JP4108611B2 - （ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の製造方法 - Google Patents

（ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の製造方法 Download PDF

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Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗ＨＩＶ剤の有用な合成中間体である（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸およびその中間体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年開発が進められている抗ＨＩＶ剤として有用な、下記式（I）
【０００３】
【化１】
【０００４】
で表されるＰＮＵ−１４０６９０が知られている。ＰＮＵ−１４０６９０の有用な合成中間体として、下記式（II）
【０００５】
【化２】
【０００６】
で表される３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸が知られている。この３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸は不斉炭素を１個有し、（Ｒ）体および（Ｓ）体が存在し、通常の方法で合成したものはラセミ体（ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸）である。そのうち下記式（III）
【０００７】
【化３】
【０００８】
で表される（Ｒ）体［（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸］が、上記合成中間体として好適に使用される。
【０００９】
上記ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸より（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を光学分割する方法としては、従来、（−）−ノルエフェドリン［（１Ｓ，２Ｓ）−ノルエフェドリン］を用いる方法が報告されている（J. Org. Chem., Vol.63, No.21, 1998, 7348-7356）。しかしながらこの方法では、９８％ｅ．ｅ．以上の光学純度の（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を得るためには、たとえば９２％ｅ．ｅ．で得られた（−）−ノルエフェドリンとの塩を２回再結晶することが必要であり、工業的に非効率である。またこのような方法では、高い光学純度の（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の反応系全体を通じての収率、換言すれば、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸に対する高光学純度の（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の全収率（以下、単に「全収率」と呼ぶことがある。）が低い（２７％程度）という問題もあった。上記報告の中では、フェニルグリシノール、エフェドリン、スパルテイン、α−メチルベンジルアミンといった一般的に用いられるアミンを用いても、効果的な光学分割ができなかったことが記載されており、高い光学純度の（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を、より高い全収率にて効率的に得ることのできる方法が求められている。
【００１０】
一方、上記３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の中間体としては、下記式（IV）
【００１１】
【化４】
【００１２】
で表されるラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルが知られている。
【００１３】
このようなラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを製造する方法としては、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中で、１−フェニル−３−ヘキサノンに酢酸エチルのリチウム塩を付加することによる方法が公知である。しかしながら、酢酸エチルのリチウム塩を調製するにはリチウムジアルキルアミドなどの強塩基による酢酸エチルからの脱プロトン化が必要であり、通常−７８℃付近の超低温反応を用いて実施される（WO99/12919,Kristina S Forsら、J. Org. Chem.1998, 63, 7348-7356）。このような超低温での反応は、特別な冷却設備を必要とし、また作業が煩雑であるなど、工業的には不利な点が多い。
【００１４】
特別な冷却設備を必要としない温度範囲でラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを製造する方法としては、レフォルマッキー反応（Reformatskii reaction）を利用することが考えられる。レフォルマッキー反応は、α−ハロゲンエステルとアルデヒドやケトンなどのようなカルボニル化合物が、亜鉛の存在下に縮合してβ−オキシ酸エステルを生成する従来公知の反応である。このレフォルマッキー反応を円滑に進行させるためには、上記亜鉛が高い活性（反応性）を有している必要がある。活性化亜鉛を製造する方法としては、従来、以下の（1）〜（5）の方法が知られているが、これらの方法で得られた活性化亜鉛は下記のようにそれぞれ問題を有しており、上記レフォルマッキー反応への使用において実用的ではなく、充分な収率でラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを得ることができなかった。
【００１５】
（1）塩化亜鉛等の亜鉛塩をカリウム、マグネシウム、リチウム等で還元して金属亜鉛を得る方法
この方法では、禁水性の金属を用いるなど、安全性の面で問題があった。
【００１６】
（2）金属亜鉛を塩酸により活性化する方法
この方法では、亜鉛の活性化後、酸を完全に除去し、さらに乾燥しなければ禁水反応であるレフォルマッキー反応に使用できず、その調製が煩雑で実用的でなかった。
【００１７】
（3）金属亜鉛を酢酸中、銅塩または銀塩で処理し、銅または銀との合金とすることで、亜鉛を活性化する方法
酢酸中で合金を調製するため、水洗により完全に酢酸を除去する必要があり、水洗後さらに乾燥しなければ禁水反応であるレフォルマッキー反応には使用できず、その調製が煩雑で実用的でなかった。
【００１８】
（4）超音波により亜鉛を活性化する方法
この方法では、活性化亜鉛の製造に使用する全ての設備が充分な強度の超音波発振器を必要とするため、実用的な方法であるとは言い難い。
【００１９】
（5）エーテル中、亜鉛をクロロトリメチルシランと撹拌することで亜鉛を活性化する方法
この方法では、エーテルという引火性の高い溶媒を使用するという点や、得られた亜鉛の活性が必ずしも充分に高いものではないという欠点がある。
また上記活性化亜鉛を用いた反応では、亜鉛を含有する廃棄物が発生するが、環境汚染を避けるためには特別な廃棄物処理を必要とする問題がある。
さらに、上記反応ではブロモ酢酸エステルを用いるが、ブロモ酢酸エステルは高価であり、また催涙性が強いため、これを用いた反応には安全衛生上の問題もある。
【００２０】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、医薬品原料として有用な（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸から、高い光学純度かつ比較的高い全収率で、効率的に製造できる製造方法を提供することである。
【００２１】
また、本発明の別の目的は、一般的な製造装置を用いて、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルを安全かつ従来法より低コストで製造できる方法を提供することである。
【００２２】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を行った結果、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は以下のとおりである。
【発明の開示】
【００２３】
［１］ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を、式（VIII）
【００２４】
【化５】
【００２５】
〔式中、Ｒ２は３，４−ジメトキシフェニルまたは２−クロロフェニルを示す。〕で表される光学活性アミン（以下、「光学活性アミン（VIII）」ともいう。）を用いて光学分割することを特徴とする、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の製造方法。
【００２６】
［２］ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と、光学活性アミン（VIII）との塩を、酢酸エチル、メタノール、イソプロパノール、エタノール、アセトニトリル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタンおよびＴＨＦから選ばれる１種または２種以上の溶媒（当該溶媒はさらに水を含んでいてもよい。）中で結晶化させることを特徴とする、上記［１］の製造方法。
【００２７】
［３］ 光学活性アミン（VIII）が、（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンと、式、Ｒ２−ＣＨＯ（VIII-i）〔式中、Ｒ２は前記と同義を示す〕で表される化合物とを縮合した後、還元させて製造したものである、上記［１］の製造方法。
【００２８】
［４］ 光学分割後、光学活性アミン（VIII）を回収することを含む上記［１］の製造方法。
【００２９】
［５］ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルを加水分解して、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を製造後、酢酸エチル、ＭＩＢＫ、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、およびＴＨＦから選ばれる１種または２種以上の溶媒で抽出し、次いで抽出溶媒の一部または全部を残して光学分割の溶媒として用い、光学活性アミン（VIII）との塩を結晶させることにより光学分割することを特徴とする（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の製造方法。
【００３０】
［６］ 光学活性アミン（VIII）が、（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンと、式、Ｒ２−ＣＨＯ（VIII-i）〔式中、Ｒ２は前記と同義を示す〕で表される化合物とを縮合した後、還元させて製造したものである、上記［５］の製造方法。
【００３１】
［７］ 光学分割後、光学活性アミン（VIII）を回収することを含む上記［５］の製造方法。
【００３２】
［８］ マグネシウムと、ハロ酢酸エステルと、１−フェニル−３−ヘキサノンとを反応させて、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルを製造し、これを加水分解して、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を得、これを、光学活性アミン（VIII）を用いて光学分割することを特徴とする、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の製造方法。
【００３３】
［９］ ハロ酢酸エステルがクロロ酢酸エステルである、上記［８］の製造方法。
【００３４】
［１０］ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と、光学活性アミン（VIII）との塩を、酢酸エチル、メタノール、イソプロパノール、エタノール、アセトニトリル、ＭＩＢＫ、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタンおよびＴＨＦから選ばれる１種または２種以上の溶媒（当該溶媒はさらに水を含んでいてもよい。）中で結晶化させることを特徴とする、上記［８］の製造方法。
【００３５】
［１１］ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を製造後、酢酸エチル、ＭＩＢＫ、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、およびＴＨＦから選ばれる１種または２種以上の溶媒で抽出し、次いで抽出溶媒の一部または全部を残して光学分割の溶媒として用い、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と光学活性アミン（VIII）との塩を結晶させることにより光学分割することを特徴とする上記［８］の製造方法。
【００３６】
［１２］ 光学活性アミン（VIII）が、（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンと、式、Ｒ２−ＣＨＯ（VIII-i）〔式中、Ｒ２は前記と同義を示す〕で表される化合物とを縮合した後、還元させて製造したものである、上記［８］の製造方法。
【００３７】
［１３］ 光学分割後、光学活性アミン（VIII）を回収することを含む上記［８］の製造方法。
【００３８】
［１４］ マグネシウムが活性化されたものである、上記［８］の製造方法。
【００３９】
［１５］ マグネシウムが、クロロシラン類およびハロゲン化炭化水素で活性化されたものである、上記［１４］の製造方法。
【００４０】
［１６］ クロロシラン類が、クロロトリメチルシラン、ジクロロジメチルシラン、メチルトリクロロシラン、テトラクロロシランからなる群より選択される上記［１５］の製造方法。
【００４１】
［１７］ ハロゲン化炭化水素が、臭化アリル、ヨードメタン、ヨードエタン、臭化ベンジル、１，２−ジヨードエタン、１，２−ジブロモエタンからなる群より選択される上記［１５］の製造方法。
【００４２】
［１８］ １−フェニル−３−ヘキサノンが、ベンズアルデヒドと２−ペンタノンを塩基の存在下に縮合させてプロピルスチリルケトンを得、次いで、得られたプロピルスチリルケトンを還元することにより得られたものである、上記［８］の製造方法。
【００４３】
［１９］ マグネシウムと、ハロ酢酸エステルと、１−フェニル−３−ヘキサノンとを反応させることを特徴とするラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルの製造方法。
【００４４】
［２０］ ハロ酢酸エステルがクロロ酢酸エステルである、上記［１９］の製造方法。
【００４５】
［２１］ マグネシウムが活性化されたものである、上記［１９］の製造方法。
【００４６】
［２２］ マグネシウムが、クロロシラン類およびハロゲン化炭化水素で活性化されたものである、上記［２１］の製造方法。
【００４７】
［２３］ クロロシラン類が、クロロトリメチルシラン、ジクロロジメチルシラン、メチルトリクロロシラン、テトラクロロシランからなる群より選択される上記［２２］の製造方法。
【００４８】
［２４］ ハロゲン化炭化水素が、臭化アリル、ヨードメタン、ヨードエタン、臭化ベンジル、１，２−ジヨードエタン、１，２−ジブロモエタンからなる群より選択される上記［２２］の製造方法。
【００４９】
［２５］ １−フェニル−３−ヘキサノンが、ベンズアルデヒドと２−ペンタノンを塩基の存在下に縮合させてプロピルスチリルケトンを得、次いで、得られたプロピルスチリルケトンを還元することにより得られたものである、上記［１９］の製造方法。
【００５０】
［発明の詳細な説明］
本発明の製造方法は、下記反応スキーム１に示すように、
（ａ）：式（V）で表される１−フェニル−３−ヘキサノン（以下、「ケトン（V）」ともいう。）と、式（VI）で表されるハロ酢酸エステル（以下、「エステル（VI）」ともいう。）と、マグネシウムとを反応させ、式（VII）で表されるラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステル（以下、「ラセミ−カルボン酸エステル（VII）」ともいう。）を製造する工程、
（ｂ）：ラセミ−カルボン酸エステル（VII）を加水分解することにより、式（II）で表されるラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（以下、「ラセミ−カルボン酸（II）」ともいう。）を製造する工程、
（ｃ）：ラセミ−カルボン酸（II）を光学活性アミン（VIII）を用いて光学分割し、式（III）で表される（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（以下、「（Ｒ）−カルボン酸（III）」ともいう。）を製造する工程
の各工程の一部または全部を含むものである。
【００５１】
【化６】
［スキーム１］
【００５２】
（式中、Ｒ１は、反応に影響を及ぼさないものであれば特に制限はない。Ｘはハロゲン原子を示す。Ｒ２は、３，４−ジメトキシフェニルまたは２−クロロフェニルを示す。）
【００５３】
以下、各工程について説明する。
１． ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルの製造工程［工程（ａ）］
当該工程（ａ）は、上記スキーム１で示されるように、１−フェニル−３−ヘキサノン［ケトン（V）］と、ハロ酢酸エステル［エステル（VI）］と、マグネシウムとを反応させて、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステル［ラセミ−カルボン酸エステル（VII）］を製造する工程である。
【００５４】
当該反応は、例えば、溶媒中に予め仕込んだマグネシウムにケトン（V）とエステル（VI）とを同時に添加する、あるいは溶媒中に予め仕込んだケトン（V）とマグネシウムとの混合物にエステル（VI）を添加することで実現される。
【００５５】
上記反応において、マグネシウムの使用量は、ケトン（V）１モルに対して１モル〜５モルが好ましく、経済性の観点からは、１．１モル〜２．０モルであるのがより好ましい。上記反応において、マグネシウムの使用量がケトン（V）１モルに対して１モル未満であると、ケトン（V）が一部未反応で残るため、反応の効率が低下する虞がある。また上記反応において、マグネシウムをケトン（V）１モルに対して５モルを超えて使用しても、反応に関与しないマグネシウムを大量に使用することとなり、経済的に無駄である。
【００５６】
また上記反応において、エステル（VI）の使用量は、ケトン（V）１モルに対して１モル〜３モルが好ましく、経済性の観点からは、１モル〜２モルであるのがより好ましい。上記反応において、エステル（VI）の使用量がケトン（V）１モルに対して１モル未満であると、ケトン（V）が一部未反応で残るため、反応の効率が低下する虞がある。また上記反応において、エステル（VI）の使用量がケトン（V）１モルに対して３モルを超えると、ケトン（V）との反応にとって不必要に大量のエステルを使用することとなり、経済的に無駄となるのみならず、生成物中にエステルが残留し、生成物の精製を困難にする虞がある。
【００５７】
上記工程（ａ）に使用するエステル（VI）としては、Ｘがハロゲン原子であり、Ｒ1が反応に影響を及ぼさないものである限り特に制限はない。式（VI）におけるＸとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。また、式（VI）におけるＲ1としては、例えば、炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル等）が挙げられ、好ましくは炭素数１〜４の直鎖または分枝鎖状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等）が挙げられる。
【００５８】
好ましいエステル（VI）としては、式（VI）のＸが塩素原子であるクロロ酢酸エステルが挙げられ、より好ましくはＸが塩素原子であり、Ｒ1が炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）の直鎖または分枝鎖状のアルキル基であるクロロ酢酸アルキルエステル、具体的には、クロロ酢酸メチル、クロロ酢酸エチル、クロロ酢酸イソプロピル、クロロ酢酸ｎ−ブチル、クロロ酢酸ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。なかでも、入手が容易であるとの理由から、クロロ酢酸エチルまたはクロロ酢酸ｔｅｒｔ−ブチルを使用するのが好ましい。
【００５９】
上記反応は、通常、１５℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜７０℃の温度範囲内で行われる。反応温度が１５℃未満であると、反応の進行が遅い、あるいは反応が全く進行しないというようなことが起こる虞があるためであり、また反応温度が１００℃を超えると、原料であるケトン（V）が反応液中で分解する、あるいは生成物であるラセミ−カルボン酸エステル（VII）が分解するため、反応の収率が低下するというようなことが起こる虞があるためである。
【００６０】
上記反応は、通常、ケトン（V）とマグネシウムとの混合物へのエステル（VI）の添加、あるいはマグネシウムへのケトン（V）およびエステル（VI）の同時添加より、３０分間〜２０時間反応させることで行われる。
【００６１】
上記反応に使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであればよく、ＴＨＦ、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、あるいは当該エーテル類と、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘプタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類のうちから選ばれるいずれかとの混合溶媒を、好適に使用することができる。混合溶媒とする場合には、従来公知の通常の任意の割合で混合すればよい。
【００６２】
溶媒の使用量としては、通常、ケトン（V）１モルに対して１００ｍＬ〜２０００ｍＬであり、反応を円滑に行い、かつ反応での生産性を向上させるとの理由からは、１５０ｍＬ〜１５００ｍＬであるのが好ましい。
【００６３】
上記工程（ａ）によって、安全でかつ従来よりも低コストでラセミ−カルボン酸エステル（VII）を製造することができる。
【００６４】
すなわち、上記工程（ａ）によれば、リチウムジアルキルアミドを使用する従来の方法とは異なり、超低温（−７８℃付近）で反応させる必要がないため、特別な冷却設備を要せず、また製造の作業も効率的に行うことができる。また、高価なリチウムジアルキルアミドを使用しないので、より低いコストでラセミ−カルボン酸エステル（VII）を製造することができる。また上記工程（ａ）によれば、活性化亜鉛およびブロモ酢酸エチルを使用する方法とは異なり、引火性の高い溶媒を用いることがないので安全であり、かつ廃棄物処理を要せず簡便にラセミ−カルボン酸エステル（VII）を製造することができる。またマグネシウムの調製も、上述した活性化亜鉛の調製と比較すると簡易であり、製造の作業も効率的である。さらに上記工程（ａ）においては、催涙性が強くしかも高価なブロモ酢酸エステル以外のハロ酢酸エステル（例えば、クロロ酢酸エステル）を使用することができ、その場合には、安全衛生上も問題なく、しかも低いコストにてラセミ−カルボン酸エステル（VII）を製造できる。
【００６５】
上記工程（ａ）において、使用するマグネシウムは活性化されたものであることが好ましい。上記工程（ａ）では、マグネシウムは活性化されていなくとも上記効果を奏するものであるが、活性化されたマグネシウムを使用することで、ラセミ−カルボン酸エステル（VII）の製造のための反応を円滑に、かつさらに安全に実施することができる。
【００６６】
ここで「マグネシウムの活性化」とは、マグネシウム表面の反応を阻害する物質（多くの場合、それは酸化マグネシウムによる被膜である）を取り除き、反応性が高められた状態とすることを指す。マグネシウムを活性化する方法としては、例えば、（1）クロロトリメチルシランと塩化亜鉛との組合せによる活性化、（2）クロロトリメチルシランのみによる活性化、（3）ヨウ素のみによる活性化、（4）ヨウ素とブロモ酢酸エチルの組合せによる活性化、（5）クロロシラン類とハロゲン化炭化水素の組合せによる活性化、などが例示される（以下、上記（1）の方法に用いる「クロロトリメチルシランおよび塩化亜鉛」、上記（2）の方法に用いる「クロロトリメチルシラン」、上記（3）の方法に用いる「ヨウ素」、上記（4）の方法に用いる「ヨウ素およびブロモ酢酸エチル」、上記（5）の方法に用いる「クロロシラン類およびハロゲン化炭化水素」を総称して、「活性化剤」ともいう。）。なかでも、上記（2）のクロロトリメチルシランのみによる活性化方法は、活性化が容易であること、ならびに取扱いの困難な原料を使用しないという理由により、好ましい。また、上記（5）のクロロシラン類およびハロゲン化炭化水素による活性化方法は、ヨウ素、ヨードメタン、クロロトリメチルシラン等を単一で用いるより効果的にマグネシウムを活性化できるため、さらに好ましい。
【００６７】
上記工程（ａ）におけるマグネシウムの活性化は、上記反応において溶媒中でマグネシウムとケトン（V）とエステル（VI）とが反応する直前あるいは反応開始と同時に、活性化剤を添加すればよい。
【００６８】
具体的には、溶媒中に予め仕込んだマグネシウムに活性化剤を添加する、あるいは溶媒中に予め仕込んだマグネシウムに、ケトン（V）とエステル（VI）と活性化剤との混合液を添加する、さらにあるいは、ケトン（V）およびエステル（VI）の混合液と、活性化剤とを別途に添加すればよい。また、溶媒中に予め仕込んだケトン（V）とマグネシウムとの混合物に、エステル（VI）と活性化剤との混合液を添加する、あるいはエステル（VI）と、活性化剤とを別途に添加してもよい。上記活性化剤を別途に添加する場合、ケトン（V）およびエステル（VI）の混合液またはエステル（VI）の添加の直前に、あるいは同時に添加（より好適には同時滴下）するのが好ましい。また、上記のような活性化剤の添加に際してはケトン（V）およびエステル（VI）の一部を添加しておき、活性化剤を添加して適当な時間だけ攪拌（あるいは、攪拌および適当な昇温）を行った後に、残りのケトン（V）およびエステル（VI）を添加するようにしてもよい。なお活性化剤を別途に添加する場合、活性化剤は、その種類によってはこれを含有する液に予め調製されていてもよいが、この際の溶媒としては、上述した反応に使用する溶媒を好適に使用することができる。
【００６９】
以下、上記工程（ａ）においてマグネシウムを活性化させる各方法について、具体的に説明する。
（ 1 ）クロロトリメチルシランと塩化亜鉛との組合せによる活性化
クロロトリメチルシランと塩化亜鉛とを組み合わせてマグネシウムの活性化を行う場合、クロロトリメチルシランの使用量は、マグネシウム１モルに対し０．００５モル〜０．１モルであるのが好ましく、０．０１モル〜０．１モルであるのがより好ましい。クロロトリメチルシランの使用量がマグネシウム１モルに対し０．００５モル未満であると、マグネシウムの活性化が充分に行われず、目的の反応を円滑に開始できない虞がある。またクロロトリメチルシランの使用量がマグネシウム１モルに対し０．１モルを超えると、クロロトリメチルシランとの反応によりマグネシウムが消費されてしまうため、反応を完結させるために過剰のマグネシウムが必要となり、経済的に不利となってしまうという虞がある。
【００７０】
また塩化亜鉛の使用量は、マグネシウム１モルに対し０．０１モル〜０．１モルであるのが好ましく、０．０１モル〜０．０７モルであるのがより好ましい。塩化亜鉛の使用量がマグネシウム１モルに対し０．０１モル未満であると、マグネシウムの活性化が充分に行われず、目的の反応を円滑に開始できない虞がある。また塩化亜鉛の使用量がマグネシウム１モルに対し０．１モルを超えると、塩化亜鉛との反応によりマグネシウムが消費されてしまうため、反応を完結させるために過剰のマグネシウムが必要となり、経済的に不利となってしまう虞がある。
【００７１】
上記工程（ａ）のラセミ−カルボン酸エステル（VII）の製造方法に際し、クロロトリメチルシランと塩化亜鉛とを組み合わせることによってマグネシウムを活性化させる場合、上記反応の条件としては、温度条件については、上述した範囲のうち特に２５℃〜７０℃の範囲内で行うのが好ましく、時間条件については上述した範囲のうち特に２時間〜１０時間の範囲内で行うのが好ましい。
【００７２】
上記のようにクロロトリメチルシランと塩化亜鉛とを組み合わせることによりマグネシウムの活性化を行うことで、他の方法によりマグネシウムの活性化を行った場合と比較して、特に、活性化が効果的に行われるため、より低温で目的の反応を開始できるという利点がある。
【００７３】
（ 2 ）クロロトリメチルシランのみによる活性化
上記工程（ａ）において、マグネシウムの活性化は、クロロトリメチルシランのみを用いて行ってもよい。クロロトリメチルシランの使用量は、マグネシウム１モルに対し０．００５モル〜０．６モルであるのが好ましく、０．０１モル〜０．３モルであるのがより好ましい。クロロトリメチルシランの使用量がマグネシウム１モルに対し０．００５モル未満であると、マグネシウムの活性化が充分に行われず、目的の反応を円滑に開始できない虞がある。またクロロトリメチルシランの添加量がマグネシウム１モルに対し０．６モルを超えると、クロロトリメチルシランとの反応によりマグネシウムが消費されてしまうため、反応を完結させるために過剰のマグネシウムが必要となり、経済的に不利となってしまうという虞がある。
【００７４】
上記工程（ａ）のラセミ−カルボン酸エステル（VII）の製造方法に際し、クロロトリメチルシランのみによってマグネシウムを活性化させる場合、上記反応の条件としては、温度条件については、上述した範囲のうち特に２０℃〜６０℃の範囲内で行うのが好ましく、時間条件については上述した範囲のうち特に２時間〜１０時間の範囲内で行うのが好ましい。
【００７５】
上記のようにクロロトリメチルシランのみを用いることによりマグネシウムの活性化を行うことで、他の方法によりマグネシウムの活性化を行った場合と比較して、特に、活性化が効果的に行われるため、より低温で目的の反応を開始できる、環境に対して問題となる元素を用いなくて済むというような利点がある。
【００７６】
（ 3 ）ヨウ素のみによる活性化
上記工程（ａ）においては、活性化剤としてヨウ素のみを用いてマグネシウムの活性化を行ってもよい。この場合、ヨウ素の使用量は、マグネシウム１モルに対し０．０００１モル〜０．０１モルであるのが好ましく、０．０００３モル〜０．００２モルであるのがより好ましい。ヨウ素の使用量がマグネシウム１モルに対し０．０００１モル未満であると、マグネシウムの活性化が充分に行われず、目的の反応を円滑に開始できない虞がある。またヨウ素の使用量がマグネシウム１モルに対し０．０１モルを超えると、ヨウ素との反応によりマグネシウムが消費されてしまうため、反応を完結させるために過剰のマグネシウムが必要となり、経済的に不利となる虞がある。
【００７７】
上記工程（ａ）のラセミ−カルボン酸エステル（VII）の製造方法に際し、ヨウ素のみによってマグネシウムを活性化させる場合、上記反応の条件としては、温度条件については、上述した範囲のうち特に２５℃〜６５℃の範囲内で行うのが好ましく、時間条件については上述した範囲のうち特に２時間〜１０時間の範囲内で行うのが好ましい。
【００７８】
上記にようにヨウ素のみを用いることによりマグネシウムの活性化を行うことで、他の方法によりマグネシウムの活性化を行った場合と比較して、特に、マグネシウムが活性化すると反応溶液の褐色が消失するため、活性化の確認が容易であるというような利点がある。
【００７９】
（ 4 ）ヨウ素とブロモ酢酸エチルの組合せによる活性化
上記工程（ａ）においては、上記ヨウ素に加えブロモ酢酸エチルを用いて、マグネシウムを活性化させてもよい。ヨウ素とブロモ酢酸エチルとを組み合わせてマグネシウムの活性化を行う場合、ヨウ素の使用量は、上記（3）の場合と同様の理由により、マグネシウム１モルに対し０．０００１モル〜０．０１モルであるのが好ましく、０．０００３モル〜０．００２モルであるのがより好ましい。
【００８０】
またブロモ酢酸エチルの使用量は、マグネシウム１モルに対し０．００１モル〜０．０１モルであるのが好ましく、０．００２モル〜０．００５モルであるのがより好ましい。ブロモ酢酸エチルの使用量がマグネシウム１モルに対し０．００１モル未満であると、マグネシウムの活性化が充分に行われず、目的の反応を円滑に開始できない虞がある。またブロモ酢酸エチルの使用量がマグネシウム１モルに対し０．０１モルを超えると、ブロモ酢酸エチルとの反応によりマグネシウムが消費されてしまうため、反応を完結させるために過剰のマグネシウムが必要となり、経済的に不利となる虞がある。
【００８１】
上記工程（ａ）のラセミ−カルボン酸エステル（VII）の製造方法に際し、ヨウ素とブロモ酢酸エチルとの組合せによってマグネシウムを活性化させる場合、上記反応の条件としては、温度条件については、上述した範囲のうち特に３５℃〜７０℃の範囲内で行うのが好ましく、時間条件については上述した範囲のうち特に２時間〜１０時間の範囲内で行うのが好ましい。なおこの場合においては、先にヨウ素を添加した後、ブロモ酢酸エチルを添加するようにしてもよい。
【００８２】
上記にようにヨウ素とブロモ酢酸エチルとを組み合わせることによりマグネシウムの活性化を行うことで、他の方法によりマグネシウムの活性化を行った場合と比較して、特に、マグネシウムの活性化とともに反応液が緑色に着色するため、活性化の確認が容易であるというような利点がある。
【００８３】
（ 5 ）クロロシラン類およびハロゲン化炭化水素の組合せによる活性化
当該クロロシラン類およびハロゲン化炭化水素の組合せによるマグネシウムの活性化によりラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルを製造する方法は、他の３−ヒドロキシカルボン酸エステルを製造する方法にも応用可能である。以下、当該方法を他の３−ヒドロキシカルボン酸エステルを製造する場合も含めて説明する。
【００８４】
当該方法は、下記スキームに示されるように、式（i）で表されるカルボニル化合物（以下、「カルボニル化合物（i）」ともいう）と、上記エステル（VI）と、クロロシラン類およびハロゲン化炭化水素により活性化されたマグネシウムとを反応させて、上記ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステル［ラセミ−カルボン酸エステル（VII）］のような式（ii）で表される３−ヒドロキシカルボン酸エステル（ii）（以下、「エステル（ii）」ともいう）を製造する方法である。
【００８５】
【化７】
【００８６】
（式中、Ｒ１ａおよびＲ2 ａは、反応に影響を及ぼさないものであれば、特に制限はない。Ｒ１およびＸは上記と同義である。）
【００８７】
当該製造方法に使用されるカルボニル化合物（i）としては、エステル（VI）と反応してエステル（ii）を製造し得るアルデヒドまたはケトンであれば特に制限はなく、例えば、式（i）において、Ｒ1 ａが、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基等であり、Ｒ2 ａが、水素原子、置換基を有してもよい低級アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基等であるアルデヒドまたはケトンが挙げられる。具体的には、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、１−フェニル−３−ヘキサノン［上記ケトン（V）］等が挙げられ、なかでも、抗ＨＩＶ剤として有用なＰＮＵ−１４０６９０の合成中間体であることから、１−フェニル−３−ヘキサノン［上記ケトン（V）］が好ましい。
【００８８】
上記Ｒ1 ａおよびＲ2 ａにおける「置換基を有してもよい低級アルキル基」の「低級アルキル基」とは、炭素数が１〜１０、好ましくは２〜７の直鎖または分枝鎖状のアルキル基を示し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル等が挙げられ、好ましくはプロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル等が挙げられる。
【００８９】
上記Ｒ1 ａおよびＲ2 ａにおける「置換基を有してもよいアリール基」の「アリール基」としては、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル等が挙げられ、好ましくはフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル等が挙げられる。
【００９０】
上記Ｒ1 ａおよびＲ2 ａにおける「置換基を有してもよいアラルキル基」の「アラルキル基」としては、アリール部が上記「アリール基」と同義であり、アルキル部が炭素数１〜１０、好ましくは２〜５であるアラルキル基が挙げられ、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、３−フェニルプロピル等が挙げられ、好ましくは２−フェネチル等が挙げられる。
【００９１】
上記Ｒ1 ａおよびＲ2 ａにおける「置換基を有してもよい低級アルキル基」、「置換基を有してもよいアリール基」および「置換基を有してもよいアラルキル基」の「置換基」としては、当該反応を阻害しないものであれば特に制限はなく、例えば、低級アルキル基（上記と同様のものが例示される。但し、「置換基を有してもよい低級アルキル基」の場合の置換基とはなり得ない）、ハロゲン原子（例、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、低級アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ジアルキルアミノ基等が挙げられる。該置換基の数も特に限定はなく、１〜３個が好ましく、同一または異なっていてもよい。
【００９２】
上記置換基における「低級アルコキシ基」としては、炭素数１〜１０の直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ基が挙げられ、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。
【００９３】
上記置換基における「アリールオキシ基」としては、例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ、２−ナフトキシ、１−アントリルオキシ、２−アントリルオキシ、９−アントリルオキシ等が挙げられる。
【００９４】
上記置換基における「アラルキルオキシ基」としては、例えば、ベンジルオキシ、１−フェネチルオキシ、２−フェネチルオキシ、３−フェニルプロポキシ等が挙げられる。
【００９５】
上記置換基における「ジアルキルアミノ基」としては、例えば、炭素数１〜６の直鎖状または分枝鎖状のアルキル部を有するジアルキルアミノ基が挙げられ、該アルキル部は同一または異なっていてもよく、例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、エチルメチルアミノ等が挙げられる。
【００９６】
上記方法に使用される「クロロシラン類」としては、マグネシウムを活性化し得るものであれば特に制限はなく、例えば、式（iii）
Ｒ３ａ nＳｉＣｌ（ 4-n ）（iii）
（式中、Ｒ３ａは低級アルキル基またはアリール基を示し、ｎは０〜３の整数を示す。）で表されるクロロシラン類が挙げられる。ここで、Ｒ３ａにおける「低級アルキル基」および「アリール基」としては、上記Ｒ1 ａおよびＲ2 ａの「低級アルキル基」および「アリール基」と同様のものが例示される。
【００９７】
クロロシラン類としては、具体的には、クロロトリメチルシラン、ジクロロジメチルシラン、メチルトリクロロシラン、テトラクロロシラン等が挙げられる。
【００９８】
上記方法に使用される「ハロゲン化炭化水素」としては、マグネシウムを活性化し得るものであれば特に限定はなく、例えば炭化水素の任意の１または２個の水素原子がハロゲン原子と置換したものが挙げられる。「ハロゲン原子」としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、「炭化水素」としては、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０、好ましくは１〜７の直鎖または分枝鎖状のアルカン、アルケンまたはアルキン等が挙げられ、該置換基としては、アリール基（例、フェニル基、１−ナフチル、２−ナフチル等）等が挙げられる。
【００９９】
ハロゲン化炭化水素としては、具体的には、臭化アリル、ヨードメタン、ヨードエタン、臭化ベンジル、１，２−ジヨードエタン、１，２−ジブロモエタン等が挙げられ、好ましくは臭化アリル、ヨードメタン、１，２−ジブロモエタンが挙げられる。
【０１００】
上記方法は、例えば、溶媒中に予め仕込んだマグネシウムにカルボニル化合物（i）とエステル（VI）とを同時に添加する、あるいは溶媒中に予め仕込んだカルボニル化合物（i）とマグネシウムとの混合物にエステル（VI）を添加することで実現される。
【０１０１】
上記方法においてクロロシラン類およびハロゲン化炭化水素は、マグネシウムを活性化するために添加される。ここで、「マグネシウムを活性化」とは、マグネシウム表面の反応を阻害する物質（多くの場合、それは酸化マグネシウムによる被膜である）を取り除き、反応性が高められた状態とすることを指す。
【０１０２】
クロロシラン類およびハロゲン化炭化水素によるマグネシウムの活性化は、反応開始の直前あるいは反応進行と同時、またはその両方において行ってもよい。具体的には、溶媒中に予め仕込んだマグネシウムにクロロシラン類とハロゲン化炭化水素を添加する；溶媒中に予め仕込んだマグネシウムに、カルボニル化合物（i）とエステル（VI）とクロロシラン類とハロゲン化炭化水素との混合液を添加する；溶媒中に予め仕込んだマグネシウムに、カルボニル化合物（i）とエステル（VI）の混合液と、クロロシラン類とハロゲン化炭化水素の混合液とを別途に添加する；溶媒中に予め仕込んだマグネシウムにハロゲン化炭化水素を添加した後、カルボニル化合物（i）とエステル（VI）とクロロシラン類との混合液を添加する；溶媒中に予め仕込んだマグネシウムにハロゲン化炭化水素を添加した後、カルボニル化合物（i）とエステル（VI）との混合液とクロロシラン類とを別途に添加する；溶媒中に予め仕込んだマグネシウムにハロゲン化炭化水素を添加した後、カルボニル化合物（i）とエステル（VI）とクロロシラン類とハロゲン化炭化水素との混合液を添加する；溶媒中に予め仕込んだマグネシウムにハロゲン化炭化水素を添加した後、カルボニル化合物（i）とエステル（VI）の混合液と、クロロシラン類とハロゲン化炭化水素の混合液とを別途に添加する；溶媒中に予め仕込んだカルボニル化合物（i）とマグネシウムとの混合物に、エステル（VI）とクロロシラン類とハロゲン化炭化水素との混合液を添加する；溶媒中に予め仕込んだカルボニル化合物（i）とマグネシウムとの混合物に、エステル（VI）と、クロロシラン類とハロゲン化炭化水素の混合液を別途に添加する；溶媒中に予め仕込んだカルボニル化合物（i）とマグネシウムとの混合物にハロゲン化炭化水素を添加した後、エステル（VI）とクロロシラン類とハロゲン化炭化水素の混合液を添加する；溶媒中に予め仕込んだカルボニル化合物（i）とマグネシウムとの混合物にハロゲン化炭化水素を添加した後、エステル（VI）と、クロロシラン類とハロゲン化炭化水素の混合液を別途に添加する等のいずれであってもよいが、これらに限定されるものではない。クロロシラン類またはハロゲン化炭化水素を別途に添加する場合、カルボニル化合物（i）およびエステル（VI）の混合液またはエステル（VI）の添加の直前に、あるいは同時に添加（より好適には同時滴下）するのが好ましい。また、上記のようなクロロシラン類またはハロゲン化炭化水素の添加に際してはカルボニル化合物（i）およびエステル（VI）の一部を添加しておき、クロロシラン類またはハロゲン化炭化水素を添加して適当な時間だけ撹拌（あるいは、撹拌および適当な昇温）を行った後に、残りのカルボニル化合物（i）およびエステル（VI）を添加するようにしてもよい。なおクロロシラン類またはハロゲン化炭化水素を別途に添加する場合、これを含有する溶媒に予め調製されていてもよい。
【０１０３】
上記反応において、マグネシウムの使用量は、カルボニル化合物（i）１モルに対して０．５モル〜５モルが好ましく、経済性の観点からは、０．９モル〜２モルであるのがより好ましい。上記反応において、マグネシウムの使用量がカルボニル化合物（i）１モルに対して０．５モル未満であると、カルボニル化合物（i）が一部未反応で残ることによる反応の効率低下が著しくなり、好ましくない。また上記反応において、マグネシウムをカルボニル化合物（i）１モルに対して５モルを超えて使用しても、反応に関与しないマグネシウムを大量に使用することとなり、経済的に無駄である。
【０１０４】
上記反応において、エステル（VI）の使用量は、カルボニル化合物（i）１モルに対して１モル〜３モルが好ましく、経済性の観点からは、１モル〜２モルであるのがより好ましい。上記反応において、エステル（VI）の使用量がカルボニル化合物（i）１モルに対して１モル未満であると、カルボニル化合物（i）が一部未反応で残るため、反応の効率が低下する虞がある。また上記反応において、エステル（VI）の使用量がカルボニル化合物（i）１モルに対して３モルを超えると、カルボニル化合物（i）との反応にとって不必要に大量のエステルを使用することとなり、経済的に無駄となるのみならず、生成物中にエステルが残留し、生成物の精製を困難にする虞がある。
【０１０５】
上記反応において、クロロシラン類の使用量は、マグネシウム１モルに対し０．００５モル〜０．６モルであるのが好ましく、０．０１モル〜０．３モルであるのがより好ましい。クロロシラン類の使用量がマグネシウム１モルに対し０．００５モル未満であると、マグネシウムの活性化が充分に行われず、目的の反応を円滑に開始できない虞がある。またクロロシラン類の使用量がマグネシウム１モルに対し０．６モルを超えると、クロロシラン類との反応によりマグネシウムが消費されてしまうため、反応を完結させるために過剰のマグネシウムが必要となり、経済的に不利となってしまうという虞がある。
【０１０６】
上記反応において、ハロゲン化炭化水素の使用量は、マグネシウム１モルに対し０．００１モル〜０．６モルであるのが好ましく、０．００５モル〜０．３モルであるのがより好ましい。ハロゲン化炭化水素の使用量がマグネシウム１モルに対し０．００１モル未満であると、マグネシウムの活性化が充分に行われず、目的の反応を円滑に開始できない虞がある。またハロゲン化炭化水素の使用量がマグネシウム１モルに対し０．６モルを超えると、ハロゲン化炭化水素との反応によりマグネシウムが消費されてしまうため、反応を完結させるために過剰のマグネシウムが必要となり、経済的に不利となってしまうのみならず、副反応がおこり収率が低下する虞がある。
【０１０７】
上記反応は、通常、１５℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜７０℃の温度範囲内で行われる。反応温度が１５℃未満であると、反応の進行が遅い、あるいは反応が全く進行しないというようなことが起こる虞があるためであり、また反応温度が１００℃を超えると、原料であるカルボニル化合物（i）が反応液中で分解する、あるいは生成物であるエステル（ii）が分解するため、反応の収率が低下するというようなことが起こる虞があるためである。また、上記反応は、通常、３０分間〜２０時間反応させることで行われる。
【０１０８】
上記反応に使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであればよく、ＴＨＦ、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、あるいは当該エーテル類と、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、およびヘプタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類のうちから選ばれるいずれかとの混合溶媒を、好適に使用することができる。混合溶媒とする場合には、従来公知の通常の任意の割合で混合すればよい。
【０１０９】
溶媒の総使用量としては、通常、カルボニル化合物（i）１モルに対して１００ｍＬ〜２０００ｍＬであり、反応を円滑に行い、かつ反応での生産性を向上させるとの理由からは、１５０ｍＬ〜１５００ｍＬであるのが好ましい。
【０１１０】
上記方法において、カルボニル化合物（i）として１−フェニル−３−ヘキサノン［ケトン（V）］を適用し、各種反応条件を該方法と同様にすることにより、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステル［ラセミ−カルボン酸エステル（VII）］を得ることができる。
【０１１１】
上記工程（ａ）で得られるラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステル［ラセミ−カルボン酸エステル（VII）］は、常法によって単離、精製することができる。例えば、反応液を酸性水にあけ、分液後、有機層を洗浄および濾過に付し、得られた濾液を洗浄、乾燥、減圧濃縮することによって、ラセミ−カルボン酸エステル（VII）を単離することができる。単離後、例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して精製することもできる。また、ラセミ−カルボン酸エステル（VII）は、精製することなしに後述する工程（ｂ）に供することもできる。
【０１１２】
なお、上記工程（ａ）で使用するエステル（VI）は、従来公知の種々の方法によって得ることができ、また市販のものを使用してもよい。
【０１１３】
また、上記工程（ａ）に使用されるケトン（V）は、米国公開公報２００２／００１３５０１Ａに記載される方法や１−フェニル−３−ヘキサノールを次亜塩素酸塩を用いて酸化する方法（特開２００２−２６５４０９）に従って製造したものや、市販のものを用いることができるが、本発明者が提案する以下の方法により得られたものが好ましい。
【０１１４】
１−フェニル−３−ヘキサノン（ V ）の製造方法
１−フェニル−３−ヘキサノン［ケトン（V）］は、下記反応スキームに表されるように、式（V-i）で表されるベンズアルデヒドと式（V-ii）で表される２−ペンタノンを塩基の存在下に縮合させて式（V-iii）で表されるプロピルスチリルケトンを得、次いで、得られたプロピルスチリルケトン（V-iii）を還元することにより得ることができる。
【０１１５】
【化８】
【０１１６】
以下、各工程について説明する。
【０１１７】
工程 V-1
当該工程は、ベンズアルデヒド（V-i）と２−ペンタノン（V-ii）とを縮合することによってプロピルスチリルケトン（V-iii）を得る工程である。
【０１１８】
当該縮合反応において、２−ペンタノン（V-ii）は、通常、ベンズアルデヒド（V-i）１ｍｏｌに対して１．１ｍｏｌ〜５．０ｍｏｌ使用するのが好ましく、反応時間の観点からは、２．０ｍｏｌ〜３．５ｍｏｌ使用するのが好ましい。
【０１１９】
当該反応における溶媒としては、当該反応を阻害しないものであれば特に制限はなく、通常、水、一級または二級アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、第三級アルコール類（例えば、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等）、芳香族化合物（例えば、トルエン、モノクロロベンゼン等）、エーテル類（例えば、ＴＨＦ、ジオキサン等）、原料の２−ペンタノン等の溶媒またはこれらの混合溶媒が使用される。当該溶媒は、通常、ベンズアルデヒド（V-i）１モルに対し５０ｍＬ〜５００ｍＬであり、経済性の観点、および円滑に反応を実施し得る観点からは、１５０ｍＬ〜４００ｍＬであるのが好ましい。なお混合溶媒とする場合には、従来公知の通常の任意の割合で総使用量が上記範囲になるように混合すればよい。
【０１２０】
上記反応は、塩基の存在下において行う。当該塩基としては、例えば、アルカリ金属水酸化物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等）、アミン（トリエチルアミン等）等が挙げられる。なかでもアルカリ金属水酸化物が好ましく、そのなかでも水に対する溶解性の観点から、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、塩基の使用量は、ベンズアルデヒド（V-i）１ｍｏｌに対して、通常、０．１ｍｏｌ〜１．０ｍｏｌであり、経済性の観点、および円滑に反応を実施し得る観点から、好ましくは０．２ｍｏｌ〜０．５ｍｏｌである。
【０１２１】
上記反応工程においては、通常、４０℃〜１００℃の温度範囲内で行うが、副反応を抑えた上で充分な反応速度を得るという観点からは、５５℃〜７５℃の温度範囲内で行うのが好ましい。またこの反応は、通常、３０分間〜２４時間程度の反応時間で行う。
【０１２２】
工程 V-2
上記工程V-1のようにして得たプロピルスチリルケトン（V-iii）を、還元することにより、１−フェニル−３−ヘキサノン（V）を製造することができる。
【０１２３】
当該反応は、通常、水、一級または二級アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、第三級アルコール類（例えば、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等）、芳香族化合物（例えば、トルエン、モノクロロベンゼン等）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、エーテル類（例えば、ＴＨＦ、ジオキサン等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル）等の当該反応を阻害しない溶媒またはこれらの混合溶媒、好ましくは、酢酸エチル、ＴＨＦ、アセトンまたはこれらの混合溶媒に、還元触媒を添加し、プロピルスチリルケトン（V-iii）を水素と反応させることで行う。また、上記工程V-1後の反応液を当該還元反応の反応溶媒として用いることもできる。
【０１２４】
当該反応に使用する還元触媒としては、例えば、パラジウム炭素、パラジウム、水酸化パラジウム、酸化白金、白金、白金炭素、酸化ルテニウム、ルテニウム、ルテニウム炭素などが挙げられ、なかでもパラジウム炭素、酸化白金が好ましく、パラジウム炭素が特に好ましい。当該還元触媒の使用量は、プロピルスチリルケトン（V-iii）１モルに対して、通常２ｇ〜２０ｇ、好ましくは４ｇ〜１０ｇである。還元触媒の使用量が、プロピルスチリルケトン（V-iii）１モルに対して２ｇ未満であると、反応が遅くなる傾向にあるため好ましくなく、２０ｇを越える場合、使用量に見合う効果はなく経済的に好ましくない。
【０１２５】
当該工程における水素の使用量は、プロピルスチリルケトン（V-iii）を還元できる量であれば特に限定はなく、その反応圧は、通常５０ｋＰａ〜１０００ｋＰａ、好ましくは７０ｋＰａ〜２００ｋＰａ、さらに好ましくは９０ｋＰａ〜１５０ｋＰａである。
【０１２６】
また、当該工程においては、生成物であるプロピルスチリルケトン（V-iii）の加水素分解等の副反応を抑えるため、トリエチルアミン、ソーダ灰等の塩基を添加してもよい。
【０１２７】
上記のようにして得られる１−フェニル−３−ヘキサノン（V）［ケトン（V）］は、常法によって単離することができる。例えば、還元触媒を濾過により除いた後、濾液を減圧濃縮することによって、単離することができる。単離されたケトン（V）は、減圧蒸留等によって精製することができる。また、ケトン（V）は、精製することなしに上記工程（ａ）に供することもできる。
【０１２８】
上記工程（ａ）において使用するケトン（V）を、上記の反応のようにして得ることには、米国公開公報２００２／００１３５０１Ａに記載される方法や、１−フェニル−３−ヘキサノールを次亜塩素酸塩を用いて酸化する方法（特開２００２−２６５４０９）と比較して、副反応が起こり難いという利点がある。
【０１２９】
２． ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を製造する工程［工程（ｂ）］
当該工程は、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステル［ラセミ−カルボン酸エステル（VII）］を加水分解することにより３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸［ラセミ−カルボン酸（II）］を製造する工程である。当該工程に使用されるラセミ−カルボン酸エステル（VII）は、特に限定されないが、上記工程（ａ）により得られるものが好ましい。
【０１３０】
ラセミ−カルボン酸エステル（VII）の加水分解は常法で行えばよく、例えば、溶媒中、ラセミ−カルボン酸エステル（VII）とアルカリ金属化合物と反応させることによりラセミ−カルボン酸（II）の塩が得られ、その後、必要に応じて酸で中和することにより、ラセミ−カルボン酸（II）を得ることができる。
【０１３１】
工程（ｂ）で用いる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、水など；およびこれらの混合溶媒が挙げられ、好ましくは水が挙げられる。
【０１３２】
工程（ｂ）における当該溶媒の使用量は、ラセミ−カルボン酸エステル（VII）１ｋｇに対して、通常１Ｌ〜１０Ｌ、好ましくは１Ｌ〜５Ｌである。
【０１３３】
工程（ｂ）で用いるアルカリ金属化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが挙げられ、水酸化ナトリウムが好ましい。当該アルカリ金属化合物の使用量は、ラセミ−カルボン酸エステル（VII）１モルに対して、通常１．０モル〜１０モル、好ましくは１．５モル〜２．５モルである。アルカリ金属化合物の使用量が、ラセミ−カルボン酸エステル（VII）１モルに対して１．０モル未満である場合、反応が完結しない虞があるため好ましくない。また、１０モルを越えて使用しても、使用量に見合う効果が少なく経済的に好ましくない。アルカリ金属化合物は、そのまま反応系に添加してもよいが、水溶液またはアルコール溶液として添加するのが好ましい。アルカリ金属化合物を溶解するための溶媒の使用量も、上記溶媒の使用量に含まれる。
【０１３４】
工程（ｂ）において、中和のために用いる酸としては、例えば塩酸、硫酸、リン酸などが挙げられ、その使用量は反応液のｐＨが通常７以下、好ましくは５以下となる量であればよい。
【０１３５】
工程（ｂ）において、ラセミ−カルボン酸エステル（VII）とアルカリ金属化合物との反応は、アルカリ金属化合物の種類や使用量などに依存するが、通常１５℃〜１００℃、好ましくは３０℃〜６０℃で、通常３０分間〜３０時間、好ましくは１．５時間〜２０時間で終了する。
【０１３６】
工程（ｂ）で得られるラセミ−カルボン酸（II）の単離、精製は、常法により行うことができ、例えば、反応液を溶媒で抽出し、洗浄および濾過に付し、得られた濾液を洗浄、乾燥、減圧濃縮することによって、ラセミ−カルボン酸（II）を単離することができる。
【０１３７】
ここで、工程（ｂ）で得られるラセミ−カルボン酸（II）は、精製することなしに、さらには、単離操作における抽出溶媒の一部または全部を残したラセミ−カルボン酸（II）の溶液として、後記工程（ｃ）に用いることが好ましい。すなわち、工程（ｂ）で得られるラセミ−カルボン酸（II）の抽出溶媒の溶液を、一部のみ濃縮して、あるいは全く濃縮せずに、後記工程（ｃ）に用いることが好ましい。
【０１３８】
このように後記工程（ｃ）において、ラセミ−カルボン酸（II）を、抽出溶媒を一部または全部を残した溶液として用いることにより、濃縮に伴う操作を省略することができ、経済的に有利である。また、濃縮に伴う熱処理が回避できるので、ラセミ−カルボン酸（II）の熱分解による収率の低下を回避できるという利点もある。
【０１３９】
当該抽出溶媒としては、例えば、酢酸エチル、ＭＩＢＫ、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテルおよびＴＨＦから選ばれる１種または２種以上の溶媒等の後記工程（ｃ）の光学分割で用いられるものが挙げられ、なかでもＭＩＢＫが好ましい。
【０１４０】
３． （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を製造する工程［工程（ｃ）］
当該（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸［（Ｒ）−カルボン酸（III）］を製造する工程は、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸［ラセミ−カルボン酸（II）］から（Ｒ）−カルボン酸（III）を光学分割するのに、光学活性を有する、
【０１４１】
【化９】
【０１４２】
（式中、Ｒ２は３，４−ジメトキシフェニルまたは２−クロロフェニルを示す。）
で表される光学活性アミン［光学活性アミン（VIII）］を、光学分割剤として使用することを特徴とする。
【０１４３】
具体的には、下記式（VIIIa）
【０１４４】
【化１０】
【０１４５】
で表される（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン（以下、「ジメトキシ体（VIIIa）」ともいう。）、または下記式（VIIIb）
【０１４６】
【化１１】
【０１４７】
で表される（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン（以下、「クロロ体（VIIIb）」ともいう。）を、光学分割剤として使用することを特徴とする。
【０１４８】
以下、ジメトキシ体（VIIIa）とクロロ体（VIIIb）とを特に区別せずに指して、単に「光学活性アミン（VIII）」と総称することがある。
【０１４９】
このような工程（ｃ）によれば、上記光学活性アミン（VIII）を光学分割剤として使用することで、光学純度９７％ｅ．ｅ．以上の（Ｒ）−カルボン酸（III）を３４％以上の全収率で得ることができる。特に、Ｒ ２ が３，４−ジメトキシフェニルであるジメトキシ体（VIIIa）を使用した場合には９９％ｅ．ｅ．以上の（Ｒ）−カルボン酸（III）を３４％以上の全収率で得ることができる。このように、本発明の製造方法では、従来の（−）−ノルエフェドリンを用いた（Ｒ）−カルボン酸（III）の光学分割と比較して、同程度あるいはそれ以上の光学純度を有する（Ｒ）−カルボン酸（III）の塩を、約１．３倍以上の全収率で得ることができる。このような方法によれば、（Ｒ）−カルボン酸（III）の製造において、従来と比較して、工業的な効率性が格段に向上される。
【０１５０】
なお、ここでいう「全収率」は、上述したように反応系全体を通じての収率（ラセミ−カルボン酸（II）に対する、目的とする高光学純度の（Ｒ）−カルボン酸（III）の収率）を指し、反応系の個々の反応での収率とは区別するものとする（以下、単に「収率」というときは、「生成物の生成反応の直前の原料物質から当該生成物が理論的に生成する筈の量に対し、実際に生成した生成物の量の割合」をいうものとする。）。
【０１５１】
また、ここでいう光学純度とは、後述する高速液体クロマトグラフィ法（ＨＰＬＣ）により決定される値である。
【０１５２】
当該製造方法は、具体的には、ラセミ−カルボン酸（II）と上記光学活性アミン（VIII）とを溶媒中で混合し結晶化（晶析）させることによって、（Ｒ）−カルボン酸（III）と光学活性アミンとの塩を得る。当該工程に使用されるラセミ−カルボン酸（II）としては、特に限定されないが、上記工程（ｂ）により製造されるものが好ましい。
【０１５３】
ラセミ−カルボン酸（II）と光学活性アミン（VIII）とは、より高い収率と光学純度を経済的に得るといった観点から、１：０．５〜１：１（モル比）となるように混合させるのが好ましく、１：０．８〜１：１（モル比）となるように混合させるのがより好ましい。光学活性アミン（VIII）の使用量が、ラセミ−カルボン酸（II）１モルに対して０．５モル未満であると、光学純度は向上する傾向にあるが、収率が低下する傾向にあるため好ましくない。また光学活性アミン（VIII）の使用量が、ラセミ−カルボン酸（II）１モルに対して１モルを超えると、塩の濾過性が悪化する傾向にあることに加え、収率、光学純度の面では特に変化がなく、経済的に無駄な傾向にあるため好ましくない。
【０１５４】
上記のラセミ−カルボン酸（II）と光学活性アミン（VIII）との混合の際に使用される溶媒としては、例えば酢酸エチル、メタノール、イソプロパノール、エタノール、アセトニトリル、ＭＩＢＫ、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタンおよびＴＨＦから選ばれる１種または２種以上の溶媒が挙げられる。これら溶媒は、水をさらに含有していてもよい。塩の収率、光学純度、および安全性の観点からは、上記なかでも特に、酢酸エチル、メタノール、イソプロパノール、エタノール、ＭＩＢＫ、ジイソプロピルエーテルおよびＴＨＦから選ばれる１種または２種以上の溶媒が好ましく、さらには上記工程（ｂ）における抽出溶媒としての観点から、特に酢酸エチル、ＭＩＢＫ、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテルおよびＴＨＦから選ばれる１種または２種以上の溶媒（特にＭＩＢＫ）が好ましく、あるいはこれらにさらに水を加えたものを使用するのが好ましい。
【０１５５】
上記ラセミ−カルボン酸（II）と上記光学活性アミン（VIII）とを混合する溶媒として、上述したように、上記工程（ｂ）の抽出溶媒の一部または全部を残して用いることが好ましい。すなわち、上記工程（ｂ）で得られるラセミ−カルボン酸（II）の抽出溶媒の溶液を、一部のみ濃縮して、あるいは全く濃縮しないようにして抽出溶媒の一部または全部を残し、そして必要に応じて上記溶媒を加えるようにした溶媒中で、光学分割を行うことが好ましい。
【０１５６】
上記溶媒の使用量に特に制限はないが、より高い収率、より高い光学純度で塩を得るためには、ラセミ−カルボン酸（II）１ｋｇに対して５Ｌ〜２０Ｌであるのが好ましく、８Ｌ〜１６Ｌであるのがより好ましい。溶媒の使用量がラセミ−カルボン酸（II）１ｋｇに対して５Ｌ未満であると、塩の生成時に加熱しても生じた塩を溶解させることができず、光学純度が低下する傾向にあるため好ましくない。また溶媒の使用量がラセミ−カルボン酸（II）１ｋｇに対して２０Ｌを超えると、塩の溶媒への溶解量が増加し、収率が低下する傾向にあるため好ましくない。
【０１５７】
上記溶媒が混合溶媒である場合（水との混合物である場合も含む）、従来公知の通常の任意の割合で上記使用量の範囲内になるように混合すればよい。なお、ラセミ−カルボン酸（II）を上記工程（ｂ）における抽出溶媒の溶液として用いる場合は、当該抽出溶媒の使用量も、光学分割に用いる溶媒の使用量に含まれる。
【０１５８】
上述のラセミ−カルボン酸（II）と光学活性アミン（VIII）との混合は、通常、溶媒にラセミ−カルボン酸（II）を予め溶解させた溶液または工程（ｂ）での抽出溶媒の溶液に、光学活性アミン（VIII）を添加することによって行う。この添加後に溶液を撹拌すると塩が析出するので、通常、５０℃〜１００℃に昇温撹拌して、塩を溶解させる。この昇温撹拌によっても塩の溶解が不充分である場合には、塩が溶解するまでさらに溶媒を加えてもよい。ここでさらに加える溶媒としては、上述した溶媒と同様のものを使用すればよい。
【０１５９】
（Ｒ）−カルボン酸（III）と光学活性アミン（VIII）との塩の結晶化は、例えば、上記昇温撹拌の後、塩が晶析するまで冷却して撹拌することにより行う。その後、徐々に冷却していき、一定の温度（例えば、２５℃）でさらに撹拌した後、濾過して溶媒で洗浄して撹拌することで、上述のごとき収率にて高い光学純度の（Ｒ）−カルボン酸（III）のアミン塩を得ることができる。
【０１６０】
塩が充分析出するまで徐々に冷却して撹拌する際、晶析温度は、通常、５０℃以下、好ましくは０℃〜３０℃であり、撹拌時間は、通常、０．５時間〜２０時間である。
【０１６１】
濾過後洗浄に使用する溶媒としては、晶析に用いた溶媒組成の溶媒が好ましい。なお、洗浄に使用する溶媒の量は、特に限定されず、濾過物が充分洗浄できる程度であればよい。
【０１６２】
また、本発明の製造方法は、室温（２０℃）〜５０℃で光学活性アミン（VIII）の溶液をラセミ−カルボン酸（II）の溶液に徐々に加えることで塩析出を徐々に行い、次いで徐冷することで実現されてもよい。このような方法を採ると、上記の方法と比較して、塩を一度完全に溶かす必要がないため、使用する溶媒の量を削減できるというような利点がある。
【０１６３】
次に再結晶に際して、（Ｒ）−カルボン酸（III）の塩の溶解に用いる溶媒としては、上記光学分割においてラセミ−カルボン酸（II）を溶解したのと同様のものを使用でき、好ましい溶媒についても同様である。これらの溶媒の本反応における使用量は、特に制限はないが、高い収率および高い光学純度を得ることができる点から、（Ｒ）−カルボン酸（III）の塩１ｋｇに対して５Ｌ〜２０Ｌであるのが好ましく、５Ｌ〜１５Ｌであるのがより好ましく、８Ｌ〜１５Ｌであるのが特に好ましい。上記溶媒の使用量が（Ｒ）−カルボン酸（III）の塩１ｋｇに対して５Ｌ未満であると、塩が溶けにくくなり、高い光学純度を得ることが困難になる、冷却時の撹拌が困難になる傾向にあるため好ましくない。また２０Ｌを超えると、溶解する塩の量が多くなり、収率の低下を招く傾向にあるため好ましくない。
【０１６４】
上記溶媒に（Ｒ）−カルボン酸（III）の塩を混合後、通常５０℃〜１００℃の温度範囲に昇温し、塩を溶解させる。
【０１６５】
（Ｒ）−カルボン酸（III）の塩の溶解後、この溶液を徐々に冷却し、適度な温度（例えば、４０℃〜８０℃、好ましくは４０℃〜６０℃）で種晶を加えて撹拌する。この撹拌の時間は、通常、１０分間〜５時間程度である。さらに、６０分間〜２４時間かけて、通常、０℃〜４０℃、好ましくは０℃〜３０℃まで徐々に冷却する。
【０１６６】
その後、一定の温度（例えば、２５℃）で更に撹拌し、濾過した後に溶媒で洗浄して乾燥する。濾過洗浄に使用する溶媒としては、晶析に用いたのと同様のものを用いるのが望ましい。なお、ここで得られた濾洗液を上述の光学活性アミン（VIII）とラセミ−カルボン酸（II）の塩に混合して、光学分割に再度用いてもよい。
【０１６７】
得られた（Ｒ）−カルボン酸（III）のアミン塩は、常法により、（Ｒ）−カルボン酸（III）と、光学活性アミン（VIII）とに分解することができる。例えば、（Ｒ）−カルボン酸（III）のアミン塩を、有機溶媒（例えば、酢酸エチル等）中で、例えば苛性アルカリ水溶液、炭酸アルカリ水溶液または重曹水にて分解し、さらに、例えば塩酸、硫酸などの無機酸を用いて水層を酸性として有機溶媒で抽出することにより（Ｒ）−カルボン酸（III）を得ることができる。なお、この場合、光学活性アミン（VIII）は、水層から得ることができる。
【０１６８】
また、（Ｒ）−カルボン酸（III）のアミン塩を、有機溶媒（例えば、トルエン、酢酸エチル、ＭＩＢＫ、あるいはこれらとヘプタンとの混合溶媒）中、酸（例えば、塩酸、硫酸などの無機酸など）で分解し、当該有機溶媒で抽出することにより、（Ｒ）−カルボン酸（III）を得てもよい。なお、この場合、光学活性アミン（VIII）は、上記アミン塩の分解に使用した酸の塩として得ることができる。
【０１６９】
また、光学分割で使用する光学活性アミン（VIII）は、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸または（Ｒ）−カルボン酸（III）と、光学活性アミン（VIII）との塩（以下、「当該カルボン酸等との塩」ともいう）から回収したものも好ましく用いられる。
【０１７０】
ここで、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と光学活性アミン（VIII）との塩からの回収とは、ラセミ−カルボン酸（II）と、光学活性アミン（VIII）との塩から、（Ｒ）−カルボン酸（III）と光学活性アミン（VIII）とを結晶化させたときの濾洗液に含まれる塩から光学活性アミン（VIII）を回収するこという。
【０１７１】
また、（Ｒ）−カルボン酸（III）と光学活性アミン（VIII）との塩からの回収とは、（Ｒ）−カルボン酸（III）と光学活性アミン（VIII）との塩の分解において、生成する光学活性アミン（VIII）を回収することをいう。
【０１７２】
光学活性アミン（VIII）を、当該カルボン酸等との塩から回収する方法としては、定法により行うことができ、例えば、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と光学活性アミン（VIII）との塩を含む濾洗液または（Ｒ）−カルボン酸（III）と光学活性アミン（VIII）との塩を、有機溶媒（例えば、トルエン、酢酸エチル、ＭＩＢＫ、あるいはこれらとヘプタンとの混合溶媒）中で、例えば苛性アルカリ水溶液、炭酸アルカリ水溶液または重曹水で分解することにより、光学活性アミン（VIII）を有機溶媒層から回収することができる。
【０１７３】
また、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と光学活性アミン（VIII）との塩を含む濾洗液または（Ｒ）−カルボン酸（III）と光学活性アミン（VIII）との塩を、有機溶媒（例えば、トルエン、酢酸エチル、ＭＩＢＫ、あるいはこれらとヘプタンとの混合溶媒）中、酸（例えば、塩酸、硫酸などの無機酸など）で分解し、光学活性アミン（VIII）と使用した酸の塩を水層から回収することができる。さらに、水層を苛性アルカリ水溶液、炭酸アルカリ水溶液または重曹水等で処理した後、有機溶媒（例えば、トルエン、酢酸エチル、ＭＩＢＫ、あるいはこれらとヘプタンとの混合溶媒）で抽出することにより、光学活性アミン（VIII）を有機溶媒層から回収することができる。
【０１７４】
回収された光学活性アミン（VIII）は、定法により単離、精製することができる。例えば、光学活性アミン（VIII）を含む有機溶媒層を水洗後、濃縮することにより光学活性アミン（VIII）を単離することができる。単離後、例えば減圧蒸留に付して精製することができる。また、回収された光学活性アミン（VIII）は、精製することなしに光学分割に供することもできる。
【０１７５】
上記のように回収された光学活性アミン（VIII）を用いることによって、光学活性アミン（VIII）を繰り返し使用することができ、また、新たに合成するより経済的であるため、より低いコストで（Ｒ）−カルボン酸（III）を製造することができる。
【０１７６】
上記のようにして得られる（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸［（Ｒ）−カルボン酸（III）］は、抗ＨＩＶ剤ＰＮＵ−１４０６９０の合成中間体として、非常に有用であると考えられる。（Ｒ）−カルボン酸（III）からＰＮＵ−１４０６９０への誘導は、たとえば上記文献（J. Org. Chem., Vol.63, No.21, 1998, 7348-7356）に記載のように行えばよい。
【０１７７】
また、（Ｒ）−カルボン酸（III）を用いて、後述する本発明者らが提案する方法により、（Ｒ）−５−ヒドロキシ−３−オキソ−５−（２−フェニルエチル）オクタン酸エステルを製造することができる。
【０１７８】
光学活性アミン（VIII）の製造方法
（ i ）方法１
上記工程（ｃ）で使用する光学活性アミン（VIII）は、本発明者らが提案する以下の方法によって得ることが好ましい。
【０１７９】
すなわち、下記スキームに表されるように、式（VIII-i）で表される化合物（以下、「化合物（VIII-i）」ともいう。）と式（VIII-ii）で表される（Ｒ）−１−フェニルエチルアミン（以下、「（Ｒ）−アミン（VIII-ii）」ともいう。）を縮合させて式（VIII-iii）で表されるイミン化合物（以下、「イミン化合物（VIII-iii）」ともいう。）を得た（工程VIII-1）後、還元すること（工程VIII-2）により、光学活性アミン（VIII）を製造することができる。
【０１８０】
【化１２】
【０１８１】
（式中、Ｒ2は、上記と同義を示す。）
【０１８２】
以下、光学活性アミン（VIII）の製造方法について説明する。
上記反応におけるイミン化合物（VIII-iii）は、化合物（VIII-i）と（Ｒ）−アミン（VIII-ii）とを縮合することによって得ることができる（工程VIII-1）。この縮合反応において、（Ｒ）−アミン（VIII-ii）は、通常、化合物（VIII-i）の８０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％使用すればよく、９０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％使用するのが好ましい。
【０１８３】
工程VIII-1における溶媒としては、当該反応を阻害しないものであれば特に制限はなく、通常、メタノール、エタノール、イソプロパノール、トルエン等、好ましくはメタノール、イソプロパノール、トルエン等またはこれらの混合溶媒が使用される。上記溶媒は、通常、化合物（VIII-i）１モルに対し１００ｍＬ〜５００ｍＬであり、経済性の観点、および円滑に反応を実施し得る観点からは、２００ｍＬ〜４００ｍＬであるのが好ましい。なお混合溶媒とする場合には、従来公知の通常の任意の割合で総使用量が上記範囲になるように混合すればよい。
【０１８４】
工程VIII-1においては、通常、２５℃〜８０℃の温度範囲内で行うが、副反応を抑えた上で充分な反応速度を得るという観点からは、３０℃〜６０℃の温度範囲内で行うのが好ましい。またこの反応は、通常、１５分間〜１０時間程度の反応時間で行う。
【０１８５】
このようにして得たイミン化合物（VIII-iii）を、還元することにより、光学活性アミン（VIII）を製造する（工程VIII-2）。この反応は、通常、上記の工程VIII-1後の反応液に、還元触媒を添加し、イミン化合物（VIII-iii）を水素と反応させることで行われる。
【０１８６】
還元触媒としては、例えば、パラジウム炭素、パラジウム、水酸化パラジウム、酸化白金、白金、白金炭素、酸化ルテニウム、ルテニウム、ルテニウム炭素などが挙げられ、パラジウム炭素、酸化白金が好ましく、パラジウム炭素がさらに好ましい。当該還元触媒の使用量は、化合物（VIII-i）１モルに対して、通常１ｇ〜１０ｇ、好ましくは１．５ｇ〜５．０ｇである。還元触媒の使用量が、化合物（VIII-i）１モルに対して１ｇ未満であると、反応が遅くなる傾向にあるため好ましくなく、１０ｇを超える場合、使用量に見合う効果はなく経済的に好ましくない。
【０１８７】
工程VIII-2における水素の使用量は、イミン化合物（VIII-iii）を還元できる量であれば特に限定はなく、その反応圧は、通常１００ｋＰａ〜３０００ｋＰａ、好ましくは１００ｋＰａ〜２０００ｋＰａ、さらに好ましくは２００ｋＰａ〜１５００ｋＰａである。
【０１８８】
また、工程VIII-2においては、生成物である光学活性アミン（VIII）の加水素分解等の副反応を抑えるため、トリエチルアミン、ソーダ灰等の塩基を添加することが好ましい。当該塩基の添加量は、還元触媒１ｇに対して通常０．１ｇ〜１０ｇ、好ましくは１ｇ〜３ｇである。当該塩基の添加量が、還元触媒１ｇに対して０．１ｇ未満であると、光学活性アミン（VIII）の加水素分解等の副反応を充分抑えることができなくなる傾向にあるため好ましくなく、１０ｇを超える場合、還元触媒が不活性化されて反応が遅くなる傾向があり好ましくない。
【０１８９】
工程VIII-2で得られる光学活性アミン（VIII）は、常法によって単離することができる。例えば、還元触媒を濾過により除いた後、濾液を減圧濃縮することによって、単離することができる。単離された光学活性アミン（VIII）は、減圧蒸留等によって精製することができる。また、光学活性アミン（VIII）は、精製することなしに上記工程（ｃ）に供することもできる。
【０１９０】
上記工程（ｃ）において使用する光学活性アミン（VIII）の製造において、上記のような還元を行うことで、水素化ほう素ナトリウム等の還元剤を用いて還元を行う場合と比較して、還元剤を化学量論量使用する必要がなく、かつ還元触媒を繰り返し使用することができるので経済的である。また、還元剤の分解等の煩雑な操作を行う必要がなく、還元触媒の濾過、濾液の濃縮という簡便な操作で行うことができるため、効率がよいという利点がある。
【０１９１】
（ ii ）方法２
本発明の工程（ｃ）で使用する光学活性アミン（VIII）のジメトキシ体（VIIIa）［（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン］は、以下のようにしても得ることができる。
【０１９２】
まず、３，４−ジメトキシベンズアルデヒド溶液を４０℃〜６０℃程度にまで加熱しながら（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンを添加する。３，４−ジメトキシベンズアルデヒドを溶解させる溶媒としては、特に制限はないが、メタノール、イソプロパノール、エタノールなどが例示される。（Ｒ）−１−フェニルエチルアミン量は、３，４−ジメトキシベンズアルデヒドの９０ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％となるように添加することが好ましい。
【０１９３】
（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンの添加後、加熱した状態で０．５時間〜２時間程度攪拌した後、２０℃〜３５℃まで冷却し、水素化ホウ素ナトリウムを添加する。水素化ホウ素ナトリウムは、反応性の観点より、３，４−ジメトキシベンズアルデヒド１モルに対して１：０．５（モル比）程度となるように混合させるのが好ましい。
【０１９４】
上記反応後、トルエンなどで抽出後、洗浄、濃縮するという自体公知の手法にて、（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミンを得ることができる。
【０１９５】
また、光学活性アミン（VIII）のクロロ体（VIIIb）［（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン］は、例えば、上述したジメトキシ体（VIIIa）の合成方法において、３，４−ジメトキシベンズアルデヒドに換えて、２−クロロベンズアルデヒドを使用する以外は同様に行うことで、得ることができる。
【０１９６】
４． （Ｒ）−５−ヒドロキシ−３−オキソ−５−（２−フェニルエチル）オクタン酸エステルの製造方法
本方法は、下記スキームで示されるように、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸［（Ｒ）−カルボン酸（III）］と、ハロゲン化剤と、式（iv）で表されるイミダゾール化合物（以下、「イミダゾール化合物（iv）」ともいう。）とを塩基の存在下に反応させて、式（IX）で表されるイミダゾリド（以下、「イミダゾリド（IX）」ともいう。）を得、得られたイミダゾリド（IX）を、２価の金属塩の存在下、式（v）で表されるマロン酸モノエステル（以下、「マロン酸モノエステル（v）」ともいう。）と反応させた後、酸で処理して、式（X）で表される（Ｒ）−５−ヒドロキシ−３−オキソ−５−（２−フェニルエチル）オクタン酸エステル（以下、「（Ｒ）−カルボン酸エステル（X）」ともいう。）を製造する方法である。当該方法に使用される（Ｒ）−カルボン酸（III）としては、特に限定されず、J. Org. Chem., Vol. 63, No. 21, 1998, p7348-7356に記載される方法などの方法により得られるものを使用することができるが、上記工程（ｃ）により製造されるものが好ましい。
【０１９７】
【化１３】
【０１９８】
（式中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂおよびＲ３ｂは、それぞれ同一または異なって水素原子または有機基を示し、Ｒ1 ｃおよびＲ２ｃは、反応に影響を及ぼさないものであれば、特に制限はない。）
【０１９９】
当該方法は、（Ｒ）−カルボン酸（III）以外のカルボン酸から（Ｒ）−カルボン酸エステル（X）以外のβ−ケトエステルを製造する方法にも応用可能である。以下、当該方法を（Ｒ）−カルボン酸エステル（X）以外のβ−ケトエステルを製造する場合も含めて説明する。
【０２００】
下記スキ−ムで示されるように、（Ｒ）−カルボン酸（III）ような式（vi）で表されるカルボン酸（以下、「カルボン酸（vi）」ともいう。）と、ハロゲン化剤と、イミダゾール化合物（iv）とを塩基の存在下に反応させて、式（vii）で表されるイミダゾリド（以下、「イミダゾリド（vii）」ともいう。）を得、得られたイミダゾリド（vii）を、２価の金属塩の存在下、マロン酸モノエステル（v）と反応させた後、酸で処理することにより、（Ｒ）−カルボン酸エステル（X）のような式（viii）で表されるβ−ケトエステル（以下、「β−ケトエステル（viii）」ともいう。）を製造することができる。当該方法で得られるβ−ケトエステル（viii）は医薬品、農薬等の有用な中間体である。
【０２０１】
【化１４】
【０２０２】
（式中、Ｒ１ｄは有機基を示し、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ１ｃおよびＲ２ｃは、上記と同義である。）
【０２０３】
上記製造方法における式（vi）のＲ１ｄで表される「有機基」としては、例えば、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいヘテロアリール基等が挙げられる。
【０２０４】
上記「置換基を有してもよいアルキル基」の「アルキル基」としては、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル等が挙げられる。好ましくは炭素数１〜１２の直鎖または分岐鎖状のアルキル基、例えば、エチル、ヘプチル、ヘプタデシル、３−ヘプチル等が挙げられる。また、当該アルキル基は二重結合、三重結合を有していてもよく、このようなものとしては、例えば、アリル、プロピニル等が挙げられる。
【０２０５】
上記「置換基を有してもよいシクロアルキル基」の「シクロアルキル基」としては、炭素数３〜８のシクロアルキル基が挙げられ、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。好ましくは炭素数３〜６のシクロアルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロヘキシル等が挙げられる。
【０２０６】
上記「置換基を有してもよいアリール基」の「アリール基」としては、炭素数６〜１８のアリール基が挙げられ、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル等が挙げられる。好ましくは炭素数６〜１２のアリール基、例えば、フェニル、２−ナフチル等が挙げられる。
【０２０７】
上記「置換基を有してもよいアラルキル基」の「アラルキル基」としては、アリール部が上記「アリール基」と同義であり、アルキル部が炭素数１〜１４の直鎖または分岐鎖状のアルキル基である、炭素数７〜２０のアラルキル基が挙げられ、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、２−フェニルエチル、２−（２−フェニルエチル）ペンチル等が挙げられる。好ましくは炭素数７〜１６のアラルキル基が挙げられ、例えば、２−フェニルエチル、２−（２−フェニルエチル）ペンチル等が挙げられる。また、当該アラルキル基のアルキル部分は、二重結合、三重結合を有していてもよく、このようなアラルキル基としては、例えば、スチリル等が挙げられる。
【０２０８】
上記「置換基を有してもよいヘテロアリール基」の「ヘテロアリール基」としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子からなる群から選択される１つ以上のヘテロ原子と、３〜１２個の炭素原子を有する５員〜１３員環のヘテロアリールが挙げられ、例えば、ピリジル、キノリル、イソキノリル、チエニル、フリル、ピリジル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピリミジニル、ピラジニル等が挙げられる。好ましくは１つの窒素原子と、５〜９個の炭素原子を有する６員〜１３員環のヘテロアリール基、例えば、ピリジル、キノリル等が挙げられる。
【０２０９】
これらの基には更に水酸基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、炭素数１〜６のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等）、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル等）、ニトロ基、オキソ基、ニトリル基、炭素数１〜８のアミド基（例えば、ホルムアミド、アセトアミド、プロピオンアミド、ブチルアミド、ペンタンアミド、ヘキサンアミド、ヘプタンアミド、オクタンアミド、ベンズアミド等）、並びに上記に定義される「アルキル基」、「シクロアルキル基」、「アリール基」、「アラルキル基」および「ヘテロアリール基」などの本反応を阻害しない置換基を有していても良い。また、当該置換基の数も特に限定されないが、１〜３個が好ましく、また、これらは同一または異なっていてもよい。
【０２１０】
以下、上記製造方法におけるカルボン酸（vi）の好適な具体例を示す。
（１）上記「置換基を有してもよいアルキル基」を有するカルボン酸としては、例えば、プロピオン酸、カプリン酸、ステアリン酸、２−エチルヘキサン酸等が挙げられる。
【０２１１】
（２）上記「置換基を有してもよいシクロアルキル基」を有するカルボン酸としては、シクロプロパン酸、シクロへキサン酸等が挙げられる。
【０２１２】
（３）上記「置換基を有してもよいアリール基」を有するカルボン酸としては、安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、ナフタレン−２−カルボン酸、４−クロロ安息香酸等が挙げられる。
【０２１３】
（４）上記「置換基を有してもよいアラルキル基」を有するカルボン酸としては、３−フェニルプロピオン酸、２−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−２−フェニル酢酸、桂皮酸、３−（２−フェニルエチル）へキサン酸、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）へキサン酸等が挙げられる。
【０２１４】
（５）上記「置換基を有してもよいヘテロアリール基」を有するカルボン酸としては２−クロロニコチン酸、２，６−ジクロロ−５−フルオロニコチン酸、キノリン−３−カルボン酸等が挙げられる。
【０２１５】
なかでも、医薬中間体として有用なβ−ケトエステルを製造することができることから、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（特にその（Ｒ）体）、２，６−ジクロロ−５−フルオロニコチン酸、桂皮酸、４−ヒドロキシ安息香酸等が好ましい。
【０２１６】
上記製造方法における「イミダゾール化合物」とは、イミダゾールの炭素に結合した水素原子が有機基で置換されてもよい化合物をいい、例えば、イミダゾールまたは２−メチルイミダゾール等が挙げられ、なかでもイミダゾールが好ましい。
【０２１７】
上記式（iv）中のＲ１ｂ、Ｒ２ｂおよびＲ３ｂにおける「有機基」としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
【０２１８】
前記の「アルキル基」としては、炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖のもの、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
【０２１９】
前記の「シクロアルキル基」としては、炭素数３〜６のシクロアルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルなどが挙げられる。
【０２２０】
前記の「アリール基」としては、フェニル、ナフチル、トリル、キシリル、メシチル、クメニルなどが挙げられる。
【０２２１】
前記の「アラルキル基」としては、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピルなどが挙げられる。
【０２２２】
前記の「ハロゲン化剤」としては、特に限定はないが、例えば塩化チオニル、臭化チオニル、ホスゲン、ジホスゲン、トリホスゲン等が挙げられ、なかでも塩化チオニルが好ましい。
【０２２３】
上記方法における「塩基」としては、脂肪族第３級アミン類（例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど）、芳香族第３級アミン類（例、ピリジン、ピコリン、２,６−ルチジン、コリジン、４−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ,Ｎ−ジエチルアニリンなど）またはアルカリ金属炭酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）が挙げられ、トリエチルアミンまたは炭酸ナトリウムが好ましく、特に、トリエチルアミンが好ましい。
【０２２４】
上記方法に使用する「マロン酸モノエステル（v）」としては、特に制限はないが、例えば、マロン酸モノアルキルエステル、すなわち、式（v）において、Ｒ1 ｃが炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル等）、好ましくは炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状のアルキル基（例えば、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル等）であり、Ｒ２ｃが水素原子または１価の金属原子、好ましくはアルカリ金属原子（例えば、ナトリウム、カリウム等）であるものが挙げられる。具体的には、マロン酸エチルカリウム、マロン酸エチルナトリウム、マロン酸イソプロピルカリウム、マロン酸ｔｅｒｔ−ブチルカリウムなどが例示される。なかでも、入手が容易であるとの理由から、マロン酸エチルカリウムを使用するのが好ましい。
【０２２５】
上記方法における「２価の金属塩」としては、塩化マグネシウムが好ましい。
【０２２６】
上記方法における「酸」としては、例えば、鉱酸類（例、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸など）、有機酸（例、酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸など）などが挙げられ、なかでも塩酸が好ましい。
【０２２７】
上記方法において「酸で処理する」とは、反応混合液に酸を添加するか、または、酸に反応混合液を添加することによって、反応液の液性を中性から弱酸性にすることをいう。
【０２２８】
工程 viii-1
イミダゾリド（vii）を製造する反応は、例えば、溶媒中、カルボン酸（vi）と、ハロゲン化剤と、イミダゾール化合物（iv）とを塩基の存在下に反応させることで実現される。
【０２２９】
上記反応において、試薬の添加順序は、特に限定はなく、例えば、溶媒中に予め仕込んだイミダゾール化合物（iv）とカルボン酸（vi）との混合物に塩基の存在下、ハロゲン化剤を添加する；溶媒中に仕込んだイミダゾール化合物（iv）に塩基の存在下、ハロゲン化剤を添加した後に、さらに、カルボン酸（vi）を添加する；または、溶媒中に仕込んだハロゲン化剤に、塩基とイミダゾール化合物（iv）の混合物を添加した後に、さらに、カルボン酸（vi）を添加する等でもよい。
【０２３０】
上記反応において、イミダゾール化合物（iv）の使用量は、カルボン酸（vi）１モルに対して１モル〜３モルであるのが好ましく、経済性の観点からは、１．１モル〜２．２モルであるのがより好ましい。上記反応において、イミダゾール化合物（iv）の使用量がカルボン酸（vi）１モルに対して１モル未満であると、カルボン酸（vi）が一部未反応で残るため、反応の効率が低下する虞がある。また上記反応において、イミダゾール化合物（iv）をカルボン酸（vi）１モルに対して３モルを超えて使用しても、反応に関与しないイミダゾール化合物（iv）が大量に存在することとなり、経済的に好ましくない。
【０２３１】
また上記反応において、ハロゲン化剤の使用量は、カルボン酸（vi）１モルに対して１モル〜１．１モルであるのが好ましく、経済性の観点からは、１．０１モル〜１．０５モルであるのがより好ましい。上記反応において、ハロゲン化剤の使用量がカルボン酸（vi）１モルに対して１モル未満であると、カルボン酸（vi）が一部未反応で残るため、反応の効率が低下する虞がある。また上記反応において、ハロゲン化剤の使用量がカルボン酸（vi）１モルに対して１．１モルを超えると、カルボン酸（vi）との反応にとって不必要に大量のハロゲン化剤を使用することとなり、経済的に好ましくないばかりでなく、生成物中にハロゲン化剤が残留し、脱水反応や脱離反応等の副反応を生じる虞がある。
【０２３２】
また上記反応において、塩基の使用量は、カルボン酸（vi）１モルに対して１モル〜３モルであるのが好ましく、経済性の観点からは、１．１モル〜２．５モルであるのがより好ましい。上記反応において、塩基の使用量がカルボン酸（vi）１モルに対して１モル未満であると、カルボン酸（vi）が一部未反応で残るため、反応の効率が低下する虞があるのみならず、反応液が酸性となり、脱水反応または脱離反応等の副反応を生じる虞がある。また上記反応において、塩基の使用量がカルボン酸（vi）１モルに対して３モルを超えると、カルボン酸（vi）との反応にとって不必要に大量の塩基を使用することとなり、経済的に好ましくない。
【０２３３】
上記反応は、通常、−２５℃〜０℃、好ましくは−２０℃〜−１０℃の温度範囲内で行われる。反応温度が−２５℃未満であると、反応の進行が遅い、あるいは反応が全く進行しないというようなことが起こる虞があるためであり、また反応温度が０℃を超えると、原料であるカルボン酸（vi）が反応液中で分解する、あるいは生成物であるイミダゾリド（vii）が分解するため、反応の収率が低下するというようなことが起こる虞があるためである。
【０２３４】
上記反応の反応時間は、特に限定はなく、通常、３０分間〜１時間で終了する。
【０２３５】
上記反応に使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであればよく、ＴＨＦ、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、あるいは当該エーテル類と、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘプタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類のうちから選ばれるいずれかとの混合溶媒を、好適に使用することができる。混合溶媒とする場合には、従来公知の通常の任意の割合で混合すればよい。
【０２３６】
溶媒の使用量としては、通常、カルボン酸（vi）１モルに対して８００ｍＬ〜４５００ｍＬであり、反応を円滑に行い、かつ生産性を向上させるとの理由からは、１０００ｍＬ〜３０００ｍＬであるのが好ましい。
【０２３７】
イミダゾリド（vii）は、公知の単離方法（例、抽出、乾燥など）、公知の精製方法（例、結晶化など）で単離精製することができ、または、単離精製することなく、反応混合物のまま用いることもできる。
【０２３８】
工程 viii-2
上記のようにして得られるイミダゾリド（vii）を、例えば、溶媒中、イミダゾリド（vii）とマロン酸モノエステル（v）を２価の金属塩の存在下、反応させ［工程viii-2-1］、次いで、酸で処理すること［工程viii-2-2］により、β−ケトエステル（viii）を製造することができる。
【０２３９】
工程 viii-2-1
当該工程において、試薬の添加の順序は特に限定はなく、例えば、溶媒中に予め仕込んだマロン酸モノエステル（v）と２価の金属塩との混合物に、イミダゾリド（vii）を添加する、または、溶媒中に予め仕込んだイミダゾリド（vii）と２価の金属塩との混合物に、マロン酸モノエステル（v）を添加する等でもよい。
【０２４０】
当該工程において、マロン酸モノエステル（v）の使用量は、イミダゾリド（vii）１モルに対して１モル〜２モルが好ましく、経済性の観点からは、１．３モル〜１．６モルであるのがより好ましい。上記工程viii-2-1において、マロン酸モノエステル（v）の使用量がイミダゾリド（vii）１モルに対して１モル未満であると、イミダゾリド（vii）が一部未反応で残るため、反応の効率が低下する虞がある。また上記工程viii-2-1において、マロン酸モノエステル（v）をイミダゾリド（vii）１モルに対して２モルを超えて使用しても、反応に関与しないマロン酸モノエステル（v）が大量に存在することとなり、経済的に好ましくない。
【０２４１】
また当該工程において、２価の金属塩の使用量は、マロン酸モノエステル（v）１モルに対して１モル〜２モルが好ましく、経済性の観点からは、１．１モル〜１．５モルであるのがより好ましい。上記工程viii-2-1において、２価の金属塩の使用量がマロン酸モノエステル（v）１モルに対して１モル未満であると、マロン酸モノエステル（v）が一部未反応で残るため、反応の効率が低下する虞がある。また上記工程viii-2-1において、２価の金属塩の使用量がマロン酸モノエステル（v）１モルに対して２モルを超えると、マロン酸モノエステル（v）との反応にとって不必要に大量の２価の金属塩を使用することとなり、経済的に好ましくない。
【０２４２】
当該工程は、通常、２０℃〜７０℃、好ましくは４０℃〜６０℃の温度範囲内で行われる。反応温度が２０℃未満であると、反応の進行が遅い、あるいは反応が全く進行しないというようなことが起こる虞があるためであり、また反応温度が７０℃を超えると、原料であるイミダゾリド（vii）が反応液中で分解するため、反応の収率が低下するというようなことが起こる虞があるためである。
【０２４３】
当該工程の反応時間は、特に限定はなく、通常、４時間〜１０時間で終了する。
【０２４４】
工程 viii-2-2
当該工程においては、上記工程viii-2-1における反応混合物に酸を添加してもよいし、酸に工程viii-2-1における反応混合物を加えてもよい。
【０２４５】
当該工程において、酸の量は、イミダゾリド（vii）１モルに対して2モル〜４モルが好ましく、経済性の観点からは、２．３モル〜３モルがより好ましい。上記工程viii-2-2において、酸の量がイミダゾリド（vii）１モルに対して２モル未満であると、脱炭酸反応が十分進まず、反応の効率が低下する虞がある。また上記工程viii-2-2において、酸の使用量がイミダゾリド（vii）１モルに対して４モルを超えると、反応液の酸性が強くなり過ぎて、生成物のラセミ化や脱離反応等の副反応がおこる虞がある。
【０２４６】
当該工程は、通常、−１０℃〜４０℃、好ましくは０℃〜２０℃の温度範囲内で行われる。反応温度が−１０℃未満であると、反応の進行が遅い、あるいは反応が全く進行しないというようなことが起こる虞があるためであり、また反応温度が４０℃を超えると、生成物であるβ−ケトエステル（viii）が分解するため、反応の収率が低下するというようなことが起こる虞があるためである。
【０２４７】
当該工程の反応時間は、特に限定はなく、通常、１５分間〜３０分間で終了する。
【０２４８】
上記工程viii-2-1および工程viii-2-2に使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであればよく、ＴＨＦ、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類、あるいは当該エーテル類と、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘプタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類のうちから選ばれるいずれかとの混合溶媒を、好適に使用することができる。混合溶媒とする場合には、通常の任意の割合で混合すればよい。上記viii-2-1および工程viii-2-2に使用される溶媒は、同一または異なっていてもよい。
【０２４９】
溶媒の使用量としては、通常、イミダゾリド（vii）１モルに対して１０００ｍＬ〜５０００ｍＬであり、反応を円滑に行い、かつ反応での生産性を向上させるとの理由からは、２０００ｍＬ〜３０００ｍＬであるのが好ましい。
【０２５０】
β−ケトエステル（viii）は、公知の単離方法（例、抽出、乾燥など）、公知の精製方法（例、結晶化、シリカゲルカラムクロマトグラフィーなど）で単離精製することができ、または、単離精製することなく、反応混合物のまま用いることもできる。
【０２５１】
上記方法で使用するマロン酸モノエステル（v）は、従来公知の種々の方法によって得ることができ、また市販のものを使用してもよい。
【０２５２】
上記方法によって、従来よりも低コストでβ−ケトエステル（viii）を効率的に製造することができる。すなわち、上記方法によれば、高価なＮ，Ｎ’−カルボニルジイミダゾールを使用せず、しかも、１当量ないし2当量のイミダゾール化合物（iv）で反応できるため、より低いコストでβ−ケトエステル（viii）を効率的に製造することができる。
【０２５３】
また、上記方法におけるイミダゾリド（vii）の製造方法は、β−ケトエステルの合成の他、エステル化、アミド化等にも利用できる。
【０２５４】
上記製造方法において、カルボン酸（vi）として（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸［（Ｒ）−カルボン酸（III）］（すなわち、式（vi）中のＲ１ｄが２−ヒドロキシ−２−（２−フェニルエチル）ペンチル）を適用し、各種反応条件を該方法と同様にすることにより、イミダゾリド（IX）を経て、（Ｒ）−５−ヒドロキシ−３−オキソ−５−（２−フェニルエチル）オクタン酸エステル［（Ｒ）−カルボン酸エステル（X）］を製造することができる。
【実施例】
【０２５５】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
なお、ＮＭＲのδはｐｐｍで表す。
【０２５６】
また、光学純度は、以下の方法により決定した。
（光学純度）
試料（結晶等）の一部をトルエンに懸濁し、苛性ソ−ダ水を加え攪拌溶解した。水層を分液して取り、１０％塩酸で酸性とした後、トルエンで抽出した。トルエン層を濃縮後、ＤＭＦ、ヒュ−ニッヒ塩基、ベンジルブロミドを加えて、４０℃で３０分加熱した。上記加熱で得られた反応混合物にトルエン、１０％塩酸を加え、水層を分液後、トルエン層を濃縮した。残渣をイソプロパノールに溶解し、ＨＰＬＣ（固定相：ダイセルキラルセル ＯＤ、移動相：４％ イソプロパノール／ヘキサン）で両鏡像異性体［（Ｒ）体および（Ｓ）体］を分離し、ピーク面積百分率を求め、光学純度（％ｅ.ｅ.）を決定した。
【０２５７】
実施例１ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（３７．２g，１．５３ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（６０．５ｇ）に懸濁し、臭化アリル（１．４ｇ，０．０１ｍｏｌｅ）を滴下した。２２℃から３８℃に昇温後、ジメチルジクロロシラン（７．３ｇ，０．０６ｍｏｌｅ）と１−フェニル−３−ヘキサノン（１８０．２ｇ，１．０２ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（１３９．１ｇ，１．１３ｍｏｌｅ）、臭化アリル（１．４ｇ，０．０１ｍｏｌｅ）のＴＨＦ（４７２．９ｇ）溶液を３５〜４０℃で４．７時間かけて滴下した。さらにクロロ酢酸エチル（４１．７ｇ，０．３４ｍｏｌｅ）を３０〜４０℃で１時間かけて滴下した。４０℃で１．５時間撹拌後、反応液をデカントして未反応のマグネシウムを分離した。デカントした反応液を３５％塩酸（１５１．８ｇ，１．５０ｍｏｌｅ）、塩化アンモニウム（１５．９ｇ，０．３０ｍｏｌｅ）、水（２８０．７ｇ）の混合物に滴下した後３０〜４０℃で分液した。有機層を濃縮して、表題化合物を２１５．１ｇ（収率７９．６％）含む残渣（３４２．６ｇ）を得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ）０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２８−１．４１（２Ｈ，ｍ），1．５４−１．５９（２Ｈ，ｍ），１．６３−１．８３（２Ｈ，ｍ），２．５３−２．６９（２Ｈ，ｍ），３．５９（１Ｈ，ｓ），４．１８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．１８−７．１９（３Ｈ，ｍ），７．２７−７．２９（２Ｈ，ｍ）．
【０２５８】
実施例２ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（７．４５ｇ，０．３１ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１２．１ｇ）に懸濁し、臭化アリル（０．２８ｇ，０．００２３ｍｏｌｅ）を滴下した。２０℃〜３０℃に昇温後、メチルトリクロロシラン（３．３９ｇ，０．０２３ｍｏｌｅ）と１−フェニル−３−ヘキサノン（４０．０ｇ，０．２２７ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（２７．８１ｇ，０．２３ｍｏｌｅ）、臭化アリル（０．２７５ｇ，０．００２３ｍｏｌｅ）のＴＨＦ（９４．６ｇ）溶液を３５〜４０℃で２時間かけて滴下した。さらにクロロ酢酸エチル（８．３４ｇ，０．０７ｍｏｌｅ）を３０〜４０℃で４０分かけて滴下した。
４０℃で２時間撹拌後、反応液中の表題化合物の分析を行ったところ、表題化合物を４６．７４ｇ（収率７７．９％）を含む反応液を得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。ＮＭＲデ−タは、実施例１と同様であった。
【０２５９】
実施例３ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（７．４５ｇ，０．３１ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１２．１ｇ）に懸濁し、臭化アリル（０．２８ｇ，０．００２３ｍｏｌｅ）を滴下した。２０℃〜３０℃に昇温後、四塩化珪素 （３．８６ｇ，０．０２３ｍｏｌｅ）と１−フェニル−３−ヘキサノン（４０．０ｇ，０．２２７ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（２７．８１ｇ，０．２３ｍｏｌｅ）、臭化アリル（０．２７５ｇ，０．００２３ｍｏｌｅ）のＴＨＦ（９４．６ｇ）溶液を３５〜４０℃で２時間かけて滴下した。さらにクロロ酢酸エチル（８．３４ｇ，０．０７ｍｏｌｅ）を３０〜４０℃で４０分かけて滴下した。
４０℃で２時間撹拌後、反応液中の表題化合物の分析を行ったところ、表題化合物を４６．７６ｇ（収率７７．９％）含む反応液を得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。ＮＭＲデ−タは、実施例１と同様であった。
【０２６０】
実施例４ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（９．１ｇ，０．３７４ｍｏｌｅ）を内部標準物質としてジベンゾフラン（１．４１０９ｇ）を含むＴＨＦ（９９ｍＬ）に懸濁し、３１℃で臭化アリル（０．２８ｇ）を滴下した。これに、ジメチルジクロロシラン（１．８４ｇ，１４．２ｍｍｏｌｅ）、１−フェニル−３−ヘキサノン（４７．１ｇ，０．２６７ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（３４．８ｇ，０．２８４ｍｏｌｅ）、臭化アリル（０．２８ｇ，２．３ｍｍｏｌｅ）、ＴＨＦ（４９ｍＬ）の混合溶液（１４３ｍＬ）のうち２．５ｍＬを３０℃で滴下した。１８分後に発熱が観測され、内温３２．５℃まで上昇した。滴下３４分後、残りの混合溶液を３時間かけて内温３２〜３６℃で滴下した。その後、クロロ酢酸エチル（１０．２ｇ，８３．２ｍｍｏｌｅ）を１時間かけて内温３２〜３５℃で滴下し、３６℃で１時間保温した。反応液中の表題化合物の分析を行ったところ、表題化合物を５２．５ｇ（収率７４．３％）含む反応液を得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。ＮＭＲデ−タは、実施例１と同様であった。
【０２６１】
実施例５ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（５ｇ，０．２１ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１７ｍＬ）に懸濁させ、臭化アリル（０．３５ｇ，０．００２５ｍｏｌｅ）を加えて活性化した。これに１−フェニル−３−ヘキサノン（０．９１ｇ，５．２ｍｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（０．６３ｇ，５．１ｍｍｏｌｅ）、臭化アリル（６．２ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌｅ）のＴＨＦ（２．４ｍＬ）溶液を滴下した。
１５分撹拌後の温度上昇を測定した。また、表題化合物の収率および１−フェニル−３−ヘキサノンの残量を測定した（ＨＰＬＣにて定量分析）。
【０２６２】
実施例６〜１０ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
クロロシラン類を同時に滴下した以外は、実施例５と同様の操作を行った。クロロシラン類とその添加量は、表１に示したものである。実施例５〜１０の結果は、表１に示したとおりである。
【０２６３】
【表１】
【０２６４】
実施例１１−１ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（６．８ｇ、０．２８０ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に懸濁させ、これに１−フェニル−３−ヘキサノン（２２．３ｇ、０．１２７ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（２６．０ｇ、０．２１２ｍｏｌｅ）、塩化亜鉛（１．９３ｇ、０．０１４ｍｏｌｅ）およびクロロトリメチルシラン（１．５４ｇ、０．０１４ｍｏｌｅ）のＴＨＦ（２５ｍＬ）溶液を、２５℃〜３０℃で２時間かけて滴下した。さらに、２５℃で２．５時間攪拌後、１０％塩酸７０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを２６．２ｇ（７８．１％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ＝０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２８−１．４１（２Ｈ，ｍ），１．５４−１．５９（２Ｈ，ｍ），１．６３−１．８３（２Ｈ，ｍ），２．５３−２．６９（２Ｈ，ｍ），３．５９（１Ｈ，ｓ），４．１８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．１８−７．１９（３Ｈ，ｍ），７．２７−７．２９（２Ｈ，ｍ）．
【０２６５】
実施例１１−２ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（５．１５ｇ、０．２１２ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に懸濁させ、これに１−フェニル−３−ヘキサノン（２２．３ｇ、０．１２７ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（２６．０ｇ、０．２１２ｍｏｌｅ）、塩化亜鉛（１．９３ｇ、０．０１４ｍｏｌｅ）、クロロトリメチルシラン（１．５４ｇ、０．０１４ｍｏｌｅ）および酢酸エチル（１２．２ｍＬ）のＴＨＦ（２５ｍＬ）溶液を、２５℃〜３０℃で２時間かけて滴下した。さらに、２５℃で１．５時間攪拌後、１０％塩酸６０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを２２．８ｇ（６８．２％）含むＴＨＦ−酢酸エチル溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２６６】
実施例１１−３ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（５．１５ｇ、０．２１２ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（２５ｍＬ）とトルエン（２５ｍＬ）との混合溶媒に懸濁させ、これに１−フェニル−３−ヘキサノン（２２．３ｇ、０．１２７ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（２６．０ｇ、０．２１２ｍｏｌｅ）、塩化亜鉛（１．９３ｇ、０．０１４ｍｏｌｅ）およびクロロトリメチルシラン（１．５４ｇ、０．０１４ｍｏｌｅ）のＴＨＦ（２５ｍＬ）溶液を、２５℃〜３０℃で１．５時間かけて滴下した。さらに、２５℃で２時間攪拌後、１０％塩酸６０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを２５．６７ｇ（７６．７％）含むＴＨＦ−トルエン溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２６７】
実施例１１−４ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸ｔｅｒｔ−ブチル
マグネシウム（５．３４ｇ、０．２２０ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に懸濁させ、これに１−フェニル−３−ヘキサノン（２２．３３ｇ、０．１２７ｍｏｌｅ）とクロロ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル（３１．９ｇ、０．２１２ｍｏｌｅ）との混合液（総量：５７ｍＬ）のうちの９ｍＬと、塩化亜鉛（０．４８ｇ、０．００３５ｍｏｌｅ）およびクロロトリメチルシラン（０．３８ｇ、０．００３５ｍｏｌｅ）のＴＨＦ（５ｍＬ）溶液とを、２５℃〜３０℃で２０分かけて滴下した。その後、反応液の温度を６０℃に昇温し、上記１−フェニル−３−ヘキサノンとクロロ酢酸ｔｅｒｔ−ブチルとの混合液（総量：５７ｍＬ）のうちの残りの４８ｍＬを１時間かけて５５℃〜６５℃で滴下した。さらに、６０℃で１時間攪拌後、トルエン５０ｍＬ、１０％塩酸６０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸ｔｅｒｔ−ブチルを３３．３ｇ（８９．９％）含むＴＨＦ−トルエン溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ＝０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．３２−１．４５（２Ｈ，ｍ），１．４８（９Ｈ，ｓ），１．５１−１．５８（２Ｈ，ｍ），１．７７−１．８２（２Ｈ，ｍ），２．４４（２Ｈ，ｓ），２．６２−２．７０（２Ｈ，ｍ），３．７９（１Ｈ，ｓ），７．１６−７．２０（３Ｈ，ｍ），７．２６−７．３０（２Ｈ，ｍ）．
【０２６８】
実施例１１−５ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（１．９８ｇ、０．０８１ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１３ｍＬ）とトルエン（１５ｍＬ）との混合溶媒に懸濁させ、これにクロロトリメチルシラン（０．２ｍＬ、０．００１６ｍｏｌｅ）を２８．５℃で加えた。この懸濁液に１−フェニル−３−ヘキサノン（８．９３ｇ、０．０５０７ｍｏｌｅ）とクロロ酢酸エチル（９．９４ｇ、０．０８１ｍｏｌｅ）との混合液を２５℃〜３０℃で３０分滴下した。さらに、３０℃で１．５時間攪拌後、１０％塩酸３０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを９．２６ｇ（６９％）含むＴＨＦ−トルエン溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２６９】
実施例１１−６ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（６．８ｇ、０．２８０ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（２５ｍＬ）に懸濁させ、これに１−フェニル−３−ヘキサノン（２０．０９ｇ、０．１１４ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（２０．８ｇ、０．１７０ｍｏｌｅ）およびクロロトリメチルシラン（１５．４ｇ、０．１４２ｍｏｌｅ）の混合液を２５℃で９０分かけて滴下した。さらに、２５℃で２時間攪拌後、希塩酸により処理し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを１５．５４ｇ（５１．６％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７０】
実施例１１−７ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（１３．６ｇ、０．５５９ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に懸濁させ、これに１−フェニル−３−ヘキサノン（２０．０９ｇ、０．１１４ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（３４．８ｇ、０．２８４ｍｏｌｅ）およびクロロトリメチルシラン（１５．４ｇ、０．１４２ｍｏｌｅ）の混合液を２０℃〜３０℃で１８０分かけて滴下した。さらに、２０℃〜３０℃で２時間攪拌後、希塩酸により処理し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを２１．８ｇ（収率：７２．３％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７１】
実施例１１−８ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（１３．６ｇ、０．５５９ｍｏｌｅ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に懸濁させ、これに１−フェニル−３−ヘキサノン（２０．０９ｇ、０．１１４ｍｏｌｅ）、クロロ酢酸エチル（３４．８ｇ、０．２８４ｍｏｌｅ）およびクロロトリメチルシラン（１５．４ｇ、０．１４２ｍｏｌｅ）の混合液を６０℃で１８０分かけて滴下した。さらに、６０℃で２時間攪拌後、希塩酸により処理し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを１８．６４ｇ（６１．８％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７２】
実施例１１−９ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（１．７３ｇ、７１．２ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１５ｍＬ）に懸濁させ、これにヨウ素（２０ｍｇ）を加えた後、この懸濁液に１−フェニル−３−ヘキサノン（８．９３ｇ、５０．７ｍｍｏｌｅ）とクロロ酢酸エチル（８．７０ｇ、７０．９９ｍｍｏｌｅ）との混合液（総量：１８ｍＬ）のうち１ｍＬを３０℃で滴下した。１５分攪拌後、上記１−フェニル−３−ヘキサノンとクロロ酢酸エチルとの混合液（総量：１８ｍＬ）のうちの残りの１７ｍＬを、２時間かけて３０℃〜４０℃で滴下した。さらに、３０℃で２時間攪拌後、１０％塩酸２０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを１０．２ｇ（７５．２％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７３】
実施例１１−１０ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（１．９８ｇ、８１．４ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１５ｍＬ）に懸濁させ、これにヨウ素（１０ｍｇ）を加えた後、この懸濁液に１−フェニル−３−ヘキサノン（８．９３ｇ、５０．７ｍｍｏｌｅ）とクロロ酢酸エチル（９．９４ｇ、８１．１ｍｍｏｌｅ）との混合液（総量：２０ｍＬ）のうち１ｍＬを２５℃で滴下した。１０分間攪拌して内温を３０℃に昇温させた後、上記１−フェニル−３−ヘキサノンとクロロ酢酸エチルとの混合液（総量：２０ｍＬ）のうちの残りの１９ｍＬを、２時間かけて３０℃〜４０℃で滴下した。さらに、３０℃で１時間攪拌後、１０％塩酸３０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを１０．２ｇ（７６％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７４】
実施例１１−１１ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（２．２０ｇ、９０．５ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１５ｍＬ）に懸濁させ、これにヨウ素（１０ｍｇ）を加えた後、この懸濁液に１−フェニル−３−ヘキサノン（８．９３ｇ、５０．７ｍｍｏｌｅ）とクロロ酢酸エチル（１１．１９ｇ、９１．３ｍｍｏｌｅ）との混合液（総量：２１ｍＬ）のうち１ｍＬを２５℃で滴下した。１０分間攪拌して内温を３５℃に昇温させた後、上記１−フェニル−３−ヘキサノンとクロロ酢酸エチルとの混合液（総量：２１ｍＬ）のうちの残りの２０ｍＬを、２時間かけて３０℃〜４０℃で滴下した。さらに、３０℃で１時間攪拌後、１０％塩酸３０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを９．４２ｇ（７０．５％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７５】
実施例１１−１２ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（１．９８ｇ、８１．４ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１５ｍＬ）に懸濁させ、これにヨウ素（１０ｍｇ）を加えた後、この懸濁液を５０℃に昇温した。さらに１−フェニル−３−ヘキサノン（８．９３ｇ、５０．７ｍｍｏｌｅ）とクロロ酢酸エチル（９．９４ｇ、８１．１ｍｍｏｌｅ）との混合液（総量：２０ｍＬ）を２時間かけて５０℃〜５５℃で滴下した。その後、さらに反応液を５５℃で１時間攪拌後、１０％塩酸３０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを８．８８ｇ（６６％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７６】
実施例１１−１３ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（１．９８ｇ、８１．４ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（７．５ｍＬ）とヘプタン（７．５ｍＬ）との混合溶媒に懸濁させ、これにヨウ素（１０ｍｇ）を加えた後、この懸濁液を５０℃に昇温した。さらに１−フェニル−３−ヘキサノン（８．９３ｇ、５０．７ｍｍｏｌｅ）とクロロ酢酸エチル（９．９４ｇ、８１．１ｍｍｏｌｅ）との混合液（総量：２０ｍＬ）を２時間かけて５０℃〜６０℃で滴下した。さらに、５５℃で１時間攪拌後、１０％塩酸３０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを８．５８ｇ（６３．８％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７７】
実施例１１−１４ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸イソプロピル
マグネシウム（２．７７ｇ、１１３．９ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１５ｍＬ）に懸濁させ、これにヨウ素（１０ｍｇ）を加えた後、この懸濁液に１−フェニル−３−ヘキサノン（１３．４ｇ、７６．０ｍｍｏｌｅ）とクロロ酢酸イソプロピル（１５．５８ｇ、１１４．１ｍｍｏｌｅ）との混合液（総量：３１ｍＬ）のうち１．５ｍＬを２４℃で滴下し、２３℃〜２７℃で３０分間攪拌した。反応液を４５℃に昇温した後、上記１−フェニル−３−ヘキサノンとクロロ酢酸イソプロピルとの混合液（総量：３１ｍＬ）のうち残りの２９．５ｍＬを２時間かけて４０℃〜５０℃で滴下した。さらに、６６℃で１．５時間攪拌後、１０％塩酸３０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸イソプロピルを１５．７ｇ（７４％）含むＴＨＦ溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ＝０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．２６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．３５−１．４３（２Ｈ，ｍ），１．５３−１．５９（２Ｈ，ｍ），１．７８−１．８２（２Ｈ，ｍ），２．５０（２Ｈ，ｓ），２．６４−２．６９（２Ｈ，ｍ），３．６６（１Ｈ，ｓ），５．０８（１Ｈ，ｓｅｐｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），７．１６−７．１９（３Ｈ，ｍ），７．２６−７．２９（２Ｈ，ｍ）．
【０２７８】
実施例１１−１５ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチル
マグネシウム（１．４８ｇ、６０．９ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（１０ｍＬ）に懸濁させ、これに１−フェニル−３−ヘキサノン（８．９３ｇ、５０．７ｍｍｏｌｅ）とクロロ酢酸エチル（７．４６ｇ、６０．９ｍｍｏｌｅ）との混合液（総量：１７ｍＬ）のうち２ｍＬを３０℃で滴下した。攪拌すると発熱が観測され、１５分後に４０℃に達した。内温を３３℃に冷却させ、上記１−フェニル−３−ヘキサノンとクロロ酢酸エチルとの混合液（総量：１７ｍＬ）のうちの残りの１５ｍＬを２時間かけて３０℃〜３５℃で滴下した。さらに３０℃で２．５時間攪拌後、トルエン２０ｍＬを加えた後、１０％塩酸２０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを８．３３ｇ（６２．２％）含むＴＨＦ−トルエン溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２７９】
実施例１１−１６ ３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸ｔｅｒｔ−ブチル
マグネシウム（１．１８ｇ、４８．６ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（８ｍＬ）に懸濁させ、これにヨウ素（５ｍｇ）を加えた後、ブロモ酢酸エチル（３５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌｅ）のＴＨＦ（０．２ｍＬ）溶液を滴下した。この懸濁液に１−フェニル−３−ヘキサノン（７．１４ｇ、４０．５ｍｍｏｌｅ）とクロロ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル（７．３４ｇ、４８．７ｍｍｏｌｅ）との混合液（総量：１６ｍＬ）のうち１ｍＬを３４℃で滴下し、５５℃に昇温した。同温で１０分間攪拌した後、上記１−フェニル−３−ヘキサノンとクロロ酢酸ｔｅｒｔ−ブチルとの混合液（総量：１６ｍＬ）のうちの残りの１５ｍＬを１．５時間かけて５５℃〜６５℃で滴下した。さらに、６６℃で１時間攪拌後、トルエン１０ｍＬ、１０％塩酸１０ｍＬを加えて分液し、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸ｔｅｒｔ−ブチルを７．４７ｇ（６３．１％）含むＴＨＦ−トルエン溶液を得た（ＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）。
【０２８０】
実施例１２ １−フェニル−３−ヘキサノン
（１）プロピルスチリルケトン（３−オキソ−１−フェニル−１−ヘキセン）
ベンズアルデヒド（３０．００ｇ、０．２８３ｍｏｌ）、２−ペンタノン（６７．３３ｇ、０．７８２ｍｏｌ）の混合物に１０％水酸化ナトリウム水（４０．００ｇ、０．１０ｍｏｌ）を加えた後、加熱して５５〜６５℃で１０時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、一旦水層を分離した。５％食塩水２０ｇを加えて撹拌後、水層を分離することを２回繰り返した。得られた有機層中の２−ペンタノン、ベンズアルデヒドなどの低沸点分を減圧にて留去した後、標題化合物を淡黄緑色オイル（１３８〜１５０℃／１．３３ｋＰａ）として得た。（３９．２５ｇ、収率７９．７％）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．９９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ＣＨ３），１．６５−１．８０（ｍ，２Ｈ，ＣＨ２），２．６５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ＣＨ２ＣＯ），６．７２（ｓ，１Ｈ，ｏｌｅｆｉｎｉｃ），６．７７（ｓ，１Ｈ，ｏｌｅｆｉｎｉｃ），７．３−７．６（ｍ，５Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ）．
（２）１−フェニル−３−ヘキサノン
上記で得たプロピルスチリルケトン（２０．００ｇ、０．１１５ｍｏｌ）の酢酸エチル（７０ｍｌ）の溶液に５％Ｐｄ−Ｃ（０．８ｇ、ＢＮＡ−Ｔｙｐｅ、エヌ・イー・ケムキャット株式会社製）を加えて、室温２時間にて１気圧の水素圧にて還元反応を行った。触媒を濾過後、濾物を酢酸エチルにて洗浄した。得られた濾液中の酢酸エチルを留去した後、標題化合物である無色オイル（２０．１１ｇ、収率９９．４％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，ＣＨ３），１．５０−１．７０（ｍ，２Ｈ，ＣＨ２），２．３６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ＣＨ２ＣＯ），２．７２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，ＣＨ２），２．９０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，ＣＨ２），７．０５−７．３５（ｍ，５Ｈ，ａｒｏｍａｔｉｃ）．
【０２８１】
実施例１３ ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸
実施例１で得られた残渣（３４２．６ｇ，ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エチルを２１５.１ｇ含む）に１０％水酸化ナトリウム水溶液（５９０ｇ，１．４８ｍｏｌｅ）を加え、４０〜５０℃で４時間撹拌した。反応液に１９％塩酸（２１６．４ｇ，１．１１ｍｏｌｅ）、ＭＩＢＫ（１５０．４ｇ）を加え、撹拌後、分液したところ、表題化合物を１８９．８ｇ（収率９８．７％）含む有機層（４５５．７ｇ）を得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，δｐｐｍ）０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．３５−１．４７（２Ｈ，ｍ），１．６０−１．６４（２Ｈ，ｍ），１．８４−１．８９（２Ｈ，ｍ），２．６０（２Ｈ，ｓ），２．６５−２．７０（２Ｈ，ｍ），７．１７−７．２０（３Ｈ，ｍ），７．２６−７．３０（２Ｈ，ｍ）．
【０２８２】
実施例１４ （Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン
１０〜４０℃でイソプロパノール（６００ｍｌ）にベラトルムアルデヒド（１７４．５ｇ，１．０５ｍｏｌｅ）を溶かし、５０〜６０℃で（Ｒ）−１−フェニルエチルアミン（１２１．２ｇ，１．００ｍｍｏｌｅ）を１〜２時間かけて滴下した。さらに５０〜６０℃で１〜２時間撹拌後、２０℃に冷却した。この溶液に２０〜３０℃でトリエチルアミン（５．１ｇ，５０．０ｍｍｏｌｅ）、５％パラジウム炭素（５０％ｗｅｔ，５．４ｇ）を加え、１気圧の水素雰囲気下、４０〜４５℃で７〜８時間撹拌した。触媒を濾過後、濾液を濃縮し、表題化合物（２７７．５ｇ，純量２５２．５ｇ，収率９３．０５％）を得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。
ＩＲ（νｃｍ− 1）３３２５（Ｎ−Ｈ），１５１４（Ｎ−Ｈ）．
【０２８３】
参考例１ （Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン
３，４−ジメトキシベンズアルデヒド６７．５１ｇ（０．４０６ｍｏｌｅ）をメタノール２４０ｍＬに溶解し、５０℃でＲ−１−フェニルエチルアミン４８．４７ｇ（０．４ｍｏｌｅ）を滴下し、同温度で１時間攪拌した。２０℃〜３０℃で水素化ホウ素ナトリウム９．０８ｇを加えた後、一晩攪拌した。トルエンで抽出、洗浄、濃縮して（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン１０７．１ｇを得た。収率は、９８．６７％であった。
ＩＲスペクトル：（νｃｍ− 1）３３２５（Ｎ−Ｈ）、１５１４（Ｎ−Ｈ）
【０２８４】
参考例２ （Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン
３，４−ジメトキシベンズアルデヒドに換えて２−クロロベンズアルデヒドを使用した以外は参考例１と同様にして、（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミンを得た。収率は、９８．５％であった。
ＩＲスペクトル：（νｃｍ− 1）３３２２（Ｎ−Ｈ）、１４４４（Ｎ−Ｈ）
【０２８５】
実施例１５ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩
実施例１３で得られたラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のＭＩＢＫ溶液（４４５．７ｇ，ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の純分１８９．８ｇ，０．８０３ｍｏｌｅ）にＭＩＢＫ（１４２０ｍＬ）を加え、５５〜６０℃に加熱して（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン（２１５．６ｇ，純分１９６．１６ｇ，０．７２３ｍｏｌｅ）のＭＩＢＫ溶液（３００ｍＬ）を１５分かけて滴下した。３０分かけて５１℃に冷却したところで（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩の結晶を接種し、４５〜４９℃に冷却後、同温度で３０分撹拌した。２時間かけて２５℃に冷却後、同温度で２時間撹拌した。生じた結晶を濾過し、ＭＩＢＫ（３２０ｍＬ）で洗浄したところ、表題塩の粗結晶を無色結晶（１８１．２６ｇ，収率４４．４５％，光学純度９２．６％ｅ．ｅ．）として得た。
【０２８６】
実施例１６ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩の精製
実施例１５と同様にして得られた（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩の粗結晶 （２３８．４６ｇ，光学純度９２．０％ｅ．ｅ．）をＭＩＢＫ（２３８５ｍＬ）に８０℃で溶解した。７６℃に冷却し、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩を接種し、６３〜６７℃で１時間撹拌した。１０時間かけて２５℃まで冷却後、生じた結晶を濾過、ＭＩＢＫ（２５０ｍＬ）で洗浄し、表題塩を無色結晶（２１６．３７ｇ，収率９０．７４％，光学純度９９．５５％ｅ．ｅ．）として得た。
【０２８７】
実施例１７ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩
実施例１３と同様にして得られたラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のＭＩＢＫ溶液（４６８．５ｇ，ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の純分２０２．６ｇ、０．８５７ｍｏｌｅ）に実施例１６で得られた濾洗液（１５３６ｍＬ，（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩０．０２６ｍｏｌｅを含む）を加え、６０〜６３℃に加熱した。これに（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン（２２９．３ｇ，純分２０９．４ｇ，０．７７１６ｍｏｌｅ）を実施例１６で得られた濾洗液（３００ｍＬ，（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩０．００５ｍｏｌｅ含む）に溶かした溶液を１５分かけて滴下した。３０分かけて５８℃に冷却したところで（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩の結晶を接種し、５０℃で３０分撹拌した。１２時間かけて２５℃に冷却し、濾過、さらにＭＩＢＫ（３４０ｍＬ）で洗浄したところ、表題塩の粗結晶を無色結晶（２０７．５ｇ，４７．６８％，９４．６％ｅ．ｅ．）として得た。
【０２８８】
実施例１８ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸
（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミン塩（１８０．５８ｇ，３５５．７ｍｍｏｌｅ）をＭＩＢＫ（５４２ｍＬ）に懸濁させ、これに１０％硫酸（３５５．６ｇ）を加えて３０分撹拌した。分液して水層（水層１）を除き、有機層に水（５０ｇ）を加え、３０分撹拌後分液して水層を除いた（水層２）。
有機層をさらにｐＨ２の希硫酸水（５０ｇ）を加えて撹拌洗浄し、分液して水層を除いた。再度、有機層をｐＨ２の希硫酸水（５０ｇ）で洗浄した後、有機層に０．０４％水酸化ナトリウム水（５０ｇ）を加えて撹拌、水層を分液して除いた。有機層を濃縮（減圧度６．４ＫＰａ，内温８７℃まで）し、表題化合物を無色油状物（９１．５ｇ，純度８７．９％，純量８０．４３ｇ）として得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。ＮＭＲデ−タは、実施例１３と同様であった。
【０２８９】
実施例１９ （Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミンの回収
実施例１５および１７で得られた濾洗液（溶媒ＭＩＢＫ、１９６４．８ｇ、３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を０．４３１３ｍｏｌｅ，（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミンを９５．９８ｇ，０．３５３７ｍｏｌｅ含む）を１０％硫酸（４３１．１ｇ）で一回、さらに１０％硫酸（２１５ｇ）で一回抽出した。水層を合一（７６４．５ｇ）し、ＭＩＢＫ（４８５ｇ）を加え、２０％水酸化ナトリウム水（２７７．２ｇ）を加えて撹拌後静置した。水層を除去し、有機層に水（２９１ｇ）を加えて再度撹拌後、静置した。水層を除去後、有機層を濃縮し、表題化合物を無色油状物（１０５．８７ｇ，純度８７．３３％，純量９２．４６ｇ．回収率９６．３％）として得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。
【０２９０】
実施例２０ （Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミンの回収
実施例１８で得られた水層１と水層２の混合物（６４２．７ｇ，（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−１−フェニルエチルアミンを９６．５ｇ含む）にＭＩＢＫ（３８６ｇ）を加え、２０％水酸化ナトリウム水（１４９．４ｇ）を加えて撹拌後静置した。水層を除去し、有機層に水（２９０ｇ）を加えて再度撹拌後、静置した。水層を除去し、表題化合物を含むＭＩＢＫ溶液（４１７．４ｇ，純度２１．８６％，純量９１．２６ｇ．回収率９４．５５％）を得た（ＨＰＬＣにて定量分析）。
【０２９１】
実施例２１−１ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩
ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（２１．３ｇ、純度：８３．２％、純量：１７．７２ｇ、７５ｍｍｏｌｅ）のＭＩＢＫ（２７０ｍＬ）溶液に（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン（１８．３２ｇ、６７．５ｍｍｏｌｅ）を加え、６０℃で溶解した。５５℃に冷却後、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩２０ｍｇを加えた。その後、３０℃まで徐冷し、同温で２時間攪拌した。生じた結晶を濾取したところ、９０％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のアミン塩１５．５０ｇ（収率：４０．７％）を得た。
【０２９２】
実施例２１−２ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩の精製
実施例２１−１で得た９０％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩（１５．０ｇ）を７５℃でＭＩＢＫ（１８０ｍＬ）に溶解した。得られた溶液を６５℃に冷却後、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩２０ｍｇを加え、溶液を３０℃まで冷却し、生じた塩を濾取したところ、９９．４％ｅ．ｅ．の（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のアミン塩１３．２ｇ（収率：８６．８％）を得た（全収率：３５．３％）。
【０２９３】
実施例２１−３ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩
ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（７．３４ｇ、純度：８０．５％、純量：５．９１ｇ、２５ｍｍｏｌｅ）のＭＩＢＫ（９０ｍＬ）溶液に（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン（５．５３ｇ、２２．５ｍｍｏｌｅ）を加え、５５℃で溶解させた。５０℃に冷却後、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩２０ｍｇを加えた。その後、３０℃まで徐冷し、同温で２時間攪拌した。生じた結晶を濾取したところ、８４％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のアミン塩５．３０ｇ（収率：４４．０％）を得た。
【０２９４】
実施例２１−４ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩の精製
実施例２１−３で得た８４％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩（５．０ｇ）を７５℃でＭＩＢＫ（７５ｍＬ）に溶解する。６０℃に徐冷後、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩２０ｍｇを加え、溶液を２５℃まで冷却し、生じた塩を濾取したところ、９７．６％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のアミン塩４．１ｇ（収率：８２％）を得た（全収率：３６．１％）。
【０２９５】
実施例２１−５ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩
ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（７．３４ｇ、純度：８０．５％、純量：５．９１ｇ、２５ｍｍｏｌｅ）の酢酸エチル（９０ｍＬ）溶液に（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン（５．５３ｇ、２２．５ｍｍｏｌｅ）を、６０℃で滴下した。（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（ｏ−クロロベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩２０ｍｇを加えた後、３０℃まで徐冷し、同温で２時間攪拌した。生じた結晶を濾取したところ、８６％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のアミン塩４．４６ｇ（収率：３７．０％）を得た。
【０２９６】
実施例２１−６ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩
ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（７．３４ｇ、純度：８０．５％、純量：５．９１ｇ、２５ｍｍｏｌｅ）の酢酸エチル（９０ｍＬ）溶液に（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン（６．１１ｇ、２２．５ｍｍｏｌｅ）を加え、６０℃で溶解した。５０℃に冷却後、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩２０ｍｇを加えた後、３０℃まで徐冷し、同温で２時間攪拌した。生じた結晶を濾取したところ、８７％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のアミン塩５．１７ｇ（収率：４０．９％）を得た。
【０２９７】
実施例２１−７ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸・（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩の精製
実施例２１−６で得た８７％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の（Ｒ）−Ｎ−（３，４−ジメトキシベンジル）−α−フェニルエチルアミン塩（５．０ｇ）に、実施例２１−４と同様にして再結晶を行ったところ、９９．２％ｅ．ｅ．の光学純度を有する（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸のアミン塩４．２３ｇ（収率：８４．５％）を得た（全収率：３４．６％）。
【０２９８】
参考例３ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−１−（１−イミダゾリル）−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン−１−オン
（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（１．０ｇ、４．２３１７ｍｍｏｌｅ）、イミダゾール（０．３４５７ｇ、５．０７８ｍｍｏｌｅ）およびトリエチルアミン（０．９２０６ｇ、９．０９８ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（６ｍＬ）に溶解させ、−２０℃〜０℃に冷却した。この溶液に、塩化チオニル（０．５５９ｇ、４．２３１７ｍｍｏｌｅ）をＴＨＦ（４ｍＬ）に希釈したものを−２０℃〜０℃に保ちながら、ゆっくりと滴下した。滴下終了後、３０分間、−２０℃〜０℃で保温攪拌し、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−１−（１−イミダゾリル）−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン−１−オン（収率９０％以上、ｎ−ブチルアミンで処理し、２０〜３０℃で３０分〜１時間攪拌し、アミド体に変換した後、アミド体としてＨＰＬＣを用いた絶対検量線法で定量）を含むＴＨＦ溶液を得た。
【０２９９】
参考例４ （Ｒ）−５−ヒドロキシ−３−オキソ−５−（２−フェニルエチル）オクタン酸エチル
塩化マグネシウム（０．５４３７ｇ、５．７１３ｍｍｏｌｅ）とＴＨＦ（４ｍＬ）の懸濁液にマロン酸モノエチルカリウム（１．０８０ｇ、６．３４８ｍｍｏｌｅ）を加え、４０℃で２時間攪拌した。この懸濁液に参考例３で得られた（Ｒ）−３−ヒドロキシ−１−（１−イミダゾリル）−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン−１−オンのＴＨＦ溶液の全量を４０℃で加え、６０℃で６時間攪拌した。０℃に冷却し、１０％塩酸水溶液（４．４ｇ）をゆっくりと滴下し、０℃にて１５分間攪拌した。静置後分液し、水層を取り除き、有機層に飽和食塩水（４ｇ）を加え、１５分間保温攪拌した。静置後分液し、水層を取り除き、有機層に無水硫酸マグネシウム（１ｇ）を添加し、乾燥した。濾過にて硫酸マグネシウムを取り除き、得られた濾液を減圧濃縮し、（Ｒ）−５−ヒドロキシ−３−オキソ−５−（２−フェニルエチル）オクタン酸エチルの粗生成物（１．４５ｇ）を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、（Ｒ）−５−ヒドロキシ−３−オキソ−５−（２−フェニルエチル）オクタン酸エチルを０．８７５ｇ（収率６７．５％）得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ＝０．９２−０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝１８Ｈｚ），１．２５−１．３７（５Ｈ，ｍ），１．５５−１．６０（２Ｈ，ｍ），１．８０−１．８５（２Ｈ，ｍ），２．６１−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．７７（２Ｈ，ｓ），３．４４（２Ｈ，ｓ），４．１６−４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），７．１７−７．３０（５Ｈ，ｍ）
【０３００】
参考例５ （Ｒ）−３−ヒドロキシ−１−（１−イミダゾリル）−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン−１−オン
イミダゾール（１．８１９ｇ，２６．６１９ｍｍｏｌｅ）およびトリエチルアミン（３．０６０ｇ，３０．２４９ｍｍｏｌｅ）を乾燥ＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却した。この溶液に、塩化チオニル（１．６４７ｇ，１２．４６３ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと滴下し、０℃に保ちながら３０分間攪拌した。得られた白濁溶液を、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸（３．０ｇ、１２．１００ｍｍｏｌｅ）を乾燥ＴＨＦ（１０ｍＬ）で希釈し、−２０℃〜−１５℃に冷却した溶液に、内温が−１０℃を超えないようにゆっくりと滴下し、更に乾燥ＴＨＦ（５ｍＬ）で洗いこみ、これも滴下した。滴下終了後、−２０℃〜−１５℃で１時間保温攪拌し、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−１−（１−イミダゾリル）−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン−１−オン（収率１００％、参考例３と同様にして定量）を含むＴＨＦ溶液を得た。
【０３０１】
参考例６ ３−（２，６−ジクロロ−５−フルオロピリジル）−３−オキソ−プロピオン酸エチル
参考例３および参考例４と同様にして、２，６−ジクロロ−５−フルオロニコチン酸から３−（２，６−ジクロロ−５−フルオロピリジル）−３−オキソ−プロピオン酸エチルを得る。
【０３０２】
参考例７ ２−（シンナモイル）酢酸エチル
参考例３および参考例４と同様にして、桂皮酸から２−（シンナモイル）酢酸エチルを得る。
【０３０３】
参考例８ ２−（４−ヒドロキシフェニルアセチル）酢酸エチル
参考例３および参考例４と同様にして、４−ヒドロキシ安息香酸から２−（４−ヒドロキシフェニルアセチル）酢酸エチルを得る。
【産業上の利用可能性】
【０３０４】
本発明によれば、医薬品原料として有用な（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸から、高い光学純度かつ比較的高い全収率で、効率的に製造できる方法を提供することができる。
【０３０５】
また、本発明によれば、安全でかつ従来よりも低いコストで３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルを製造できる。
【０３０６】
本出願は、日本で出願された特願２００２−３０７２４号、特願２００２−４１４８０号、特願２００２−１０５７７２号および特願２００２−２４２７４１号を基礎としており、その内容は本明細書中に全て包含されるものである。

Claims (18)

  1. ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を、式（VIII）
    〔式中、Ｒ２は３，４−ジメトキシフェニルまたは２−クロロフェニルを示す。〕で表される光学活性アミンを用いて光学分割することを特徴とする、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の製造方法。
  2. （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と、式（VIII）で表される光学活性アミンとの塩を、酢酸エチル、メタノール、イソプロパノール、エタノール、アセトニトリル、メチルイソブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタンおよびテトラヒドロフランから選ばれる１種または２種以上の溶媒（当該溶媒はさらに水を含んでいてもよい。）中で結晶化させることを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
  3. 式（VIII）で表される光学活性アミンが、（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンと、式、Ｒ２−ＣＨＯ（VIII-i）〔式中、Ｒ２は前記と同義を示す〕で表される化合物とを縮合した後、還元させて製造したものである、請求項１に記載の製造方法。
  4. 光学分割後、式（VIII）で表される光学活性アミンを回収することを含む請求項１に記載の製造方法。
  5. ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルを加水分解して、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を製造後、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、およびテトラヒドロフランから選ばれる１種または２種以上の溶媒で抽出し、次いで抽出溶媒の一部または全部を残して光学分割の溶媒として用い、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と式（VIII）
    〔式中、Ｒ２は３，４−ジメトキシフェニルまたは２−クロロフェニルを示す。〕で表される光学活性アミンとの塩を結晶させることにより光学分割することを特徴とする（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の製造方法。
  6. 式（VIII）で表される光学活性アミンが、（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンと、式、Ｒ２−ＣＨＯ（VIII-i）〔式中、Ｒ２は前記と同義を示す〕で表される化合物とを縮合した後、還元させて製造したものである、請求項５に記載の製造方法。
  7. 光学分割後、式（VIII）で表される光学活性アミンを回収することを含む請求項５に記載の製造方法。
  8. マグネシウムと、ハロ酢酸エステルと、１−フェニル−３−ヘキサノンとを反応させて、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸エステルを製造し、これを加水分解して、ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を得、これを、式（VIII）
    〔式中、Ｒ２は３，４−ジメトキシフェニルまたは２−クロロフェニルを示す。〕で表される光学活性アミンを用いて光学分割することを特徴とする、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸の製造方法。
  9. ハロ酢酸エステルがクロロ酢酸エステルである、請求項８に記載の製造方法。
  10. （Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と、式（VIII）で表される光学活性アミンとの塩を、酢酸エチル、メタノール、イソプロパノール、エタノール、アセトニトリル、メチルイソブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタンおよびテトラヒドロフランから選ばれる１種または２種以上の溶媒（当該溶媒はさらに水を含んでいてもよい。）中で結晶化させることを特徴とする、請求項８に記載の製造方法。
  11. ラセミ−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸を製造後、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ジイソプロピルエーテル、およびテトラヒドロフランから選ばれる１種または２種以上の溶媒で抽出し、次いで抽出溶媒の一部または全部を残して光学分割の溶媒として用い、（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（２−フェニルエチル）ヘキサン酸と式（VIII）で表される光学活性アミンとの塩を結晶させることにより光学分割することを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
  12. 式（VIII）で表される光学活性アミンが、（Ｒ）−１−フェニルエチルアミンと、式、Ｒ２−ＣＨＯ（VIII-i）〔式中、Ｒ２は前記と同義を示す〕で表される化合物とを縮合した後、還元させて製造したものである、請求項８に記載の製造方法。
  13. 光学分割後、式（VIII）で表される光学活性アミンを回収することを含む請求項８に記載の製造方法。
  14. マグネシウムが活性化されたものである、請求項８に記載の製造方法。
  15. マグネシウムが、クロロシラン類およびハロゲン化炭化水素で活性化されたものである、請求項１４に記載の製造方法。
  16. クロロシラン類が、クロロトリメチルシラン、ジクロロジメチルシラン、メチルトリクロロシラン、テトラクロロシランからなる群より選択される請求項１５に記載の製造方法。
  17. ハロゲン化炭化水素が、臭化アリル、ヨードメタン、ヨードエタン、臭化ベンジル、１，２−ジヨードエタン、１，２−ジブロモエタンからなる群より選択される請求項１５に記載の製造方法。
  18. １−フェニル−３−ヘキサノンが、ベンズアルデヒドと２−ペンタノンを塩基の存在下に縮合させてプロピルスチリルケトンを得、次いで、得られたプロピルスチリルケトンを還元することにより得られたものである、請求項８に記載の製造方法。
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