JP4100453B2 - 光ディスク及び光ディスク用紫外線硬化型組成物 - Google Patents

Description

本発明は、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクに関する。特に、３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有する半導体レーザー（以下ブルーレーザーと称す）により記録又は再生を行う光ディスクに関する。

近年、情報技術の発展により大容量の情報記録の伝達が可能になった。これに伴い、大容量となる映像、音楽、コンピューターデータ等を記録及び再生出来る高密度大容量の光ディスクが要求されている。

高密度記録媒体として伸長を見せているＤＶＤ（Digital Versatile Disc）は厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤにおいては高密度化を達成するため、ＣＤ（Compact Disc）に比べ短波長の６５０ｎｍのレーザーを用い、光学系も高開口数化している。

しかし、ＨＤＴＶ（high definition television）に対応した高画質の映像等を記録または再生する為には更なる高密度化が必要となる。ＤＶＤの次世代に位置する更なる高密度記録の方法及びその光ディスクの検討が行われており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザー及び高開口数の光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている（例えば、非特許文献１参照）。

この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層してなり、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。この光ディスクの光透過層には、生産性の観点から、紫外線硬化型組成物を使用することがもっぱら研究されている。

このような、ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクとして、円形基板上に情報記録層及び光反射層を形成し、更に紫外線硬化型樹脂を塗布し、硬化させて光透過層を積層した光ディスクが提案されている。該技術では、光透過層形成材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物が使用されている（特許文献１及び特許文献２参照）。しかしながら、カチオン重合性紫外線硬化型組成物は、紫外線照射により光反射層を腐食させやすいルイス酸を発生するため、光ディスクを長期間保存する場合の安定性が得られ難い欠点がある。光反射膜に用いる材料としては、４００ｎｍ前後で高い反射率が求められることから、銀又は銀を主成分とする合金が使用されている。銀又は銀を主成分とする合金は化学物質による腐食等の化学変化を起こしやすいため、光反射層を形成する材料として銀又は銀を主成分とする合金を用いた場合、これに接する光透過層用の材料としてカチオン重合性紫外線硬化型組成物を用いることは好ましくない。

カチオン重合性紫外線硬化型組成物に換えて、通常のラジカル重合系である（メタ）アクリレート化合物と光重合開始剤を主成分とする紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの例が提案されている（特許文献３参照）。当該技術は、ウレタン（メタ）アクリレートとトリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートを含有し、ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクに適し、硬化収縮率が低く、低吸水性及び透明性に優れた活性エネルギー線硬化型組成物を開示するものである。しかし、光反射膜として銀又は銀合金を使用した光ディスクに当該組成物を適用した場合には、高温高湿環境下に長時間放置された後に腐食が発生したり、蛍光灯に曝露することにより光ディスクの反射率が低下する問題があった。

ところで、ブルーレーザー用の光ディスクではないが、貼り合わせ型の光ディスクに使用される紫外線硬化型組成物として、１分子中に１個の水酸基を含有する（メタ）アクリレートと二塩基酸無水物の反応物であるハーフエステル化合物と１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂との反応物と反応性希釈剤と光重合開始剤を含有する光ディスク貼り合わせ用紫外線硬化性接着剤組成物に関する技術が開示されている（特許文献４参照）。当該技術は、銀等からなる半透明反射膜を有する貼り合わせ型光ディスクにおいて、高い耐久性（信頼性）を有する接着剤組成物を提供することを目的としており、高温高湿環境下に放置した後も反射膜の外観変化が発生しないことが報告されている。しかしながら、当該技術は、ブルーレーザー用の光ディスクに関するものではなく、貼り合わせ型の光ディスク、例えばＤＶＤ−９等に関するものである。

紫外線硬化型組成物は、硬化時に発生する収縮のため基板に反りが発生し易い問題があるが、２枚の基板を紫外線硬化型組成物の接着層により貼り合わせるＤＶＤの構成においては、紫外線硬化型組成物が硬化する際の歪みは、接着層の両側の基板の剛性により抑えられる。一方で、ブルーレーザー用光ディスクにおいては、光透過層の一面には、基板を備えた厚い構造が形成されるが、他の一面には剛直な基板は積層されておらず、表面コート層等の比較的薄い層が形成されるのが通常である。また、ＤＶＤの接着剤層は５０μｍ程度の厚みであるが、ブルーレーザー用光ディスクの光透過膜は、更に厚い１００μｍ前後の層厚で形成される。従って、ＤＶＤ用の接着剤層として使用されていた紫外線硬化型組成物を、ブルーレーザー用の光ディスクとして、単に転用した場合には、大きく反りが生じる場合があった。

また、従来のＣＤやＤＶＤにおいても、紫外線硬化型組成物による保護コート層や貼り合わせの接着剤層を光が透過して、情報の読取や書込が行われていたが、当該紫外線硬化型組成物の硬化物により形成される層は、ＣＤでは約７μｍ程度、ＤＶＤでは５０μｍ程度の膜厚であったことから、多少の反りが発生した場合であっても、情報の読取や書込に対して悪影響を及ぼすことが少なかった。しかし、ブルーレーザー用の光ディスクの光透過層として使用する場合には、膜厚が厚いため、わずかに反りを発生した場合でも読み取りエラーが生じ易くなり、最悪の場合、読み取り不能となってしまう場合も生じる。このため、紫外線硬化型組成物をブルーレーザー用光ディスクの光透過層として使用する場合には、反りの問題が顕著に生じるものであった。

実際に、前記特許文献４の実施例として開示されている２−アクリロイルオキシエチルフタレートとビスフェノールＡ型のエポキシ樹脂の反応物を含有する紫外線硬化型組成物をブルーレーザー用の光ディスクの光透過層として適用した場合には、無視できない大きな反りを示すものであった。

日経エレクトロニクス（日経ＢＰ社）、１９９９年、８、９号、ｐ．４７〜５３ 特開平１１−１９１２４０号公報 特開２００２−９２９４８号公報 特開２００３−１１９２３１号公報 特開２００３−２０６４４９号公報

本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクとして、ディスクの反りの発生を極力抑え、耐久性、耐光性に優れた光ディスク及び該光ディスクの光透過層として有用な紫外線硬化型組成物を提供することにある。特に、本発明の目的は、上記課題を解決したブルーレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクを提供することにある。

本発明者らは硬化時に発生する歪みを緩和することができる分子構造を有するオリゴマーを検討し、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物と二塩基酸無水物から得られるハーフエステル化合物と、エポキシ樹脂とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂を含有する紫外線硬化型組成物が目的とする特性を有すること、当該紫外線硬化型組成物を光透過層とする光ディスクが反りの低減を実現でき、良好な特性を発現することを見出した。

すなわち本発明は、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、
前記光透過層が、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）と二塩基酸無水物（ａ２）から得られるハーフエステル化合物（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂とを含有する紫外線硬化型組成物の硬化物からなり、前記光透過層の膜厚が５０〜１５０μｍである光ディスクを提供するものである。

また、本発明は、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）と二塩基酸無水物（ａ２）から得られるハーフエステル化合物（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂を含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を提供するものである。

本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物で使用するエポキシアクリレート樹脂は、該組成物の硬化膜の弾性率を低く抑えることができ、硬化時に生じた硬化膜内の歪みを緩和することができる。そのため、反りの小さい光ディスクを得ることができる。また、本発明で使用するエポキシアクリレート樹脂は、剛直な環状構造を有し、且つ耐熱性の高いエステル構造から構成される。よって、銀又は銀合金反射膜の光ディスクにおいて、該組成物を光透過層として使用した場合に、優れた耐久性や耐光性を得ることができる。したがって、本発明の光ディスクは光透過層の膜厚の厚いブルーレーザー用光ディスクとして最適である。

［光ディスク用紫外線硬化型組成物］
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）と二塩基酸無水物（ａ２）から得られるハーフエステル化合物（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂を含有するものである。

なお、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のことであり、アクリル酸又はメタクリル酸の誘導体についても同様である。

前記エポキシアクリレート樹脂は、下記の反応工程で製造することが好ましい。
第一段の反応として、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）の水酸基と、二塩基酸無水物（ａ２）とを、（ａ１）の水酸基と二塩基酸無水物（ａ２）のモル比が０．９〜１．１、好ましくは等モルにて反応させてハーフエステル化合物（Ａ）を得る。

第二段の反応として、得られたハーフエステル化合物（Ａ）とエポキシ樹脂（Ｂ）とを、ハーフエステル化合物（Ａ）のカルボキシル基とエポキシ樹脂（Ｂ）のグリシジル基とを、モル比が０.９〜１．１、好ましくは等モルにて反応させる。

この第１段反応は禁止剤の存在下、反応温度６０〜１２０℃、好ましくは７０〜１００℃で反応する事が望ましい。６０℃以下では反応時間が長くなり、１２０℃以上ではヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）の不飽和二重結合の重合が起きやすくなる。第２段の反応は、６０℃以下では反応時間が長くなり、１２０℃以上ではヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）の不飽和二重結合の重合が起きやすくなるため、禁止剤の存在下、反応温度６０〜１２０℃、好ましくは７０〜１００℃で反応する事が望ましい。グリシジル基の開環触媒として公知任意の触媒を用いる事が出来る。トリエチレンジアミン、又はトリｎブチルアミン等の三級アミン類、及び、トリフェニルフォスファイト、亜燐酸エステル、又はトリフェニルホスフィン等のホスフィン類などがその代表例として挙げる事が出来る。

ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）は、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートにラクトンを開環付加して得られる。ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとしては例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ラクトンとしては、β−プロピオラクトン、β−ブチロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、及びε−カプロラクトン等が挙げられる。

なかでも、１モルの２−ヒドロキシエチルアクリレートに２〜１０モルのε−カプロラクトンが付加した化合物が好ましく、１モルの２−ヒドロキシエチルアクリレートに２〜５モルのε−カプロラクトンが付加した化合物が特に好ましい。

二塩基酸無水物（ａ２）としては、フタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、１，２，３，４−テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、２，３，４，５−テトラヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、ヘキサヒドロフタル酸無水物及びその誘導体、琥珀酸無水物及びその誘導体、モノアルキル琥珀酸無水物及びその誘導体、ジアルキル琥珀酸無水物及びその誘導体、マレイン酸無水物及びその誘導体、モノアルキルマレイン酸無水物及びその誘導体、並びにジアルキルマレイン酸無水物及びその誘導体が挙げられる。中でもフタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、又はヘキサヒドロフタル酸無水物を用いることが好ましい。

エポキシ樹脂（Ｂ）としては、特に構造が限定されるものではないが、例えば、ビスフェノ−ル型エポキシ樹脂類、ノボラック型エポキシ樹脂類、脂環式エポキシ樹脂類、グリシジルエステル類、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類、複素環式エポキシ樹脂類、及び臭素化エポキシ樹脂類などが挙げられる。

上記のビスフェノ−ル型エポキシ樹脂類としては、ビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂の２級水酸基にε−カプロラクトン付加したラクトン変性エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルＦ型エポキシ樹脂、及びビスフェノ−ルＳ型エポキシ樹脂等；上記のノボラック型エポキシ樹脂としては、フェノ−ルノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノ−ルＡノボラック型エポキシ樹脂、及びジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂等；上記脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレ−ト、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ−ト、及び１−エポキシエチル−３，４−エポキシシクロヘキサン等；前記グリシジルエステル類としては、フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマ−酸グリシジルエステル等；前記グリシジルアミン類としては、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルＰ−アミノフェノ−ル、及びＮ，Ｎ−ジグリシジルアニリン等；並びに、前記複素環式エポキシ樹脂としては、１，３−ジグリシジル−５，５−ジメチルヒダントイン、及びトリグリシジルイソシアヌレ−ト等が挙げられる。

中でも、ビスフェノ−ル型エポキシ樹脂がコストパーフォマンスに優れ、取りわけビスフェノ−ルＡ型エポキシ樹脂が、接着力、耐久性などの性能とコストに優れ、好ましい。

エポキシアクリレート樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）は９００〜８０００であることが好ましい。また、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比率（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．３〜２．８であることが好ましく、１．４〜２．０であることがより好ましい。

本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、上記エポキシアクリレート樹脂を含有することにより、硬化膜の弾性率を低く抑えることができ、硬化時に生じた硬化膜内の歪みを緩和することができるため、反りの小さい光ディスクを得ることができる。また、上記エポキシアクリレート樹脂が、剛直な環状構造を有し、且つ耐熱性の高いエステル構造から構成されることから、銀又は銀合金反射膜の光ディスクにおいて、該組成物を光透過層として使用した場合に、優れた耐久性や耐光性を得ることができる。

本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、その粘度を２５℃において５００〜３０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは５００〜２５００ｍＰａ・ｓとすることで、１００μｍ前後の厚い光透過層とした場合であっても、均一な膜を形成することができる。

本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線を照射した後の硬化膜の弾性率が、１００〜２０００ＭＰａ（２５℃）となるように調整することが好ましい。中でも２００〜１５００ＭＰａとなる組成であることがより好ましい。弾性率がこの範囲となる組成であると、硬化時の歪みが緩和され易く、高温高湿環境下に長時間曝されても反りの変化量が少ない光ディスクを得ることができる。

本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物中には、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）と二塩基酸無水物（ａ２）から得られるハーフエステル化合物（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂を、紫外線硬化型組成物全体に対して１０〜８０質量％含有することが好ましく、２０〜７０質量％含有することが好ましい。

本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物としては、常温〜４０℃において、液状であるものを用いるとスピンコーター等での膜形成が容易となるため好ましい。また、溶媒は用いない方が好ましく、用いたとしても極力少量に留めるのがよい。

本発明の紫外線硬化型組成物中には公知のラジカル重合性モノマー、オリゴマー、光重合開始剤、及び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。

ラジカル重合性モノマーとしては、ラジカル重合可能なモノマーであれば、特に制限がなく使用できる。例えば、単官能（メタ）アクリレートとしては、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、及びカプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、又はポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキルエーテル（メタ）ポリアクリレート類；ノルボルナンジメタノールジアクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、又はペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート等の脂環構造を有するモノマー類；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、又はトリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート等のイソシアヌレート構造を有するモノマー類；ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、又はビニルエーテルモノマー等を挙げることができる。
また、前記ラジカル重合性不飽和モノマーの１種もしくは２種以上を用いることができる。

弾性率を低く抑えるためには、単官能のモノマーが好ましく、特に単官能アクリレートが好ましい。更に、メトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、及びテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートが、柔軟性の点で好ましい。

本発明で使用することのできるオリゴマーとしては、例えば、ポリエーテル骨格のウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル骨格のウレタン（メタ）アクリレート、若しくはポリカーボネート骨格のウレタン（メタ）アクリレートなどのポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル骨格のポリオールに（メタ）アクリル酸をエステル化したポリエステル（メタ）アクリレート、又はポリエーテル骨格のポリオールに（メタ）アクリル酸をエステル化したポリエーテル（メタ）アクリレート等の活性エネルギー線硬化性オリゴマーの１種もしくは２種以上を用いる事が出来る。

本発明における紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物全量中の単官能（メタ）アクリレートの含有量としては、３〜４０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることが好ましい。２官能（メタ）アクリレートの含有量としては、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることが更に好ましい。また、３官能以上の（メタ）アクリレートの含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることが好ましい。なお、３官能以上の（メタ）アクリレートの含有量の下限値は、好ましくは５質量％である。１〜３官能の（メタ）アクリレートの比率は、使用する（メタ）アクリレートの種類に応じて適宜調整すればよく、上記範囲内にて調整することで、塗付時の粘度や、硬化後の架橋密度を好適な範囲とすることができ、硬化物に高い硬度を付与できると共に硬化物の反りを低減できる。

光重合開始剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明で使用する光重合開始剤として好適である。本発明に使用する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、又は２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、又は４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。

また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。また、紫外線硬化型樹脂組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、及びヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。

本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、光ディスクを高温高湿環境下により長時間放置した場合に、反射膜の腐食、反射率の低下、或いはエラーの増加を防止するために、式（１）で表される化合物を用いることができる。

（式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ^５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜８のアルコキシル基、カルボキシル基、式（２）

（式中、Ｒ^６は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルケニル基を表す。）で表される基、又は、置換基としてカルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシル基若しくはアルコキシル基を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基若しくはアルケニル基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５の中の少なくともひとつは水酸基である。）

前記式（１）で表される化合物としては種々の構造の化合物があるが、中でも下記式（３）で表される没食子酸又は没食子酸エステルであることが好ましい。

（式（３）中、Ｒ^７は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルケニル基を表す。）

上記アルキル基及びアルケニル基は分岐状又は直鎖状であって良く、上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましい。
Ｒ^７は水素原子、又は無置換の炭素数１〜２０の分岐鎖を有していてもよいアルキル基であることが好ましく、水素原子、又は無置換の炭素数１〜８の分岐鎖を有していてもよいアルキル基であることがより好ましい。更に、水素原子、又は無置換の炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましい。

没食子酸エステルとしては、具体的には、没食子酸メチル、没食子酸エチル、没食子酸プロピル、没食子酸イソプロピル、没食子酸イソペンチル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、没食子酸テトラデシル、没食子酸ヘキサデシル、及び没食子酸オクタデシル等がある。式（３）で表される化合物としては、没食子酸を使用することが好ましい。没食子酸は、市販品として、例えば、大日本製薬（株）製が容易に入手可能である。

また、前記式（１）で表される化合物としては、下記式（４）で表される化合物も好ましい。

（式（４）中、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシル基、置換基として−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^１２、−ＯＣＯＲ^１３若しくは−ＯＲ^１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基、又は置換基として−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^１２、−ＯＣＯＲ^１３若しくは−ＯＲ^１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルケニル基を表す（式中、Ｒ^１２、Ｒ^１３、及びＲ^１４はそれぞれ独立して、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のアルケニル基を表す。）。）

式（４）中、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、具体的には、(i)水素原子、(ii)フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子等のハロゲン原子、(iii)メトキシ、エトキシ、ブトキシ、又はオクチロキシ等のアルコキシル基、(iv)メチル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ラウリル又はオクタデシル等のアルキル基、(v)エテニル、プロペニル又は２−ブテニル等のアルケニル基、及び(vi)４−カルボキシブチル、２−メトキシカルボニルエチル、メトキシメチル、エトキシメチル等のその他の置換基が挙げられる。

式（４）で表される化合物中で好ましいのは、カテコール、３−sec−ブチルカテコール、３−tert−ブチルカテコール、４−sec−ブチルカテコール、４−tert−ブチルカテコール、３，５−ジ−tert−ブチルカテコール、３−sec−ブチル−４−tert−ブチルカテコール、３−tert−ブチル−５−sec−ブチルカテコール、４−オクチルカテコール及び４−ステアリルカテコールであり、より好ましいのは、カテコール及び４−tert−ブチルカテコールである。特に４−tert−ブチルカテコールを使用することが好ましい。４−tert−ブチルカテコールの市販品としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製ＤＩＣ ＴＢＣ−５Ｐがある。

更に、前記式（１）で表される化合物としては、下記式（５）及び式（６）で表される化合物も好ましい。

（式中、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシル基、置換基として−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^１２、−ＯＣＯＲ^１３若しくは−ＯＲ^１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基、又は置換基として−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^１２、−ＯＣＯＲ^１３若しくは−ＯＲ^１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルケニル基を表す（式中、Ｒ^１２、Ｒ^１３、及びＲ^１４はそれぞれ独立して、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のアルケニル基を表す。）。）

（式中、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹及びＲ²²はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルコキシル基、置換基として−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^１２、−ＯＣＯＲ^１３若しくは−ＯＲ^１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基、又は置換基として−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^１２、−ＯＣＯＲ^１３若しくは−ＯＲ^１４を有していても良い炭素数１〜２４のアルケニル基を表す（式中、Ｒ^１２、Ｒ^１３、及びＲ^１４はそれぞれ独立して、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のアルケニル基を表す。）。）

式（５）中のＲ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８、並びに、式（６）中のＲ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２としては、具体的には、水素原子、メチル基、プロピル基、ヘキシル基、ノニル基、ドデシル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基、ｉｓｏ−ヘキシル基、及びｔｅｒｔ−オクチル基等が挙げられる。

式（５）で表される化合物の中で好ましいのは、ハイドロキノン、２−ヒドロキシハイドロキノン、２，５−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、２，５−ビス（１，１，３，３−テトラメチルブチル）ハイドロキノン又は２，５−ビス（１，１−ジメチルブチル）ハイドロキノンである。また、式（６）で表される化合物中で好ましいのは、レソルシノール（benzene-1,3-diol）及びオルシノール（5-methylbenzene-1,3-diol）である。これらの中では、式（５）で表される化合物の方が式（６）で表される化合物よりも好ましく、式（５）で表される化合物の中でもハイドロキノン（benzene-1,4-diol）及び２−ヒドロキシハイドロキノン（benzene-1,2,4-triol）を使用することがより好ましい。また、式（１）で表される化合物として、本発明で使用することが好ましいその他の化合物としてはピロガロール（1,2,3-trihydroxybenzene）がある。

上記式（３）〜式（６）で表される化合物の中で、式（３）で表される没食子酸又は没食子酸エステル及び式（５）で表されるハイドロキノン系化合物は、高温高湿環境下における耐久性を特に向上させることができ、式（１）で表される化合物の中でも特に好ましい化合物である。また、式（３）及び式（５）で表される化合物の中では没食子酸が最も好ましい化合物である。

式（１）で表される化合物の紫外線硬化型組成物中への添加量としては、紫外線硬化型組成物全体に対して、０．０５〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％である。０．３〜７質量％であることが更に好ましく、１〜５質量％であることが特に好ましい。

式（１）で表される化合物を使用した紫外線硬化型組成物による硬化皮膜は、特に、銀又は銀を主成分とする合金を反射膜として使用した光ディスクが、蛍光灯等の室内灯、例えば、中心波長領域が５００〜６５０ｎｍの光源に晒された場合でも、エラーの増加や反射率の低下等を防止することができる。

［光ディスク］
本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクである。このような光ディスクとしては、ブルーレイディスクやＨＤ−ＤＶＤ（High-Definition Digital Versatile Disc）などがあるが、本発明においてはブルーレイディスクが特に好適である。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した光ディスク用紫外線硬化型組成物を使用することにより、高温高湿下でも反りが生じにくく、銀又は銀合金を反射膜として使用した場合であっても、優れた耐久性や耐光性を得ることができるため、良好に情報の記録・再生を行うことができる。

本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過する層であり、１００μｍの厚さにおいて４０５ｎｍの光の透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。

光透過層の厚みは５０〜１５０μｍの範囲であり、７５〜１５０μｍであることが特に好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。

光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銀、銅、アルミニウムなどの金属若しくはその合金、又はシリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。

基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。

また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素方記録層のいずれであってもよい。

情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ_２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。

本発明の光ディスクは、情報記録部位が二以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上には他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層とが積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、及び第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。

また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層とすると製造工程が簡略化されるため好ましい。また、表面硬度の調整が容易となるため、光透過層の更に表層に表面コート層を設けることも好ましい。

本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に光ディスク用紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に光ディスク用紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。

光反射層上に塗布した光ディスク用紫外線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。

紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１Ｊ／ｃｍ^２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．０５〜０．８Ｊ／ｃｍ^２であることがより好ましく、０．０５〜０．６Ｊ／ｃｍ^２であることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する光ディスク用紫外線硬化型組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。

本発明の光ディスクは、硬化後に１００±１０μｍとなるように光透過層を形成した際の硬化前後の反りの変化が１°以内であることが好ましい。また、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での曝露前後において、光透過層側から測定する４０５ｎｍの光の正反射率の変化は小さければ小さい程良く、１％以内であることが好ましい。また、照度５０００ルクスにて７日間蛍光灯に暴露される前後において、光透過層側から測定する４０５ｎｍの光の正反射率の変化は小さければ小さい程良く、３％以内であることが好ましい。

次に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、実施例における「部」は、特に断りがない限り、質量部を意味する。

＜合成例−１＞
還流冷却管、空気導入管、及び温度計を備えた攪拌機付き反応器に、プラクセルＦＡ２Ｄ（ダイセル化学（株）製 ２−ヒドロキシエチルアクリレートのε−カプロラクトン２モル付加物）を５０５部、無水フタル酸を２１７部、及びメトキノン０．５部加えて攪拌しながら９０℃まで昇温した。９時間９０℃で反応後、エピクロン８５０（大日本インキ化学工業（株）製ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量２７６ｇ／当量）を２７６部、トリフェニルホスフィンを２部加えて９５℃５時間反応して、酸価０．８ＫＯＨｍｇ／ｇ、粘度（２５℃、Ｐａ・ｓ）１３２のエポキシアクリレート樹脂＜Ｊ−１＞を得た。

＜合成例−２＞
還流冷却管、水を分離するデカンター及び空気導入管、並びに温度計を備えた攪拌機付き反応器に、ＹＤ−８１２５（東都化成（株）製ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量１７３ｇ／当量）を３４６部、とライトエステルＨＯＡ−ＭＰＬ（無水フタル酸と２−２−ヒドロキシエチルアクリレートのハーフエステル 共栄社化学（株）製）５０１．６部、メトキノン０．４部、トリフェニルホスフィン２部加えて９８℃５時間反応して、酸価０．９ＫＯＨｍｇ／ｇ、半固形のエポキシアクリレート樹脂＜ｈ−１＞を得た。

＜合成例−３＞
ポリブタジエングリコールＰＢ Ｇ−１０００（日本曹達（株）製）９０３部、ジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫０．２部、メトキノン０．７部に、イソホロンジイソシアネート２８９部を反応させた後、２−ヒドロキシエチルアクリレート１５１部を加えて７０℃で反応して、ウレタンアクリレート＜ｈ−２＞を得た。

＜紫外線硬化型組成物の調製＞
下記表１に示した組成により配合した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、各紫外線硬化型組成物を調製した。なお、表１における組成の数値は質量部を表す。

表１中の化合物は以下の通りである。
Ｊ−２：「ＣＮＵＶＥ１５１」 （サートマー製 ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物と二塩基酸無水物から得られるハーフエステル化合物と、エポキシ樹脂とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂）
ＥＯＴＭＰＴＡ：「アロニックスＭ−３５０」（東亜合成製 トリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート）
ＢＰ４ＥＡ：「ライトアクリレートＢＰ４ＥＡ」（共栄社化学（株）製）
ＤＰＧＤＡ：「ミラマーＭ−２２２」（美源製 ジプロピレングリコールジアクリレート）
ＴＰＧＤＡ：美源製 トリプロピレングリコールジアクリレート
ＴＣＤＤＡ：「ミラマーＭ−２６０」（美源製 トリシクロデカンジメチロールジメタクリレート）
ＨＰＮＤＡ：第一工業製薬（株）製 ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート
Ｍ−３１３：「アロニックスＭ−３１３」（東亞合成製 イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ及びトリアクリレート
ＰＨＥ：大阪有機化学工業（株）製 フェノキシエチルアクリレート
ＴＨＦＡ：大阪有機化学工業（株）製 テトラフルフリルアクリレート
ＴＣＡ：「ＦＡ−５１３Ａ」（日立化成工業（株）製 トリシクロデカニルアクリレート）
ＰＭ−２：日本化薬（株）製 メタクリロイルオキシエチルホスフェート
Ｉｒｇ．１８４：「イルガキュア１８４」（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製）
ＤＢＥ：Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
没食子酸：３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸（式（３）における置換基Ｒ^７が水素原子の化合物）

＜光ディスクサンプルの作製及び反りの測定＞
表面に情報を担うピットを有し、直径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの光ディスク基板を準備し、その光ディスク基板のピット面側に銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、この光ディスク基板の反りを測定し、硬化前の反り測定値を得た。反りは、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製「Ａｒｇｕｓ Ｂｌｕ」を用いて、ディスクの中心より半径２４ｍｍから５８ｍｍまでラジアル方向の反りを全面走査することによって測定し、半径４４ｍｍから４５ｍｍの範囲の平均の反り角度を反り測定値とした。次に、各紫外線硬化型組成物（実施例１〜４、比較例１、２）をそれぞれ滴下した後、スピンコーターにより光透過層の厚さが硬化後に１００±１０μｍになるように塗布し、コールドミラー付きメタルハライドランプ（１２０Ｗ／ｃｍ^２）を用いて照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２（アイグラフィックス社製光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を照射、硬化して光ディスクサンプルを得た。光ディスクサンプルの反りを再び測定し、硬化後の反り測定値を得た。硬化前後の反りの測定値から、硬化前後の反り変化量を求めた。硬化前後の反りの変化が１°以内であった場合には○、１°を越えた場合には×とした。

＜光ディスクの耐久性及び反射率の評価＞
上記と同様に得られた光ディスクサンプルについて、エスペック株式会社製「ＰＲ−２ＰＫ」を使用して、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での曝露（耐久試験）を行った。試験前後のサンプルについて、光透過層の側から、分光光度計「ＵＶ−３１００」（島津製作所（株）製）で４０５ｎｍにおける正反射率を測定した。試験前後の反射率の変化が１％以内であった場合には○、１％を越えた場合には×とした。

＜光ディスクの耐光性（蛍光灯曝露試験）及び反射率の評価＞
上記と同様に得られた光ディスクサンプルの各々について蛍光灯下における曝露試験を実施し、耐光性を評価した。４０Ｗの蛍光灯（三菱電気製、ネオルミスーパーＦＬＲ４０ＳＷ／Ｍ（４０ワット））２本を同一平面上に並列させ、中央の蛍光灯から１５ｃｍの位置に光ディスクの光透過層側が蛍光灯に対向するように配置して、照度５０００ルクスにて蛍光灯の曝露試験を行った。７日間の曝露を行い、その前後の各サンプルの反射率を上記と同様に測定した。試験前後の反射率の変化が３％以内であった場合には○、３％を越えた場合には×とした。

また、反射率の測定結果を、耐久試験前後の反射率を耐久試験前−耐久試験後の差によって表した。実施例１〜４のサンプルは差が小さく、高温高湿環境下での耐久試験においても良好な結果を示した。

＜弾性率の測定方法＞
紫外線硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が１００±１０μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ^２）を用いて窒素雰囲気中で５００ｍＪ／ｃｍ^２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント（株）社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、２５℃における動的弾性率Ｅ’を弾性率とした。

各組成物を用いて作製した実施例及び比較例の光ディスクの試験結果を表１に示す。

本発明の合成例Ｊ−１のエポキシアクリレート樹脂を用いることにより、実施例１〜４のように、硬化後の初期反りが十分に低い結果が得られ、また、耐久性、耐光性にも優れることが判る。一方、比較例１は、耐久性、耐光性に優れるものの、合成例ｈ−１のエポキシアクリレート樹脂のために、弾性率が高くなり、反りも悪化した。また、比較例２については、弾性率が低く、反りも良好であるが、耐久性、耐光性が不十分な結果となることが判る。

Claims (12)

1. 基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、
   前記光透過層が、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）と二塩基酸無水物（ａ２）から得られるハーフエステル化合物（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂を含有する紫外線硬化型組成物の硬化物からなり、前記光透過層の膜厚が５０〜１５０μｍであることを特徴とする光ディスク。
2. 前記紫外線硬化型組成物が、式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ⁴及びＲ^５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜８のアルコキシル基、カルボキシル基、式（２）
   

   

   （式中、Ｒ^６は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルケニル基を表す。）で表される基、又は、置換基としてカルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシル基若しくはアルコキシル基を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基若しくはアルケニル基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ⁴及びＲ^５の中の少なくともひとつは水酸基である。）で表される化合物を含有する請求項１に記載の光ディスク。
3. 前記式（１）で表される化合物が、式（３）
   

   

   （式中、Ｒ^７は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルケニル基を表す。）で表される化合物である請求項２に記載の光ディスク。
4. 前記式（１）で表される化合物が、カテコール、３−sec−ブチルカテコール、３−tert−ブチルカテコール、４−sec−ブチルカテコール、４−tert−ブチルカテコール、３，５−ジ−tert−ブチルカテコール、３−sec−ブチル−４−tert−ブチルカテコール、３−tert−ブチル−５−sec−ブチルカテコール、４−オクチルカテコール、４−ステアリルカテコール、ハイドロキノン、２−ヒドロキシハイドロキノン、２，５−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、２，５−ビス（１，１，３，３−テトラメチルブチル）ハイドロキノン、２，５−ビス（１，１−ジメチルブチル）ハイドロキノン、レソルシノール、オルシノール又はピロガロールである請求項２又は３に記載の光ディスク。
5. 前記光反射層が、銀又は銀を主成分とする合金からなる請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク。
6. 前記光反射層と前記光透過層との間に、情報記録層を有する請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク。
7. ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）と二塩基酸無水物（ａ２）から得られるハーフエステル化合物（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）とを反応させて得られるエポキシアクリレート樹脂を含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
8. 前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのラクトン付加物（ａ１）が、１モルの２−ヒドロキシエチルアクリレートに２〜１０モルのε−カプロラクトンが付加した化合物である請求項７に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
9. 前記エポキシアクリレート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が９００〜８０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比率（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．３〜２．８である請求項７又は８に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
10. 式（１）
    

    

    （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ^５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜８のアルコキシル基、カルボキシル基、式（２）
    

    

    （式中、Ｒ^６は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルケニル基を表す。）で表される基、又は、置換基としてカルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシル基若しくはアルコキシル基を有していても良い炭素数１〜２４のアルキル基若しくはアルケニル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ^５の中の少なくともひとつは水酸基である。）で表される化合物を含有する請求項７〜９のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
11. 前記式（１）で表される化合物が、式（３）
    

    

    （式中、Ｒ^７は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていても良い炭素数１〜２０のアルケニル基を表す。）で表される化合物である請求項１０に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
12. 前記式（１）で表される化合物が、カテコール、３−sec−ブチルカテコール、３−tert−ブチルカテコール、４−sec−ブチルカテコール、４−tert−ブチルカテコール、３，５−ジ−tert−ブチルカテコール、３−sec−ブチル−４−tert−ブチルカテコール、３−tert−ブチル−５−sec−ブチルカテコール、４−オクチルカテコール、４−ステアリルカテコール、ハイドロキノン、２−ヒドロキシハイドロキノン、２，５−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、２，５−ビス（１，１，３，３−テトラメチルブチル）ハイドロキノン、２，５−ビス（１，１−ジメチルブチル）ハイドロキノン、レソルシノール、オルシノール又はピロガロールである請求項１０又は１１に記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。