JP4199848B2 - 干渉測定装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ビーム発生ユニットと、第1のビームスプリッタと、光路変更装置と、重畳エレメントと、フォト検出装置と、制御評価装置とを有し、前記ビーム発生ユニットは短コヒーレントなビームを送出し、前記第1のビームスプリッタは第1の部分ビームおよび第2の部分ビームを形成し、前記光路変更装置は光路を周期的に変化させるための反射エレメントを有し、前記第1の部分ビームは測定すべき表面へ配向され、前記第2の部分ビームは前記光路変更装置へ配向され、前記重畳エレメントは表面および装置から入射したビームを干渉させ、前記フォト検出装置は干渉されたビームを受信し、かつ対応する電気信号を制御評価装置に送出する、測定対象物での粗い表面の形状を測定するための干渉測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
この種の干渉測定装置は刊行物 T.Dresel, G.Haeusler, H.Venzke “Three- Dimensional sensing of rough surfaces by coherence radar”, App.Opt., Vol.3, No.7, 01.03.1992 に公知の技術として記載されている。この刊行物では短コヒーレントな光を発生する光源およびピエゾ作動される反射鏡を有する、粗い表面の形状を測定するための干渉計が紹介されている。この測定のための装置では、光波の形の、測定対象物から反射して戻ってくる第1の部分ビームが基準波の形の第2の部分ビームと重畳される。2つの光波はきわめて短いコヒーレンス長(数μm)を有し、そのため干渉コントラストは光路差がゼロである場合に最大値に達する。基準波の光路を変更するために、ピエゾ作動される反射鏡の形の反射エレメントが設けられている。ピエゾ作動される反射鏡の位置を干渉の最大状態の発生時間と比較することにより、測定対象物への距離を求めることができる。ただしこの種の測定のための装置を実際に適用する場合の取扱いは簡単でないことが多い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、冒頭に述べた形式の干渉測定装置を提供して、例えば測定対象物の中空室も正確に完全に測定できるようにすることである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
この課題は本発明により、第1の部分ビームはダブルビームスプリッタへ配向され、該ダブルビームスプリッタの偏光作用を有する第1の分割面を介して、相互に異なって偏光された基準部分ビームと第1の測定部分ビームとが形成され、さらに該ダブルビームスプリッタの第2の分割面を介して、第2の測定部分ビームが形成され、前記基準部分ビームは、前記2つの分割面から所定の距離をおいて設けられる基準反射鏡へ案内され、2つの測定部分ビーム測定対象物のそれぞれの測定点へ偏向され、前記基準部分ビームおよび前記2つの測定部分ビームの複数の干渉最大値は前記フォト検出装置および前記制御評価装置により個々に検出されることにより解決される。
【0005】
【発明の実施の形態】
第1の部分ビームが基準部分ビームと少なくとも1つの測定部分ビームとに分割され、それぞれの基準最大値が検出されることにより、少なくとも1つの測定点に対して付加的な基準値が得られる。この基準値により比較的簡単な手段で測定対象物での接近の困難な個所における形状測定も可能となる。
【0006】
有利には基準部分ビームおよび少なくとも1つの測定部分ビームの複数の干渉最大値は、時間のずれおよび/または相互に異なるビームの識別により個別化される。この手段により、基準部分ビームの干渉最大値と少なくとも1つの測定部分ビームの干渉最大値とを簡単な手段で分離する際に正確な検出と評価とが可能である。
【0007】
前記別のビームスプリッタのうち1つは偏光ビームスプリッタであり、基準部分ビームと偏光ビームスプリッタにより分離された測定部分ビームとは相互に異なって偏光され、基準部分ビームおよび該基準部分ビームとは異なって偏光された測定部分ビームはフォト検出装置の異なるフォト検出器へ案内されるように設けられる場合に、基準部分ビームおよび少なくとも1つの偏光された測定部分ビームを一義的に、簡単な手段で個々に検出可能である。
【0008】
装置の取扱いは、少なくとも1つのビームスプリッタおよび基準反射鏡は共通の測定センサ内に設けられ、測定センサに共通の光入射面、光出射面、およびフォーカシングレンズが設けられ、測定センサに少なくとも1つの測定部分ビームの出射および入射のためのウィンドウが設けられることにより簡単化される。この構成では調整作業が省略され、装置は測定ヘッドを所定の位置に固定する構成により簡単化される。
【0009】
装置の構成と評価の単純化のための別の手段は、光路変更装置が第2の部分ビームのビーム路内に、この部分ビームの光路を変更するために設けられた音響光学偏向装置を有し、音響光学偏向装置は少なくとも2つの音響光学偏向器と、これらの偏向器の後方に位置固定されて設けられる反射エレメントを有し、音響光学偏向器は周波数変調されて制御され、音響光学偏向器は入射する第2の部分ビームおよび反射エレメントに関して次のように設けられる、すなわち重畳エレメントへ案内される第2の部分ビームが音響光学偏向器内の偏向により光路を変更することにより得られる。この場合に有利には、第1の偏向器は入射する部分ビームを、周波数に依存して時間的に変化する角度だけ偏向させ、第2の偏向器は偏向された角度を元に戻し、第2の部分ビームが再び第1の偏向器への入射方向で平行に移動されてさらに進むようにし、反射エレメントは回折格子として構成され、回折格子は第2の偏向器から入射した部分ビームを基準として斜めに配向され、この部分ビームは入射方向に戻される。
【0010】
干渉最大値の評価は例えば、相互に干渉する2つの部分ビーム間の周波数シフトを行う周波数シフト装置が第1の部分ビームのビーム路および/または第2の部分ビームのビーム路に設けられることにより正確に行われる。この場合に簡単化のために、2つの偏向器の搬送周波数は共通の制御評価装置により変調されるように構成してもよい。
【0011】
簡単で正確な干渉最大値の評価は、周波数シフト装置が変調器駆動装置により制御される音響光学変調器として構成され、この周波数シフト装置が第1の部分ビームのビーム路内で第1のビームスプリッタと測定対象物との間に設けられるように構成することもできる。
【0012】
【実施例】
本発明を以下に実施例により図に則して詳細に説明する。
【0013】
短コヒーレントなビームを発生するビーム発生ユニットから発生され、コリメータ2によりコリメートされるビームは第1のビームスプリッタST1において、第1の部分ビーム3および第2の部分ビーム4に分割される。前記ビーム発生ユニットは光源であり、例えばレーザダイオードである。第1の部分ビーム3は測定センサ5へ案内される。第2の部分ビーム4は反射鏡SP1および補正格子21を介して2つの音響光学偏向器8、9を通過する。前記補正格子により角度の偏差および空間的な非干渉性が補正される。前記2つの音響光学偏向器は、共通の偏向器駆動器12により周波数変調されて制御される。
【0014】
周波数変調により第2の部分ビーム4の偏向角は第1の音響光学偏向器8において角度αだけ変化させられる。続いて第2の音響光学偏向器9において第2の部分ビーム4は、第1の音響光学偏向器8へ入射してきた方向へ再び偏向される。この手段により第2の音響光学偏向器9から出射する第2の部分ビーム4の平行移動が生じる。この第2の部分ビームは続いて回折格子10の形の反射エレメントを照射する。回折格子10は所定の角度で傾いて構成されるため、回折して戻る第2の部分ビーム4が平行移動に無関係に、干渉測定装置において、回折格子10に光学的に平行に設けられた補正格子21を介して第1のビームスプリッタST1へ戻り、かつこのビームスプリッタにおいて戻ってきた第1の部分ビーム3と重畳され、これとの干渉を生じさせる。2つの部分ビーム3、4が同じ光学的区間を進む場合には、干渉コントラストは最大となる。
【0015】
2つの音響光学偏向器8、9は、第1の偏向器8の角度の偏向が第2の偏向器9において元に戻され、第2の部分ビームが光路の変化dにより平行にのみシフトされるように構成されているので、第2の部分ビーム4の光路または光学的区間(走向時間)は変調される。2つのビーム3、4の光路差がゼロである場合には、干渉ビームのビーム路内に設けられたフォト検出装置のフォト検出器11.1または11.2も干渉の最大値をとる。干渉が最大ないしフォト検出器11.1、11.2の信号が最大の時点と偏向器駆動器12の瞬時周波数とを制御評価装置14において比較することにより、測定対象物7の測定点7.1または7.2までの距離を正確に求めることができる。
【0016】
干渉の最大値を正確に求めるために、ヘテロダイン干渉法による評価が行われる。このために2つの音響光学偏向器8、9は偏向器駆動装置12の第1の駆動器12.1および第2の駆動器12.2により、わずかに異なる搬送周波数によって制御される。この場合に周波数の差は例えば搬送周波数が数10MHzである場合に0.5MHzである。これにより第2の部分ビーム4は搬送周波数の差の2倍に対応する周波数シフト、すなわち例えば1MHzの周波数シフトを有する。2つの搬送周波数は制御評価装置14により変調されており、これらの搬送周波数は干渉の最大値の評価にも使用される。2つの偏向器8、9をわずかに異なる搬送周波数で制御することにより、第2の部分ビーム4の光路(走向時間)の変調が行われる。ヘテロダイン干渉信号が最大となる時点と、例えば制御評価装置14の瞬時周波数とを比較することにより、測定点7.1、7.2への距離が求められる。
【0017】
測定対象物7の中空室内の測定点7.1、7.2を検出するために、第1の部分ビーム3はフォーカシングレンズ6を介して管状の測定センサ5へ案内され、ダブルビームスプリッタ15へ配向される。このダブルビームスプリッタは第1の分割面16および第2の分割面17を有する。第1の分割面16で第1の部分ビーム3は2つの成分、すなわち測定部分ビームの形の第1の更なる部分ビーム18と、基準部分ビームの形の第2の更なる部分ビーム19とに分割される。第1の更なる部分ビーム18および第2の更なる部分ビーム19は、偏光作用を生じさせる第1の分割面16を介して相互に垂直に偏光される。第2の分割面17では、第1の分割面16を通って進み、基準部分ビーム19を形成する部分ビームから、第3の更なる部分ビーム20が測定部分ビームとして、基準部分ビーム19と同様に分割される。基準部分ビーム19はダブルビームスプリッタ15を通って直進し、基準反射鏡13でフォーカシングされる。またこの基準部分ビーム19は戻り方向に反射してフォーカシングレンズ6を通過した後、第1の更なる部分ビーム18および第3の更なる部分ビーム20と同様に、重畳エレメントとして作用する第1のビームスプリッタST1を照射する。さらにこの基準部分ビーム19は第2の部分ビーム4との干渉を生じさせる。
【0018】
基準部分ビーム19は第1のビームスプリッタST1から、偏光面で阻止作用する別のビームスプリッタST2および別の反射鏡SP2を介して第2のフォト検出器11.2へ達する。第1の測定点7.1により後方散乱されたビームは、第1の分割面16での反射の後に第1のビームスプリッタST1、および偏光面に対して透過性を有する別のビームスプリッタST2を介して第1のフォト検出器11.1へ達する。一方第3の更なる部分ビーム20すなわち測定部分ビームは、第2の測定点7.2により後方散乱され、同様に第2のフォト検出器11.2を照射する。基準部分ビーム19も測定部分ビーム18、20も戻ってくる第2の部分ビーム4との干渉を生じさせるので、フォト検出器はそのつど電気信号(エコー)を送出する。これらの信号の交流成分はそれぞれ3つの干渉が最大となる場合に最大値に達する。図2においては、第1の測定点7.1からのエコーE1、基準部分ビーム19のエコー、および第2の測定点7.2からのエコーの形で得られた複数の信号が時間に関して2つのフォト検出器11.1、11.2の後方で分離されて示されている。
【0019】
測定対象物7に対する測定装置例えば測定センサ5をエタロンを用いて較正することができる。このためには測定センサ5が既知の直径L0を有するエタロンへ挿入され、測定点7.1からのエコーE1の最大値と基準反射鏡13からのエコーERの最大値との間の時間差がゼロとなるように位置ぎめされる。このことは図2に示されている。この位置において、基準反射鏡13のエコーERの最大値と測定点7.2のエコーE2の最大値との間の時間差T0が測定され、この時間差T0は対応する基準路L1へ換算される。測定センサ5の配置は有利には、全ての測定対象物7に対して基準路L1が決してゼロにならないように定められる。直径L0および基準路L1は系の較正量であり、未知の直径LXは関係式
X=L0−L1+ΔLM1R+ΔLM2R
により求められる。この場合にΔLM1Rは測定対象物7の第1の測定点7.1と基準反射鏡13との間の測定された光路差であり、ΔLM2Rは測定対象物7の第2の測定点7.2と基準反射鏡13との間の測定された光路差である。
【0020】
測定すべき測定対象物7で直径が未知の場合には、一方では第1の測定点7.1のエコーE1および基準反射鏡13のエコーER間の時間のずれから、他方では第2の測定点7.2のエコーE2から基準反射鏡13のエコーERへの距離の差から、形状の偏差をきわめて正確に(数nmの領域で)測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】干渉の最大値を検出するための干渉測定装置の構成の概略図である。
【図2】図1に示される干渉測定装置の信号特性の図である。
【符号の説明】
1 光源
2 コリメータ
3、4 部分ビーム
5 測定センサ
6 フォーカシングレンズ
7 測定対象物
8、9 偏向器
10 回折格子
11 フォト検出器
12 偏向器駆動装置
13 基準反射鏡
14 制御評価装置
18、19、20 更なる部分ビーム
21 補正格子
ST1、ST2 ビームスプリッタ
SP1、SP2 反射鏡

Claims (10)

  1. ビーム発生ユニットと、第1のビームスプリッタ(ST1)と、光路変更装置と、重畳エレメントと、フォト検出装置と、制御評価装置とを有し、
    前記ビーム発生ユニットは短コヒーレントなビームを送出し、前記第1のビームスプリッタ(ST1)は第1の部分ビーム(3)および第2の部分ビーム(4)を形成し、前記光路変更装置は光路を周期的に変化させるための反射エレメントを有し、前記第1の部分ビームは測定すべき表面へ配向され、前記第2の部分ビームは前記光路変更装置へ配向され、前記重畳エレメントは表面および装置から入射したビームを干渉させ、前記フォト検出装置は干渉されたビームを受信し、かつ対応する電気信号を前記制御評価装置に送出する、測定対象物での粗い表面の形状を測定するための干渉測定装置において、
    第1の部分ビーム(3)はダブルビームスプリッタ(15)へ配向され、該ダブルビームスプリッタの偏光作用を有する第1の分割面(16)を介して、相互に異なって偏光された基準部分ビーム(19)と第1の測定部分ビーム(18)とが形成され、さらに該ダブルビームスプリッタの第2の分割面(17)を介して、第2の測定部分ビーム(20)が形成され、
    前記基準部分ビーム(19)は、前記2つの分割面(16、17)から所定の距離をおいて設けられる基準反射鏡(13)へ案内され、2つの測定部分ビーム(18、20)測定対象物(7)のそれぞれの測定点(MP1、MP2)へ偏向され、
    前記基準部分ビーム(19)および前記2つの測定部分ビーム(18、20)の複数の干渉最大値(E、E、E)は前記フォト検出装置(11.1、11.2)および前記制御評価装置(14)により個々に検出される
    ことを特徴とする測定対象物での粗い表面の形状を測定するための干渉測定装置。
  2. 前記基準部分ビーム(19)および前記2つの測定部分ビーム(18、20)の複数の干渉最大値(E、E、E)は、時間のずれまたは相互に異なるビームの識別により個別化される、請求項1記載の装置。
  3. 前記基準部分ビーム(19)および光された第1の測定部分ビーム(18)は前記フォト検出装置(11)の異なるフォト検出器(11.1、11.2)へ案内される、請求項1または2記載の装置。
  4. 前記ダブルビームスプリッタ(15)および前記基準反射鏡(13)は共通の測定センサ内に設けられ、該測定センサに共通の光入射面、光出射面およびフォーカシングレンズ(6)が設けられ、該測定センサに前記2つの測定部分ビーム(18、20)の出射および入射のためのウィンドウが設けられる、請求項1から3までのいずれか1項記載の装置。
  5. 前記光路変更装置は前記第2の部分ビーム(4)のビーム路内に、該部分ビームの光路を変更するために設けられる音響光学偏向装置を有し、該音響光学偏向装置2つの音響光学偏向器(8、9)と、該偏向器の後方に位置固定されて設けられる反射エレメント(10)とを有し、前記音響光学偏向器(8、9)は周波数変調されて制御され、該偏向器(8、9)は入射する第2の部分ビーム(4)および前記反射エレメント(10)に関して、前記重畳エレメント(ST1、ST2)へ案内される前記第2の部分ビーム(4)が前記音響光学偏向器(8、9)内の偏向(α)により光路を変更されるように設けられる、請求項1から4までのいずれか1項記載の装置。
  6. 第1の偏向器(8)は入射する部分ビームを、周波数に依存して時間的に変化する角度だけ偏向させ、第2の偏向器(9)は偏向された角度を元に戻し、前記第2の部分ビーム(4)が再び前記第1の偏向器(8)への入射方向で平行に移動されてさらに進むようにし、前記反射エレメントは回折格子(10)として構成され、該回折格子は前記第2の偏向器(9)から入射した部分ビームを基準として斜めに配向され、該部分ビームは入射方向に戻される、請求項5記載の装置。
  7. 相互に干渉する2つの部分ビーム(3、4)間の周波数シフトを行う周波数シフト装置が前記第1の部分ビーム(3)のビーム路または前記第2の部分ビーム(4)のビーム路に設けられる、請求項1から6までのいずれか1項記載の装置。
  8. 前記2つの偏向器(8、9)はわずかに異なる搬送周波数で2つの偏向器駆動器(12.1、12.2)により制御され、前記第2の部分ビーム(4)は周波数シフトされる、請求項5から7のいずれか1項記載の装置。
  9. 前記2つの偏向器(8、9)の搬送周波数は共通の前記制御評価装置(14)により変調される、請求項8記載の装置。
  10. 前記周波数シフト装置が変調器駆動装置により制御される音響光学変調器として構成され、該周波数シフト装置は前記第1の部分ビーム(3)のビーム路内で前記第1のビームスプリッタ(ST1)と前記測定対象物(7)との間に設けられる、請求項1から7のいずれか1項記載の装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19721884C1 (de) * 1997-05-26 1998-06-04 Bosch Gmbh Robert Interferometrische Meßvorrichtung
DE19738900B4 (de) * 1997-09-05 2005-07-14 Robert Bosch Gmbh Interferometrische Meßvorrichtung zur Formvermessung an rauhen Oberflächen
EP1224434B1 (de) 1999-10-09 2004-07-14 Robert Bosch Gmbh Interferometrische messvorrichtung zur formvermessung
DE10047495B4 (de) * 1999-10-09 2005-06-09 Robert Bosch Gmbh Interferometrische Messvorrichtung zur Formvermessung
JP4593768B2 (ja) * 1999-12-27 2010-12-08 キヤノン株式会社 光干渉装置及び位置検出装置
AU2002215491A1 (en) * 2000-06-21 2002-01-02 Joh. & Ernst Link Gmbh & Co. Kg Measuring device for detecting the dimensions of test samples
JP2004502953A (ja) * 2000-07-07 2004-01-29 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 干渉測定装置
DE10131779B4 (de) * 2000-07-07 2006-05-11 Robert Bosch Gmbh Interferometrische Messvorrichtung
WO2002004889A1 (de) * 2000-07-07 2002-01-17 Robert Bosch Gmbh Interferometrische, kurzkohärente formmessvorrichtung für mehrere flächen (ventilsitz) durch mehrere referenzebenen
DE10039239A1 (de) * 2000-08-11 2002-03-07 Bosch Gmbh Robert Optische Messvorrichtung
DE10204136B4 (de) * 2002-02-01 2004-03-25 Robert Bosch Gmbh Interferometrische Messvorrichtung
DE10241057B4 (de) * 2002-09-05 2006-01-05 Robert Bosch Gmbh Optische Messvorrichtung
DE10301607B4 (de) * 2003-01-17 2005-07-21 Robert Bosch Gmbh Interferenzmesssonde
DE10324044B4 (de) * 2003-05-27 2006-01-12 Siemens Ag Dilatometer mit einer Interferometeranordnung und Verwendung des Dilatometers mit der Interferometeranordnung
DE102004045802B4 (de) * 2004-09-22 2009-02-05 Robert Bosch Gmbh Interferometrisches System mit Referenzfläche mit einer verspiegelten Zone
DE102004045807B4 (de) * 2004-09-22 2007-04-05 Robert Bosch Gmbh Optische Messvorrichtung zur Vermessung von gekrümmten Flächen
KR100694973B1 (ko) * 2005-04-28 2007-03-14 주식회사 하이닉스반도체 플래쉬 메모리 소자의 제조방법
DE102006019623B4 (de) * 2005-04-30 2007-05-03 Hexagon Metrology Gmbh Verfahren zur Rundheitsmessung an einem Werkstück sowie Koordinatenmessgerät zur Durchführung einer Rundheitsmessung an einem Werkstück
JP2009509149A (ja) 2005-09-22 2009-03-05 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング 干渉計による層厚決定
DE102006016132A1 (de) * 2005-09-22 2007-03-29 Robert Bosch Gmbh Interferometrische Messvorrichtung
DE102006016131A1 (de) * 2005-09-22 2007-03-29 Robert Bosch Gmbh Interferometrische Messvorrichtung
DE102012212785A1 (de) * 2012-07-20 2014-01-23 Robert Bosch Gmbh Optische Messsonde und Verfahren zur optischen Messung von Innen- und Außendurchmessern
US20150300811A1 (en) * 2014-04-21 2015-10-22 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Apparatus for measuring inner diameter
CN112444818A (zh) * 2019-09-05 2021-03-05 华为技术有限公司 一种激光雷达

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0287005A (ja) * 1988-09-26 1990-03-27 Brother Ind Ltd 光ヘテロダイン干渉表面形状測定装置
JPH02173505A (ja) * 1988-12-26 1990-07-05 Brother Ind Ltd 光波干渉型微細表面形状測定装置
JPH04331333A (ja) * 1991-05-02 1992-11-19 Canon Inc 波長変化測定装置
WO1993024805A1 (en) * 1992-06-03 1993-12-09 Zygo Corporation Interferometric method and apparatus to measure surface topography
JP3264469B2 (ja) * 1993-12-07 2002-03-11 富士写真フイルム株式会社 光散乱媒体の屈折率分布情報の計測装置
DE4427352C1 (de) * 1994-08-02 1996-01-18 Siemens Ag Verfahren zur hochauflösenden Abstandsmessung mittels FMCW-Laser-Radar
DE19501526A1 (de) * 1995-01-19 1996-07-25 Siemens Ag Einrichtung zur Bestimmung der Entfernung eines Objekts von einer definierten Bezugsebene

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