JP4171988B2 - 光ディスク - Google Patents
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Description
情報記録層とは、ポリカーボネート等の合成樹脂からなる光ディスク用基板上に形成した、ピットと称する凹凸、相変化材料又は色素等からなる層と、その上に形成された情報読み取り用のレーザー光を反射するための半透明反射膜又は完全反射膜とからなる積層体である。半透明反射膜及び完全反射膜は情報記録層の最上部に形成される層であり、一般的には金属又は金属合金の薄膜からなる層である。
したがって、本発明の目的は、蛍光灯等の室内灯に曝露された場合であっても反射膜が黒変することがなく、信号の読み取りエラー(PIエラー)の増加や反射率低下を起こすことがない、耐光性に優れた、銀又は銀を主成分とする合金からなる反射膜を備えた光ディスクを提供することにある。
なお、特許文献4には光ディスクの接着に関することは全く開示されておらず、まして、銀又は銀を主成分とする合金を反射膜として使用した光ディスクの耐光性を改善する方法に関して特段の手段を指し示すものではない。
前記第1の反射膜が、銀又は銀を主成分とする合金からなる反射膜であり、
前記紫外線硬化型組成物が、
(1)ラジカル重合性化合物、
(2)式(1)
なお、本明細書中で反射膜とは、情報読み取り用のレーザー光を反射するための半透明反射膜又は該レーザー光を実質的に透過しない完全反射膜のことであり、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のことであり、アクリル酸又はメタクリル酸の誘導体についても同様である。
0.9<x<0.999
0.001≦Y≦0.10
記録情報を担うピットと称する凹凸の上に40〜60nmの金属薄膜(第2の反射膜)が積層された光ディスク用基板(A:第2の基板)1枚と、記録情報を担うピットと称する凹凸の上に10〜30nmの銀又は銀を主成分とする合金の半透明反射膜(半透明反射膜:第1の反射膜)が積層された光ディスク用基板(B:第1の基板)1枚を用意する。
更に、前記のDVD−9を製造した後に、基板(A:第2の基板)上に形成された金属薄膜(第2の反射膜)を基板(B:第1の基板)側に残したまま、基板(A:第2の基板)のみを剥離することにより、基板(B:第1の基板)/半透明反射膜(第1の反射膜)/紫外線硬化型組成物の硬化膜/金属薄膜(第2の反射膜)が順次積層されたディスク中間体を作製する。そのようなディスク中間体を2枚用意する。次いで、この2枚のディスク中間体の金属薄膜(第1の反射膜)を接着面として、それらが対向するように接着することにより「DVD−18」が得られる。
記録情報を担うピットと称する凹凸の上に、銀又は銀を主成分とする合金による40〜60nmの反射膜が積層された光ディスク用第2の基板枚(C1:第1の基板)及び(C2:第2の基板)を用意する。片方の基板(C1:第1の基板)の反射膜(第1の反射膜)上に紫外線硬化型組成物を塗布し、もう片方の基板(C2:第2の基板)を反射膜(第2の反射膜)の膜面が接着面となるように、基板(C1:第1の基板)の反射膜(第1の反射膜)面に塗布された前記組成物を介して基板(C1:第1の基板)と貼り合わせ、この貼り合わせた2枚の基板の片面又は両面から紫外線を照射して、両者を接着させ「DVD−10」とする。
記録情報を担うピットと称する凹凸の上に、銀又は銀を主成分とする合金による40〜60nmの第1の反射膜が積層された光ディスク用基板(D:第1の基板)を用意する。別に、ピットを有さない光ディスク用基板(E)を用意する。基板(D:第1の基板)の前記第1の反射膜上に紫外線硬化型組成物を塗布し、該組成物を介して基板(D:第1の基板)と基板(E)を貼り合わせ、この貼り合わせた2枚の基板の片面又は両面から紫外線を照射して、両者を接着させ「DVD−5」とする。
<実施例1>
ウレタンアクリレートとしてFAU−74SN(大日本インキ化学工業(株)製)7部、ビスフェノールA型エポキシアクリレートとしてユニディックV−5530(大日本インキ化学工業(株)製)8部、下記式9で表されるビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物(4モル)のジアクリレート40部、下記式10で表されるビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物(10モル)のジアクリレート18部、ジプロピレングリコールジアクリレート11部、ラウリルアクリレート8部、下記式11で表されるエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート1.8部、下記式12で表されるエチレンオキサイド変性リン酸メタクリレート0.1部、ジメチルアミノ安息香酸エチル0.1部、光重合開始剤として2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド2部及び1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン4部、没食子酸0.05部、酸化防止剤としてIRGANOX 1520L(チバスペチャルティケミカルズ(株)製)0.2部を配合し、60℃で1時間加熱混合して溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物を調製した。紫外線硬化型組成物全体に対する没食子酸の含有比率は0.05質量%である。
没食子酸の含有比率を0.1質量%、0.5質量%、5質量%、6質量%とした以外は実施例1の組成物と同様にして、実施例2〜実施例5の紫外線硬化型組成物を調製した。また、没食子酸に換えて、没食子酸プロピルを0.5質量%使用した以外は実施例1の組成物と同様にして、実施例6の紫外線硬化型組成物を調製した。なお、実施例5の紫外線硬化型組成物は少量の没食子酸が溶解せずに残留したため、濾過処理を行った。
実施例1〜実施例4の組成物において、酸化防止剤(IRGANOX 1520L)を使用しない以外は実施例1〜実施例4の組成物と同様にして、実施例7〜実施例10の紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例1の没食子酸を4−tert−ブチルカテコールとした以外は実施例1の組成物と同様にして、実施例11の紫外線硬化型組成物を調製した。更に、4−tert−ブチルカテコールの含有比率を0.1質量%(実施例12)、0.5質量%(実施例13)、1質量%(実施例14)、5質量%(実施例15)とした以外は実施例11の組成物と同様にして、実施例12〜実施例15の紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例8の没食子酸0.5部をハイドロキノン0.5部とした以外は実施例8の組成物と同様にして、実施例16の紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例8の没食子酸0.5部を2−ヒドロキシハイドロキノン0.5部とした以外は実施例8の組成物と同様にして、実施例17の紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例8の没食子酸0.5部をレソルシノール0.5部とした以外は実施例8の組成物と同様にして、実施例17の紫外線硬化型組成物を調製した。
更に、実施例8における没食子酸をハイドロキノンとして、含有比率を1質量%(実施例19)、3質量%(実施例20)、5質量%(実施例21)とする以外は実施例8の組成物と同様にして、実施例19〜実施例21の紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例1の没食子酸0.05部をハイドロキノン0.5部とした以外は実施例1の組成物と同様にして、実施例22の紫外線硬化型組成物を調製した。
没食子酸0.05部を用いない以外は実施例1の組成物と同様にして、紫外線硬化型組成物を調製した。
没食子酸0.05部、及び酸化防止剤(IRGANOX 1520L)0.2部を用いない以外は実施例1の組成物と同様にして、紫外線硬化型組成物を調製した。
没食子酸0.05部、及び酸化防止剤(IRGANOX 1520L)0.2部を用いないで、フェニルチオエチルアクリレート(BIMAX社製BX−PTEA)0.5部を使用した以外は実施例1の組成物と同様にして、紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例13における4−tert−ブチルカテコールをハイドロキノンモノメチルエーテルとした以外は実施例13の組成物と同様にして紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例8の没食子酸0.5部を4−エトキシフェノール0.5部とした以外は実施例8の組成物と同様にして、比較例5の紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例8の没食子酸0.5部をp−n−ブチルフェノール0.5部とした以外は実施例8の組成物と同様にして、比較例6の紫外線硬化型組成物を調製した。
実施例8の没食子酸0.5部を2,3−ジヒドロキシナフタレン0.5部とした以外は実施例8の組成物と同様にして、比較例7の紫外線硬化型組成物を調製した。
記録情報のピットが形成され、その上にアルミニウムの薄膜が50nmの厚さで積層されたポリカーボネート製の光ディスク用基板に上記各実施例及び比較例の紫外線硬化型組成物をディスペンサで塗布し、半透明反射膜として銀を主成分とする合金が15nmの厚さで積層されたポリカーボネート製の光ディスク用基板を重ね合わせた。次いでスピンコーターで硬化塗膜の膜厚が約50〜60μmになるよう回転させた。次いで、ウシオ電機株式会社製「クセノンフラッシュ照射装置 SBC−04型」を用い、設定電圧1800Vで、銀合金半透明反射膜付きの基板側から空気中で10ショット紫外線を照射して、各組成物のDVD−9サンプルを作製した。
また、前記の耐光性試験とは別に、各サンプルについて高温高湿条件下での曝露試験を行った。
試験は、エスペック株式会社製「PR−2PK」を使用して、80℃85%RH240時間の高温高湿環境下での曝露試験を行った。試験前後のサンプルについて、銀合金半透明反射膜のついた情報記録層(L0と称す)のPIエラー及び反射率を測定し評価した。
PIエラー及び反射率は、Audio Development 社製 「SA−300」により測定した。またPIエラー比(試験後のエラー数/試験前のエラー数)、及び反射率の比(%)[(試験後/試験前)×100]を計算により求め、評価した。
PIエラー比が5以下である場合を○
PIエラー比が5を越えて6以下である場合を△
PIエラー比が6を越えた場合を×とした。
反射率の判定の欄はDVD−9の規格により、
試験後の反射率が18〜30%である場合を○
試験後の反射率が18%未満、16%以上である場合を△
試験後の反射率が16%未満である場合を×とした。
また、表中の化合物の略号は以下の化合物を意味する。
・DPGDA:ジプロピレングリコールジアクリレート
・LAC:ラウリルアクリレート
・DMAEB:ジメチルアミノ安息香酸エチル
・TMBDPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
・HCHPK:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
・PTEAC:フェニルチオエチルアクリレート
Claims (4)
- 第1の基板上に情報読み取り用のレーザー光を反射するための第1の反射膜を備え、更に前記第1の反射膜上に紫外線硬化型組成物の硬化皮膜からなる樹脂層を備えた光ディスクであって、
前記第1の反射膜が、銀又は銀を主成分とする合金からなる反射膜であり、
前記紫外線硬化型組成物が、
(1)ラジカル重合性化合物、
(2)式(1)
(3)ラジカル性の光重合開始剤
を含有することを特徴とする光ディスク。 - 更に、情報読み取り用のレーザー光を反射するための第2の反射膜を備えた第2の基板が、前記樹脂層と前記第2の反射膜とが接するように、前記樹脂層上に設けられた請求項1記載の光ディスク。
- 前記式(1)で表される化合物が、カテコール、3−sec−ブチルカテコール、3−tert−ブチルカテコール、4−sec−ブチルカテコール、4−tert−ブチルカテコール、3,5−ジ−tert−ブチルカテコール、3−sec−ブチル−4−tert−ブチルカテコール、3−tert−ブチル−5−sec−ブチルカテコール、4−オクチルカテコール、4−ステアリルカテコール、ハイドロキノン、2−ヒドロキシハイドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、2,5−ビス(1,1,3,3−テトラメチルブチル)ハイドロキノン、2,5−ビス(1,1−ジメチルブチル)ハイドロキノン、レソルシノール、オルシノール又はピロガロールである請求項1又は2のいずれかに記載の光ディスク。
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