JP4100907B2 - セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法 - Google Patents

セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4100907B2
JP4100907B2 JP2001397557A JP2001397557A JP4100907B2 JP 4100907 B2 JP4100907 B2 JP 4100907B2 JP 2001397557 A JP2001397557 A JP 2001397557A JP 2001397557 A JP2001397557 A JP 2001397557A JP 4100907 B2 JP4100907 B2 JP 4100907B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green sheet
water
ceramic
mol
polyvinyl acetal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001397557A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003192449A (ja
Inventor
俊雄 桜井
佐藤  茂樹
知子 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP2001397557A priority Critical patent/JP4100907B2/ja
Publication of JP2003192449A publication Critical patent/JP2003192449A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4100907B2 publication Critical patent/JP4100907B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水系溶剤を用いてもクラックや柚子肌などの各種欠陥を発生させることなくシートの厚膜化が可能なセラミック塗料、セラミックグリーンシートの製造方法、およびセラミック電子部品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
CR内蔵型基板、積層セラミックコンデンサなどのセラミック電子部品を製造するには、通常、まずセラミック粉末、バインダ(アクリル系樹脂、ブチラール系樹脂など)、可塑剤および有機溶剤(トルエン、MEK)からなるセラミック塗料を準備する。次に、このセラミック塗料を、ドクターブレード法などを用いてPET製フィルム上に塗布し、加熱乾燥させた後、PET製フィルムを剥離してセラミックグリーンシートを得る。次に、このセラミックグリーンシート上に内部電極を印刷して乾燥させ、これらを積層したものをチップ状に切断してグリーンチップとし、これらのグリーンチップを焼成後、外部電極を形成し、積層セラミックコンデンサなどの電子部品を製造する。
【0003】
積層セラミックコンデンサを製造する場合には、コンデンサとして必要とされる所望の静電容量に基づき、内部電極が形成されるシートの層間厚みは、約2μm〜100μm程度の範囲にある。また、積層セラミックコンデンサでは、コンデンサチップの積層方向における外側部分には、内部電極が形成されない部分が形成される。
【0004】
この内部電極が形成されない部分に対応する誘電体層の厚みは、数百μm程度であり、この部分は、内部電極が印刷されていない比較的厚いセラミックグリーンシートを用いて成形される。内部電極が印刷されるグリーンシートの厚みは、比較的に薄いので、この薄膜のグリーンシートを用いて、外側部分を成形しようとすると、積層数が多くなり、製造工数が増大し、製造コストの増大につながる。
【0005】
なお、有機溶剤を含むセラミック塗料では、シートの成形厚みが、使用部位の目的に応じて、比較的に自由に変えられ、比較的に厚膜のシートの成形も可能である。
【0006】
一方、近年では、電子部品の製造に際し、有機溶剤にかかるコストの問題のみでなく、乾燥および排気による有機溶剤の大気放出、すなわち大気汚染や温暖化の問題、あるいは溶剤回収装置のコストの問題が指摘されている。このため、セラミックグリーンシート用塗料のためのバインダとして、有機溶剤を使用しない水系バインダへの要望が高まっている。水系バインダの中でも、ポリビニルアルコールが、他の水溶性バインダと比較して、塗工性に優れ、フィルム強度が高く、取扱い性に優れるために広く用いられている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ポリビニルアルコールは、水以外の溶剤には不溶であるため、塗料中の主溶剤は水のみとなる。水は、有機溶剤に比較して沸点が高く、蒸気圧が低く、比熱が大きいため、グリーンシートの乾燥温度を高くする必要がある。その結果、セラミックグリーンシートの成形時に、クラックが発生しやすくなる。よって、有機溶剤系塗料では可能となっている比較的に厚膜のグリーンシートの成形厚み(たとえば100μm〜数百μm)を、水系塗料では、きわめて困難であった。すなわち、従来の水系塗料を用いて比較的厚膜(たとえば100μm〜数百μm)のグリーンシートを成形した場合、クラックや柚子肌などの欠陥が発生してしまう。
【0008】
なお、水溶性ポリビニルアセタール樹脂をバインダとして用いる水系グリーンシート用塗料も提案されているが、どのような構造の水溶性ポリビニルアセタール樹脂を選択すれば、安定して厚膜のグリーンシートを得ることができるのかは、今後の課題であった。
【0009】
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、水系溶剤を用いてもクラックや柚子肌などの各種欠陥を発生させることなく、安定してシートの厚膜化が可能な水系セラミックグリーンシート用塗料組成物、セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記目的を達成すべく鋭意検討の結果、特定重合度以下の水溶性ポリビニルアセタール樹脂を水溶性バインダとして用いることで、水系溶剤を用いてもクラックや柚子肌などの各種欠陥を発生させることなく、厚膜のグリーンシートを安定して得ることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【0011】
すなわち、本発明に係るセラミックグリーンシートの製造方法に用いられる水系セラミックグリーンシート用塗料組成物は、セラミック原料と、バインダ樹脂と、溶剤水とを少なくとも有する水系セラミックグリーンシート用塗料組成物であって、前記バインダ樹脂が、水溶性ポリビニルアセタール樹脂を含み、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の重合度が300〜800であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度が、25モル%〜45モル%であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が53モル%〜65モル%であることを特徴とする。
【0012】
また、本発明に係るセラミックグリーンシートの製造方法は、
セラミック原料と、バインダ樹脂と、溶剤水とを少なくとも有する水系セラミックグリーンシート用塗料組成物であって、前記バインダ樹脂が、水溶性ポリビニルアセタール樹脂を含み、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の重合度が300〜800であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度が、25モル%〜45モル%であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が53モル%〜65モル%である水系セラミックグリーンシート用塗料組成物を調整する工程と、
前記水系セラミックグリーンシート用塗料組成物を用いてセラミックグリーンシートを成形する工程と、を有するセラミックグリーンシートの製造方法であって、
前記グリーンシートを、乾燥炉内に連続的に送り込み、乾燥炉内部の前半部では、35〜45°Cの温度で乾燥させ、前記乾燥炉の後半部では、徐々にあるいはステップ状に150°C以下の温度にまで昇温して乾燥させる工程をさらに有する。
【0013】
乾燥工程の前半部において、35〜45°Cの温度で乾燥させ、その後昇温することにより、クラックなどの防止を図りつつシートの厚膜化が可能になることは、本発明者等により初めて見出された。
【0014】
本発明に係るセラミック電子部品の製造方法は、
セラミック原料と、バインダ樹脂と、溶剤水とを少なくとも有する水系セラミックグリーンシート用塗料組成物であって、前記バインダ樹脂が、水溶性ポリビニルアセタール樹脂を含み、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の重合度が300〜800であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度が、25モル%〜45モル%であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が53モル%〜65モル%である水系セラミックグリーンシート用塗料組成物を調整する工程と、
前記水系セラミックグリーンシート用塗料組成物を用いてセラミックグリーンシートを成形する工程と、
前記グリーンシートを乾燥させる工程と、
乾燥後のグリーンシートを積層し、グリーンチップを得る工程と、
前記グリーンチップを焼成する工程と、を有するセラミックグリーンシートの製造方法であって、
前記グリーンシートを、乾燥炉内に連続的に送り込み、乾燥炉内部の前半部では、35〜45°Cの温度で乾燥させ、前記乾燥炉の後半部では、徐々にあるいはステップ状に150°C以下の温度にまで昇温して乾燥させる工程をさらに有する。
【0015】
本発明において、好ましくは、前記水溶性ポリビニルアセタール樹脂の重合度が300〜800である。この重合度が高すぎると、本発明の効果が得られ難くなる。一方、重合度が低すぎる樹脂の製造は困難である。よって、上記の範囲が特に好ましい。
【0016】
さらに好ましくは、前記水溶性ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度が、25モル%〜45モル%である。この場合において、好ましくは、前記水溶性ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が50モル%より大きく、好ましくは55〜65モル%である。アセタール化度を低くすることで、グリーンシートの厚膜化が容易になることは、本発明者等により初めて見出された。ただし、アセタール化度が低すぎる樹脂の製造は困難であり、高すぎると、水に対して溶解しなくなる傾向にある。したがって、上記の範囲が好ましい。また、水酸基量が小さすぎると、本発明の効果が小さく、多すぎると、その製造が困難になる傾向にある。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図、
図2は図1に示すコンデンサの製造過程に用いるグリーンシートの要部断面図、
図3は図1に示すコンデンサの製造過程に用いるグリーンチップの要部断面図、
図4は図2に示すグリーンシートを製造するための塗料組成物に含まれるバインダ樹脂の化学式における重合度とアセタール化度を示す概略図、
図5はグリーンシートの乾燥方法を示すグラフ、
図6は図5に示す乾燥方法とグリーンシートの成膜厚みとの関係を示すグラフである。
【0018】
本実施形態では、セラミック電子部品の一例としての積層セラミックコンデンサを例示して説明する。
図1に示すように、この積層セラミックコンデンサ1は、層間誘電体層2と内部電極層3とが交互に積層された構成のコンデンサ素子本体10を有する。このコンデンサ素子本体10の両側端部には、素子本体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4が形成してある。コンデンサ素子本体10の形状に特に制限はないが、通常、直方体状とされる。また、その寸法にも特に制限はなく、用途に応じて適当な寸法とすればよいが、通常、(0.6〜5.6mm)×(0.3〜5.0mm)×(0.3〜1.9mm)程度である。
【0019】
内部電極層3は、各側端面がコンデンサ素子本体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4は、コンデンサ素子本体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
【0020】
コンデンサ素子本体10において、内部電極層3および層間誘電体層2の積層方向の両外側端部には、外側誘電体層20が配置してあり、素子本体10の内部を保護している。
【0021】
誘電体層2および20
層間誘電体層2および外側誘電体層20の組成は、本発明では特に限定されないが、たとえば以下の誘電体磁器組成物で構成される。
本実施形態の誘電体磁器組成物は、たとえばBaTiOで表せる主成分を有する誘電体磁器組成物である。誘電体磁器組成物中に主成分と共に含まれる副成分としては、Sr,Zr,Y,Gd,Tb,Dy,V,Mo,Zn,Cd,Ti,Sn,W,Ba,Ca,Mn,Mg,Cr,Si,およびPの酸化物から選ばれる1種類以上を含む副成分が例示される。
【0022】
副成分を添加することにより、主成分の誘電特性を劣化させることなく低温焼成が可能となり、層間誘電体層を薄層化した場合の信頼性不良を低減することができ、長寿命化を図ることができる。ただし、本発明では、層間誘電体層の組成は、上記に限定されるものではない。
【0023】
なお、図1に示す層間誘電体層2の積層数や厚み等の諸条件は、目的や用途に応じ適宜決定すればよいが、本実施形態では、層間誘電体層2の厚みは、1μm〜50μm程度である。また、外側誘電体層20の厚みは、たとえば100μm〜数百μm程度である。
【0024】
内部電極層3
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、層間誘電体層2の構成材料が耐還元性を有するため、卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、Ni、Cu、Ni合金またはCu合金が好ましい。内部電極層3の主成分をNiにした場合には、誘電体が還元されないように、低酸素分圧(還元雰囲気)で焼成するという方法がとられている。一方誘電体は還元されないようにその組成比をストイキオ組成からずらす等の手法がとられている。
内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.5〜5μm程度である。
【0025】
外部電極4
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、通常、CuやCu合金あるいはNiやNi合金等を用いる。なお、AgやAg−Pd合金等も、もちろん使用可能である。なお、本実施形態では、安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。
外部電極の厚さは用途等に応じて適宜決定されればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。
【0026】
積層セラミックコンデンサの製造方法
次に、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。
本実施形態では、ペーストを用いた通常の印刷法やシート法によりグリーンチップを作製し、これを焼成した後、外部電極を印刷または転写して焼成することにより製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。
【0027】
まず、誘電体層用ペーストを調整する。
本実施形態では、誘電体層用ペーストは、セラミック原料(誘電体原料)と、バインダ樹脂と、溶剤水とを少なくとも有する水系セラミックグリーンシート用塗料組成物で構成される。この塗料組成物には、必要に応じて、可塑剤、分散剤、湿潤剤などが添加される。
【0028】
この誘電体層用ペーストを用いて、図1に示す層間誘電体層2および外側誘電体層20を成形することができるが、本発明の方法は、特に厚膜のグリーンシートを製造する場合を想定しているので、以下の説明では、特に、膜厚が厚い外側誘電体層20を成形する場合を主として説明する。
【0029】
バインダ樹脂として、本実施形態では、水溶性ポリビニルアセタール樹脂が用いられ、その重合度が1000以下、好ましくは300〜800のものが用いられる。水溶性ポリビニルアセタール樹脂の化学式を図4に示す。本実施形態では、水溶性ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度は、好ましくは25モル%〜45モル%であり、水酸基量が50モル%より大きいものが用いられる。誘電体原料100質量部に対するバインダ樹脂の質量割合は、好ましくは1〜8質量部、さらに好ましくは2〜5質量部である。
【0030】
可塑剤としては、バインダ樹脂に柔軟性を付与するものであれば、特に限定されず、たとえばアミン類、ジオール、トリオール類などが例示される。アミン類としては、トリエタノールアミン(TEA)などが例示され、ジオール、トリオール類としては、ポリエチレングリコール(PEG)、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、トリメチルプロパンなどが例示される。バインダ樹脂100質量部に対する可塑剤の重量割合は、好ましくは50〜150質量部である。
【0031】
分散剤としては、粉体粒子を凝縮させないように分散させるものであれば特に限定されず、たとえばポリカルボン酸アンモニウム塩、アリルエーテルコポリマー、ベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、グラフト化合物系分散剤、ポリエチレングリコール型ノニオン系分散剤などが例示される。誘電体原料100質量部に対する分散剤の重量割合は、好ましくは0.1〜2質量部、より好ましくは0.2以上1.5質量部より小さい。
【0032】
湿潤剤としては、粉体粒子と分散媒の濡れ性を向上させるものであれば特に限定されず、たとえばポリエチレングリコール型ノニオン系湿潤剤、スルホン酸型アニオン系湿潤剤などが例示される。誘電体原料100質量部に対する湿潤剤の重量割合は、好ましくは0.01〜5質量部である。
【0033】
誘電体原料には、前述した誘電体磁器組成物の組成に応じ、主成分を構成する原料と、副成分を構成する原料と、必要に応じて焼結助剤を構成する原料とが用いられる。主成分を構成する原料としては、Ti,Ba,Sr,Ca,Zrの酸化物および/または焼成により酸化物になる化合物が用いられる。副成分を構成する原料としては、Sr,Y,Gd,Tb,Dy,V,Mo,Zn,Cd,Ti,Sn,W,Ba,Ca,Mn,Mg,Cr,Si,およびPの酸化物および/または焼成により酸化物になる化合物から選ばれる1種類以上、好ましくは3種類以上の単一酸化物または複合酸化物が用いられる。
【0034】
本発明に係る製造方法では、誘電体原料には、必ずしも焼結助剤を含ませる必要はないが、焼結助剤を含ませる場合には、たとえばSiまたはLiの酸化物および/または焼成により酸化物になる化合物が用いられる。焼成により酸化物になる化合物としては、例えば炭酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、有機金属化合物等が例示される。もちろん、酸化物と、焼成により酸化物になる化合物とを併用してもよい。
これらの原料粉末は、通常、平均粒子径0.005〜5μm程度のものが用いられる。このような原料粉末から誘電体原料を得るには例えば下記のようにすればよい。
【0035】
まず、出発原料を所定の量比に配合し、例えば、ボールミル等により湿式混合する。次いで、スプレードライヤー等により乾燥させ、その後仮焼し、主成分を構成する上記式の誘電体酸化物を得る。なお、仮焼は、通常500〜1300℃、好ましくは500〜1000℃、さらに好ましくは800〜1000℃にて、2〜10時間程度、空気中にて行う。次いで、ジェットミルあるいはボールミル等にて所定粒径となるまで粉砕し、誘電体原料を得る。副成分と、焼結助剤(SiOまたはLiOなど)とは、それぞれ主成分とは別に仮焼きし、得られた誘電体原料に混合される。
【0036】
上述した誘電体原料と、バインダ樹脂と、可塑剤と、分散剤と、湿潤剤と、溶剤水とは、例えばボールミル等で混合してペースト(スラリー)とする。なお、混合に際し、誘電体原料と分散剤と湿潤剤とを少量の溶剤水で一次混合し、その後、バインダ樹脂と可塑剤と残りの溶剤水とを、二次混合することにより、本発明の塗料組成物から成る誘電体層用ペーストを得ても良い。
【0037】
この誘電体層用ペーストをシート化するための手段として、本実施形態では、ドクターブレード法が用いられる。このシートを形成するための支持フィルムとしては、たとえばSi処理無しのPETフィルムが用いられる。この支持フィルム上に、ドクターブレード法により、誘電体層用ペーストを所定厚みに塗布し、乾燥させる。
【0038】
すなわち、図2に示すPET製支持フィルム(非磁性支持体)30が用いられる。この支持フィルム30上に、ドクターブレード法により、誘電体層用ペーストを所定厚みに塗布し、乾燥させる。
【0039】
その後、支持フィルム30を剥がして得られる外装用グリーンシート20aは、図1に示す外側誘電体層20を構成する部分であり、通常、100〜500μm程度の膜厚を有する。この外装用グリーンシート20aとは別に、同様な手法により、1μm〜50μm程度に薄く成形された内装用グリーンシート2aを形成する。内装用グリーンシート2aの一方の表面には、図1に示す内部電極層3が形成される。内部電極層3の形成方法としては、特に限定されないが、印刷法または薄膜法などが例示される。
【0040】
その後、図3に示すように、内部電極層が形成された内装用グリーンシート2aを交互に積層すると共に、その積層方向の外側両端部に、外装用グリーンシート20aを単層または複層で積層する。
【0041】
次に、このようにして得られた積層体を、所定の積層体サイズに切断し、グリーンチップ100とした後、脱バインダ処理および焼成を行う。そして、誘電体層2および20を再酸化させるため、熱処理を行う。
【0042】
脱バインダ処理は、通常の条件で行えばよいが、内部電極層の導電体材料にNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、特に下記の条件で行うことが好ましい。
【0043】
昇温速度:5〜300℃/時間、特に10〜50℃/時間、
保持温度:200〜300℃、
保持時間:0.5〜20時間、特に1〜10時間、
雰囲気 :空気中。
【0044】
焼成条件は、下記の条件が好ましい。
昇温速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
保持温度:1000〜1400℃、
保持時間:0.5〜8時間、特に1〜3時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス等。
【0045】
ただし、焼成時の酸素分圧は、10−2Pa以下、特に10−2〜10−10 Paにて行うことが好ましい。前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にあり、また、酸素分圧があまり低すぎると、内部電極層の電極材料が異常焼結を起こし、途切れてしまう傾向にある。
【0046】
このような焼成を行った後の熱処理は、保持温度または最高温度を、好ましくは1000℃以上、さらに好ましくは1000〜1100℃として行うことが好ましい。熱処理時の保持温度または最高温度が、前記範囲未満では誘電体原料の酸化が不十分なために絶縁抵抗寿命が短くなる傾向にあり、前記範囲をこえると内部電極のNiが酸化し、容量が低下するだけでなく、誘電体素地と反応してしまい、寿命も短くなる傾向にある。熱処理の際の酸素分圧は、焼成時の還元雰囲気よりも高い酸素分圧であり、好ましくは10−3Pa〜1Pa、より好ましくは10−2Pa〜1Paである。前記範囲未満では、誘電体層2および20の再酸化が困難であり、前記範囲をこえると内部電極層3が酸化する傾向にある。そして、そのほかの熱処理条件は下記の条件が好ましい。
【0047】
保持時間:0〜6時間、特に2〜5時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に100〜300℃/時間、
雰囲気用ガス:加湿したNガス等。
【0048】
なお、Nガスや混合ガス等を加湿するには、例えばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は0〜75℃程度が好ましい。また脱バインダ処理、焼成および熱処理は、それぞれを連続して行っても、独立に行ってもよい。これらを連続して行なう場合、脱バインダ処理後、冷却せずに雰囲気を変更し、続いて焼成の際の保持温度まで昇温して焼成を行ない、次いで冷却し、熱処理の保持温度に達したときに雰囲気を変更して熱処理を行なうことが好ましい。一方、これらを独立して行なう場合、焼成に際しては、脱バインダ処理時の保持温度までNガスあるいは加湿したNガス雰囲気下で昇温した後、雰囲気を変更してさらに昇温を続けることが好ましく、熱処理時の保持温度まで冷却した後は、再びNガスあるいは加湿したNガス雰囲気に変更して冷却を続けることが好ましい。また、熱処理に際しては、Nガス雰囲気下で保持温度まで昇温した後、雰囲気を変更してもよく、熱処理の全過程を加湿したNガス雰囲気としてもよい。
【0049】
このようにして得られた焼結体(素子本体10)には、例えばバレル研磨、サンドプラスト等にて端面研磨を施し、外部電極用ペーストを焼きつけて外部電極4を形成する。なお、外部電極用ペーストは、一般に、各種導電性金属や合金から成る導電体材料、あるいは焼成後に導電体材料となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネートなどと、有機ビヒクルとを混練して調整する。
このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。
【0050】
本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法によれば、水系溶剤を用いてもクラックや柚子肌などの各種欠陥を発生させることなく、安定してシートの厚膜化が可能になり、比較的に厚膜の外側誘電体層20を、単層で形成することも可能になる。その結果、コンデンサの製造コストの低減が図れる。
【0051】
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
【0052】
【実施例】
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
【0053】
実施例1
まず、出発原料主成分(母材)として、BaTiO(BT−05粉/堺化学工業(株)製)を用いた。その平均粒径は0.86μmで、その比表面積は、BET値で、2.3m/gであった。この主成分100質量部に対して、副成分添加物として、(Ba,Ca)SiO:1.48質量部、Y:1.01質量部、MgCO:0.72質量部、Cr:0.13質量部およびV:0.045質量部を準備した。始めに、副成分添加物のみをボールミルで混合し、スラリー化した。
【0054】
副成分添加物(合計量:3.385g)とイオン交換水7.723gとを、ボールミルにより、20時間予備粉砕を行った。次に、BaTiO:100gに対して、副成分添加物の予備粉砕スラリー11.108gと、イオン交換水:92.254g、分散剤(アリルアルコール、無水マレイン酸およびスチレン共重合物と、ポリオキシアルキレンモノアルキルエーテルとのグラフト化合物:日本油脂 マリアリム AKM0531: 0.4 質量部)、湿潤剤(アセチレンジオール系界面活性剤:エアープロダクツ、サーフィノル−465 を0.4 質量部)を添加し、ボールミルによって、16時間混合した。次に、この分散塗料に対して、バインダとして、ポリビニルアセタール樹脂(重合度:400、アセタール化度: 30モル%、残留アセチル基: 12モル%、水酸基: 58モル%、固形分濃度30%ラッカー)を固形分として2.5 質量部添加した。また、可塑剤として、ポリエチレングリコール400を、バインダー100質量部に対して、100質量部添加した。バインダ、可塑剤が添加された塗料を更に、16時間、ボールミルにて混合することによって、セラミック塗料(水系セラミックグリーンシート用塗料組成物)とした。
【0055】
得られた塗料をドクターブレード法によって、支持フィルムとしてPETフィルム状に種々の厚みで塗布した。乾燥条件は、乾燥炉内の温度が25℃から70℃で、乾燥温度勾配が0.714℃/分、乾燥時間が63分であった。その後、グリーンシートの限界成膜厚みを評価した。
【0056】
限界成膜厚みは、以下の様にして判定した。支持フィルム上の塗布厚みを、たとえば200μmを基準にして、10〜20μm程度づつ増やしていき、シート乾燥後の成膜状態を評価した。成膜後のグリーンシートは、シートの両端、中央部、全面にクラックが発生したり、表面が柚子肌状態になったりする。このような不具合が発生しない最大のシート成形厚みを限界成膜厚みと定義した。なお、クラック、柚子肌の評価は、目視にて行った。限界成膜厚みが300μm以上の場合を、○とし、400μm以上の場合を◎とし、300μmに満たない場合を、×と評価した。
結果を表1に示す。
【0057】
【表1】
Figure 0004100907
【0058】
実施例2
セラミック塗料におけるバインダとして、重合度が600のポリビニルアセタール樹脂を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、グリーンシートを成膜し、これらのグリーンシートの限界成膜厚みを評価した。結果を表1に示す。
【0059】
実施例3
セラミック塗料におけるバインダとして、重合度が800のポリビニルアセタール樹脂を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、グリーンシートを成膜し、これらのグリーンシートの限界成膜厚みを評価した。結果を表1に示す。
【0060】
比較例1
セラミック塗料におけるバインダとして、重合度が1500のポリビニルアセタール樹脂を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、グリーンシートを成膜し、これらのグリーンシートの限界成膜厚みを評価した。結果を表1に示す。
【0061】
実施例4
セラミック塗料におけるバインダとして、重合度が600で、アセタール化度が45モル%で、水酸基量が53モル%のポリビニルアセタール樹脂を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、グリーンシートを成膜し、これらのグリーンシートの限界成膜厚みを評価した。結果を表1に示す。
【0062】
参考例1
セラミック塗料におけるバインダとして、重合度が600で、アセタール化度が38モル%で、水酸基量が50モル%のポリビニルアセタール樹脂を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、グリーンシートを成膜し、これらのグリーンシートの限界成膜厚みを評価した。結果を表1に示す。
【0063】
比較例2
セラミック塗料における水溶性バインダとして、ポリビニルアルコール(PVA205、鹸化度88%、重合度500)を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、グリーンシートを成膜し、これらのグリーンシートの限界成膜厚みを評価した。結果を表1に示す。
【0064】
評価
表1に示すように、ほぼ同じ重合度の実施例2と比較例2とを比較することで、バインダとしては、水溶性ポリビニルアセタール樹脂が好ましいことが確認できた。なお、PVAをバインダとして用いる場合には、シートの強度が十分でなく、この点からも水溶性ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。また、実施例1〜4と比較例1とを比較することで、バインダ樹脂の重合度は、1000以下、特に800以下が、厚膜化の点で好ましいことが確認できた。なお、300よりも小さな重合度の樹脂の合成は困難である。
【0065】
さらに、実施例4と参考例1とを比較することで、水酸基量は、50モル%よりも大きいことが、厚膜化の点で好ましいことが確認できた。ただし、水酸基量が多すぎると、その製造が困難になる傾向にある。
【0066】
さらにまた、実施例1〜4を比較することで、厚膜化の点では、バインダ樹脂のアセタール化度は、25モル%〜45モル%が好ましいことが確認できた。なお、アセタール化度が低すぎる樹脂の製造は困難であり、高すぎると、水に対して溶解しなくなる傾向にある。
【0067】
実施例5
図5に示すように、グリーンシートの乾燥温度プロファイルを、設定1〜5に変化させた以外は、前記実施例3と同様にして、グリーンシートを成膜し、これらのグリーンシートの限界成膜厚みを評価した。結果を図6に示す。図6に示すように、乾燥炉内部の前半部では、35〜45°C、特に40°C±3°Cの温度で乾燥させ、前記乾燥炉の後半部では、徐々にあるいはステップ状に150°C以下、好ましくは130°C以下、さらに好ましくは75°C以下の温度、特に70°Cの温度にまで昇温して乾燥させることが、厚膜化の点で好ましいことが確認できた。
【0068】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本発明によれば、水系溶剤を用いてもクラックや柚子肌などの各種欠陥を発生させることなく、安定してシートの厚膜化が可能な水系セラミックグリーンシート用塗料組成物、セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図である。
【図2】 図2は図1に示すコンデンサの製造過程に用いるグリーンシートの要部断面図である。
【図3】 図3は図1に示すコンデンサの製造過程に用いるグリーンチップの要部断面図である。
【図4】 図4は図2に示すグリーンシートを製造するための塗料組成物に含まれるバインダ樹脂の化学式における重合度とアセタール化度を示す概略図である。
【図5】 図5はグリーンシートの乾燥方法を示すグラフである。
【図6】 図6は図5に示す乾燥方法とグリーンシートの成膜厚みとの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
1… 積層セラミックコンデンサ
2… 層間誘電体層
2a… 内装用グリーンシート
20… 外側誘電体層
20a… 外装用グリーンシート
3… 内部電極層
4… 外部電極
10… コンデンサ素子本体
30… PET製支持フィルム
100… グリーンチップ

Claims (6)

  1. セラミック原料と、バインダ樹脂と、溶剤水とを少なくとも有する水系セラミックグリーンシート用塗料組成物であって、前記バインダ樹脂が、水溶性ポリビニルアセタール樹脂を含み、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の重合度が300〜800であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度が、25モル%〜45モル%であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が53モル%〜65モル%である水系セラミックグリーンシート用塗料組成物を調整する工程と、
    前記水系セラミックグリーンシート用塗料組成物を用いてセラミックグリーンシートを成形する工程と、
    を有するセラミックグリーンシートの製造方法であって、
    前記グリーンシートを、乾燥炉内に連続的に送り込み、乾燥炉内部の前半部では、35〜45°Cの温度で乾燥させ、前記乾燥炉の後半部では、徐々にあるいはステップ状に150°C以下の温度にまで昇温して乾燥させる工程をさらに有するグリーンシートの製造方法。
  2. 前記セラミックグリーンシートを成形する工程は、シート成膜厚みが100〜500μmであるシート成膜工程を有する請求項1に記載のグリーンシートの製造方法。
  3. 前記セラミックグリーンシートを成形する工程は、シート成膜厚みが300〜500μmであるシート成膜工程を有する請求項1に記載のグリーンシートの製造方法。
  4. セラミック原料と、バインダ樹脂と、溶剤水とを少なくとも有する水系セラミックグリーンシート用塗料組成物であって、前記バインダ樹脂が、水溶性ポリビニルアセタール樹脂を含み、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の重合度が300〜800であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度が、25モル%〜45モル%であり、当該水溶性ポリビニルアセタール樹脂の水酸基量が53モル%〜65モル%である水系セラミックグリーンシート用塗料組成物を調整する工程と、
    前記水系セラミックグリーンシート用塗料組成物を用いてセラミックグリーンシートを成形する工程と、
    前記グリーンシートを乾燥させる工程と、
    乾燥後のグリーンシートを積層し、グリーンチップを得る工程と、
    前記グリーンチップを焼成する工程と、
    を有するセラミック電子部品の製造方法であって、
    前記グリーンシートを乾燥させる工程は、乾燥炉内に連続的に送り込み、乾燥炉内部の前半部では、35〜45°Cの温度で乾燥させ、前記乾燥炉の後半部では、徐々にあるいはステップ状に150°C以下の温度にまで昇温して乾燥させる工程を有するセラミック電子部品の製造方法。
  5. 前記セラミックグリーンシートを成形する工程は、シート成膜厚みが100μm〜500μmであるシート成膜工程を有する請求項4に記載のセラミック電子部品の製造方法。
  6. 前記セラミックグリーンシートを成形する工程は、シート成膜厚みが300μm〜500μmであるシート成膜工程を有する請求項4に記載のセラミック電子部品の製造方法。
JP2001397557A 2001-12-27 2001-12-27 セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法 Expired - Fee Related JP4100907B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001397557A JP4100907B2 (ja) 2001-12-27 2001-12-27 セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001397557A JP4100907B2 (ja) 2001-12-27 2001-12-27 セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003192449A JP2003192449A (ja) 2003-07-09
JP4100907B2 true JP4100907B2 (ja) 2008-06-11

Family

ID=27603313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001397557A Expired - Fee Related JP4100907B2 (ja) 2001-12-27 2001-12-27 セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4100907B2 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4506138B2 (ja) * 2003-09-30 2010-07-21 Tdk株式会社 スラリーの製造方法、グリーンシートの製造方法及び積層型電子部品の製造方法
JP4662879B2 (ja) * 2005-09-26 2011-03-30 積水化学工業株式会社 積層セラミックコンデンサ内部電極用導電ペースト、及び、積層セラミックコンデンサの製造方法
EP1854772B1 (de) * 2006-05-10 2013-03-27 Kuraray Europe GmbH Verfahren zur Herstellung von keramischen Grünfolien mit acetalisierten Polyvinylalkoholen
JP4930149B2 (ja) * 2007-03-29 2012-05-16 Tdk株式会社 積層型電子部品の製造方法
JP5827580B2 (ja) * 2012-02-28 2015-12-02 積水化学工業株式会社 リチウム二次電池電極用組成物
JP6088836B2 (ja) * 2013-02-08 2017-03-01 積水化学工業株式会社 樹脂組成物及び積層体の製造方法
CN113979720B (zh) * 2021-09-30 2023-08-25 广东金牌陶瓷有限公司 一种大规格高强陶瓷薄板制备工艺及陶瓷薄板
CN116283311A (zh) * 2023-03-09 2023-06-23 佛山市杨森化工有限公司 一种液体解胶增强剂的生产工艺及配方
CN117209247A (zh) * 2023-08-04 2023-12-12 常州市柚米家居用品有限公司 一种无锂耐热陶瓷及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003192449A (ja) 2003-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5434407B2 (ja) セラミック電子部品およびその製造方法
KR20010109177A (ko) 적층 세라믹 콘덴서 및 그 제조 방법
JP5146475B2 (ja) 誘電体磁器組成物およびセラミック電子部品
JP6753221B2 (ja) 誘電体組成物および積層電子部品
JP7306251B2 (ja) 誘電体組成物および電子部品
JP2017120854A (ja) セラミック電子部品
JP4100907B2 (ja) セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法
JP3794562B2 (ja) 積層型セラミック電子部品
JP4303715B2 (ja) 導電性ペーストおよび積層型電子部品の製造方法
JP2762427B2 (ja) 積層型セラミックチップコンデンサ
JP2007261941A (ja) 水系セラミックグリーンシート用塗料組成物、セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法
JP4206062B2 (ja) セラミック電子部品およびその製造方法
JP4030305B2 (ja) セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法
JP4552260B2 (ja) ニッケル粉末、電極用ペーストおよび電子部品の製造方法
JP3874278B2 (ja) 誘電体磁器組成物、電子部品およびこれらの製造方法
JP3908458B2 (ja) 誘電体磁器組成物の製造方法
JP5488118B2 (ja) 誘電体磁器組成物および電子部品
WO2004087613A1 (ja) グリーンシート用塗料、グリーンシート、グリーンシートの製造方法および電子部品の製造方法
JP4432882B2 (ja) 積層型電子部品およびその製造方法
JP4506755B2 (ja) グリーンシート、グリーンシートの製造方法、および電子部品の製造方法
JP4030304B2 (ja) 水系セラミックグリーンシート用塗料組成物、セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法
JP2975459B2 (ja) 積層型セラミックチップコンデンサ
JP3586148B2 (ja) 非還元性誘電体磁器材料およびその製造方法ならびに積層磁器コンデンサ
JP2002284579A (ja) 水系セラミックグリーンシート用塗料組成物、セラミックグリーンシートの製造方法およびセラミック電子部品の製造方法
JP2007149780A (ja) 積層型セラミック電子部品およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040727

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070313

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070514

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070925

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080117

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080219

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080318

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120328

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120328

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130328

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140328

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees