JP4197288B2 - 基板メッキ装置 - Google Patents
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Description
5 保持部材
7 陰電極(カソード電極)
10 上部カップ
12 メッキ処理空間
12a 第1空間
12b 第2空間
12c 第3空間
14 陽電極(アノード電極)
15 電源ユニット
16 導線
17 導線
20 メッキ液保持機構
21 孔
22 第1仕切り板
23 孔
24 第2仕切り板
25 供給口
F フィルタ
Q 電解メッキ液
W ウエハ
WF 処理面
Claims (5)
- 基板にメッキ処理を行う基板メッキ装置であって、
基板を保持して鉛直方向の軸芯周りで回転する基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持された基板を覆い、電解メッキ液を貯留するカップと、
前記カップ内に設けられ、前記基板保持手段によって保持された基板の処理面に対向して配置された第1電極と、
前記基板保持手段に保持された基板に電気的に接続された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間で電流が流れるように給電する給電手段と、
前記カップ内において前記基板保持手段と前記第1電極との間に配置され、電解メッキ液を通す孔径の等しい複数の孔を有する第1板状部材と、前記カップ内において前記第1電極と前記第1板状部材との間に前記第1板状部材と平行に配置され、電解メッキ液を通す孔径の等しい複数の孔を有する第2板状部材と、を有する複数の板状部材と、
前記基板保持手段に保持された基板の処理面に電解メッキ液を供給するためのメッキ液供給手段と、
を備え、
前記カップと前記第2板状部材とによって第1空間が形成され、
前記カップと前記第1板状部材と前記第2板状部材とによって第2空間が形成され、
前記カップと前記第1板状部材と前記基板保持手段とによって第3空間が形成され、
前記第1電極は、前記第1空間内に配置され、
前記メッキ液供給手段から前記第1空間に電解メッキ液を供給して前記複数の板状部材を介して前記基板保持手段に保持された基板の処理面に電界メッキ液を供給しつつ、前記基板保持手段によって当該基板を回転させながら電界メッキ処理を行うことを特徴とする基板メッキ装置。 - 請求項1記載の基板メッキ装置であって、
前記第1電極に装着されたフィルタをさらに備えたことを特徴とする基板メッキ装置。 - 請求項1記載の基板メッキ装置であって、
前記第1空間内において、前記第1電極と前記第2板状部材との間にフィルタをさらに備えたことを特徴とする基板メッキ装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板メッキ装置であって、
前記第1板状部材の孔の径は、前記第2板状部材の孔の径より小さいことを特徴とする基板メッキ装置。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板メッキ装置であって、
前記第1板状部材が有する孔の径は、0.1mm以上1.0mm以下であることを特徴とする基板メッキ装置。
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JP2003370089A JP4197288B2 (ja) | 2003-10-30 | 2003-10-30 | 基板メッキ装置 |
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