JP4092943B2

JP4092943B2 - インクジェット記録体

Info

Publication number: JP4092943B2
Application number: JP2002130286A
Authority: JP
Inventors: 悦子石井; 耕三田尻
Original assignee: Oji Holdings Corp; Oji Paper Co Ltd
Current assignee: New Oji Paper Co Ltd; Oji Holdings Corp
Priority date: 2002-05-02
Filing date: 2002-05-02
Publication date: 2008-05-28
Anticipated expiration: 2022-05-02
Also published as: JP2003320746A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、目視外観、光沢感に優れておりフルカラーの写真印刷に好適なインクジェット記録体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、コンピューターなどの出力用として、ワイヤードット記録方式、感熱発色記録方式、溶融熱転写記録方式、昇華記録方式、電子写真方式、インクジェット記録方式などの種々の方式が開発されている。この中でもインクジェット記録方式は、記録用シートとして普通紙を使用できること、ランニングコストが安価なこと、ハードウェアがコンパクトで安価なことから、パーソナルユーズに適した記録方式として認知されている。更に近年では、フルカラー化及び高解像度化が飛躍的に進み、カラー画像の手軽な出力手段としても注目されており、プリンターの販売台数を急速に伸ばしている。
【０００３】
インクジェットプリンターの出力に用いられるインクジェット記録体には、インクをすばやく吸収し、精細な文字又は画像を再現できること、画像の色濃度が高くかつ色調に偏りがないこと等が基本的性能として必要である。また、インクジェットプリンターの高性能化が急速に進展した近年では、出力用途も単純なモノクロ文字出力から銀塩写真の代替となるデジタル画像出力まで広がりを見せているため、インクジェット記録体側にもユーザーニーズにあわせた品質向上が望まれており、特に画像出力用に関しては、目視で銀塩写真に迫る品質（目視外観や光沢感等）が求められている。
【０００４】
以前は支持体上にポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ゼラチンなどの水溶性樹脂の水溶液を塗布し、乾燥して製造されたインクジェット記録体が数多く市販されていた。これらの記録体は、低コストでかつ容易に高光沢のインクジェット記録体を製造できる。しかし、支持体に水溶性樹脂を主成分とするインク受容層を設けた記録体はインク乾燥速度が遅く、プリンターの高速化に対応できないこと、また耐水性に劣ることから、最近では微細な顔料を少量のバインダー樹脂で固めた多孔質のインク受容層を有するインクジェット記録体が主流になってきた。
【０００５】
微細顔料をバインダー樹脂で固めて製造される微細顔料系インク受容層は、顔料の内外に確保された細孔に毛細管現象で素早くインクを吸収し画像を形成するため、溶解や膨潤によってインクを吸収する樹脂系受容層に比べ、高いレベルの画像やインク乾燥性を得ることができる。また、微細顔料系受容層は、バインダー樹脂に耐水性があれば、受容層の耐水性も非常に高くなるという長所がある。
しかし、一方で微細顔料系受容層にて高品質な画像を得るためには、吐出されるインクを吸収しうるだけの細孔を受容層中に確保しなければならず、インク吐出量の多い写真印刷向けインクジェットプリンターに対応するためのインクジェット記録体は、高塗工量が必要となる。且つ、使用する顔料は細孔容積が大きい必要があり、高い光沢を得るためには、平均粒径が光の波長より小さく、均一な微細顔料でなければならない。このような微細顔料を用いると塗工後の乾燥過程で毛管力による受容層のひび割れが生じ易く、インク吸収に十分な塗工量を一回の塗工で得ることが非常に困難である。そこで通常は、低塗工量の塗工を多数回繰り返すことで必要とする塗工量を確保しているが、製造工程が煩雑化するとともに、多数回塗工による歩留り低下が生じるために生産性が低下するという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
このような問題点を打破するため、本発明者らは、電子線照射による樹脂の架橋反応を利用することを思い立った。特に、ポリビニルアルコールのように水溶液に電子線を照射することによりハイドロゲルを形成する水溶性樹脂に着目し、このような樹脂を主成分として含有する水性組成物を支持体シートに塗布し、ついで電子線を照射してハイドロゲルを形成させたのち乾燥させてインク受容層を形成する方法を見出した。形成されるインク受容層は、電子線未照射の場合や、乾燥した塗膜に電子線を照射した場合に比べ、飛躍的に受容層の性能が向上し、製造過程も簡便になることを見出した。即ち、この製造方法を用いることでひび割れの発生し易い細孔容積が大きな微細顔料を用いた場合でも、ひび割れのない良好な受容層を形成することができ、高精細な画像を得ることができた（特願２０００−３２３４２９）。
【０００７】
本発明者らは、この電子線照射により塗布層をハイドロゲル化する手法について更に検討を進めたところ、使用する支持体によっては見た目の風合い（目視外観）や光沢感が低下して写真印刷向けインクジェット記録体としての品質が得られないことが分かった。この原因に付き詳細に検討したところ、支持体の平滑性、濡れ性（接触角）、サイズ度等支持体の表面物性が、その上に形成されるインク受容層に及ぼす影響が大きく、場合によってはインク受容層の表面に塗工欠陥を与え、見た目の風合いや光沢感を低下させていることが分かった。例えば、表面凹凸が大きく平滑性が低い支持体や疎水性の高いプラスチックフィルム、疎水性の高い樹脂をラミネートした支持体、もしくは、サイズを効かせた紙等の濡れ性が低い支持体の上に水性塗料を塗工した場合、外観上は塗料のはじきがなく塗工できた場合でも、得られるインクジェット記録体の品質は低下した。この現象は、塗布層に厚みムラや濡れの不良箇所が生じ、それが原因となって乾燥時の塗膜収縮ムラや塗布層欠陥を引き起こし、品質低下をもたらすものと推定される。
【０００８】
更に、本発明者らの方法、即ち水溶液状態の塗布層に電子線を照射してハイドロゲル化させたのち乾燥してインク受容層を得るという方法は、電子線照射がない通常の方法よりも、乾燥前の塗布層の状態が乾燥後の塗布層の品質に影響を与えやすいことが分かった。これは、ハイドロゲル化した塗布層は不動化状態にあり、通常の方法の場合よりも乾燥収縮により塗布層内部に発生する応力を緩和し難いためと考えられる。よって、乾燥前のインク受容層に不均一面が生じていたり、支持体とインク受容層の密着性が不足していると、乾燥収縮によって歪みが増幅されて明白な塗布層欠陥になると考えられる。
従って、本発明者らの方法では乾燥前の塗布層の均一性を高めること、またインク受容層と支持体の密着性を向上させることが、塗布層の欠陥をなくすこと、更には、より高いレベルの目視外観や光沢感を得るのに重要であり、高性能インクジェット記録体を得るために必要であると結論した。
【０００９】
本発明の目的は、上記の電子線を使用したインクジェット記録体の欠点を改良し、目視外観と光沢感に優れ、フルカラーの写真印刷に好適なインクジェット記録体を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、優れた目視外観や光沢感を得る方法について鋭意検討した。前述したように、本発明では乾燥前の塗布層の均一性を高めることが、塗布層の欠陥をなくすことのみならず、より高いレベルの目視外観や光沢感を得るのに重要な要素である。乾燥前の塗布層の均一性を増すためには、インク受容層塗設面の表面物性を最適化することが好ましく、一般的によく用いられる方法としては金属ロールによる平滑化処理、樹脂ラミネート処理、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、溶剤処理、下引き層の形成等の各種処理が挙げられる。
この中でも、下引き層の形成が有効であり、特定の材料による下引き層が非常に効果的であることを見出し、本発明に至った
【００１１】
本発明は下記の態様を含む。
［１］支持体上に一層以上のインク受容層を有するインクジェット記録体において、該支持体上にポリオレフィン系重合体、α−オレフィン、不飽和カルボン酸共重合体、及びポリエステル系共重合体から選ばれた少なくとも一種及びコロイダルシリカを含む下引き層を有し、且つ下引き層に接するインク受容層が、水溶液に電子線を照射することによりハイドロゲルを形成する電子線硬化性成分を含有する水性塗料を塗布し、ついで電子線を照射して該塗布層をハイドロゲル化させたのち乾燥して形成されたインク受容層であることを特徴とするインクジェット記録体。
【００１３】
［２］下引き層の固形分塗布量が０．１〜３０ｇ／ｍ^２である請求項１記載のインクジェット記録体。
【００１４】
［３］電子線を照射して塗布層をハイドロゲル化させたのち乾燥して形成される少なくとも１層のインク受容層が、平均粒径が１μｍ以下の微細顔料を含み、細孔径１００ｎｍ以下の全細孔容積が０．２〜２．０ｍｌ／ｇの多孔質のインク受容層であることを特徴とする請求項[１]〜[２]のいずれかに記載のインクジェット記録体。
【００１５】
［４］水溶液に電子線を照射することによりハイドロゲルを形成する電子線硬化性成分が、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、水溶性ポリビニルアセタール、ポリ−Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリアクリルアミド、ポリアクリロイルモルホリン、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリアクリル酸、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチン、カゼイン、及びこれらの水溶性誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種の親水性樹脂である請求項［１］〜［３］のいずれかに記載のインクジェット記録体。
【００１６】
［５］微細顔料がシリカ、水酸化アルミニウム、ベーマイト、擬ベーマイト、及びアルミナからなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項［３］、［４］のいずれかに記載のインクジェット記録体。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下に本発明について詳細に説明する。
本発明の下引き層とは、インク受容層を塗布する前に、塗布・乾燥して形成される層であり、支持体の種類に関わらず常に表面物性の安定した好適なインク受容層塗設面を付与するものである。このような下引き層には、乾燥前のインク受容層が均一な塗布層を保つことができ、且つインク受容層との密着性が高いものが好ましい。本発明者らが鋭意検討した結果、下引き層に好適に使用できる樹脂として、ポリオレフィン系重合体、α−オレフィン・不飽和カルボン酸共重合体、ポリエステル系共重合体を見出した。特にα−オレフィン・不飽和カルボン酸共重合体、ポリエステル系共重合体が好適である。このような樹脂を主成分とする下引き層上にインク受容層を形成させることで、密着性を向上させ、塗布層の凹凸や欠陥を回避することが可能である。この他の樹脂を下引き層として使用した場合にも、下引き層がない場合に比べると塗布層の欠陥や目視外観が向上するものはあるが、前記本発明の下引き層が特に効果に優れる。
【００１８】
本発明に用いるポリオレフィン系重合体とは、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテンなどのオレフィン単量体の単独重合体、更にはエチレン−プロピレン共重合体などのオレフィンの２種以上からなる共重合体及びそれらの混合物を例示できる。ポリオレフィン系重合体の分子量は、特に制限はないが５万〜３０万のものが一般的に市販されており好ましい。このようなポリオレフィン系重合体の利用できる市販品の例としては、ハイテックＥ−８０００、Ｅ−８０４５（東邦化学工業製）等を挙げることができる。
【００１９】
α−オレフィン・不飽和カルボン酸共重合体を構成するα−オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、ブチレン等が好ましく、エチレンが特に好ましい。不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸等が好ましく、特に好ましいものとしてはアクリル酸、メタクリル酸である。エチレンとアクリル酸又はメタクリル酸（以下両者を合わせて（メタ）アクリル酸と略す）との共重合体、さらにはプロピレンと（メタ）アクリル酸共重合体との共重合体が市販されており好ましく使用できる。α−オレフィン・不飽和カルボン酸共重合体の重量平均分子量は５０００〜１０万が好ましく、特に１万〜５万が好ましい。重量平均分子量が５０００未満になると低分子量成分が増えるため、ブロッキング（熱、圧力、経時変化によって発生する融着や張り付き等の現象）し易くなること、及び下引き層とハイドロゲルの密着性が低下する恐れがある。また、平均重合分子量が１０万を越えるものは製造が困難になる。利用できる市販品の例としては、エマルジョン型としてはハイテックＳ−３１２１、ハイテックＳ−３１２３、ハイテックＳ−３１２７（全て東邦化学工業製）が挙げられ、アルカリ可溶型としてはザイクセン−ＡＣ、ザイクセン−Ｎ，ザイクセン−Ｌ（全て住友精化製）等を挙げることができる。下引き層としての効果はエマルジョン型とアルカリ可溶型で変わることはない。
【００２０】
ポリエステル系共重合体は、多価アルコールと多塩基酸との重縮合により生成する樹脂であり、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコールなどのグリコール類と、無水フタル酸、無水マレイン酸、フマル酸、アジピン酸等の脂肪族二塩基酸や、あるいはテレフタル酸などの芳香族二塩基酸との重縮合物が一般的である。市販品としてはバイロナールＭＤ−１４００、ＭＤ−１２００（全て東洋紡績製）等が挙げられる。下引き層に用いられる樹脂は、完全水系樹脂が製造設備面や環境配慮という点で好ましい。
【００２１】
上記の下引き層は、支持体上に固形分塗布量で０．１〜３０ｇ／ｍ^２にて形成されることが好ましい。より好ましくは０．６〜２０ｇ／ｍ^２さらに好ましくは１〜１５ｇ／ｍ^２であり、最も好ましくは３〜１０ｇ／ｍ^２である。固形分塗布量が少ないと、目視外観を良化させる効果が少なく、固形分塗布量が多いとコスト面から好ましくない。
【００２２】
下引き層に顔料を配合することは下引き層の塗膜強度を高めることができるため好ましい。下引き層の上に塗工されるインク受容層は乾燥時の収縮が極めて大きいため、下引き層の強度が弱いと亀裂が入ることがあるが、顔料配合により改良しうる。顔料としては平均粒径が１μｍ以下の微細顔料が、光沢低下を起こすことがないので好ましい。とりわけコロイダルシリカを配合すると、良好な目視外観が得られ、インク受容層との密着性も良いので特に好ましい。
コロイダルシリカの製造方法についてはいくつかの方法が知られており、例えば米国特許第２５７４９０２号明細書には、ケイ酸ソーダの希釈水溶液をカチオン交換樹脂で処理して活性ケイ酸水溶液を調製し、この活性ケイ酸水溶液の一部に対しケイ酸ソーダをアルカリとして添加して安定化させて重合することにより、シリカのシード粒子が分散した液（シード液）を作り、アルカリ条件を保持しながら活性ケイ酸水溶液の残部（フィード液）をこれに徐々に添加してケイ酸を重合させ、コロイダルシリカの粒子を成長させる方法が開示されている。
【００２３】
コロイダルシリカを製造する場合、工業的に最も多く使用される製造方法は上記のようなイオン交換樹脂法である。この方法により、安価な工業製品である水ガラスを始めとするアルカリ金属ケイ酸塩を原料として、粒径を自由にコントロールしながら、かつ粒径分布がシャープなコロイダルシリカを製造することが可能となっている。これらの方法で得られるコロイダルシリカは、そのほとんどが真球状粒子であり、粒子径が数ｎｍから数百ｎｍのものが市販品として入手できる。用いられるコロイダルシリカの粒子径は特に限定されないが、安価に入手できる７ｎｍ〜５０ｎｍのものを使用することができる。
【００２４】
コロイダルシリカの配合比率は、質量換算で前記特定樹脂／コロイダルシリカ＝９０／１０〜２０／８０が好ましく、より好ましくは５０／５０〜３０／７０である。コロイダルシリカの配合量が１０％未満になると、コロイダルシリカの塗膜強度向上への寄与が小さくなる。コロイダルシリカの配合量が８０％を越えると成膜性が不足し、下引き層にひび割れが生じる恐れがある。
【００２５】
このような下引き層の塗工方法に関しては特に限定されないが、通常利用される各種塗工装置、例えばバーコーター、ロールコーター、ブレードコーター、エアーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、カーテンコーター、キャストコーター等を使用できる。
【００２６】
本発明で用いられる支持体としては、上質紙、中質紙、コート紙、アート紙、キャストコート紙、板紙、合成樹脂ラミネート紙、金属蒸着紙、合成紙、白色フィルム等、インクジェット記録体の支持体として一般的に用いられるシートを利用することができるが、これらに限定されるものではない。中でも、合成樹脂ラミネート紙、金属蒸着紙、合成紙、白色フィルム等、表面が平滑で比較的吸液性の低い支持体シートを用いた場合は、フィルム転写法やキャスト塗工などの手段を用いなくても非常に高光沢のインク受容層が得られるため好適である。また、支持体にポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリイミド、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の透明性が優れているプラスチックフィルムを用いると、バックプリントやＯＨＰシート等の光透過性記録媒体として利用できるインクジェット記録体を作製することができる。これに粒径が１μｍ以下，好ましくは８００ｎｍ以下の微細顔料を用いたインク受容層を組み合わせると、記録体全体の透明性が高くなるため、これらの媒体にも好適に利用できる。
【００２７】
これらの支持体はその表面に形成する下引き層との接着力が不十分な場合には、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、紫外線照射処理、電子線などの活性エネルギー線照射処理、火炎処理等の易接着処理を施すことができる。また下引き層に対してこれらの処理を行なうことも可能である。
【００２８】
支持体の厚さは記録体の使用時の状況によって調整するものであるため、特に限定するものではないが、プリンターの通紙性を考慮すると５０〜５００μｍが好ましい。また、支持体の不透明度に関しても特に限定するものではないが、特に銀塩写真調の風合いを求める場合は、ＪＩＳＰ８１３８に準じて測定した不透明度が８５％以上である事が望ましく、更に好ましくは９３％以上であると良い。
【００２９】
本発明のインクジェット記録体のインク受容層は、溶媒を含んだ状態で電子線を照射される。この塗料中に含まれる溶媒の主成分は水であるが、副成分として各種溶剤を添加することもできる。その場合、比較的沸点が低い、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、アセトン、トルエン、キシレン、ジオキサン、アセトニトリル、メチルエチルケトン、酢酸エチル等が好適に用いられるがこれらに限定するものではない。また、これらの溶媒を２種類以上混合して使用しても良い。
【００３０】
本発明に用いる電子線硬化性成分としては、水性塗料中に溶解もしくは分散した状態で電子線を照射されると、重合反応や架橋反応のように分子量が増加する反応を起こし、塗料をハイドロゲル化する性質を有している物質であれば、特に種類を限定するものではない。一例として、一般的に電子線硬化型樹脂と言われる分子末端或いは側鎖にアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有するポリマーまたはオリゴマーがあり、それらの中にはポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエポキシ系、ポリエーテル系がありいずれも使用できる。また１分子の中に複数のアクリロイル基またはメタクリロイル基を含むモノマーも使用でき、上記の電子線硬化性ポリマーまたはオリゴマーと混合して使用しても良い。
【００３１】
その他にも、ラジカル重合性の不飽和結合は有さないが、水溶液に電子線を照射することによりハイドロゲルを形成する親水性樹脂も電子線硬化性成分として用いることができる。これらの具体例としては、完全けん化ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、水溶性ポリビニルアセタール、ポリ−Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリアクリルアミド、ポリアクリロイルモルホリン、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリアクリル酸、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチン、カゼイン及びこれらの水溶性誘導体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。水溶性誘導体には、カチオン変性品、アニオン変性品や、水酸基、カルボキシル基、アミノ基などの官能基を例えばエステル化、エーテル化、アミド化して化学修飾した誘導体、グラフト重合によって他の側鎖を導入した重合体を例示できる。
また、前記各樹脂の構成単位を含む共重合体でもよい。例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性ポリビニルアセタール、ポリ−Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリアクリルアミド、ポリアクリロイルモルホリン、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリアクリル酸などを構成するビニルモノマーからなる共重合体、また、これらのモノマーとそれ以外のモノマーを含む共重合体を例示できる。また、これらの樹脂を単独で使用するだけでなく二種類以上混合して用いることもできる。これらの樹脂は汎用の樹脂であるので安価であり、皮膚刺激性も弱く、分子量を選択する事で電子線照射後に得られるゲルの強度も容易に調整できるため、電子線硬化性成分として好適に用いられる。また前記のアクリロイル基またはメタクリロイル基を含む電子線硬化性ポリマー、オリゴマー、及びモノマーよりも親水性が高い点も好ましい点である。これらの樹脂の中でも、扱いやすく種類も豊富である事からポリビニルアルコールが特に好適に用いられる。水溶性であるこれらの樹脂を用いた場合でも、電子線照射によって樹脂が架橋され三次元網目化するため、得られるインクジェット記録体は非常に高い耐水性を有する。
【００３２】
電子線硬化性成分として前記の特定親水性樹脂を用いる場合、その分子量の最適値は樹脂の種類毎に性状が異なるので一概にいえないが、あまり高すぎると塗料の保存性や塗工性に問題を生じる恐れがある。逆に、分子量が低すぎても、電子線照射によって得られるハイドロゲルのゲル強度が不十分となるため乾燥後の塗膜のひび割れが発生する恐れがあり、記録体の外観を妨げる恐れがある。分子量の目安としては１万〜５００万程度がよく、より好ましくは、５万〜１００万である。
【００３３】
インクジェットプリンターに用いられるインク中の着色成分である染料や顔料はアニオン性基を有するものが多いため、インク受容層にはカチオン性のインク定着剤を添加することが望ましい。そのため本発明の電子線硬化性成分としてカチオン性のものを使用すると、インク定着剤として機能するため好適である。例えばカチオン性ポリビニルアルコール、カチオン性ポリビニルピロリドン、カチオン性水溶性ポリビニルアセタール、カチオン性ポリ−Ｎ−ビニルアセトアミド、カチオン性ポリアクリルアミド、カチオン性ポリアクリロイルモルホリン、カチオン性ポリヒドロキシアルキルアクリレート、カチオン性ヒドロキシエチルセルロース、カチオン性メチルセルロース、カチオン性ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カチオン性ヒドロキシプロピルセルロース、カチオン性ゼラチン、カチオン性カゼイン等が挙げられる。インク定着剤はインク受容層の中でも表層部分に多く添加すると、インクの発色や耐水性により効果的である。従って、本発明を利用して多層構成のインク受容層を作製する場合、特に前記カチオン性の電子線硬化性成分を含有する層を上層として設けると好適である。
【００３４】
本発明において、電子線を照射される塗布層に顔料が含まれていると、電子線照射後に得られるハイドロゲルの強度が高くなるため好適である。特に、粒径が小さく、細孔容積が大きい微細顔料を主成分とする塗料を使用して多孔質のインク受容層を作製すると毛細管現象により素早くインクを吸収し緻密な画像を記録する事ができるため、非常に好ましい。塗料に使用する顔料の種類は特に限定するものではないが、市販の顔料、例えばシリカ、アルミノシリケート、ゼオライト、カオリン、クレー、焼成クレー、酸化亜鉛、酸化錫、水酸化アルミニウム、ベーマイト、擬ベーマイト、アルミナ、炭酸カルシウム、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、スメクタイト、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、珪藻土、スチレン系プラスチックピグメント、尿素樹脂系プラスチックピグメント、ベンゾグアナミン系プラスチックピグメント等、一般塗工紙の分野で公知の各種顔料が挙げられる。これらの顔料の中でもインク受容層を製造する場合は特に、シリカ、水酸化アルミニウム、ベーマイト、擬ベーマイト、アルミナなどの細孔容積が大きく、インク吸収性に優れるものが好適に用いられる。また、インク受容層を形成する場合は、顔料の平均粒径が１μｍ以下、好ましくは８００ｎｍ以下であると、インク吸収性に優れ、透明性、光沢性にも優れるインク受容層が得られるため、より好ましい。ここで平均粒径とは動的光散乱法によって測定した粒径（キュムラント法で求められる値）である。
【００３５】
特にシリカは細孔容積が大きいためインク受容層として用いるのに最も適している。シリカにはケイ酸アルカリ塩を原料とする湿式法シリカと、四塩化珪素などの揮発性珪素化合物を火炎中で分解する乾式法シリカがあるが、いずれも好ましい。好適なシリカの、細孔径１００ｎｍ以下の細孔容積は０．４〜２．５ｍｌ／ｇである。コロイダルシリカも使用することができるが、コロイダルシリカは製造方法からわかるように、シリカ粒子は二次粒子を形成していないため細孔径１００ｎｍ以下の細孔容積は０．２〜０．３ｍｌ／ｇの範囲であり、インク受容層に用いるにはインク吸収量が少ない恐れがある。
【００３６】
高光沢、高透明性のインク受容層を得るためには平均粒径１μｍ以下の微細顔料を使用するのが好ましいが、中でも、その微細顔料が平均粒径３〜６０ｎｍの一次粒子が凝集してなる平均粒径２０〜８００ｎｍの二次粒子であるとより好適である。特に二次粒子の粒径は、好ましくは３０〜７００ｎｍ、より好ましくは４０〜５００ｎｍである。このような二次粒子は二次粒子内部に空隙があるので細孔容積が大きい。さらに二次粒子間の空隙もインク吸収に利用できるためインク吸収能力が高い。また一次粒子は光の波長に比べて充分小さいので二次粒子を形成していない顔料と比較して光の散乱能力が小さく、インク受容層の透明性が高くなる利点がある。顔料の一次粒子径や二次粒子径が小さすぎるとインク吸収に寄与する空隙を形成し難くなるため、受容層のインク吸収性が劣る恐れがある。逆に、一次粒子径や二次粒子径が大きすぎると記録層の透明性が低下し、高印字濃度を得にくい恐れがある。また、二次粒子径が大きすぎると、受容層の光沢が低下するだけでなく、表面のざらつきや、粉落ちの原因となるおそれがある。なお、本発明でいう顔料の一次粒子径はすべて電子顕微鏡（ＳＥＭ及びＴＥＭ）で観察した粒径（マーチン径）である（「微粒子ハンドブック」、朝倉書店、ｐ５２参照）。また、二次粒子径は、動的光散乱法によって測定した粒径である。
【００３７】
また、インク吸収能の高いインク受容層を得るためには、使用する微細顔料の細孔容積は高いほうが好ましいが、０．４〜２．５ｍｌ／ｇが好ましく、より好ましくは０．５〜２．０ｍｌ／ｇであり、更に好ましくは０．６〜１．９ｍｌ／ｇ、最も好ましくは０．7〜１．８ｍｌ／ｇである。この細孔容積はガス吸着法による比表面積・細孔分布測定装置を用いて求めた値であり、細孔径１００ｎｍ以下の細孔の全細孔容積である。前記のようにシリカ、水酸化アルミニウム、ベーマイト、擬ベーマイト、アルミナが好ましく、２次粒子を形成していてもよい。
【００３８】
これらの微細顔料の製造方法は特に限定されないが、その手段の一つとして市販の顔料（数μｍ〜数十μｍ）に機械的手段で強い力を与えることにより粉砕、分散して得る方法が挙げられる。つまり、ｂｒｅａｋｉｎｇｄｏｗｎ法（塊状原料を細分化する方法）によって得られるものである。機械的手段としては、超音波ホモジナイザー、圧力式ホモジナイザー、ナノマイザー、高速回転ミル、ローラーミル、容器駆動媒体ミル、媒体攪拌ミル、ジェットミル、サンドグラインダー等の機械的手法が挙げられる。得られる微細顔料はコロイド状であっても、スラリー状であっても良い。その他の好ましい微細顔料の製造方法として、特開平５−３２４１３号公報や特開平７−７６１６１号公報などに開示されている金属アルコキシドの加水分解による方法が挙げられる。
【００３９】
最も好ましい微細顔料は、活性ケイ酸を縮合して製造され、平均二次粒子径が１μｍ以下で、細孔径１００ｎｍ以下の細孔容積が０．４〜２．５ｍｌ／ｇ、好ましくは０．４〜２．０ｍｌ／ｇの微細シリカである。このような微細シリカとして特開平２００１−３５４４０８号公報において開示されている微細シリカが好ましい。特開平２００１−３５４４０８号公報で開示されている活性ケイ酸の縮合による方法は、機械的手段によらずに直接、上記の粒子径や細孔容積を有する微細シリカを製造でき、かつ粒度分布が狭いのでインク受容層の透明度や光沢が良好なので本発明に好ましく用いることができる。ここで活性ケイ酸とは、例えばアルカリ金属ケイ酸塩水溶液を水素型陽イオン交換樹脂でイオン交換処理して得られる酸性、好ましくはｐＨ４以下のケイ酸水溶液をさす。ＳｉＯ₂濃度として１〜６質量％が好ましく、より好ましくは２〜５質量％でかつｐＨ２〜４である活性ケイ酸水溶液が望ましい。アルカリ金属ケイ酸塩としては、市販工業製品として入手できるものでよく、より好ましくはＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ（但し、Ｍはアルカリ金属原子を表す）モル比として２〜４程度のナトリウム水ガラスを用いるのが好ましい。活性ケイ酸の縮合方法としては、熱水に活性ケイ酸水溶液を滴下するか、活性ケイ酸水溶液を加熱してシード粒子を生成させ、分散液が沈殿を生じる前、若しくはゲル化する前にアルカリを添加してシード粒子（凝集粒子）を安定化し、該安定状態を保ちながら活性ケイ酸水溶液をシード粒子に含まれるＳｉＯ_２１モルに対してＳｉＯ_２に換算して好ましくは０．００１〜０．２モル／分の速度で添加してシード粒子を成長させたものが好ましい。平均二次粒子径は１μｍ以下が好ましく、より好ましくは２０ｎｍ〜８００ｎｍ、最も好ましくは３０ｎｍ〜７００ｎｍである。粒径が１μｍを超えると、光の散乱が多くなりインク受容層に用いた場合、高い印字濃度が得られない。この平均二次粒子径は動的光散乱法を採用した粒度計で測定し、キュムラント法で解析した値である。
【００４０】
一次粒子径については特に限定されないが、好ましくは直径５ｎｍ〜６０ｎｍである。ただし、該微細シリカはシリカ一次粒子が化学結合して二次粒子を形成しているため、一次粒子の直径を正確に求めることは困難である。このため一次粒子の平均粒子径の尺度として窒素吸着法による比表面積を採用すると、好ましい比表面積は５０ｍ²／ｇ〜５００ｍ²／ｇである。比表面積がこの範囲よりも小さい場合には、光散乱が強くなり、乾燥塗膜の透明性が低下する恐れがあり、印字濃度が低下する恐れがある。一方、比表面積が上記範囲よりも大きい場合には、塗工液がゲル化を起こしやすくなり、作業性を損ねる恐れがある。また、バインダーと混合して乾燥塗膜を作成する場合にひび割れが起こり易くなり、良好な塗膜が得られにくくなる恐れがある。より好ましくは１００ｍ²／ｇ〜４００ｍ²／ｇ、更に好ましくは１５０ｍ²／ｇ〜３５０ｍ²／ｇである。尚、凝集していない真球状シリカ粒子の場合、一次粒子径（ｎｍ）＝２７２０／比表面積（ｍ^２／ｇ）の関係が成立するが、凝集粒子の場合でも近似的にはこの関係が成立する。
【００４１】
微細顔料と電子線硬化性成分の配合比は、微細顔料１００質量部に対して、電子線硬化性成分を１〜１００質量部混合することが好適である。前述したように電子線硬化性成分としてはラジカル重合性の不飽和結合は有さないが、水溶液に電子線を照射することによりハイドロゲルを形成する親水性樹脂が好ましい。インク吸収の観点から前記電子線硬化性成分は最小量に抑えることが望ましい。また、電子線硬化性成分は受容層中の微細顔料の周囲に付着して見かけ粒径を増大させる可能性もあるため、受容層の透明性の観点からも電子線硬化性成分はひび割れが発生しない範囲内で少ないほうが良い。以上の理由から、顔料と電子線硬化性成分の配合比は、さらに好ましくは微細顔料１００重量部に対して前記電子線硬化性成分を３〜３０重量部、最も好ましくは５〜２５重量部である。
【００４２】
インク受容層は細孔容積が０．２〜２．０ｍｌ／ｇの範囲になるよう調節することが好ましい。この値は、前述したような適当な細孔容積を有する微細顔料の選択や、電子線硬化性成分の添加量により調節されるものである。インク受容層の細孔容積が０．２ｍｌ／ｇ未満の場合、塗工量を多くしないとインクを吸収できないのでインクジェット記録体が嵩高くなり、製造コストも高くなる。また２．０ｍｌ／ｇを越える細孔容積ではインク受容層の機械的強度が低下し、受容層に傷がついたり、剥がれたり、割れたりしやすくなり好ましくない。尚、この細孔容積はガス吸着法による比表面積・細孔分布測定装置を用いて求めた値であり、細孔径１００ｎｍ以下の細孔の全細孔容積である。
【００４３】
本発明に用いる塗料の好適な固形分濃度は、塗料の組成によって大きく異なるが、塗料が安定かつ塗工可能な範囲内で、より高濃度であることが好ましい。それは、塗料が高濃度である程、電子線照射によって進行する架橋反応の効率が高まるので、ゲル化後の塗布層の強度が上がり、支持体との密着安定性が向上するためである。また、塗布層が顔料を含む場合は、ひび割れ防止効果も高まるため好適である。更に言うまでもなく、乾燥負荷が軽くなる利点もある。しかし、実際には塗料の粘度及び安定性の面で濃度の上限が決まる場合が多い。以上の点を考慮すると、塗料の固形分濃度は、好ましくは３〜４０重量％、より好ましくは５〜２５重量％である。
【００４４】
主成分以外にも、インク受容層の塗料に他の成分を添加することもできる。これらの添加物自体は、電子線硬化性成分でなくても良い。その一例としては、カチオン性樹脂が挙げられる。カチオン性樹脂の種類も特に限定されるものではないが、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート四級化物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート四級化物、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド四級化物、ビニルイミダゾリウムメトクロライド、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド、メチルジアリルアミン塩、モノアリルアミン塩、ジアリルアミン塩等のカチオン性を有する構造単位を含む樹脂が挙げられる。その他、ジシアンジアミド・ポリアルキレンポリアミン縮合物、２級アミン・エピクロロヒドリン付加重合物、ポリエポキシアミン等を含むカチオン性樹脂も利用可能である。また、カチオン性物質として、無機塩、有機塩、アルミナゾルなどを配合することも可能である。カチオン性物質の添加により印字の耐水保存性が向上する。
【００４５】
その他にも、塗料に消泡剤を添加して塗布時の作業性を向上したり、下引き層との密着性を高めるために界面活性剤を添加することもできるし、得られる記録体の貼りつき防止や通紙性向上のため、デンプンや合成樹脂粒子を混合しても良い。また、透明性や表面光沢の調整に、主成分以外の各種顔料を添加することもできるし、例えば印字画像の保存性向上のため、紫外線吸収剤や光安定化剤などの耐光性向上剤を添加することもできる。
【００４６】
これら添加物の添加方法としては、予め塗料に混合しておいてもよいし、まず塗工層を形成してから添加物を含む溶液を上塗り、噴霧、含浸するなどの方法で、後から添加しても良い。添加物を塗料に予め添加する場合、添加のショックで塗料がゲル化してしまった時には、機械的手段を用いて再分散させることも有効な手段である。例えば、シリカなどのアニオン性顔料の分散液にカチオン性樹脂を添加すると、両者の静電特性のため塗料は一時的にゲル化するが機械的手段を用いて再分散させれば塗工は可能であり、乾燥後の塗膜中では両者が静電気的に強固に結着しているため、水溶性のカチオン性樹脂が特に架橋されていなくても塗膜の耐水性は充分に保たれる。
【００４７】
本発明のインクジェット記録体は、特定の下引き層を有する支持体上に少なくとも一層のインク受容層が、電子線硬化性成分及び溶媒を含んだ状態で形成され、電子線を照射された後、乾燥されるものである。即ち、上層や最表層などを通常の塗工方式（即ち塗工後に直ちに乾燥する方式）で設けても良いし、塗工工程と電子線照射工程を数回繰り返して、インク受容層を多層化しても良い。また、電子線照射工程の前に、塗布層中に含まれる溶媒の一部を蒸発させるために予備乾燥を行っても良い。しかし、生産性を最大限に高くしたい場合には、下引き層上に、直にインク受容層を単層もしくは同時多層塗工で形成し、電子線照射を行なった後、塗布層を一括して乾燥する方法がコストや各層の密着性の観点から最も好ましい。
【００４８】
インク受容層の塗工には公知の塗布装置、例えばバーコーター、ロールコーター、ブレードコーター、エアーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、カーテンコーター、キャストコーターなどを用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、インク受容層を高機能化等の目的で多層化した場合、単層塗工を繰り返し行なっても良いが、専用の多層式スロットダイコーター、多層式スライドダイコーター、多層式カーテンコーター等の同時多層塗工装置を使用して同時多層塗工を行なっても良い。
【００４９】
インク受容層の塗布量は記録体の用途によっても大きく異なるため特に限定するものではないが、乾燥後の全層の総塗布量は重量として１〜８０ｇ／ｍ^２程度が好ましく、さらに好ましくは３〜６０ｇ／ｍ^２程度である。塗布量が大きすぎると、カールが発生しやすくなるし、コストもかさむので好ましくない。また層全体を十分にゲル化させることができない恐れがある。塗布量が１ｇ／ｍ^２より少ないとインクの吸収が不十分となる恐れがある。また、インク受容層は、支持体の片面だけでも両面であっても良く、両面の場合はその層構成が異なっていても良い。多層塗工の場合の各層塗工量も特に限定はしないが、あまり少ないと塗布量を制御するのが難しくなる。
【００５０】
本発明における電子線の照射方式としては、例えばスキャニング方式、カーテンビーム方式、ブロードビーム方式などが採用され、電子線を照射する際の加速電圧は５０〜３００ｋＶ程度が適当である。電子線の照射量は１〜２００ｋＧｙ程度の範囲で調節するのが好ましい。１ｋＧｙ未満では塗布層をゲル化させるのに不十分である恐れがあり、２００ｋＧｙを越えるような照射は支持体や塗布層の劣化や変色をもたらす恐れがある。
【００５１】
本発明のインクジェット記録体は、非常に高い耐水性を有する。本来、水溶性である樹脂をバインダー樹脂として用いた場合でも、電子線照射によって樹脂が架橋され三次元網目化するため、得られるインクジェット記録体を水につけてもほとんど溶解しない。この記録体に印字を行うと、インク受容層中で樹脂架橋体部分もインクを吸収して膨潤し、体積が膨張するが、その膨潤速度はインク受容層全体の毛細管現象によるインク吸収速度に比べると遅いものであるため、顔料系受容層の長所であるインク吸収性の速さを損なうものではない。
【００５２】
また、仮の支持体上にインク受容層を作製した塗工シートを作成し、その上に真の支持体を貼り合わせた後、仮の支持体を剥離して除去することにより仮の支持体の表面形状を写し取った記録体を作ることもできる。仮の支持体の表面が平滑で高光沢であれば該インク受容層も非常に高光沢となり高級感が高い。真の支持体に貼り合わせる工程は、塗布層の乾燥の前でも後でも良い。接着方法は既知のどのようなものでも良く、ドライラミネーション、ウェットラミネーションのいずれでも良い。また乾燥前であれば、接着剤を用いなくても支持体と圧着し、そのまま乾燥するだけで接着できる場合もある。仮の支持体としては金属ロールやＰＥＴフィルム等の樹脂フィルム等を好適に使用できる。
【００５３】
【実施例】
以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例によって限定されるものではない。なお、特に断らない限り、本実施例で濃度を表わす％は質量パーセント、部は質量部を意味する。
【００５４】
[微細顔料の細孔容積及び細孔径の測定方法]
微細顔料の水分散液を１０５℃で乾燥し、得られた粉体試料の細孔容積及び細孔径分布を、ガス吸着法比表面積・細孔分布測定装置（Ｃｏｕｌｔｅｒ社製ＳＡ３１００ｐｌｕｓ型）を用い、前処理として２００℃で２時間真空脱気した後に測定した。吸着ガスとしては窒素を用いた。細孔容積は細孔径１００ｎｍ以下の細孔の全細孔容積（ＴｏｔａｌＰｏｒｅＶｏｌｕｍｅ）の値を使用した。細孔径は、脱着等温線のＢＪＨ法による解析から求められた細孔分布曲線における最大体積分率の細孔径とした。
【００５５】
［微細顔料の平均二次粒径測定方法］
微細顔料の水分散液１００ｍｌを５００ｍｌ容のステンレス製カップに入れ、特殊機化工業（株）製Ｔ．Ｋ．ホモディスパーを用いて分散処理（３０００ｒｐｍ、５分間）し、水分散液中の３次粒子を粉砕分散した。処理後の分散液を充分に蒸留水で希釈して試料液とし、動的光散乱法によるレーザー粒度計（大塚電子（株）製、ＬＰＡ３０００／３１００）を用いて、平均粒径を測定した。平均粒径はキュムラント法を用いた解析から算出される値を用いた。
【００５６】
［カチオン性シリカゾルＡ（分散液）の製造方法］
（活性ケイ酸水溶液の調製）
ＳｉＯ₂濃度３０％、ＳｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏモル比３．１のケイ酸ソーダ溶液（（株）トクヤマ製、三号珪酸ソーダ）に蒸留水を混合し、ＳｉＯ₂濃度４．０％の希ケイ酸ソーダ水溶液を調製した。この水溶液を、水素型陽イオン交換樹脂（三菱化学（株）製、ダイヤイオンＳＫ−１ＢＨ）が充填されたカラムに通じて活性ケイ酸水溶液を調製した。
得られた活性ケイ酸水溶液中のＳｉＯ₂濃度は４．０％、ｐＨは２．９であった。
【００５７】
（シード液の調製）
還流器、攪拌機、温度計を備えた５リットルのガラス製反応容器中で、５００ｇの蒸留水を１００℃に加温した。この熱水を１００℃に保ちながら、上記の活性ケイ酸水溶液を１．５ｇ／分の速度で合計４５０ｇ添加し、シード液を調製した。このシード液中のシード粒子（凝集粒子）の物性は、平均二次粒子径１８４ｎｍ、比表面積８３２ｍ^２／ｇ、細孔容積０．６０ｍｌ／ｇ、細孔径４ｎｍであった。
【００５８】
（微細シリカ分散液の調製）
上記のガラス製反応容器中で、９５０ｇの上記シード液に対しアンモニアを０．０１５モル添加し安定化させ、１００℃に加温した。このシード液に対して、上記の活性ケイ酸水溶液を１．５ｇ／分の速度で合計５５０ｇ添加した。活性ケイ酸の添加終了後、そのまま溶液を１００℃に保って９時間加熱還流を行い、微細シリカ分散液を得た。分散液は青みを帯びた透明溶液であり、ｐＨは７．２であった。この微細シリカ（凝集粒子）分散液の性状は、平均二次粒子径１３０ｎｍ、比表面積２５７ｍ^２／ｇ、細孔容積１．０ｍｌ／ｇ、細孔径１６ｎｍであった。この分散液をエバポレーターでシリカ濃度１１％に濃縮した。
この分散液１００部にジアリルジメチルアンモニウムクロライド・アクリルアミド共重合体（日東紡績（株）製、商品名：ＰＡＳ−Ｊ−８１）の１１％水溶液１０部を添加し、油圧式超高圧ホモジナイザー（みづほ工業（株）製、マイクロフルイダイザーＭ１１０−Ｅ／Ｈ）にて分散し、平均粒径３７６ｎｍのカチオン性シリカ（カチオン性シリカゾルＡ）の水分散液を製造した。この分散液は固形分濃度が１１％であり、シリカ濃度は１０％、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド・アクリルアミド共重合体濃度は１％であった。また、該共重合体を含んだ状態で細孔容積を測定したところ０．９ｍｌ／ｇであった。
【００５９】
[カチオン性シリカゾルＢ（分散液）の製造方法]
平均粒径３μｍの合成無定型シリカ（日本シリカ工業（株）製、商品名：ＮｉｐｓｉｌＨＤ−２、一次粒径＝１１ｎｍ）を水に分散し、サンドグラインダーにより粉砕分散した後、シリカゾルＡの製造方法で用いた油圧式超高圧ホモジナイザー（みづほ工業（株）製、マイクロフルイダイザーＭ１１０−Ｅ／Ｈ）で、上記の方法で測定した平均粒径（平均二次粒径）が１６８ｎｍになるまで繰り返し粉砕分散し、１１％の水分散液（シリカゾルＢ）とした。この水分散液中のシリカの細孔容積を上記の方法で測定したところ、１．２ｍｌ／ｇであった。
シリカゾルＢ１００部にインク定着剤としてカチオン化シリカゾルＡの製造方法で用いたジアリルジメチルアンモニウムクロライド・アクリルアミド共重合体の１１％水溶液を１０部加え、ゲル化した混合物を前記ホモジナイザーでさらに粉砕分散し、平均粒径４２２ｎｍのカチオン性シリカ水分散液（カチオン性シリカゾルＢ）を製造した。この分散液は固形分濃度が１１％であり、シリカ濃度は１０％、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド・アクリルアミド共重合体濃度は１％であった。また、該共重合体を含んだ状態で細孔容積を測定したところ１．１ｍｌ／ｇであった。
【００６０】
[インク受容層塗料の調整方法]
１．塗料Ａ（カチオン性シリカ塗料）
カチオン性シリカゾルＡ１００部に完全けん化ポリビニルアルコール（(株)クラレ製、商品名：ＰＶＡ―１４０Ｈ、重合度＝４０００、けん化度＝９９％以上）の６％水溶液を２８部混合し、固形分濃度９．９％のカチオン性シリカ塗料を調整した。
２．塗料Ｂ（カチオン性シリカ塗料）
カチオン性シリカゾルＡの代わりにカチオン性シリカゾルＢを用いたこと以外は塗料Ａと同じ方法で塗料Ｂを調整した。
３．塗料Ｃ（アルミナ塗料）
アルミナ（住友化学社製、ＡＫＰ−Ｇ０２０、γ−アルミナ）の１２％水分散液を、サンドグラインダーにより粉砕した後、更にシリカゾルＡの製造方法で用いた油圧式超高圧ホモジナイザーにて分散し、上記の測定方法で測定した細孔容積が０．５ｍｌ／ｇ、平均粒径（平均二次粒径）が２００ｎｍのアルミナゾル水を調整した。そのアルミナゾル１００部に、塗料Ａで使用した完全けん化ポリビニルアルコールの６％水溶液を１２．５部混合した固形分濃度９．６％の塗料Ｃを調整した。
【００６１】
［支持体の製造］
１．シートＡ
ＣＳＦ（ＪＩＳＰ−８１２１）が２５０mlまで叩解した針葉樹晒クラフトパルプ（ＮＢＫＰ）と、ＣＳＦが２８０mlまで叩解した広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）とを、質量比２：８の割合で混合し、濃度０．５％のパルプスラリーを調製した。このパルプスラリー中にパルプ絶乾質量に対しカチオン化澱粉２．０％、アルキルケテンダイマー０．４％、アニオン化ポリアクリルアミド樹脂０．１％、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン樹脂０．７％を添加し、十分に撹拌して分散させた。上記組成のパルプスラリーを長網マシンで抄紙し、ドライヤー、サイズプレス、マシンカレンダーを通し、坪量１０１ｇ／ｍ² 、緊度１．０ｇ／cm³ の原紙を製造した。上記サイズプレス工程に用いたサイズプレス液は、カルボキシル変性ポリビニルアルコールと塩化ナトリウムとを２：１の重量比で混合し、これを水に加えて加熱溶解し、濃度５％に調製したもので、このサイズプレス液を紙の両面にトータルして２５ｍｌ／ｍ^２塗布して、平滑度（Ｊ.ＴＡＰＰＩＮｏ．５−２）が３８０秒のシートＡを得た。
【００６２】
２．シートＢ
シートＡの両面にコロナ放電処理を施した後、バンバリーミキサーで混合分散した下記のポリオレフィン樹脂組成物１を原紙のフェルト面側に塗工量が１５ｇ／ｍ² になるようにして、またポリオレフィン樹脂組成物２（裏面用樹脂組成物）を原紙のワイヤー面側に塗工量が２５ｇ／ｍ² になるようにして、Ｔ型ダイを有する溶融押し出し機（溶融温度３２０℃）で塗布し、フェルト側を鏡面、ワイヤー側を粗面のクーリングロールで冷却固化して、不透明度（ＪＩＳＰ８１３８）が９３％、鏡面側（原紙のフェルト側）の平滑度（Ｊ.ＴＡＰＰＩＮｏ．５−２）が２６０００秒の樹脂被覆シートＢを製造した。
ポリオレフィン樹脂組成物１
長鎖型低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９２６ｇ／ｃｍ^３、メルトインデックス２０ｇ／１０分）３５部、低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９１９ｇ／ｃｍ^３、メルトインデックス２ｇ／１０分）５０部、アナターゼ型二酸化チタン（Ａ−２２０；石原産業製）１５部、ステアリン酸亜鉛０．１部、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０；チバガイギー製）０．０３部、群青（青口群青No. ２０００；第一化成製）０．０９部、蛍光増白剤（ＵＶＩＴＥＸＯＢ；チバガイギー製）０．３部
ポリオレフィン樹脂組成物２
高密度ポリエチレン樹脂（密度０．９５４ｇ／ｃｍ^３、メルトインデックス２０ｇ／１０分）６５部、低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９２４ｇ／ｃｍ^３、メルトインデックス４ｇ／１０分）３５部
【００６３】
＜実施例１＞
シートＢの鏡面側（原紙のフェルト側）にコロナ放電処理を施し、その上に下引き層として１５％濃度のポリエステル系共重合体水性樹脂（(株)東洋紡績製、商品名：バイロナールＭＤ−１４００）を固形分塗布量で５ｇ／ｍ^２になるようにバー塗工し、１００℃で乾燥させた。この上に、カチオン性シリカゾルとポリビニルアルコールから成る塗料Ａを固形分塗布量で２０ｇ／ｍ^２になるようにバー塗工し、直ちに窒素ガス環境下で電子線照射装置（ＥＳＩ社製エレクトロカーテン）により加速電圧１７５ｋＶ、照射線量５０ｋＧｙの電子線を照射した。照射後の塗工面に触ったところ塗料はゼリー状の固体となっており、ハイドロゲルとなったことがわかった。これを１１０℃で熱風乾燥して、本発明のインクジェット記録体を製造した。
【００６４】
＜実施例２＞
下引き層にα−オレフィン・不飽和カルボン酸共重合体樹脂自己乳化型水溶液（住友精化(株)製、商品名：ザイクセンＡＣ、エチレン／アクリル酸＝８５部／１５部のアンモニア中和品共重合体樹脂）を用いたこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００６５】
＜実施例３＞
下引き層の固形分塗布量を０．３ｇ／ｍ^２としたこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００６６】
＜実施例４＞
下引き層にポリオレフィン系重合体（東邦化学工業(株)製、商品名：ハイテックＥ−８０００）を用いたこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００６７】
＜実施例５＞
実施例２にて使用したα−オレフィン・不飽和カルボン酸共重合体樹脂自己乳化型水溶液５０部に対して、コロイダルシリカ（日産化学工業(株)製、商品名：スノーテックスＮ、粒径１０〜２０ｎｍ，細孔容積０．２２ｍｌ／ｇ）を５０部混合し調整した１５％濃度の下引き層塗料を固形分塗布量３ｇ／ｍ^２となるようにバー塗工したこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００６８】
＜実施例６＞
シートＡを支持体とし、下引き層の固形分塗布量を２０ｇ／ｍ^２としたこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００６９】
＜実施例７＞
実施例１にて使用したポリエステル系共重合体水性樹脂５０部に対して、コロイダルシリカ（日産化学工業(株)製、商品名：スノーテックスＮ）を５０部混合し調整した１５％濃度の下引き層塗料を固形分塗布量１５ｇ／ｍ^２となるようにバー塗工したこと以外は実施例６と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００７０】
＜実施例８＞
塗料Ａの代わりに塗料Ｂを用いたこと以外は実施例５と同様の方法にて塗工シートを製造した。その上に塗料Ａを固形分塗布量で３ｇ／ｍ^２となるように塗工した後、直ちに１１０℃で熱風乾燥してインクジェット記録体を製造した。
【００７１】
＜実施例９＞
塗料Ａの代わりに塗料Ｂを用いたこと以外は実施例５と同様の方法にて塗工シートを製造した。その上に塗料Ｃを固形分塗布量で３ｇ／ｍ^２となるように塗工した後、直ちに１１０℃で熱風乾燥してインクジェット記録体を製造した。
【００７２】
＜比較例１＞
下引き層を設けないこと及びコロナ放電処理していないこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００７３】
＜比較例２＞
下引き層を設けないこと及びコロナ放電処理していないこと以外は実施例６と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００７４】
＜比較例３＞
下引き層として、アクリル共重合体樹脂水性樹脂（クラリアントポリマー(株)製、商品名：モビニール７３５）を用いたこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００７５】
＜比較例４＞
下引き層として、スチレン・アクリル酸エステル共重合体樹脂水性樹脂（日本エヌエスシー(株)製、商品名：ヨドゾールＧＤ５９）を用いたこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００７６】
＜比較例５＞
下引き層として、完全けん化ポリビニルアルコール水溶液（(株)クラレ製、商品名：ＰＶＡ―１４０Ｈ、重合度＝４０００、けん化度＝９９％以上）を用いたこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００７７】
＜比較例６＞
電子線照射を行わなかったこと以外は実施例１と同様の方法にてインクジェット記録体を製造した。
【００７８】
実施例及び比較例記載の方法にて製造されたインクジェット記録体の品質評価結果を表１に示した。なお、目視外観、７５゜光沢、インク受容層の細孔容積について以下の方法で評価した。
【００７９】
インクジェット記録体の評価方法
［塗工シートの目視外観評価］
インクジェット記録体にインクジェットプリンター（ＥＰＳＯＮ製、ＰＭ−９００Ｃ）のＰＭ写真用紙推奨設定印刷モードで、ＩＳＯ−４００の画像（「高精細カラーディジタル標準画像データＩＳＯ／ＪＩＳ−ＳＣＩＤ」、ｐ１３、画像名称：果物かご）を印字した上で、目視外観を次の５段階に評価した。
５点：塗膜の平滑感、光沢感共に優れており光沢銀塩写真調の外観である。
４点：塗膜の平滑感、光沢感が光沢銀塩写真調に比べ僅かに及ばないが、良好。
３点：塗工層表面に若干のざらつきが感じられる。そのため光沢感が上位レベルに比べ低く感じる。
２点：塗工層表面のざらつきがはっきりしており、そのため光沢感も低い。
１点：塗工層表面のざらつきが大きいのに加え、支持体の表面性や乾燥時の収縮の影響による塗工層の凹凸がはっきりしており、品位が低い。
【００８０】
［７５゜光沢］
インクジェット記録体の７５°光沢をＪＩＳ規格Ｐ８１４２に従って測定した。
【００８１】
［インク受容層の細孔容積］
塗工シートのインク受容層をカッターナイフで削りとって試料とした。インク受容層が２層構成の場合は、第１層（下層）と第２層（上層）の試料が混合しないように注意して採取した。この試料をガス吸着法比表面積・細孔分布測定装置（Ｃｏｕｌｔｅｒ社製、ＳＡ３１００Ｐｌｕｓ型）を用い、前処理として１５０℃で２時間真空脱気した後、測定した。細孔容積は細孔径１００ｎｍ以下の細孔の全細孔容積（ＴｏｔａｌＰｏｒｅＶｏｌｕｍｅ）を吸着等温線から求めた値を使用した。
但し、乾燥中にインク受容層が極端にひび割れたり剥離していた場合は、標準的な試料を得ることが不可能であったため測定できなかった。
【００８２】
【表１】

【００８３】
【表２】

【００８４】
表１および表２の実施例１〜９から明らかなように、特定の下引き層を用いた場合には、目視外観や光沢に優れたインクジェット記録体が製造できる。一方、下引き層のない場合や他の材料で下引き層を設けた場合には目視外観や光沢が不十分で、銀塩写真の代替としてフルカラーの写真を印刷するのには不適であった（比較例１〜５）。比較例６では電子線照射を行なわずに乾燥を行なってインク受容層を設けたが、ひび割れが著しく、インク受容層が剥がれ落ちた。光沢も著しく低かった。
【００８５】
【発明の効果】
本発明により、目視外観や光沢感に優れており、フルカラーの写真を印刷するのに好適な高品位のインクジェット記録体を提供することができる。

Claims

支持体上に一層以上のインク受容層を有するインクジェット記録体において、該支持体上にポリオレフィン系重合体、α−オレフィン、不飽和カルボン酸共重合体、及びポリエステル系共重合体から選ばれた少なくとも一種及びコロイダルシリカを含む下引き層を有し、且つ下引き層に接するインク受容層が、水溶液に電子線を照射することによりハイドロゲルを形成する電子線硬化性成分を含有する水性塗料を塗布し、ついで電子線を照射して該塗布層をハイドロゲル化させたのち乾燥して形成されたインク受容層であることを特徴とするインクジェット記録体。
下引き層の固形分塗布量が０．１〜３０ｇ／ｍ^２である請求項１記載のインクジェット記録体。
電子線を照射して塗布層をハイドロゲル化させたのち乾燥して形成される少なくとも一層のインク受容層が、平均粒径が１μｍ以下の微細顔料を含み、細孔径１００ｎｍ以下の全細孔容積が０．２〜２．０ｍｌ／ｇの多孔質のインク受容層であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のインクジェット記録体。
水溶液に電子線を照射することによりハイドロゲルを形成する電子線硬化性成分が、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、水溶性ポリビニルアセタール、ポリ−Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリアクリルアミド、ポリアクリロイルモルホリン、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリアクリル酸、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチン、カゼイン、及びこれらの水溶性誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種の親水性樹脂である請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット記録体。
微細顔料がシリカ、水酸化アルミニウム、ベーマイト、擬ベーマイト、及びアルミナからなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項３、４のいずれかに記載のインクジェット記録体。