JP4164941B2 - 金属用研磨液及び研磨方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、特に半導体デバイスの配線形成工程の研磨に使用される金属用研磨液及び研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体集積回路（以下ＬＳＩと記す）の高集積化、高性能化に伴って新たな微細加工技術が開発されている。化学機械研磨（以下ＣＭＰと記す）法もその一つであり、ＬＳＩ製造工程、特に多層配線形成工程における層間絶縁膜の平坦化、金属プラグ形成、埋め込み配線形成において頻繁に利用される技術である。この技術は、例えば米国特許第４９４４８３６号公報に開示されている。
【０００３】
また、最近はＬＳＩを高性能化するために、配線材料として銅合金の利用が試みられている。しかし、銅合金は従来のアルミニウム合金配線の形成で頻繁に用いられたドライエッチング法による微細加工が困難である。そこで、あらかじめ溝を形成してある絶縁膜上に銅合金薄膜を堆積して埋め込み、溝部以外の銅合金薄膜をＣＭＰにより除去して埋め込み配線を形成する、いわゆるダマシン法が主に採用されている。この技術は、例えば特開平２−２７８８２２号に開示されている。
【０００４】
銅合金等の金属ＣＭＰの一般的な方法は、円形の研磨定盤（プラテン）上に研磨パッドを貼り付け、研磨パッド表面を金属用研磨液で浸し、基体の金属膜を形成した面を押し付けて、その裏面から所定の圧力（以下研磨圧力と記す）を加えた状態で研磨定盤を回し、研磨液と金属膜の凸部との機械的摩擦によって凸部の金属膜を除去するものである。
ＣＭＰに用いられる金属用研磨液は、一般には酸化剤及び固体砥粒からなっており必要に応じてさらに酸化金属溶解剤、保護膜形成剤が添加される。まず酸化剤によって金属膜表面を酸化し、その酸化層を固体砥粒によって削り取るのが基本的なメカニズムと考えられている。凹部の金属表面の酸化層は研磨パッドにあまり触れず、固体砥粒による削り取りの効果が及ばないので、ＣＭＰの進行とともに凸部の金属層が除去されて基体表面は平坦化される。この詳細については、ジャ−ナル・オブ・エレクトロケミカルソサエティ誌の第１３８巻１１号（１９９１年発行）の３４６０〜３４６４頁に開示されている。
【０００５】
ＣＭＰによる研磨速度を高める方法として、酸化金属溶解剤を添加することが有効とされている。固体砥粒によって削り取られた金属酸化物の粒を研磨液に溶解（以下エッチングと記す）させてしまうと固体砥粒による削り取りの効果が増すためであるためと解釈できる。酸化金属溶解剤の添加によりＣＭＰによる研磨速度は向上するが、一方、凹部の金属膜表面の酸化層もエッチング（溶解）されて金属膜表面が露出すると、酸化剤によって金属膜表面がさらに酸化され、これが繰り返されると凹部の金属膜のエッチングが進行してしまう。このため研磨後に埋め込まれた金属配線の表面中央部分が皿のように窪む現象（以下ディッシングと記す）が発生し、平坦化効果が損なわれる。
【０００６】
これを防ぐために、さらに保護膜形成剤が添加される。保護膜形成剤は金属膜表面の酸化層上に保護膜を形成し、酸化層の研磨液中への溶解を防止するものである。この保護膜は固体砥粒により容易に削り取ることが可能で、ＣＭＰによる研磨速度を低下させないことが望まれる。
銅合金のディッシングや研磨中の腐食を抑制し、信頼性の高いＬＳＩ配線を形成するために、グリシン等のアミノ酢酸又はアミド硫酸からなる酸化金属溶解剤及び保護膜形成剤として、ＢＴＡを含有する金属用研磨液を用いる方法が提唱されている。この技術は、例えば特開平８−８３７８０号に記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＢＴＡの保護膜形成効果は非常に高いため、エッチング速度のみならず研磨速度をも顕著に低下させてしまう。従って、エッチング速度を十分に低下させ、且つＣＭＰによる研磨速度を低下させないような保護膜形成剤と酸化膜溶解剤の組み合わせからなる金属用研磨液が望まれていた。
本発明は、酸化金属溶解剤と保護膜形成剤のバランスを取ることにより、高いＣＭＰによる研磨速度速度を維持し、エッチング速度を十分に低下させディッシングの発生を抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の金属用研磨液は金属の酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、金属表面に対する保護膜形成剤及び水を含有し、液のｐＨが２以上５以下である金属用研磨液である。
金属用研磨液には、さらに水溶性高分子を含むことが好ましい。
１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸は、酸化金属溶解剤でありグリコール酸が好ましい。
保護膜形成剤は、金属表面に保護膜を形成するものでベンゾトリアゾ−ル（ＢＴＡ）、その誘導体又はそれらの混合物から選ばれた少なくとも１種が好ましい。
水溶性高分子は、ポリアクリル酸、その塩、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸その塩、ポリアミド酸、その塩、ポリアクリルアミド及びポリビニルアルコールから選ばれた少なくとも１種が好ましい。
金属の酸化剤は、過酸化水素、硝酸、過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸、オゾン水より選ばれた少なくとも１種が好ましい。
金属用研磨液には、さらに固体砥粒を含むことが好ましい。
固体砥粒は平均粒径１００ｎｍ以下のコロイダルシリカまたはコロイダルアルミナが好ましい。
【０００９】
本発明の研磨方法は、上記の金属用研磨液を用いて銅膜、銅合金膜、それらの金属層を含む積層膜を研磨する工程によって少なくとも金属膜の一部を除去する研磨方法である。
本発明では、酸化金属溶解剤として１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸と保護膜形成剤を組み合わせることにより、ＣＭＰによる研磨速度は維持しつつ、エッチング速度を十分に低下させた研磨液とそれを用いた研磨方法を提供する。
【００１０】
保護膜形成剤は、従来より広く用いられてきたベンゾトリアゾール（ＢＴＡ）およびその誘導体から選ばれた少なくとも一種（以下ＢＴＡ類）を用いる。ＢＴＡ類特にＢＴＡそのものの金属表面保護膜形成効果は極めて強く、例えば金属用研磨液中に０．５重量％以上を含ませると銅合金膜のエッチング速度は小さくなるが、ＣＭＰによる研磨速度も非常に小さくなってしまい、実用的な研磨液ではなくなってしまう。
【００１１】
これに対して本発明者らは、保護膜形成剤としてＢＴＡ類、酸化金属溶解剤として１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸を使用することにより、ＢＴＡ類の添加濃度が低くとも十分に低いエッチング速度に抑制できることを見出した。しかもこの様な研磨液を用いた場合は、エッチング速度は低下してもＣＭＰによる研磨速度はあまり低下しないという好ましい特性が得られることが分かった。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明においては、表面に凹部を有する基体上に銅合金を含む金属膜を形成・充填する。この基体を本発明による研磨液を用いてＣＭＰすると、基体の凸部の金属膜が選択的にＣＭＰされて、凹部に金属膜が残されて所望の導体パタ−ンが得られる。本発明の金属用研磨液は金属の酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、金属表面に対する保護膜形成剤及び水を必須成分とし、必要に応じ水溶性高分子および／または固体砥粒を添加し、ｐＨは２以上５以下に調整する。
【００１３】
本発明における金属の酸化剤としては、過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ）、硝酸、過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸、オゾン水等が挙げられ、その中でも過酸化水素が特に好ましい。基体が集積回路用素子を含むシリコン基板である場合、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ハロゲン化物などによる汚染は望ましくないので、不揮発成分を含まない酸化剤が望ましい。但し、オゾン水は組成の時間変化が激しいので過酸化水素が最も適している。但し、適用対象の基体が半導体素子を含まないガラス基板などである場合は、不揮発成分を含む酸化剤であっても差し支えない。
【００１４】
本発明における１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸とは、同一の炭素原子に水酸基とカルボキシル基が結合した、１分子内に１つのカルボキシル基をもつオキシ酸であり、グリコール酸、乳酸、オキシ酪酸、グリセリン酸及びこれらを含む混合物が挙げられる。この中でグリコール酸がＣＭＰによる研磨速度が大きく、エッチング速度を効果的に抑制できるという点で好ましい。
【００１５】
本発明における保護膜形成剤は、ＢＴＡ、ＢＴＡ誘導体、例えばＢＴＡのベンゼン環の一つの水素原子をメチル基で置換したもの（トリルトリアゾール）もしくはカルボキシル基等で置換したもの（ベンゾトリアゾール−４−カルボン酸、のメチル、エチル、プロピル、ブチル及びオクチルエステル）、又はナフトトリアゾ−ル、ナフトトリアゾ−ル誘導体及びこれらを含む混合物の中から選ばれる。
【００１６】
本発明における水溶性高分子としては、以下の群から選ばれたものが好適である。ポリアクリル酸、ポリアクリル酸アンモニウム塩、ポリアクリル酸ナトリウム塩、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸アンモニウム塩、ポリメタクリル酸ナトリウム塩、ポリアクリルアミド等のカルボキシル基を持つモノマーを基本構成単位とするポリマーおよびその塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等のビニル基を持つモノマーを基本構成単位とするポリマーが挙げられる。但し、適用する基体が半導体集積回路用シリコン基板などの場合はアルカリ金属、アルカリ土類金属、ハロゲン化物等による汚染は望ましくないため、酸もしくはそのアンモニウム塩が望ましい。基体がガラス基板等である場合はその限りではない。これらの水溶性高分子を添加することにより、保護膜形成剤によるエッチング抑止効果を向上させることができる。
【００１７】
本発明における固体砥粒としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、セリア、チタニア、炭化珪素等の無機物砥粒、ポリスチレン、ポリアクリル、ポリ塩化ビニル等の有機物砥粒のいずれでもよが、研磨液中での分散安定性が良く、ＣＭＰにより発生する研磨傷（スクラッチ）の発生数の少ない、平均粒径が１００ｎｍ以下のコロイダルシリカ、コロイダルアルミナが好ましい。コロイダルシリカはシリコンアルコキシドの加水分解または珪酸ナトリウムのイオン交換による製造方法が知られており、コロイダルアルミナは硝酸アルミニウムの加水分解による製造方法が知られている。
【００１８】
本発明における金属用研磨液のｐＨは、ＣＭＰによる研磨速度が大きく、エッチング速度を効果的に抑制できるという点で２以上５以下である。ｐＨ２未満ではエッチング速度が大きく、保護膜形成剤でのエッチング抑制は困難である。また、ｐＨ５を超えるとＣＭＰによる研磨速度が遅く実用的な研磨液とはなり得ない。ｐＨ２．３以上４以下の範囲が好ましい。ｐＨは１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸の添加量により調整することができる。またアンモニア、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドライド等のアルカリ成分の添加によっても調整可能である。
本発明を適用する金属膜としては、銅もしくは銅を主体とする合金の膜、もしくは、それらと他の金属や合金もしくは化合物膜等とからなる積層膜である。
【００１９】
本発明における酸化剤成分の配合量は、酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤、水溶性高分子及び水の総量１００ｇに対して、０．００３〜０．７ｍｏｌとすることが好ましく、０．０３〜０．５ｍｏｌとすることがより好ましい。この配合量が０．００３ｍｏｌ未満では、金属の酸化が不十分でＣＭＰによる研磨速度が低く、０．７ｍｏｌを超えると、研磨面に荒れが生じる傾向がある。
【００２０】
本発明における１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸の配合量は、酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤、水溶性高分子及び水の総量１００ｇに対して、０．０００１〜０．０５ｍｏｌとすることが好ましく、０．００１〜０．０１ｍｏｌとすることがより好ましい。この配合量が０．０５ｍｏｌを超えると、エッチングの抑制が困難となる傾向がある。
【００２１】
本発明における保護膜形成剤の配合量は、酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤、水溶性高分子及び水の総量１００ｇに対して、０．０００１〜０．０１ｍｏｌとすることが好ましく、０．０００５〜０．００５ｍｏｌとすることがより好ましい。この配合量が０．０００１ｍｏｌ未満では、エッチングの抑制が困難となる傾向があり、０．０１ｍｏｌを超えるとＣＭＰによる研磨速度が低くなる傾向がある。
【００２２】
本発明では水溶性高分子を添加することもできる。水溶性高分子の配合量は、酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤、水溶性高分子及び水の総量１００ｇに対して、０．００１〜０．５重量％とすることが好ましく、０．０１〜０．２重量％とすることがより好ましい。この配合量が０．００１重量％未満では、エッチング抑制において保護膜形成剤との併用効果が現れない傾向があり、０．５重量％を超えると、ＣＭＰによる研磨速度が低下する傾向がある。
【００２３】
本発明では固体砥粒を添加することもできる。固体砥粒の添加量は全重量に対して０．１重量％から１０重量％であることが好ましく、０．５重量％から５重量％の範囲であることがより好ましい。この配合量が０．１％以下では物理的な削り取り作用が小さいためＣＭＰによる研磨速度が小さく、１０％以上ではＣＭＰによる研磨速度は飽和し、それ以上加えても増加は見られない。
【００２４】
【実施例】
以下、実施例により本発明を説明する。本発明はこれらの実施例により制限されるものではない。
【００２５】
実施例１〜５、比較例１
《研磨液の作製方法》
テトラエトキシシランのアンモニア溶液中での加水分解により作製した平均粒径４０ｎｍのコロイダルシリカ１重量部、酸化膜溶解剤０．２重量部、水溶性高分子０．０５重量部、保護膜形成剤としてＢＴＡ０．２重量部に水７０重量部を加えて溶解し、過酸化水素水（試薬特級、３０％水溶液）３３．２重量部を加えて得られたものを金属用研磨液とした。
実施例１〜５、比較例１では表１に記した酸化膜溶解剤、水溶性高分子を用いた上記金属用研磨液を用いてＣＭＰした。
《研磨条件》
基体：厚さ１μｍの銅膜を形成したシリコン基板
研磨パッド：独立気泡を持つ発泡ポリウレタン樹脂
研磨圧力：２１０ｇｆ／ｃｍ2
基体と研磨定盤との相対速度：３６ｍ／ｍｉｎ
《研磨品評価項目》
ＣＭＰによる研磨速度：銅膜のＣＭＰ前後での膜厚差を電気抵抗値から換算して求めた。
エッチング速度：撹拌した研磨液への浸漬前後の銅層膜厚差を電気抵抗値から換算して求めた。
ディッシング量：絶縁膜中に深さ０．５μｍの溝を形成して公知のスパッタ法によって銅膜を形成して公知の熱処理によって埋め込んだシリコン基板についても基体として用いてＣＭＰを行い、触針式段差計で配線金属部幅１００μｍ、絶縁膜部幅１００μｍが交互に並んだストライプ状パターン部の表面形状から、絶縁膜部に対する配線金属部の膜減り量を求めた。
実施例１〜５、比較例１における、ＣＭＰによる研磨速度、エッチング速度、ディッシング量は表１に示す様であった。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【発明の効果】
本発明の金属用研磨液は、酸化膜溶解剤として１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤としてＢＴＡ類を使用することにより、高いＣＭＰによる研磨速度と、エッチング抑制効果の両立を可能にすることによって、信頼性の高い埋め込みパタ−ンを形成することができる。
【産業上の利用分野】
本発明は、特に半導体デバイスの配線形成工程の研磨に使用される金属用研磨液及び研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体集積回路（以下ＬＳＩと記す）の高集積化、高性能化に伴って新たな微細加工技術が開発されている。化学機械研磨（以下ＣＭＰと記す）法もその一つであり、ＬＳＩ製造工程、特に多層配線形成工程における層間絶縁膜の平坦化、金属プラグ形成、埋め込み配線形成において頻繁に利用される技術である。この技術は、例えば米国特許第４９４４８３６号公報に開示されている。
【０００３】
また、最近はＬＳＩを高性能化するために、配線材料として銅合金の利用が試みられている。しかし、銅合金は従来のアルミニウム合金配線の形成で頻繁に用いられたドライエッチング法による微細加工が困難である。そこで、あらかじめ溝を形成してある絶縁膜上に銅合金薄膜を堆積して埋め込み、溝部以外の銅合金薄膜をＣＭＰにより除去して埋め込み配線を形成する、いわゆるダマシン法が主に採用されている。この技術は、例えば特開平２−２７８８２２号に開示されている。
【０００４】
銅合金等の金属ＣＭＰの一般的な方法は、円形の研磨定盤（プラテン）上に研磨パッドを貼り付け、研磨パッド表面を金属用研磨液で浸し、基体の金属膜を形成した面を押し付けて、その裏面から所定の圧力（以下研磨圧力と記す）を加えた状態で研磨定盤を回し、研磨液と金属膜の凸部との機械的摩擦によって凸部の金属膜を除去するものである。
ＣＭＰに用いられる金属用研磨液は、一般には酸化剤及び固体砥粒からなっており必要に応じてさらに酸化金属溶解剤、保護膜形成剤が添加される。まず酸化剤によって金属膜表面を酸化し、その酸化層を固体砥粒によって削り取るのが基本的なメカニズムと考えられている。凹部の金属表面の酸化層は研磨パッドにあまり触れず、固体砥粒による削り取りの効果が及ばないので、ＣＭＰの進行とともに凸部の金属層が除去されて基体表面は平坦化される。この詳細については、ジャ−ナル・オブ・エレクトロケミカルソサエティ誌の第１３８巻１１号（１９９１年発行）の３４６０〜３４６４頁に開示されている。
【０００５】
ＣＭＰによる研磨速度を高める方法として、酸化金属溶解剤を添加することが有効とされている。固体砥粒によって削り取られた金属酸化物の粒を研磨液に溶解（以下エッチングと記す）させてしまうと固体砥粒による削り取りの効果が増すためであるためと解釈できる。酸化金属溶解剤の添加によりＣＭＰによる研磨速度は向上するが、一方、凹部の金属膜表面の酸化層もエッチング（溶解）されて金属膜表面が露出すると、酸化剤によって金属膜表面がさらに酸化され、これが繰り返されると凹部の金属膜のエッチングが進行してしまう。このため研磨後に埋め込まれた金属配線の表面中央部分が皿のように窪む現象（以下ディッシングと記す）が発生し、平坦化効果が損なわれる。
【０００６】
これを防ぐために、さらに保護膜形成剤が添加される。保護膜形成剤は金属膜表面の酸化層上に保護膜を形成し、酸化層の研磨液中への溶解を防止するものである。この保護膜は固体砥粒により容易に削り取ることが可能で、ＣＭＰによる研磨速度を低下させないことが望まれる。
銅合金のディッシングや研磨中の腐食を抑制し、信頼性の高いＬＳＩ配線を形成するために、グリシン等のアミノ酢酸又はアミド硫酸からなる酸化金属溶解剤及び保護膜形成剤として、ＢＴＡを含有する金属用研磨液を用いる方法が提唱されている。この技術は、例えば特開平８−８３７８０号に記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＢＴＡの保護膜形成効果は非常に高いため、エッチング速度のみならず研磨速度をも顕著に低下させてしまう。従って、エッチング速度を十分に低下させ、且つＣＭＰによる研磨速度を低下させないような保護膜形成剤と酸化膜溶解剤の組み合わせからなる金属用研磨液が望まれていた。
本発明は、酸化金属溶解剤と保護膜形成剤のバランスを取ることにより、高いＣＭＰによる研磨速度速度を維持し、エッチング速度を十分に低下させディッシングの発生を抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の金属用研磨液は金属の酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、金属表面に対する保護膜形成剤及び水を含有し、液のｐＨが２以上５以下である金属用研磨液である。
金属用研磨液には、さらに水溶性高分子を含むことが好ましい。
１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸は、酸化金属溶解剤でありグリコール酸が好ましい。
保護膜形成剤は、金属表面に保護膜を形成するものでベンゾトリアゾ−ル（ＢＴＡ）、その誘導体又はそれらの混合物から選ばれた少なくとも１種が好ましい。
水溶性高分子は、ポリアクリル酸、その塩、ポリアクリルアミド、ポリメタクリル酸その塩、ポリアミド酸、その塩、ポリアクリルアミド及びポリビニルアルコールから選ばれた少なくとも１種が好ましい。
金属の酸化剤は、過酸化水素、硝酸、過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸、オゾン水より選ばれた少なくとも１種が好ましい。
金属用研磨液には、さらに固体砥粒を含むことが好ましい。
固体砥粒は平均粒径１００ｎｍ以下のコロイダルシリカまたはコロイダルアルミナが好ましい。
【０００９】
本発明の研磨方法は、上記の金属用研磨液を用いて銅膜、銅合金膜、それらの金属層を含む積層膜を研磨する工程によって少なくとも金属膜の一部を除去する研磨方法である。
本発明では、酸化金属溶解剤として１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸と保護膜形成剤を組み合わせることにより、ＣＭＰによる研磨速度は維持しつつ、エッチング速度を十分に低下させた研磨液とそれを用いた研磨方法を提供する。
【００１０】
保護膜形成剤は、従来より広く用いられてきたベンゾトリアゾール（ＢＴＡ）およびその誘導体から選ばれた少なくとも一種（以下ＢＴＡ類）を用いる。ＢＴＡ類特にＢＴＡそのものの金属表面保護膜形成効果は極めて強く、例えば金属用研磨液中に０．５重量％以上を含ませると銅合金膜のエッチング速度は小さくなるが、ＣＭＰによる研磨速度も非常に小さくなってしまい、実用的な研磨液ではなくなってしまう。
【００１１】
これに対して本発明者らは、保護膜形成剤としてＢＴＡ類、酸化金属溶解剤として１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸を使用することにより、ＢＴＡ類の添加濃度が低くとも十分に低いエッチング速度に抑制できることを見出した。しかもこの様な研磨液を用いた場合は、エッチング速度は低下してもＣＭＰによる研磨速度はあまり低下しないという好ましい特性が得られることが分かった。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明においては、表面に凹部を有する基体上に銅合金を含む金属膜を形成・充填する。この基体を本発明による研磨液を用いてＣＭＰすると、基体の凸部の金属膜が選択的にＣＭＰされて、凹部に金属膜が残されて所望の導体パタ−ンが得られる。本発明の金属用研磨液は金属の酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、金属表面に対する保護膜形成剤及び水を必須成分とし、必要に応じ水溶性高分子および／または固体砥粒を添加し、ｐＨは２以上５以下に調整する。
【００１３】
本発明における金属の酸化剤としては、過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ）、硝酸、過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸、オゾン水等が挙げられ、その中でも過酸化水素が特に好ましい。基体が集積回路用素子を含むシリコン基板である場合、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ハロゲン化物などによる汚染は望ましくないので、不揮発成分を含まない酸化剤が望ましい。但し、オゾン水は組成の時間変化が激しいので過酸化水素が最も適している。但し、適用対象の基体が半導体素子を含まないガラス基板などである場合は、不揮発成分を含む酸化剤であっても差し支えない。
【００１４】
本発明における１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸とは、同一の炭素原子に水酸基とカルボキシル基が結合した、１分子内に１つのカルボキシル基をもつオキシ酸であり、グリコール酸、乳酸、オキシ酪酸、グリセリン酸及びこれらを含む混合物が挙げられる。この中でグリコール酸がＣＭＰによる研磨速度が大きく、エッチング速度を効果的に抑制できるという点で好ましい。
【００１５】
本発明における保護膜形成剤は、ＢＴＡ、ＢＴＡ誘導体、例えばＢＴＡのベンゼン環の一つの水素原子をメチル基で置換したもの（トリルトリアゾール）もしくはカルボキシル基等で置換したもの（ベンゾトリアゾール−４−カルボン酸、のメチル、エチル、プロピル、ブチル及びオクチルエステル）、又はナフトトリアゾ−ル、ナフトトリアゾ−ル誘導体及びこれらを含む混合物の中から選ばれる。
【００１６】
本発明における水溶性高分子としては、以下の群から選ばれたものが好適である。ポリアクリル酸、ポリアクリル酸アンモニウム塩、ポリアクリル酸ナトリウム塩、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸アンモニウム塩、ポリメタクリル酸ナトリウム塩、ポリアクリルアミド等のカルボキシル基を持つモノマーを基本構成単位とするポリマーおよびその塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等のビニル基を持つモノマーを基本構成単位とするポリマーが挙げられる。但し、適用する基体が半導体集積回路用シリコン基板などの場合はアルカリ金属、アルカリ土類金属、ハロゲン化物等による汚染は望ましくないため、酸もしくはそのアンモニウム塩が望ましい。基体がガラス基板等である場合はその限りではない。これらの水溶性高分子を添加することにより、保護膜形成剤によるエッチング抑止効果を向上させることができる。
【００１７】
本発明における固体砥粒としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、セリア、チタニア、炭化珪素等の無機物砥粒、ポリスチレン、ポリアクリル、ポリ塩化ビニル等の有機物砥粒のいずれでもよが、研磨液中での分散安定性が良く、ＣＭＰにより発生する研磨傷（スクラッチ）の発生数の少ない、平均粒径が１００ｎｍ以下のコロイダルシリカ、コロイダルアルミナが好ましい。コロイダルシリカはシリコンアルコキシドの加水分解または珪酸ナトリウムのイオン交換による製造方法が知られており、コロイダルアルミナは硝酸アルミニウムの加水分解による製造方法が知られている。
【００１８】
本発明における金属用研磨液のｐＨは、ＣＭＰによる研磨速度が大きく、エッチング速度を効果的に抑制できるという点で２以上５以下である。ｐＨ２未満ではエッチング速度が大きく、保護膜形成剤でのエッチング抑制は困難である。また、ｐＨ５を超えるとＣＭＰによる研磨速度が遅く実用的な研磨液とはなり得ない。ｐＨ２．３以上４以下の範囲が好ましい。ｐＨは１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸の添加量により調整することができる。またアンモニア、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドライド等のアルカリ成分の添加によっても調整可能である。
本発明を適用する金属膜としては、銅もしくは銅を主体とする合金の膜、もしくは、それらと他の金属や合金もしくは化合物膜等とからなる積層膜である。
【００１９】
本発明における酸化剤成分の配合量は、酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤、水溶性高分子及び水の総量１００ｇに対して、０．００３〜０．７ｍｏｌとすることが好ましく、０．０３〜０．５ｍｏｌとすることがより好ましい。この配合量が０．００３ｍｏｌ未満では、金属の酸化が不十分でＣＭＰによる研磨速度が低く、０．７ｍｏｌを超えると、研磨面に荒れが生じる傾向がある。
【００２０】
本発明における１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸の配合量は、酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤、水溶性高分子及び水の総量１００ｇに対して、０．０００１〜０．０５ｍｏｌとすることが好ましく、０．００１〜０．０１ｍｏｌとすることがより好ましい。この配合量が０．０５ｍｏｌを超えると、エッチングの抑制が困難となる傾向がある。
【００２１】
本発明における保護膜形成剤の配合量は、酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤、水溶性高分子及び水の総量１００ｇに対して、０．０００１〜０．０１ｍｏｌとすることが好ましく、０．０００５〜０．００５ｍｏｌとすることがより好ましい。この配合量が０．０００１ｍｏｌ未満では、エッチングの抑制が困難となる傾向があり、０．０１ｍｏｌを超えるとＣＭＰによる研磨速度が低くなる傾向がある。
【００２２】
本発明では水溶性高分子を添加することもできる。水溶性高分子の配合量は、酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤、水溶性高分子及び水の総量１００ｇに対して、０．００１〜０．５重量％とすることが好ましく、０．０１〜０．２重量％とすることがより好ましい。この配合量が０．００１重量％未満では、エッチング抑制において保護膜形成剤との併用効果が現れない傾向があり、０．５重量％を超えると、ＣＭＰによる研磨速度が低下する傾向がある。
【００２３】
本発明では固体砥粒を添加することもできる。固体砥粒の添加量は全重量に対して０．１重量％から１０重量％であることが好ましく、０．５重量％から５重量％の範囲であることがより好ましい。この配合量が０．１％以下では物理的な削り取り作用が小さいためＣＭＰによる研磨速度が小さく、１０％以上ではＣＭＰによる研磨速度は飽和し、それ以上加えても増加は見られない。
【００２４】
【実施例】
以下、実施例により本発明を説明する。本発明はこれらの実施例により制限されるものではない。
【００２５】
実施例１〜５、比較例１
《研磨液の作製方法》
テトラエトキシシランのアンモニア溶液中での加水分解により作製した平均粒径４０ｎｍのコロイダルシリカ１重量部、酸化膜溶解剤０．２重量部、水溶性高分子０．０５重量部、保護膜形成剤としてＢＴＡ０．２重量部に水７０重量部を加えて溶解し、過酸化水素水（試薬特級、３０％水溶液）３３．２重量部を加えて得られたものを金属用研磨液とした。
実施例１〜５、比較例１では表１に記した酸化膜溶解剤、水溶性高分子を用いた上記金属用研磨液を用いてＣＭＰした。
《研磨条件》
基体：厚さ１μｍの銅膜を形成したシリコン基板
研磨パッド：独立気泡を持つ発泡ポリウレタン樹脂
研磨圧力：２１０ｇｆ／ｃｍ2
基体と研磨定盤との相対速度：３６ｍ／ｍｉｎ
《研磨品評価項目》
ＣＭＰによる研磨速度：銅膜のＣＭＰ前後での膜厚差を電気抵抗値から換算して求めた。
エッチング速度：撹拌した研磨液への浸漬前後の銅層膜厚差を電気抵抗値から換算して求めた。
ディッシング量：絶縁膜中に深さ０．５μｍの溝を形成して公知のスパッタ法によって銅膜を形成して公知の熱処理によって埋め込んだシリコン基板についても基体として用いてＣＭＰを行い、触針式段差計で配線金属部幅１００μｍ、絶縁膜部幅１００μｍが交互に並んだストライプ状パターン部の表面形状から、絶縁膜部に対する配線金属部の膜減り量を求めた。
実施例１〜５、比較例１における、ＣＭＰによる研磨速度、エッチング速度、ディッシング量は表１に示す様であった。
【００２６】
【表１】
【発明の効果】
本発明の金属用研磨液は、酸化膜溶解剤として１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、保護膜形成剤としてＢＴＡ類を使用することにより、高いＣＭＰによる研磨速度と、エッチング抑制効果の両立を可能にすることによって、信頼性の高い埋め込みパタ−ンを形成することができる。
Claims (9)
- 金属の酸化剤、１つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸、金属表面に対する保護膜形成剤、水溶性高分子及び水を含有し、ｐＨが２以上５以下である、銅膜、銅合金膜またはそれらの金属膜を含む積層膜を研磨するための金属用研磨液。
- 水溶性高分子が、カルボキシル基を持つモノマーを基本構成単位とするポリマー及びその塩、ビニル基を持つモノマーを基本構成単位とするポリマー、から選ばれた少なくとも一種である請求項１記載の金属用研磨液。
- １つのカルボキシル基を持つα−オキシ酸が、グリコール酸である請求項１又は２記載の金属用研磨液。
- 保護膜形成剤が、ベンゾトリアゾール（ＢＴＡ）及びその誘導体から選ばれた少なくとも１種類である請求項１〜３各項記載の金属用研磨液。
- 水溶性高分子が、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸の塩、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸の塩、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンから選ばれた少なくとも１種である請求項１〜４各項記載の金属用研磨液。
- 金属の酸化剤が、過酸化水素、硝酸、過ヨウ素酸カリウム、次亜塩素酸及びオゾン水より選ばれた少なくとも１種である請求項１〜５各項記載の金属用研磨液。
- 金属用研磨液に、固体砥粒を添加する請求項１〜６各項記載の金属用研磨液。
- 固体砥粒が、平均粒径１００ｎｍ以下のコロイダルシリカ及びコロイダルアルミナの少なくとも１種である請求項７記載の金属用研磨液。
- 請求項１〜８各項記載の金属用研磨液を用いて銅膜、銅合金膜またはそれらの金属膜を含む積層膜を研磨する工程によって少なくとも金属膜の一部を除去する研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14837999A JP4164941B2 (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 金属用研磨液及び研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14837999A JP4164941B2 (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 金属用研磨液及び研磨方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000336345A JP2000336345A (ja) | 2000-12-05 |
| JP4164941B2 true JP4164941B2 (ja) | 2008-10-15 |
Family
ID=15451456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14837999A Expired - Lifetime JP4164941B2 (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 金属用研磨液及び研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4164941B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102703027A (zh) * | 2009-02-16 | 2012-10-03 | 日立化成工业株式会社 | 铜研磨用研磨剂的应用 |
| US8845915B2 (en) | 2009-02-16 | 2014-09-30 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Abrading agent and abrading method |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2194570A1 (en) | 1998-12-28 | 2010-06-09 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Materials for polishing liquid for metal, polishing liquid for metal, mehtod for preparation thereof and polishing method using the same |
| CN101037585B (zh) * | 2002-04-30 | 2010-05-26 | 日立化成工业株式会社 | 研磨液及研磨方法 |
| US7427362B2 (en) * | 2005-01-26 | 2008-09-23 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Corrosion-resistant barrier polishing solution |
| JP5391516B2 (ja) * | 2005-11-02 | 2014-01-15 | 日立化成株式会社 | 複合材料膜用研磨材および研磨方法 |
| CN108621033B (zh) * | 2017-03-21 | 2020-04-07 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 研磨垫的研磨方法 |
-
1999
- 1999-05-27 JP JP14837999A patent/JP4164941B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102703027A (zh) * | 2009-02-16 | 2012-10-03 | 日立化成工业株式会社 | 铜研磨用研磨剂的应用 |
| US8845915B2 (en) | 2009-02-16 | 2014-09-30 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Abrading agent and abrading method |
| US8859429B2 (en) | 2009-02-16 | 2014-10-14 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Polishing agent for copper polishing and polishing method using same |
| US8889555B2 (en) | 2009-02-16 | 2014-11-18 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Polishing agent for copper polishing and polishing method using same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000336345A (ja) | 2000-12-05 |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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|
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