JP4110481B2 - 記憶装置及び半導体装置 - Google Patents

記憶装置及び半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4110481B2
JP4110481B2 JP2005001219A JP2005001219A JP4110481B2 JP 4110481 B2 JP4110481 B2 JP 4110481B2 JP 2005001219 A JP2005001219 A JP 2005001219A JP 2005001219 A JP2005001219 A JP 2005001219A JP 4110481 B2 JP4110481 B2 JP 4110481B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ferroelectric capacitor
inverter
type mos
mos transistor
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005001219A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006190387A (ja
Inventor
泰紀 小出
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2005001219A priority Critical patent/JP4110481B2/ja
Priority to US11/287,059 priority patent/US7262988B2/en
Publication of JP2006190387A publication Critical patent/JP2006190387A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4110481B2 publication Critical patent/JP4110481B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C14/00Digital stores characterised by arrangements of cells having volatile and non-volatile storage properties for back-up when the power is down

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

本発明は記憶装置及び半導体装置に関する。特に本発明は、簡易に記憶データを読み出すことができる記憶回路及びこれを備えた半導体装置に関する。
従来のメモリセルとして、特開昭64−66899号公報(特許文献1)に開示されたものがある。上記特許文献1に開示されたメモリセルは、2つの内部ノードを有するスタティックセルと、2つの強誘電体コンデンサを有する不揮発性部分とを備える。そして、強誘電体コンデンサに、当該強誘電体コンデンサが分極の反転を受ける電圧をかけることにより、一方の内部ノードの電圧が他方の内部ノードの電圧より僅かに高くする。これにより、不揮発性部分からスタティックセルへデータが転送される。
特開昭64−66899号公報
しかしながら、上記特許文献1に開示された従来のメモリセルでは、不揮発性部分からスタティックセルへデータを転送するときに、ビットラインを予備充電し、さらに強誘電体コンデンサに電圧をかける必要があるため、動作が複雑になるという問題が生じていた。プログラム回路として使用する場合は、電源投入後にすぐにデータが確定してなければならない為、電源投入を検知する回路と前記動作をさせる為の制御回路が必要となる。さらに電源投入を検知してから制御信号を発生し動作する為、データ確定に時間がかかる。また、上記特許文献1に開示された従来のメモリセルでは、一方の内部ノードの電圧が他方の内部ノードの電圧より高くなるものの、その差は僅かであるため、スタティックセルを構成するトランジスタの閾値電圧に製造ばらつきが生じると、スタティックセルが誤動作してしまうという問題も生じていた。
よって、本発明は、上記の課題を解決することのできる記憶回路及び半導体装置を提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
上記目的を達成するため、本発明の第1の形態によれば、第1のインバータ及び第2のインバータを有するラッチ回路と、第1のインバータの電源端子に第1の容量を与える第1の強誘電体キャパシタと、第2のインバータの電源端子に第1の容量と異なる第2の容量を与える第2の強誘電体キャパシタと、第1の容量が与えられた第1のインバータの電源端子、及び第2の容量が与えられた第2のインバータの電源端子に、ラッチ回路を駆動する駆動電圧の供給を開始する電圧源と、を備えたことを特徴とする記憶回路を提供する。
上記構成では、ラッチ回路に対して駆動電圧が供給されたとき、すなわち、記憶回路に電源が投入されたとき、第1のインバータの電源端子及び第2のインバータの電源端子の電位は、第1の容量及び第2の容量に応じて上昇することとなる。すなわち、各電源端子の電圧は、第1の強誘電体キャパシタ及び第2の強誘電体キャパシタの常誘電体特性に基づく容量に応じて上昇することとなる。従って、上記構成によれば、第1のインバータ及び第2のインバータの出力電圧の上昇速度が、第1の容量及び第2の容量に応じて定まるので、記憶回路に電源を投入するだけで、第1の強誘電体キャパシタ及び第2の強誘電体キャパシタに記憶されたデータをラッチ回路に読み出すことができる記憶回路を提供することができる。
上記記憶回路は、第1のインバータの電源端子及び第2のインバータの電源端子と電圧源との間に設けられた抵抗素子をさらに備えることが好ましい。
上記構成では、第1のインバータの電源端子及び第2のインバータの電源端子並びにそれらに接続された第1の強誘電体キャパシタ及び第2の強誘電体キャパシタは、抵抗素子を介して充電されることとなる。従って、上記構成によれば、充電速度の差をさらに大きくすることができる為、第1の強誘電体キャパシタ及び第2の強誘電体キャパシタに記憶されたデータを、安定してラッチ回路に読み出すことができる。
上記記憶回路において、抵抗素子はp型MOSトランジスタであることが好ましい。また、p型MOSトランジスタは、駆動能力が十分小さく、抵抗成分が十分大きいことが好ましい。p型MOSトランジスタは、当該記憶回路が組み込まれた半導体装置等における他のp型MOSトランジスタに比べ、駆動能力が小さく、抵抗成分が大きくともよい。
上記記憶回路において、第1の強誘電体キャパシタは第1のデータを記憶し、第2の強誘電体キャパシタは第1のデータに対して相補の第2のデータを記憶しており、当該記憶回路は、電圧源が第1のインバータの電源端子及び第2のインバータの電源端子に駆動電圧を供給したときに、第1のインバータの出力に基づいて第2の強誘電体キャパシタに第2のデータを記憶させ、第2のインバータの出力に基づいて第1の強誘電体キャパシタに第1のデータを記憶させる再書き込み回路をさらに備えることが好ましい。
また、上記記憶回路において、第1の強誘電体キャパシタ及び第2の強誘電体キャパシタは、それぞれ一方端及び他方端を有しており、再書き込み回路は、ソースが電圧源に接続され、ドレインが第1のインバータの電源端子及び第1の強誘電体キャパシタの一方端に接続された第1のp型MOSトランジスタと、ソースが電圧源に接続され、ドレインが第2のインバータの電源端子及び第2の強誘電体キャパシタの一方端に接続された第2のp型MOSトランジスタと、を有し、第2のインバータの出力に基づいて、第1のp型MOSトランジスタのゲート及び第1の強誘電体キャパシタの他方端に、接地電圧又は第2のインバータの出力を供給し、第1のインバータの出力に基づいて、第2のp型MOSトランジスタのゲート及び第2の強誘電体キャパシタの他方端に、接地電圧又は第1のインバータの出力を供給することが好ましい。
また、上記記憶回路において、再書き込み回路は、ソースが接地され、ドレインが第1のインバータの電源端子及び第1の強誘電体キャパシタの一方端に接続され、ゲートが第1の強誘電体キャパシタの他方端に接続された第1のn型MOSトランジスタと、ソースが接地され、ドレインが第2のインバータの電源端子及び第2の強誘電体キャパシタの一方端に接続され、ゲートが第2の強誘電体キャパシタの他方端に接続された第2のn型MOSトランジスタと、をさらに有することが好ましい。
また、上記記憶回路において、再書き込み回路は、第2のインバータの出力端子と第1の強誘電体キャパシタの他方端及び第1のp型MOSトランジスタのゲートとの間に設けられた第1の伝送ゲートと、第1のインバータの出力端子と第2の強誘電体キャパシタの他方端及び第2のp型MOSトランジスタのゲートとの間に設けられた第2の伝送ゲートと、をさらに有することが好ましい。
上記構成では、再書き込み回路は、ラッチ回路が保持するデータに基づいて、第1の強誘電体キャパシタ及び第2の強誘電体キャパシタにデータを再書き込みすることとなる。また、上記構成では、再書き込み回路は、電圧源が電源端子に駆動電圧を供給するタイミングに応じて再書き込み動作を行うこととなる。従って、上記構成によれば、極めて簡易な構成で、第1の強誘電体キャパシタ及び第2の強誘電体キャパシタにデータを再書き込みする記憶回路を提供することができる。
上記記憶回路は、駆動電圧の電圧値が所定の値を超えたときに、第1の伝送ゲート及び第2の伝送ゲートをオンして、第1のインバータの出力を第2の強誘電体キャパシタの他方端及び第2のp型MOSトランジスタのゲートに供給し、第2のインバータの出力を第1の強誘電体キャパシタの他方端及び第1のp型MOSトランジスタのゲートに供給する電圧検出部をさらに備えることが好ましい。
また、上記記憶回路において、再書き込み回路は、ソースが接地され、ドレインが第1の強誘電体キャパシタの他方端に接続された第3のn型MOSトランジスタと、ソースが接地され、ドレインが第2の強誘電体キャパシタの他方端に接続された第4のn型MOSトランジスタと、をさらに有し、電圧検出部は、駆動電圧の電圧値が所定の値より低い場合、第3のn型MOSトランジスタ及び第4のn型MOSトランジスタをオンし、第1の伝送ゲート及び第2の伝送ゲートをオフし、駆動電圧の電圧値が所定の値を超えたときに、第3のn型MOSトランジスタ及び第4のn型MOSトランジスタをオフすることが好ましい。
上記構成によれば、電源立ち上げを行うだけで、第1の強誘電体キャパシタ及び第2の強誘電体キャパシタにかかる電圧を制御して、再書き込みを行うことができる。
上記記憶回路において、電圧検出部は、第3のインバータと、第1の容量及び第2の容量よりも大きい第3の容量を第3のインバータの入力端子に与える第3の強誘電体キャパシタと、電圧源と第3のインバータの入力端子との間に設けられ、第1のp型MOSトランジスタ及び第2のp型MOSトランジスタの抵抗値と略同じか当該抵抗値よりも大きい抵抗値を有する抵抗素子と、を有することが好ましい。
上記構成によれば、極めて簡易な構成で記憶回路専用の電源電圧検出回路を提供できる。さらに、半導体集積回路で従来から用いられる電源電圧検出回路では、電源電圧がH論理を示す電圧近傍に到達する頃に検出される回路が多いが、上記構成によれば、上記記憶回路で読出し動作が完了するすぐ後に検出信号を出力してもよいため、より高速な動作ができ、また、データの破壊を防ぐことができる。
本発明の第2の形態によれば、上記記憶回路を備えたことを特徴とする半導体装置を提供する。ここで、半導体装置とは、本発明に係る記憶回路を備えた、半導体により構成された装置一般をいい、その構成に特に限定は無いが、例えば、上記記憶回路を備えた強誘電体メモリ装置、DRAM、フラッシュメモリ等の記憶装置等の記憶回路を必要とするあらゆる装置が含まれる。
以下、図面を参照しつつ、発明の実施形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせのすべてが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
図1は、本発明の一実施形態に係る半導体装置の一例である強誘電体メモリ装置500の構成を示す図である。強誘電体メモリ装置500は、メモリセルアレイ510と、列デコーダ及びセンスアンプ列選択スイッチ520と、行デコーダ530と、制御部540と、冗長セルアレイ550と、データ入出力回路570と、冗長回路600とを備えて構成される。
メモリセルアレイ510は、アレイ状に配置された複数の強誘電体キャパシタを有して構成される。各強誘電体キャパシタは、ワード線WL1〜WLm(mは2以上の整数)、プレート線PL1〜PLm、及びビット線BL1〜BLn(nは2以上の整数)のうちのいずれかのワード線WL及びプレート線PLにより制御され、いずれかのビット線BLがデータとして出力される。具体的には、ワード線WL及びプレート線PLの電位を制御することにより、当該強誘電体キャパシタに書き込まれたデータがビット線BLに読み出される。また、ビット線BLの電位を制御することにより当該強誘電体キャパシタにデータが書き込まれる。
制御部540は、強誘電体メモリ装置500の動作を統括的に制御する。具体的には、制御部540は、強誘電体キャパシタからデータを読み出し、及び強誘電体キャパシタへのデータを書き込むべく、行デコーダ530及び列デコーダ520に、それぞれ行アドレス信号及び行駆動信号、並びに列アドレス信号及び列駆動信号を供給する。また、制御部540は、冗長回路600に、列アドレス信号を供給する。また、制御部540はデータ入出力回路に制御信号を供給し、データの入力と出力を切り換える。また、制御部540は、強誘電体メモリ装置500を駆動する駆動電圧を生成し、プログラム回路100を含む各部に供給する。
行デコーダ530は、ワード線WL1〜WLm及びプレート線PL1〜PLmの電位を制御する。具体的には、行デコーダ530は、制御部540から行アドレス信号を受け取り、当該行アドレス信号に基づいて、所定のワード線WLj(jは1からmの整数)を選択する。さらに行デコーダ530により選択されたプレート線PLjはプレート線駆動信号により、所定のタイミングで駆動する。また、列デコーダ及び列選択スイッチ520は、ビット線BL1〜BLnのバスへの接続を制御する。具体的には、列デコーダ520は、制御部540から列アドレス信号を受け取り列選択スイッチを制御し、当該列アドレス信号に基づいて、所定のビット線BLk(kは1からnの整数)をバスへ接続しデータ入出力回路570へデータを転送する。これにより、行デコーダ530により選択されたワード線WLj及びプレート線PLjにより選択された強誘電体キャパシタ行から各ビット線BL1〜BLnへ電荷が読み出され、列デコーダ520により選択されたビット線BLkがバスへ接続しデータ入出回路570からデータが出力される。書き込み動作の時は外部からデータ入出力回路570へ入力されたデータが、バスを通過し選択されたビット線BLkの電位を制御し所定の強誘電体キャパシタへ書き込まれる。列デコーダにより選択されるビット線BLkはデータ幅によって1ビットだけとは限らない。例えば8ビットデータ幅の場合は選択されるビット線BLkは8本になる。
冗長回路600は、記憶回路の一例である複数のプログラム回路100を有して構成される。冗長回路600は、プログラム回路100にプログラムされた不良列情報と制御部540より入力される列アドレス信号が一致した場合に、禁止信号を生成し、当該禁止信号を列デコーダ520に供給し、プログラムされた所定のビット線BLkへのアクセスを禁止する。と同時に、冗長セルアレイ550の冗長ビット線BLを選択する。すなわち、冗長回路600は、アクセスが禁止されたビット線BLkを冗長ビット線と置き換える。
図2は、プログラム回路100の構成の一例を示す図である。プログラム回路100は、ラッチ回路110と、電圧源116と、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124と、再書き込み回路130と、短絡回路150と、データ入出力回路160とを備えて構成される。本実施形態において、プログラム回路100は、電源を立ち上げたときに、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124に記憶されたデータに基づいて、ラッチ回路110に所定のデータを保持させるものである。
ラッチ回路110は、p型MOSトランジスタ112及びn型MOSトランジスタ114からなる第1のインバータ111と、p型MOSトランジスタ116及びn型MOSトランジスタ118からなる第2のインバータ115とを有して構成される。
p型MOSトランジスタ112は、ドレインがn型MOSトランジスタ114のドレイン及び第1のインバータ111の出力(ノードD)に接続され、ゲートがn型MOSトランジスタ114のゲート及び第2のインバータ115の出力(ノードE)に接続され、ソースにp型MOSトランジスタ132を介して電圧源116から駆動電圧VCCが供給可能に構成されている。また、n型MOSトランジスタ114はソースが接地されている。すなわち、p型MOSトランジスタ112及びn型MOSトランジスタ114は、駆動電圧VCC及び接地電圧の一方をノードD並びにp型MOSトランジスタ116及びn型MOSトランジスタ118のゲートに供給する。p型MOSトランジスタ112の基板電位は、第1の強誘電体キャパシタ122の一方端(すなわち、ノードB)と略同電位とすることが望ましい。
p型MOSトランジスタ116は、ドレインがn型MOSトランジスタ118のドレイン及びノードEに接続され、ゲートがn型MOSトランジスタ118のゲート及びノードDに接続され、ソースにp型MOSトランジスタ142を介して電圧源116から駆動電圧VCCが供給可能に構成されている。また、n型MOSトランジスタ118はソースが接地されている。すなわち、p型MOSトランジスタ116及びn型MOSトランジスタ118は、駆動電圧VCC及び接地電圧の一方をノードE並びにp型MOSトランジスタ112及びn型MOSトランジスタ114のゲートに供給する。p型MOSトランジスタ116の基板電位は、第2の強誘電体キャパシタ124の一方端(すなわち、ノードC)と略同電位とすることが望ましい。
すなわち、ラッチ回路110は、p型MOSトランジスタ112及び116のソースに電圧源116から駆動電圧VCCが供給されたときに、それぞれのソースにおける駆動電圧VCCの電圧値に応じて、ノードD及びEを駆動電圧VCC又は接地電圧に固定して、所定のデータを保持する。
再書き込み回路130は、p型MOSトランジスタ132及び142と、伝送ゲート134及び144と、n型MOSトランジスタ136、及び146とを有して構成される。再書き込み回路130は、ラッチ回路110に保持されたデータに基づいて、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124にデータを書き込む。
また、p型MOSトランジスタ132は、ゲートが伝送ゲート134を介してノードEに接続されており、p型MOSトランジスタ142は、ゲートが伝送ゲート144を介してノードDに接続されている。すなわち、p型MOSトランジスタ132は、第2のインバータ115の出力(ノードE)の電圧値に基づいて、第1のインバータ111を構成するp型MOSトランジスタ112のソースに駆動電圧VCCを供給するか否かを制御する。また、p型MOSトランジスタ142は、第1のインバータ111の出力(ノードD)の電圧値に基づいて、第2のインバータ115を構成するp型MOSトランジスタ116のソースに駆動電圧VCCを供給するか否かを制御する。
伝送ゲート134は、信号RW及び/RWに基づいて、p型MOSトランジスタ132のゲート、n型MOSトランジスタ136のゲート及び第1の強誘電体キャパシタ122の他方端を、第2のインバータ115の出力(ノードE)に接続するか否かを切り換える。また、伝送ゲート144は、信号RW及び/RWに基づいて、p型MOSトランジスタ142のゲート、n型MOSトランジスタ146のゲート及び第2の強誘電体キャパシタ124の他方端を、第1のインバータ111の出力(ノードD)に接続するか否かを切り換える。
n型MOSトランジスタ136は、ソースが接地されており、ドレインがp型MOSトランジスタ112のソース及び第1の強誘電体キャパシタ122の一方端に接続されている。また、n型MOSトランジスタ136は、ゲートがp型MOSトランジスタ132のゲート及び伝送ゲート134を介して第2のインバータ115の出力(ノードE)に接続されている。すなわち、n型MOSトランジスタ136は、第2のインバータ115の出力の電圧に基づいて、p型MOSトランジスタ112のソース及び第1の強誘電体キャパシタ122の一方端を接地するか否かを切り換える。
n型MOSトランジスタ146は、ソースが接地されており、ドレインがp型MOSトランジスタ116のソース及び第2の強誘電体キャパシタ124の一方端に接続されている。また、n型MOSトランジスタ146は、ゲートがp型MOSトランジスタ142のゲート及び伝送ゲート144を介して第1のインバータ111の出力(ノードD)に接続されている。すなわち、n型MOSトランジスタ146は、第1のインバータ111の出力の電圧に基づいて、p型MOSトランジスタ116のソース及び第2の強誘電体キャパシタ124の一方端を接地するか否かを切り換える。
n型MOSトランジスタ138は、ソースが接地されており、ドレインがp型MOSトランジスタ132のゲート及びn型MOSトランジスタ136のゲート及び第1の強誘電体キャパシタ122の他方端に接続されている。また、n型MOSトランジスタ138は、ゲートに信号/RWが供給されている。すなわち、n型MOSトランジスタ138は、信号/RWに基づいて、p型MOSトランジスタ132のゲート、n型MOSトランジスタ136のゲート及び第1の強誘電体キャパシタ122の他方端を接地するか否かを切り換える。
n型MOSトランジスタ148は、ソースが接地されており、ドレインがp型MOSトランジスタ142のゲート、n型MOSトランジスタ146のゲート及び第2の強誘電体キャパシタ124の他方端に接続されている。また、n型MOSトランジスタ148は、ゲートに信号/RWが供給されている。すなわち、n型MOSトランジスタ148は、信号/RWに基づいて、p型MOSトランジスタ142のゲート、n型MOSトランジスタ146のゲート及び第2の強誘電体キャパシタ124の他方端を接地するか否かを切り換える。
パワーオンリセット回路200は、電圧源116が生成した駆動電圧VCCの電圧値に基づいて、再書き込み回路130の動作を制御する信号RW及び/RWを生成する。本例のパワーオンリセット回路200は、電圧源116が生成する駆動電圧VCCが、H論理を示す電圧近傍に達した場合に、信号RWをH論理とし、信号/RWをL論理とするよう構成されている。
第1の強誘電体キャパシタ122は、一方端及び他方端を有しており、一方端が、第1のインバータ111の電源端子である、p型MOSトランジスタ112のソースに接続されている。そして、第1の強誘電体キャパシタ122は、それに記憶されたデータに応じた容量をp型MOSトランジスタ112のソースに与える。
また、第1の強誘電体キャパシタ122の一方端は、n型MOSトランジスタ136のドレイン及びp型MOSトランジスタ132のドレインに接続されている。また、n型MOSトランジスタ136及びp型MOSトランジスタ132のゲートは、第1の強誘電体キャパシタ122の他方端に接続されている。
第1の強誘電体キャパシタ122の他方端は、ソースが接地されたn型MOSトランジスタ138のドレイン、及び一方端が第2のインバータ115の出力に接続された伝送ゲート134の他方端に接続されている。n型MOSトランジスタ138及び伝送ゲート134は、パワーオンリセット回路200が生成する信号RW及び/RWによって制御されている。すなわち、第1の強誘電体キャパシタ122の他方端は、信号RW及び/RWの論理値に応じて、n型MOSトランジスタ138を介して接地されるか、又は伝送ゲート134を介して第2のインバータ115の出力に接続される。
すなわち、読出し動作時はn型MOSトランジスタ138がオンになり第1の強誘電体キャパシタ122の他方端の電圧が接地電圧になり、第1の強誘電体キャパシタ122はp型MOSトランジスタ112のソース電位を電圧源が充電する容量として影響する。読出し動作が終わりパワーオンリセット回路からのRW信号がH論理に変化すると、伝送ゲート134がオンすると同時にn型MOSトランジスタ138はオフし再書込みが開始する。そして、インバータ115の出力がL論理の場合、第1の強誘電体キャパシタ122の他方端の電圧が接地電位になり、n型MOSトランジスタ136がオフし、p型MOSトランジスタ132がオンするので、第1の強誘電体キャパシタ122の一方端には動作電圧VCCが供給される。従って、第1の強誘電体キャパシタ122には、その一方端を基準として電圧−VCCがかかることとなり、データ“0”が書き込まれる。
一方、再書込み時にインバータ115の出力がH論理の場合、第1の強誘電体キャパシタ122の他方端の電圧が駆動電圧VCCになり、n型MOSトランジスタ136がオンし、p型MOSトランジスタ132がオフするので、第1の強誘電体キャパシタ122の一方端には接地電圧が供給される。従って、第1の強誘電体キャパシタ122には、その一方端を基準として電圧VCCがかかることとなり、データ“1”が書き込まれる。
第2の強誘電体キャパシタ124は、一方端及び他方端を有しており、一方端が、第2のインバータ115の電源端子である、p型MOSトランジスタ116のソースに接続されている。そして、第2の強誘電体キャパシタ124は、それに記憶されたデータに応じた容量をp型MOSトランジスタ116のソースに与える。
また、第2の強誘電体キャパシタ124の一方端は、n型MOSトランジスタ146のドレイン及びp型MOSトランジスタ142のドレインに接続されている。また、n型MOSトランジスタ146及びp型MOSトランジスタ142のゲートは、第2の強誘電体キャパシタ124の他方端に接続されている。
第2の強誘電体キャパシタ124の他方端は、ソースが接地されたn型MOSトランジスタ148のドレイン、及び一方端が第1のインバータ111の出力に接続された伝送ゲート144の他方端に接続されている。n型MOSトランジスタ148及び伝送ゲート144は、パワーオンリセット回路200が生成する信号RW及び/RWによって制御されている。すなわち、第2の強誘電体キャパシタ124の他方端は、信号RW及び/RWの論理値に応じて、n型MOSトランジスタ148を介して接地されるか、又は伝送ゲート144を介して第2のインバータ111の出力に接続される。
短絡回路150はp型MOSトランジスタ140及びp型MOSトランジスタ162を有する。p型MOSトランジスタ140は、ソース及びドレインが、それぞれp型MOSトランジスタ112及び116のソースに接続されており、ゲートが電圧源116に接続されている。すなわち、p型MOSトランジスタ140は、電圧源116が駆動する前はp型MOSトランジスタ112のソースとp型MOSトランジスタ116のソースとを短絡させ、駆動電圧VCCがp型MOSトランジスタ140の閾値を越えると短絡状態が解除される。
p型MOSトランジスタ162は、ソース及びドレインが、それぞれ第1のインバータ111の出力(ノードD)と第2のインバータ115の出力(ノードE)に接続されており、ゲートが電圧源116に接続されている。すなわち、p型MOSトランジスタ162は、電圧源116が駆動する前はノードDとノードEを短絡させ、駆動電圧VCCがp型MOSトランジスタ140の閾値を越えると短絡状態が解除される。これにより電圧源が駆動前は各ノードがリセットされた状態から安定して読み出すことができる。
データ入出力回路160は、n型MOSトランジスタ164及び166と、インバータ168、170及び172とを有して構成される。データ入出力回路160は、ラッチ回路110が保持したデータを、プログラム回路100の外部に出力信号OUTL及びOUTRとして出力し、また、ラッチ回路110に保持させるデータを外部から受け取る。

n型MOSトランジスタ164は、信号WRITEに基づいて、信号DINをノードDに供給するか否かを切り換える。また、n型MOSトランジスタ166は、信号WRITEに基づいて、インバータ168が信号DINを反転した信号を、ノードEに供給するか否かを切り換える。すなわち、信号WRITEがH論理を示す場合に、信号DINに基づいて、ノードD及びEの一方に駆動電圧VCCに近い電圧が供給され、他方に接地電圧が供給される。これにより、ラッチ回路110を構成する第1のインバータ111及び第2のインバータ115の入力及び出力の電圧が固定され、ラッチ回路110は、信号DINに基づくデータを保持する。
インバータ170及び172は、それぞれ第1のインバータ111の出力及び第2のインバータ115の出力に接続されている。そして、インバータ170及び172は、それぞれ第1のインバータ111の出力電圧及び第2のインバータ115の出力電圧を反転し、出力信号OUTL及びOUTRとして出力する。
電圧源116は、プログラム回路100を駆動する駆動電圧VCCを生成する。電圧源116は、再書き込み回路130のp型MOSトランジスタ132及び142のソース、並びにp型MOSトランジスタ140のゲート、データ入出力回路160のインバータ168及び170及び172の電源部、p型MOSトランジスタ140のゲート、パワーオンリセット回路200、並びにp型MOSトランジスタ112及び116を除く全てのp型MOSトランジスタの基板電位に接続されるのが好ましく、これらに駆動電圧VCCを供給する。駆動電圧VCCは、強誘電体メモリ装置500(図1参照)を動作させる電圧であるが、その電圧値は、強誘電体メモリ装置500又はプログラム回路100の起動時において、接地電圧(0V)から徐々に上昇する。
図3は、プログラム回路100の動作を示すタイミングチャートである。図2及び図3を参照して、本実施形態のプログラム回路100の動作について説明する。以下の例では、第1の強誘電体キャパシタ122にデータ“0”が記憶されており、第2の強誘電体キャパシタ124にデータ“1”が記憶されている場合を例に、プログラム回路100の動作について説明する。
まず、プログラム回路100が起動されると、電圧源116が駆動電圧VCCの生成を開始し、電圧源116の出力であるノードAの電圧は徐々に上昇する。と同時に、パワーオンリセット回路200からの出力/RW電位も上昇する。ここで、n型MOSトランジスタ138及び148はオンするので、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124のそれぞれの他方端(ノードF及びG)は接地電位であり、よってp型MOSトランジスタ132及び134はオンしているので、電圧源116が生成した駆動電圧VCCは、抵抗素子の一例であるp型MOSトランジスタ132及び142を経てp型MOSトランジスタ112及び116のソースに供給される。すなわち、p型MOSトランジスタ112及び116のソースの電圧、すなわち、ノードB及びCの電圧は上昇する。ここで、ノードBに接続された第1の強誘電体キャパシタ122にはデータ“0”が記憶されており、ノードCに接続された第2の強誘電体キャパシタ124にはデータ“1”が記憶されているので、ノードCにはノードBよりも大きな常誘電体容量が与えられている。従って、ノードBの電圧は、ノードCの電圧より速く上昇する。
そして、ノードBの電圧が、第1のインバータ111及び第2のインバータ115を構成する各MOSトランジスタの閾値電圧Vtに達すると、このときノードCの電圧は未だ閾値電圧Vtに達していないので、n型MOSトランジスタ118がオンし、p型MOSトランジスタ116がオフする。すなわち、第2のインバータ115の出力電圧、すなわち、ノードEの電圧は、接地電圧となる。
第2のインバータ115の出力電圧が接地電圧となると、n型MOSトランジスタ114はオフし、p型MOSトランジスタ112はオンするので、第1のインバータ115の出力電圧、すなわち、ノードDの電圧は、駆動電圧VCCと略同電圧なる。これにより、ラッチ回路110において、ノードDの電圧が駆動電圧VCCに、また、ノードEの電圧が接地電圧に固定され、ラッチ回路110は、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124から読み出されたデータを保持する。そして、入出力回路160は、出力信号OUTLとして接地電圧を出力し、出力信号OUTRとして駆動電圧VCCを出力する。なお、出力信号OUTRの電圧は、駆動電圧VCCの上昇に伴い上昇する。
次に、電圧源116が生成する駆動電圧VCCの電圧値が、H論理を示す電圧近傍に達すると、パワーオンリセット回路200は、信号/RWをL論理とし、信号RWをH論理とする。
これにより、ノードF及びGを接地していたn型MOSトランジスタ138及び148がオフし、伝送ゲート134及び144がオンし、ノードFは第2のインバータ115の出力に接続され、ノードGは第1のインバータ111の出力に接続される。すなわち、ノードFの電圧は接地電圧となり、ノードGの電圧は駆動電圧VCCとなる。
ノードFの電圧は接地電圧のままなので、p型MOSトランジスタ132はオンしたままである為、第1の強誘電体キャパシタ122の一方端の電圧は、駆動電圧VCCとなる。一方、第1の強誘電体キャパシタ122の他方端の電圧は接地電圧であるため、第1の強誘電体キャパシタ122には、その一方端を基準として電圧−VCCがかかることとなる。これにより、第1の強誘電体キャパシタ122には、データ“0”が再書き込みされる。
一方、ノードGの電圧が駆動電圧VCCとなると、p型MOSトランジスタ142はオフし、n型MOSトランジスタ146がオンするため、ノードCの電圧、すなわち、第2の強誘電体キャパシタ124の一方端の電圧は接地電圧となる。一方、第2の強誘電体キャパシタ124の他方端の電圧は駆動電圧VCCであるため、第2の強誘電体キャパシタ124には、その一方端を基準として電圧VCCがかかることとなる。これにより、第2の強誘電体キャパシタ124には、データ“1”が再書き込みされる。
以上のとおり、プログラム回路100を起動すると、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124に記憶されたデータがラッチ回路110に読み出されて保持されるとともに、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124には当該データが再書き込みされる。
図4は、パワーオンリセット回路200の構成の他の例を示す図である。パワーオンリセット回路200は、強誘電体キャパシタ210と、p型MOSトランジスタ212及び214と、インバータ216、218及び220とを有して構成される。
強誘電体キャパシタ210は、p型MOSトランジスタ212を介して駆動電圧VCCが供給されており、他方端が接地されている。強誘電体キャパシタ210は、図2における第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124よりも、面積が大きくなるように形成されている。すなわち、強誘電体キャパシタ210の常誘電体容量は、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124の常誘電体容量よりも大きい。
p型MOSトランジスタ212は抵抗素子として機能するが、再書込み回路130のp型MOSトランジスタ132及び142よりも、能力が同じであるか、もしくは能力が低いことが望ましい。また、p型MOSトランジスタ212は、抵抗値が、p型MOSトランジスタ132及び142の抵抗値と略同じか、それよりも大きいことが好ましい。
インバータ216及び218は、強誘電体キャパシタ210の一方端に縦列接続されている。すなわち、強誘電体キャパシタ210の一方端を充電したノードをインバータ216の入力としている。また、インバータ216の入力と出力とは、p型MOSトランジスタ214を介して接続されており、p型MOSトランジスタ214は、ゲートに供給される駆動電圧VCCの電圧値に基づいて、インバータ214の入力と出力とを短絡する。すなわち電圧源が駆動する前はノードを短絡して動作を安定させ、動作が開始すると短絡状態が解放されるようにしている。そして、パワーオンリセット回路200は、インバータ218の出力を、信号RWとして出力し、これをインバータ220で反転した信号を、信号/RWとして出力する。
以上の構成によりパワーオンリセット回路200の出力が変化するタイミングを最適に調整することができる。具体的には、強誘電体キャパシタ210の容量を大きく、抵抗素子としても機能するp型MOSトランジスタ212の抵抗値を大きくすることで、ラッチ回路110の動作が確定した後にリセット信号が出力でき、また、前記容量及び前記抵抗値の大きさを最適にすることで、リセット信号の出力タイミングをラッチ回路110の動作が確定した直後に設定することもできる。
図5は、図4に示したパワーオンリセット回路200が適用されたプログラム回路100の動作を示すタイミングチャートである。本例のプログラム回路100は、図2に示したプログラム回路100と同様の動作をするが、本例のパワーオンリセット回路200は、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124からデータが読み出された後、すぐに信号/RWの電圧が接地電圧となるので、読み出しが行われた後すぐに再書き込みが行われる。従って、プログラム回路100を起動して、電源立ち上げ途中に電源供給が中断されてしまった場合であっても、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124のデータ破壊を防ぐことができる。
さらに図4で示したパワーオンリセット回路を用いることで、従来半導体集積回路で用いられている複雑なパワーオンリセット回路を使用しなくても、極めて簡易な構成で本実施形態に専用の最適なパワーオンリセット回路を実現することができる。
本実施形態では、ラッチ回路110に対して駆動電圧が供給されたとき、すなわち、プログラム回路100に電源が投入されたとき、すなわち半導体装置に電源が投入されたとき、第1のインバータ111の電源端子及び第2のインバータ115の電源端子の電圧は、第1の容量及び第2の容量に応じて上昇することとなる。すなわち、各電源端子の電圧は、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124の常誘電体特性に基づく容量に応じて上昇することとなる。従って、本実施形態によれば、第1のインバータ111及び第2のインバータ115の出力電圧の上昇速度が、第1の容量及び第2の容量に応じて定まるので、半導体装置に電源を投入するだけで、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124に記憶されたデータをラッチ回路110に読み出すことができるプログラム回路100を提供することができる。
本実施形態では、第1のインバータ111の電源端子及び第2のインバータ115の電源端子並びにそれらに接続された第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124は、抵抗素子を介して充電されることとなる。従って、本実施形態によれば、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124に記憶されたデータを、安定してラッチ回路110に読み出すことができる。
本実施形態では、再書き込み回路130は、ラッチ回路110が保持するデータに基づいて、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124にデータを再書き込みすることとなる。また、本実施形態では、再書き込み回路130は、電圧源116が電源端子に駆動電圧を供給するタイミングに応じて再書き込み動作を行うこととなる。従って、本実施形態によれば、極めて簡易な構成で、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124にデータを再書き込みするプログラム回路100を提供することができる。
本実施形態によれば、電源立ち上げを行うだけで、再書き込み回路130が、第1の強誘電体キャパシタ122及び第2の強誘電体キャパシタ124にかかる電圧を制御して、再書き込みを行うことができる。
上記発明の実施形態を通じて説明された実施例や応用例は、用途に応じて適宜に組み合わせて、又は変更若しくは改良を加えて用いることができ、本発明は上述した実施形態の記載に限定されるものではない。そのような組み合わせ又は変更若しくは改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
本発明の一実施形態に係る半導体装置の一例である強誘電体メモリ装置500の構成を示す図である。 プログラム回路100の構成の一例を示す図である。 プログラム回路100の動作を示すタイミングチャートである。 パワーオンリセット回路200の構成の他の例を示す図である。 図4に示したパワーオンリセット回路200が適用されたプログラム回路100の動作を示すタイミングチャートである。
符号の説明
100・・・プログラム回路、110・・・ラッチ回路、111・・・インバータ、116・・・電圧源、122・・・第1の強誘電体キャパシタ、124・・・第2の強誘電体キャパシタ、130・・・再書き込み回路、150・・・短絡回路、160・・・入出力回路、200・・・パワーオンリセット回路、500・・・強誘電体メモリ装置、510・・・メモリセルアレイ、520・・・列デコーダ、センスアンプ及び列選択スイッチ、530・・・行デコーダ、540・・・制御部、550・・・冗長セルアレイ、570・・・データ入出力回路、600・・・冗長回路

Claims (9)

  1. 第1のインバータ及び第2のインバータを有するラッチ回路と、
    前記第1のインバータの電源端子に第1の容量を与える第1の強誘電体キャパシタと、
    前記第2のインバータの電源端子に前記第1の容量と異なる第2の容量を与える第2の強誘電体キャパシタと、
    前記第1の容量が与えられた前記第1のインバータの電源端子、及び前記第2の容量が与えられた前記第2のインバータの電源端子に、前記ラッチ回路を駆動する駆動電圧の供給を開始する電圧源と
    前記電圧源が前記第1のインバータの電源端子及び前記第2のインバータの電源端子に前記駆動電圧を供給したときに、前記第1のインバータの出力に基づいて前記第2の強誘電体キャパシタに前記第2のデータを記憶させ、前記第2のインバータの出力に基づいて前記第1の強誘電体キャパシタに前記第1のデータを記憶させる再書き込み回路と、
    を備え
    前記第1の強誘電体キャパシタは第1のデータを記憶し、前記第2の強誘電体キャパシタは前記第1のデータに対して相補のデータである第2のデータを記憶しており、
    前記第1の強誘電体キャパシタ及び前記第2の強誘電体キャパシタは、それぞれ一方端及び他方端を有しており、
    前記再書き込み回路は、
    ソースが前記電圧源に接続され、ドレインが前記第1のインバータの電源端子及び前記第1の強誘電体キャパシタの一方端に接続された第1のp型MOSトランジスタと、
    ソースが前記電圧源に接続され、ドレインが前記第2のインバータの電源端子及び前記第2の強誘電体キャパシタの一方端に接続された第2のp型MOSトランジスタと、
    を有し、
    前記第2のインバータの出力に基づいて、前記第1のp型MOSトランジスタのゲート及び前記第1の強誘電体キャパシタの他方端に、接地電圧又は前記第2のインバータの出力を供給し、前記第1のインバータの出力に基づいて、前記第2のp型MOSトランジスタのゲート及び前記第2の強誘電体キャパシタの他方端に、接地電圧又は前記第1のインバータの出力を供給することを特徴とする記憶回路。
  2. 前記第1のインバータの電源端子及び前記第2のインバータの電源端子と前記電圧源との間に設けられた抵抗素子をさらに備えたことを特徴とする請求項1記載の記憶回路。
  3. 前記抵抗素子はp型MOSトランジスタであることを特徴とする請求項記載の記憶回路。
  4. 前記再書き込み回路は、
    ソースが接地され、ドレインが前記第1のインバータの電源端子及び前記第1の強誘電体キャパシタの一方端に接続され、ゲートが前記第1の強誘電体キャパシタの他方端に接続された第1のn型MOSトランジスタと、
    ソースが接地され、ドレインが前記第2のインバータの電源端子及び前記第2の強誘電体キャパシタの一方端に接続され、ゲートが前記第2の強誘電体キャパシタの他方端に接続された第2のn型MOSトランジスタと、
    をさらに有することを特徴とする請求項記載の記憶回路。
  5. 前記再書き込み回路は、
    前記第2のインバータの出力端子と前記第1の強誘電体キャパシタの他方端及び前記第
    1のp型MOSトランジスタのゲートとの間に設けられた第1の伝送ゲートと、
    前記第1のインバータの出力端子と前記第2の強誘電体キャパシタの他方端及び前記第2のp型MOSトランジスタのゲートとの間に設けられた第2の伝送ゲートと、
    をさらに有することを特徴とする請求項又は記載の記憶回路。
  6. 前記駆動電圧の電圧値が所定の値を超えたときに、前記第1の伝送ゲート及び前記第2の伝送ゲートをオンして、前記第1のインバータの出力を前記第2の強誘電体キャパシタの他方端及び前記第2のp型MOSトランジスタのゲートに供給し、前記第2のインバータの出力を前記第1の強誘電体キャパシタの他方端及び前記第1のp型MOSトランジスタのゲートに供給する電圧検出部をさらに備えたことを特徴とする請求項記載の記憶回路。
  7. 前記再書き込み回路は、
    ソースが接地され、ドレインが前記第1の強誘電体キャパシタの他方端に接続された第3のn型MOSトランジスタと、
    ソースが接地され、ドレインが前記第2の強誘電体キャパシタの他方端に接続された第4のn型MOSトランジスタと、
    をさらに有し、
    前記電圧検出部は、前記駆動電圧の電圧値が前記所定の値より低い場合、前記第3のn型MOSトランジスタ及び前記第4のn型MOSトランジスタをオンし、前記第1の伝送ゲート及び前記第2の伝送ゲートをオフし、前記駆動電圧の電圧値が前記所定の値を超えたときに、前記第3のn型MOSトランジスタ及び前記第4のn型MOSトランジスタをオフすることを特徴とする請求項記載の記憶回路。
  8. 前記電圧検出部は、
    第3のインバータと、
    前記第1の容量及び前記第2の容量よりも大きい第3の容量を前記第3のインバータの入力端子に与える第3の強誘電体キャパシタと、
    前記電圧源と前記第3のインバータの入力端子との間に設けられ、前記第1のp型MOSトランジスタ及び前記第2のp型MOSトランジスタの抵抗値と略同じか当該抵抗値よりも大きい抵抗値を有する抵抗素子と、
    を有することを特徴とする請求項又は記載の記憶回路。
  9. 請求項1からのいずれか1項に記載の記憶回路を備えたことを特徴とする半導体装置。
JP2005001219A 2005-01-06 2005-01-06 記憶装置及び半導体装置 Expired - Fee Related JP4110481B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005001219A JP4110481B2 (ja) 2005-01-06 2005-01-06 記憶装置及び半導体装置
US11/287,059 US7262988B2 (en) 2005-01-06 2005-11-23 Memory device and semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005001219A JP4110481B2 (ja) 2005-01-06 2005-01-06 記憶装置及び半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006190387A JP2006190387A (ja) 2006-07-20
JP4110481B2 true JP4110481B2 (ja) 2008-07-02

Family

ID=36640201

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005001219A Expired - Fee Related JP4110481B2 (ja) 2005-01-06 2005-01-06 記憶装置及び半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7262988B2 (ja)
JP (1) JP4110481B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2343524B1 (en) * 2009-12-24 2013-02-13 Seiko Epson Corporation Infrared detection circuit, sensor device, and electronic instrument
US8817520B2 (en) * 2013-01-30 2014-08-26 Texas Instruments Incorporated Two capacitor self-referencing nonvolatile bitcell
US8854858B2 (en) * 2013-01-30 2014-10-07 Texas Instruments Incorporated Signal level conversion in nonvolatile bitcell array
US9858979B1 (en) * 2016-10-05 2018-01-02 Micron Technology, Inc. Reprogrammable non-volatile ferroelectric latch for use with a memory controller

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4809225A (en) 1987-07-02 1989-02-28 Ramtron Corporation Memory cell with volatile and non-volatile portions having ferroelectric capacitors
JP2002269969A (ja) * 2001-03-07 2002-09-20 Nec Corp メモリセル、不揮発性メモリ装置、及びその制御方法
JP2003078037A (ja) * 2001-09-04 2003-03-14 Nec Corp 半導体メモリ装置
US6512687B1 (en) * 2002-01-07 2003-01-28 Macronix International Co., Ltd. Non-volatile ferroelectric capacitor memory circuit
US6707702B1 (en) * 2002-11-13 2004-03-16 Texas Instruments Incorporated Volatile memory with non-volatile ferroelectric capacitors
US6996000B2 (en) * 2003-10-07 2006-02-07 Symetrix Corporation Non-volatile ferroelectric SRAM

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006190387A (ja) 2006-07-20
US20060146591A1 (en) 2006-07-06
US7262988B2 (en) 2007-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3373632B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JP3916837B2 (ja) 強誘電体メモリ
JP4392976B2 (ja) 強誘電体キャパシタの分極状態変化に応じて可変する基準電圧を発生する基準回路を有する強誘電体ランダムアクセスメモリ装置。
US9530481B2 (en) Ferroelectric random access memory with plate line drive circuit
US7280384B2 (en) Semiconductor memory device
JP5020588B2 (ja) ページバッファ及びその駆動方法、並びにこれを具備した不揮発性メモリ装置
JP3431122B2 (ja) 半導体記憶装置
US20050180222A1 (en) Semiconductor memory device
US8400848B2 (en) Bit line negative potential circuit and semiconductor storage device
US6847537B2 (en) Ferroelectric memory devices having a plate line control circuit and methods for operating the same
JP3772774B2 (ja) 強誘電体記憶装置
JP4110481B2 (ja) 記憶装置及び半導体装置
JP2002367367A (ja) 不揮発性強誘電体メモリ装置の昇圧発生回路及びその発生方法
US20060198194A1 (en) Noise suppression in memory device sensing
US7894279B2 (en) Semiconductor storage device comprising reference cell discharge operation load reduction
JP4117683B2 (ja) 強誘電体メモリ装置及びその駆動方法
JP4503128B2 (ja) 強誘電体ランダムアクセスメモリ
JP3760470B2 (ja) 記憶回路、半導体装置、及び電子機器
US6483738B2 (en) Method for driving nonvolatile ferroelectric memory device
CN114512162A (zh) 一种预充电方法及使用该方法的存储器装置
JP2007058969A (ja) メモリ
JP7183086B2 (ja) 半導体記憶装置
JP4012151B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
KR100373854B1 (ko) 강유전체 커패시터의 분극 상태 변화에 따라 가변되는기준 전압을 발생하는 기준 회로를 갖는 강유전체 랜덤액세스 메모리 장치
JP2007109330A (ja) 強誘電体メモリ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080107

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080313

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080326

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110418

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110418

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees