度を調節し、開閉バルブ１００，１０２，１０４，１０６を開き、第１のガス供給源１１４、第２のガス供給源１１６及び第３のガス供給源１１８から処理室８８内にＳｉ含有ガス、Ｇｅ含有ガス及びＨ２を導入し、所定時間経過後にこれらのガスを排気する。これにより基板３６の表面にエピタキシャル成長したＳｉＧｅ膜を生成する。
次のステップＳ１９において、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理した基板３６を載置した基板支持体３８をアンロードし、次のステップＳ２０において、ロードロック室３０から基板３６を払い出し、次のステップＳ２１において、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理が最終回か否かを判定し、最終回でなければステップＳ１１に戻り、最終回であれば処理を終了する。
ステップＳ１８において、一度Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理を行うと、処理室８８の内壁や基板支持体３８にＧｅ原子を含む副生成物が付着し、ステップＳ２０において基板支持体３８をロードロック室３０から搬出する際、処理室８８はゲートバルブ３２により閉鎖されているので、酸素を含んだ大気雰囲気に直接接触することはないが、基板支持体３８は大気雰囲気と接触し、この基板支持体３８に付着したＧｅ原子が酸化され、ＧｅＯとなって基板支持体３８に残る。また、基板支持体３８が大気雰囲気に晒された際、前記基板支持体３８には、水分などの酸素を含む物質も付着する。そして、前記基板支持体３８を処理室８８にロードする際、前記基板支持体３８に付着したＧｅＯや水分の一部が脱離し、処理室８８内壁に付着しているＧｅ原子を酸化する。前記基板支持体３８に付着した水分などの酸素を含む物質は処理室８８内を排気する際に、処理室８８外に容易に排出されるが、ＧｅＯは化合物であるため排気によって処理室８８外に排出することが困難である。そのままでは次のＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜の成膜処理時の熱により、処理室８８内壁や基板支持体３８に付着したＧｅＯから酸素が脱離し、基板３６に取り込まれ、基板３６の界面の酸素濃度を増加させる。
しかしながら、この実施形態においては、初回を除いてステップＳ１３において処理室８８内壁、基板支持体３８等の所定部分に対し、Ｓｉコーティングを実施しているので、処理室８８内壁や基板支持体３８に残ったＧｅＯ及びＧｅ原子はＳｉコーティングにより封じ込まれ、ＧｅＯから酸素が脱離するのを防止することができる。特にこの実施形態のように、ＳｉコーティングするＳｉ含有ガスをＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理に用いるものと同じにすれば、ガス供給源を新たに設ける必要がなく、装置の原価を低減することができる。また、ＳｉとＧｅは特性（熱膨張係数等）が似ているので、ＧｅＯ上に形成されたＳｉコーティングは剥れにくく、パーティクル発生の原因とはならない。また、例えばコーティングとして窒化膜を使用した場合は、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜時の熱により窒素が脱離し、この脱離した窒素が基板に取り込まれ、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜の結晶性に悪影響を及ぼすおそれがある。
次に実施例及び比較例について説明する。
表１に示す条件でＳｉコーティングを実施し、表２で示す条件でＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理した。得られた基板をＳＩＭＳ（二次イオン質量分析装置）で分析した結果を図５に示す。Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜のＳｉ基板との界面における酸素濃度が１０１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダに抑えられていることが理解される。
［比較例］
Ｓｉコーティングを実施せず、表２と同じ条件でＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理した。得られた基板をＳＩＭＳで分析した結果を図６に示す。Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜のＳｉ基板との界面における酸素濃度が急激に増加していることが理解される。
なお、上記実施形態においては、前回のＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理に続いてＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理する工程について説明したが、前回のＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理に続いてＥｐｉ−Ｓｉ成膜処理を行う場合にも本発明は有効である。
また、Ｓｉコーティング膜の膜厚は、成膜するＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜の用途によって異なる。
即ち、歪Ｓｉ膜を成膜する場合にＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜をノンドープで成膜するが、この場合のＳｉコーティング膜の膜厚は３０ｎｍ以下が好ましい。Ｓｉコーティング膜が３０ｎｍを越えると、スループット低下の原因になる。
また、ＨＢＴのベースやエレベーテッドドレンソースにＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を成膜する場合は、ボロンをドープするが、この場合は、ノンドープの場合に比べてＳｉコーティング膜をやや厚くし、３０ｎｍ〜４０ｎｍとすることが好ましい。
ボロンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜の場合は、前回の基板処理時に処理室内壁や基板支持体に付着したボロンが次の基板処理時に脱離し基板に取り込まれるいわゆるオートドーピングが発生する。特にボロンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜後に別の基板に対しノンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を成膜すると、前バッチで生成されたボロンが基板とノンドープ膜との界面に取り込まれ、ＳＩＭＳで分析するとボロンのスパイク状のピークが見られるいわゆるボロンスパイクを生じる。
そこで、上記実施形態と同様にＳｉコーティング膜を形成すると、ＧｅＯと共にボロンを封じ込めることができ、オートドーピングやボロンスパイクの発生を防止することができる。
ただし、Ｓｉコーティング膜の膜厚が薄いとボロン封じ込めが十分でなくなるおそれがある。本発明者らは、Ｓｉコーティング膜の膜厚を１０ｎｍとした場合と３０ｎｍ〜４０ｎｍとした場合におけるボロンドープ量をＳＩＭＳで分析した。その結果、Ｓｉコーティング膜の膜厚が１０ｎｍの場合は、ボロンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜のボロンドープ量が１０１９（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダであるとき、Ｓｉコーティング後に別の基板に対して行ったノンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜のボロンドープ量が１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダとなり、Ｓｉコーティング後のノンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜にもボロンが出てしまう。一方、Ｓｉコーティング膜の膜厚を３０ｎｍ〜４０ｎｍとした場合は、ノンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜のボロンドープ量が１０１６〜１０１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダに抑えることができた。なお、Ｓｉコーティング膜の膜厚が４０ｎｍを越えると、スループット低下の原因になるので好ましくない。
さらに、上記実施形態においては、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理について説明したが、エピタキシャルに限定されるものではなく、Ｐｏｌｙ−ＳｉＧｅ成膜処理やアモルファスＳｉＧｅ成膜処理にも本発明は適用することができる。
例えばＰｏｌｙ−ＳｉＧｅ膜を成膜する場合は、Ｓｉ基板との界面に多少の酸素が存在してもＰｏｌｙ−ＳｉＧｅ膜を形成することができるが、既にＳｉ基板上に極薄のゲート酸化膜が形成された基板に対し、Ｐｏｌｙ−ＳｉＧｅ膜を成膜する場合、処理室内壁や基板支持体に付着した酸素が脱離してくると、ゲート酸化膜の膜厚増大につながり、デバイスの特性悪化を招くことになる。そこで、Ｓｉコーティング膜を形成して処理室内壁や基板支持体に付着した酸素の脱離を防止することによりこのような不具合を防止することができるものである。
以上述べたように、本発明によれば、Ｇｅ含有ガス等を供給して成膜処理をする場合に、基板界面の酸素濃度上昇を抑え、良好な膜を形成することができる。
Ｓｉコーティングを実施せず、表２と同じ条件でＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理した。得られた基板をＳＩＭＳで分析した結果を図６に示す。Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ膜のＳｉ基板との界面における酸素濃度が急激に増加していることが理解される。
なお、上記実施形態においては、前回のＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理に続いてＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理する工程について説明したが、前回のＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理に続いてＥｐｉ−Ｓｉ成膜処理を行う場合にも本発明は有効である。
また、Ｓｉコーティング膜の膜厚は、成膜するＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜の用途によって異なる。
即ち、歪Ｓｉ膜を成膜する場合にＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜をノンドープで成膜するが、この場合のＳｉコーティング膜の膜厚は３０ｎｍ以下が好ましい。Ｓｉコーティング膜が３０ｎｍを越えると、スループット低下の原因になる。
また、ＨＢＴのベースやエレベーテッドドレンソースにＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を成膜する場合は、ボロンをドープするが、この場合は、ノンドープの場合に比べてＳｉコーティング膜をやや厚くし、３０ｎｍ〜４０ｎｍとすることが好ましい。
ボロンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜の場合は、前回の基板処理時に処理室内壁や基板支持体に付着したボロンが次の基板処理時に脱離し基板に取り込まれるいわゆるオートドーピングが発生する。特にボロンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜後に別の基板に対しノンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜を成膜すると、前バッチで生成されたボロンが基板とノンドープ膜との界面に取り込まれ、ＳＩＭＳで分析するとボロンのスパイク状のピークが見られるいわゆるボロンスパイクを生じる。
そこで、上記実施形態と同様にＳｉコーティング膜を形成すると、ＧｅＯと共にボロンを封じ込めることができ、オートドーピングやボロンスパイクの発生を防止することができる。
ただし、Ｓｉコーティング膜の膜厚が薄いとボロン封じ込めが十分でなくなるおそれがある。本発明者らは、Ｓｉコーティング膜の膜厚を１０ｎｍとした場合と３０ｎｍ〜４０ｎｍとした場合におけるボロンドープ量をＳＩＭＳで分析した。その結果、Ｓｉコーティング膜の膜厚が１０ｎｍの場合は、ボロンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜のボロンドープ量が１０１９（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダであるとき、Ｓｉコーティング後に別の基板に対して行ったノンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜のボロンドープ量が１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダとなり、Ｓｉコーティング後のノンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜にもボロンが出てしまう。一方、Ｓｉコーティング膜の膜厚を３０ｎｍ〜４０ｎｍとした場合は、ノンドープＥｐｉ−ＳｉＧｅ膜のボロンドープ量が１０１６〜１０１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ３）オーダに抑えることができた。なお、Ｓｉコーティング膜の膜厚が４０ｎｍを越えると、スループット低下の原因になるので好ましくない。
さらに、上記実施形態においては、Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理について説明したが、エピタキシャルに限定されるものではなく、Ｐｏｌｙ−ＳｉＧｅ成膜処理やアモルファスＳｉＧｅ成膜処理にも本発明は適用することができる。
例えばＰｏｌｙ−ＳｉＧｅ膜を成膜する場合は、Ｓｉ基板との界面に多少の酸素が存在してもＰｏｌｙ−ＳｉＧｅ膜を形成することができるが、既にＳｉ基板上に極薄のゲート酸化膜が形成された基板に対し、Ｐｏｌｙ−ＳｉＧｅ膜を成膜する場合、処理室内壁や基板支持体に付着した酸素が脱離してくると、ゲート酸化膜の膜厚増大につながり、デバイスの特性悪化を招くことになる。そこで、Ｓｉコーティング膜を形成して処理室内壁や基板支持体に付着した酸素の脱離を防止することによりこのような不具合を防止することができるものである。
以上述べたように、本発明によれば、Ｇｅ含有ガス等を供給して成膜処理をする場合に、基板界面の酸素濃度上昇を抑え、良好な膜を形成することができる。
本発明は、Ｇｅ含有ガスを供給してＥｐｉ−ＳｉＧｅ等の成膜処理をする場合に、基板界面の酸素濃度上昇を抑え、良好な膜を形成する必要性がある基板処理装置に利用することが出来る。
Claims (8)
- 基板を収容する処理室と、
前記処理室に所望のガスを供給するガス供給手段と、
前記基板を加熱する加熱手段と、
前記処理室に少なくともゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給して基板を基板支持体で支持しつつ処理する成膜処理と、前記処理室外へ搬送して酸素を含む雰囲気に晒された前記基板支持体を前記処理室に挿入した状態で前記処理室にシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記成膜処理により前記処理室内壁及び前記基板支持体に付着したゲルマニウム（Ｇｅ）原子が酸化されて形成されたゲルマニウム（Ｇｅ）酸化物であるゲルマニウム（Ｇｅ）含有化合物が付着された前記処理室内壁及び前記基板支持体に対してシリコン（Ｓｉ）コーティングするコーティング処理と、を行うよう前記ガス供給手段及び前記加熱手段を制御する制御手段と、
を具備することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１記載の基板処理装置において、前記成膜処理は、処理ガスとしてＧｅ含有ガスを用いたＥｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理であることを特徴とする基板処理装置。
- 請求項１又は２いずれか記載の基板処理装置において、前記処理ガスとしてＳｉ含有ガスも用いることを特徴とする基板処理装置。
- 請求項１乃至３いずれか記載の基板処理装置において、前記成膜処理がボロンをドープしたボロン含有Ｅｐｉ−ＳｉＧｅ成膜処理であり、前記制御手段は、Ｓｉコーティング膜の膜厚が３０ｎｍ〜４０ｎｍとなるように前記ガス供給手段及び前記加熱手段を制御することを特徴とする基板処理装置。
- 請求項１乃至４いずれか記載の基板処理装置において、前記Ｓｉ含有ガスは、ＳｉＨ４，Ｓｉ２Ｈ６又はＳｉＨ２Ｃｌ２であることを特徴とする基板処理装置。
- 請求項１記載の基板処理装置において、前記成膜処理は、処理ガスとしてＧｅ含有ガスを用いたＰｏｌｙ−ＳｉＧｅ成膜処理又はアモルファスＳｉＧｅ成膜処理であることを特徴とする基板処理装置。
- 請求項１乃至６いずれか記載の基板処理装置において、前記コーティング処理前には、前記成膜処理が成されたか否かを判断して、前記成膜処理が成された場合のみ前記コーティング処理を行うことを特徴とする基板処理装置。
- 基板支持体に支持された基板を処理室内に搬送する工程と、
前記処理室内に制御手段がガス供給手段を制御し所望のガスとして少なくともゲルマニウム（Ｇｅ）含有ガスを供給し、前記制御手段が加熱手段を制御し前記基板を加熱しつつ前記基板を処理する成膜処理工程と、
前記処理室外へ搬送して酸素を含む雰囲気に晒された前記基板支持体を前記処理室に挿入した状態で、前記処理室に前記制御手段が前記ガス供給手段を制御し所望のガスとしてシリコン（Ｓｉ）含有ガスを供給して、前記成膜処理により前記処理室内壁及び前記基板支持体に付着したゲルマニウム（Ｇｅ）原子が酸化されて形成されたゲルマニウム（Ｇｅ）酸化物であるゲルマニウム（Ｇｅ）含有化合物が付着された前記処理室内壁及び前記基板支持体に対してシリコン（Ｓｉ）コーティングするコーティング処理と
を含むことを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
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