JP4214220B2 - 新規なｎ−スルフェニルピロール化合物およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なＮ−スルフェニルピロール化合物、およびその製造方法に関するものである。さらに詳しくは、新規なＮ−スルフェニルピロール化合物を、スルフェンアミド化合物と2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物を加熱することにより、効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
分子内に窒素−イオウ結合を有するスルフェンアミド化合物は、種々の機能性を持つことが報告されている（非特許文献１）。
たとえば、ゴムの加硫化剤（特許文献１，２）、発芽前処理用除草剤（特許文献３）、殺菌剤（特許文献４）等が知られている。特に、含窒素複素環化合物の窒素上にチオ置換基を有する場合は、殺菌作用を有する化合物として有効であるとされている（特許文献５）。
【０００３】
従来、Ｎ−スルフェニルピロール化合物を製造するには、ピロールとＮ−スルフェニルフタルイミド化合物やＮ−スルフェニルスクシンイミド化合物を塩基性条件下で反応させる方法が行われてきた（非特許文献２）。しかしこの方法においては、５０％水酸化カリウム水溶液中という高濃度のアルカリ性溶液を用いなければならなかった。また、塩化スルフェニル化合物とピロールをカリウムｔ−ブトキシド存在下反応させる製造方法も報告されているが（非特許文献３），出発原料となる塩化スルフェニル化合物は、チオール類またはジスルフィド類に対して、塩素や臭素を反応させるという方法を用いなければ製造できない化合物である。塩素や臭素は有毒な化合物であり、取り扱い上の危険性が高く、反応方法としては、好ましいものではないという問題があった。
【０００４】
【特許文献１】
特開昭６４−４８８３１号公報
【特許文献２】
米国特許 第２８６６７７７号（１９５５）
【特許文献３】
特開昭５３−３１６４３号公報
【特許文献４】
特開昭５５−５１０５３号公報
【特許文献５】
特開昭５０−２９７４９号公報
【非特許文献１】
L. Craine and M. Raban, Chem. Rev., 89, 689-712 (1989).
【非特許文献２】
H. M. Gilow, Tetrahedron Lett., 29, 4689-4692 (1986).
【非特許文献３】
R. Silvestri, et al., Synth. Commun., 24, 2685-2695 (1994).
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、新規なＮ−スルフェニルピロール化合物を提供することである。また、Ｎ−スルフェニルピロール化合物を製造するに際し、通常の方法である強塩基反応条件下で反応を行うこと、又、出発原料製造に塩素や臭素を用いるという条件を用いることなく、工業的に有利な新規な製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、Ｎ−スルフェニルピロール化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、スルフェンアミド化合物と2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物を反応をさせれば、Ｎ−チオ置換複素環化合物であるＮ−スルフェニルピロール化合物が収率よく確実に得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明によれば、以下の発明が提供される。
（１）下記一般式（Ａ）で表されるＮ−スルフェニルピロール化合物。
【化５】
（式中、Ｒ １ は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ ２ 〜Ｒ ５ は水素原子を示す。）
【０００９】
【発明実施の形態】
本発明の目的化合物であるＮ−スルフェニルピロール化合物は、以下の一般式（Ａ）により示される化合物である。
【化９】
（式中、Ｒ １ は炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ ２ 〜Ｒ ５ は水素原子を示す。）
【００１０】
前記化合物（Ａ）の置換基は以下の通りである。
Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒ ２ 〜Ｒ ５ は水素原子を示す。
【００１１】
下記一般式（Ｂ）で表されるＮ−スルフェニルピロール化合物は、下記一般式（Ｃ）で表されるスルフェンアミド化合物に対し、下記一般式（Ｄ）で表される2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物を反応させることにより製造される。
【化１０】
（式中、Ｒ ２ 〜Ｒ ５ は水素原子を示す。Ｒ ６ は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基またはニトロ基を示す。）
【化１１】
（式中、Ｒ ２ 〜Ｒ ５ は水素原子を示す。Ｒ ６ は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基またはニトロ基を示す。）
【化１２】
（式中、Ｒ７、Ｒ８は炭素数１〜６のアルキル基を示す。）
前記化合物（Ｂ）、（Ｃ）の置換基は以下の通りである。
Ｒ ２ 〜Ｒ ５ は水素原子を示す。
Ｒ ６ は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基またはニトロ基を示す。
この場合の炭素数１〜６のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。
また、炭素数１〜６のアルコキシル基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、シクロプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、t-ブトキシ、ペンチロキシ、ヘキシロキシ、シクロヘキシロキシル基等が挙げられる。
炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、シクロプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、 t- ブトキシカルボニル、ペンチロキシカルボニル、ヘキシロキシカルボニル、シクロヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
また、前記化合物（Ｄ）の置換基であるＲ７、Ｒ８は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。
前記化合物（Ｃ）、（Ｄ）は公知物質であり、（Ｃ）はチオサリチル酸エステル化合物から、（Ｄ）はジアルコキシジヒドロフラン化合物から製造することができる。
【００１２】
本発明におけるＮ−スルフェニルピロール化合物の製造は、酸の存在下実施される。この場合、酸としては、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、安息香酸、酢酸、プロピオン酸等が使用される。
【００１３】
前記のＮ−スルフェニルピロール化合物の製造方法は、好ましくは反応溶媒の存在下で実施される。
この場合の反応溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の無極性有機溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
【００１４】
前記製造方法における温度は５０℃〜１５０℃付近の温度で行うことができるが、あまり低温すぎると反応時間が遅くなり、高すぎると異常な分解反応や副反応が多くなるので、８０℃〜１２０℃の範囲で実施するのが好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜１０時間で十分である。
【００１５】
前記一般式（Ｃ）で表されるスルフェンアミド化合物の製造方法は、次の通りである。
チオール化合物にヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸のようなアミノ化剤を反応させて製造される。
また、前記一般式（Ｄ）で表される2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物の製造方法は、次の通りである。
酢酸カリウム存在下、フランにアルコール類を反応させて2,5-ジアルコキシ-2,5-ジヒドロフラン化合物を製造し、これを水素で還元して製造される。
【００１６】
本発明で得られるＮ−チオ置換複素環化合物の具体例について例示する
と、以下の化学式（１）から（３）で示される化合物を挙げることができる。
これらの化合物は、以下に記載する実施例により得られる化合物である。
【化１３】
本発明で得られる新規化合物は、殺菌剤として、含窒素複素環化合物の窒素上にチオ置換基を有する化合物として有効なものであり、その他、ゴムの加硫化剤、発芽前処理用除草剤、として有用な化合物である。
【００１７】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。
本発明で得られる化合物は、この実施例に挙げた化合物に限定されるものではない。
下記実施例によって製造することにより得られるＮ−スルフェニルピロール化合物は、各種スペクトルと元素分析の結果を主要な判定基準として同定した。
また、製造された化合物（１）〜（３）は、前記で示した化合物（１）〜（３）に対応するもので、その物性値としては、核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ，１３Ｃ−ＮＭＲ）、赤外吸収スペクトル（ＩＲ）の順にそれぞれ記した。
【００１８】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中にスルフェナモイル安息香酸エチル（１００ｍｇ，０．５０７ｍｍｏｌ），2,5-ジメトキシテトラヒドロフラン（２６４ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）およびp-トルエンスルホン酸（１１ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、８０℃で７分間攪拌し、p-トルエンスルホン酸（１１ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）を加えてさらに７分間撹拌した。ピリジンを加えてp-トルエンスルホン酸を中和した後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒、塩化メチレン：ヘキサン＝１：１）で精製した。この化合物はヘキサンを用いて再結晶を行うことによりさらに精製することができる。目的生成物の構造式は、化合物（１）のＮ−スルフェニルピロール化合物であることを確認した。
収率 59％；融点 52.2-53.8 ℃. 1H NMR (CDCl3) d 1.43 (3H, t, J = 7.3 Hz), 4.44 (2H, q, J = 7.3 Hz), 6.01 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 6.37 (2H, t, J = 2.1 Hz), 6.83 (2H, t, J = 2.1 Hz), 7.17 (1H, ddd, J = 7.9, 7.6, 0.9 Hz), 7.36 (1H, ddd, J = 8.2, 7.6, 1.5 Hz), 8.03 (1H, dd, J = 7.9, 1.5 Hz). 13C NMR (CDCl3) d 14.3, 61.8, 122.1, 123.3, 124.8, 127.8, 130.5, 133.6, 148.0, 166.9. IR (KBr) vmax 2990, 2905, 1694, 1564, 1464, 1368, 1316, 1296, 1277, 1184, 1148, 1061, 1042, 727, 606, 507 cm-1. HRMS C13H13NO2S としての計算値: 247.0667. 実測値: 247.0638.
【００１９】
実施例２
実施例１において、2-スルフェナモイル安息香酸エチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）を用いて同様な操作を行い、目的生成物を得た。目的生成物の構造式は、化合物（２）のＮ−スルフェニルピロール化合物であることを確認した。
収率 79%；1H NMR (CDCl3) d 3.97 (3H, s), 6.01 (1H, dd, J = 8.5, 0.9 Hz), 6.37 (2H, t, J = 2.1 Hz), 6.83 (2H, t, J = 2.1 Hz), 7.17 (1H, ddd, J = 7.9, 7.3, 0.9 Hz), 735 (1H, ddd, J = 8.5, 7.3, 1.5 Hz), 8.01 (1H, dd, J = 7.9, 1.5 Hz). 13C NMR (CDCl3) d 52.5, 111.8, 122.1, 122.8, 124.8, 127.8, 130.4, 133.7, 148.0, 167.3. IR (KBr) vmax 2957, 1699, 1566, 1429, 1296, 1182, 1144, 1105, 1065, 1038, 961, 608, 523, 496 cm-1.
【００２０】
実施例３
実施例１において、2-スルフェナモイル安息香酸エチルの代わりに2-ニトロベンゼンスルフェンアミド（１００ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）を用いて同様な操作を行い、ヘキサンから再結晶を行うことにより目的生成物を得た。目的生成物の構造式は、化合物（３）のＮ−スルフェニルピロール化合物であることを確認した。
収率 74%；1H NMR (CDCl3) d 6.01 (1H, dd, J = 8.5, 1.2 Hz), 6.41 (2H, t, J = 2.1 Hz), 6.84 (2H, t, J = 2.1 Hz), 7.30 (1H, ddd, J = 8.5, 7.3, 1.2 Hz), 7.49 (1H, ddd, J = 8.5, 7.3, 1.2 Hz), 8.30 (1H, dd, J = 8.5, 1.2 Hz). 13C NMR (CDCl3) d 112.8, 124.1, 125.5, 126.2, 127.7, 135.3, 141.8, 144.2. IR (KBr) vmax 3096, 1636, 1591, 1568, 1507, 1453, 1339, 1310, 1179, 1069, 1036, 720, 604, 505 cm-1.
【００２１】
【発明の効果】
本発明のＮ−スルフェニルピロール化合物の製造方法は、スルフェンアミド化合物と2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物の反応により、収率よく製造することができる。これは新規な製造方法であり、強塩基や塩素、臭素を用いることなく安全にかつ容易にＮ−スルフェニルピロール化合物を製造することができ、従来のこの種の方法として用いられていた製造方法と比較して優れた方法である。
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なＮ−スルフェニルピロール化合物、およびその製造方法に関するものである。さらに詳しくは、新規なＮ−スルフェニルピロール化合物を、スルフェンアミド化合物と2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物を加熱することにより、効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
分子内に窒素−イオウ結合を有するスルフェンアミド化合物は、種々の機能性を持つことが報告されている（非特許文献１）。
たとえば、ゴムの加硫化剤（特許文献１，２）、発芽前処理用除草剤（特許文献３）、殺菌剤（特許文献４）等が知られている。特に、含窒素複素環化合物の窒素上にチオ置換基を有する場合は、殺菌作用を有する化合物として有効であるとされている（特許文献５）。
【０００３】
従来、Ｎ−スルフェニルピロール化合物を製造するには、ピロールとＮ−スルフェニルフタルイミド化合物やＮ−スルフェニルスクシンイミド化合物を塩基性条件下で反応させる方法が行われてきた（非特許文献２）。しかしこの方法においては、５０％水酸化カリウム水溶液中という高濃度のアルカリ性溶液を用いなければならなかった。また、塩化スルフェニル化合物とピロールをカリウムｔ−ブトキシド存在下反応させる製造方法も報告されているが（非特許文献３），出発原料となる塩化スルフェニル化合物は、チオール類またはジスルフィド類に対して、塩素や臭素を反応させるという方法を用いなければ製造できない化合物である。塩素や臭素は有毒な化合物であり、取り扱い上の危険性が高く、反応方法としては、好ましいものではないという問題があった。
【０００４】
【特許文献１】
特開昭６４−４８８３１号公報
【特許文献２】
米国特許 第２８６６７７７号（１９５５）
【特許文献３】
特開昭５３−３１６４３号公報
【特許文献４】
特開昭５５−５１０５３号公報
【特許文献５】
特開昭５０−２９７４９号公報
【非特許文献１】
L. Craine and M. Raban, Chem. Rev., 89, 689-712 (1989).
【非特許文献２】
H. M. Gilow, Tetrahedron Lett., 29, 4689-4692 (1986).
【非特許文献３】
R. Silvestri, et al., Synth. Commun., 24, 2685-2695 (1994).
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、新規なＮ−スルフェニルピロール化合物を提供することである。また、Ｎ−スルフェニルピロール化合物を製造するに際し、通常の方法である強塩基反応条件下で反応を行うこと、又、出発原料製造に塩素や臭素を用いるという条件を用いることなく、工業的に有利な新規な製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、Ｎ−スルフェニルピロール化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、スルフェンアミド化合物と2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物を反応をさせれば、Ｎ−チオ置換複素環化合物であるＮ−スルフェニルピロール化合物が収率よく確実に得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明によれば、以下の発明が提供される。
（１）下記一般式（Ａ）で表されるＮ−スルフェニルピロール化合物。
【化５】
【０００９】
【発明実施の形態】
本発明の目的化合物であるＮ−スルフェニルピロール化合物は、以下の一般式（Ａ）により示される化合物である。
【化９】
【００１０】
前記化合物（Ａ）の置換基は以下の通りである。
Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒ ２ 〜Ｒ ５ は水素原子を示す。
【００１１】
下記一般式（Ｂ）で表されるＮ−スルフェニルピロール化合物は、下記一般式（Ｃ）で表されるスルフェンアミド化合物に対し、下記一般式（Ｄ）で表される2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物を反応させることにより製造される。
【化１０】
【化１１】
【化１２】
前記化合物（Ｂ）、（Ｃ）の置換基は以下の通りである。
Ｒ ２ 〜Ｒ ５ は水素原子を示す。
Ｒ ６ は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基またはニトロ基を示す。
この場合の炭素数１〜６のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。
また、炭素数１〜６のアルコキシル基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、シクロプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、t-ブトキシ、ペンチロキシ、ヘキシロキシ、シクロヘキシロキシル基等が挙げられる。
炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、シクロプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、 t- ブトキシカルボニル、ペンチロキシカルボニル、ヘキシロキシカルボニル、シクロヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
また、前記化合物（Ｄ）の置換基であるＲ７、Ｒ８は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t-ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。
前記化合物（Ｃ）、（Ｄ）は公知物質であり、（Ｃ）はチオサリチル酸エステル化合物から、（Ｄ）はジアルコキシジヒドロフラン化合物から製造することができる。
【００１２】
本発明におけるＮ−スルフェニルピロール化合物の製造は、酸の存在下実施される。この場合、酸としては、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、安息香酸、酢酸、プロピオン酸等が使用される。
【００１３】
前記のＮ−スルフェニルピロール化合物の製造方法は、好ましくは反応溶媒の存在下で実施される。
この場合の反応溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の無極性有機溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
【００１４】
前記製造方法における温度は５０℃〜１５０℃付近の温度で行うことができるが、あまり低温すぎると反応時間が遅くなり、高すぎると異常な分解反応や副反応が多くなるので、８０℃〜１２０℃の範囲で実施するのが好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜１０時間で十分である。
【００１５】
前記一般式（Ｃ）で表されるスルフェンアミド化合物の製造方法は、次の通りである。
チオール化合物にヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸のようなアミノ化剤を反応させて製造される。
また、前記一般式（Ｄ）で表される2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物の製造方法は、次の通りである。
酢酸カリウム存在下、フランにアルコール類を反応させて2,5-ジアルコキシ-2,5-ジヒドロフラン化合物を製造し、これを水素で還元して製造される。
【００１６】
本発明で得られるＮ−チオ置換複素環化合物の具体例について例示する
と、以下の化学式（１）から（３）で示される化合物を挙げることができる。
これらの化合物は、以下に記載する実施例により得られる化合物である。
【化１３】
【００１７】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。
本発明で得られる化合物は、この実施例に挙げた化合物に限定されるものではない。
下記実施例によって製造することにより得られるＮ−スルフェニルピロール化合物は、各種スペクトルと元素分析の結果を主要な判定基準として同定した。
また、製造された化合物（１）〜（３）は、前記で示した化合物（１）〜（３）に対応するもので、その物性値としては、核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ，１３Ｃ−ＮＭＲ）、赤外吸収スペクトル（ＩＲ）の順にそれぞれ記した。
【００１８】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中にスルフェナモイル安息香酸エチル（１００ｍｇ，０．５０７ｍｍｏｌ），2,5-ジメトキシテトラヒドロフラン（２６４ｍｇ，２．０ｍｍｏｌ）およびp-トルエンスルホン酸（１１ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍｌ）に溶解させ、８０℃で７分間攪拌し、p-トルエンスルホン酸（１１ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）を加えてさらに７分間撹拌した。ピリジンを加えてp-トルエンスルホン酸を中和した後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒、塩化メチレン：ヘキサン＝１：１）で精製した。この化合物はヘキサンを用いて再結晶を行うことによりさらに精製することができる。目的生成物の構造式は、化合物（１）のＮ−スルフェニルピロール化合物であることを確認した。
収率 59％；融点 52.2-53.8 ℃. 1H NMR (CDCl3) d 1.43 (3H, t, J = 7.3 Hz), 4.44 (2H, q, J = 7.3 Hz), 6.01 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 6.37 (2H, t, J = 2.1 Hz), 6.83 (2H, t, J = 2.1 Hz), 7.17 (1H, ddd, J = 7.9, 7.6, 0.9 Hz), 7.36 (1H, ddd, J = 8.2, 7.6, 1.5 Hz), 8.03 (1H, dd, J = 7.9, 1.5 Hz). 13C NMR (CDCl3) d 14.3, 61.8, 122.1, 123.3, 124.8, 127.8, 130.5, 133.6, 148.0, 166.9. IR (KBr) vmax 2990, 2905, 1694, 1564, 1464, 1368, 1316, 1296, 1277, 1184, 1148, 1061, 1042, 727, 606, 507 cm-1. HRMS C13H13NO2S としての計算値: 247.0667. 実測値: 247.0638.
【００１９】
実施例２
実施例１において、2-スルフェナモイル安息香酸エチルの代わりに2-スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）を用いて同様な操作を行い、目的生成物を得た。目的生成物の構造式は、化合物（２）のＮ−スルフェニルピロール化合物であることを確認した。
収率 79%；1H NMR (CDCl3) d 3.97 (3H, s), 6.01 (1H, dd, J = 8.5, 0.9 Hz), 6.37 (2H, t, J = 2.1 Hz), 6.83 (2H, t, J = 2.1 Hz), 7.17 (1H, ddd, J = 7.9, 7.3, 0.9 Hz), 735 (1H, ddd, J = 8.5, 7.3, 1.5 Hz), 8.01 (1H, dd, J = 7.9, 1.5 Hz). 13C NMR (CDCl3) d 52.5, 111.8, 122.1, 122.8, 124.8, 127.8, 130.4, 133.7, 148.0, 167.3. IR (KBr) vmax 2957, 1699, 1566, 1429, 1296, 1182, 1144, 1105, 1065, 1038, 961, 608, 523, 496 cm-1.
【００２０】
実施例３
実施例１において、2-スルフェナモイル安息香酸エチルの代わりに2-ニトロベンゼンスルフェンアミド（１００ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）を用いて同様な操作を行い、ヘキサンから再結晶を行うことにより目的生成物を得た。目的生成物の構造式は、化合物（３）のＮ−スルフェニルピロール化合物であることを確認した。
収率 74%；1H NMR (CDCl3) d 6.01 (1H, dd, J = 8.5, 1.2 Hz), 6.41 (2H, t, J = 2.1 Hz), 6.84 (2H, t, J = 2.1 Hz), 7.30 (1H, ddd, J = 8.5, 7.3, 1.2 Hz), 7.49 (1H, ddd, J = 8.5, 7.3, 1.2 Hz), 8.30 (1H, dd, J = 8.5, 1.2 Hz). 13C NMR (CDCl3) d 112.8, 124.1, 125.5, 126.2, 127.7, 135.3, 141.8, 144.2. IR (KBr) vmax 3096, 1636, 1591, 1568, 1507, 1453, 1339, 1310, 1179, 1069, 1036, 720, 604, 505 cm-1.
【００２１】
【発明の効果】
本発明のＮ−スルフェニルピロール化合物の製造方法は、スルフェンアミド化合物と2,5-ジアルコキシテトラヒドロフラン化合物の反応により、収率よく製造することができる。これは新規な製造方法であり、強塩基や塩素、臭素を用いることなく安全にかつ容易にＮ−スルフェニルピロール化合物を製造することができ、従来のこの種の方法として用いられていた製造方法と比較して優れた方法である。
Claims (1)
- 下記一般式（Ａ）で表されることを特徴とするＮ−スルフェニルピロール化合物。
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