JP4081270B2 - ケトン化合物の酸化触媒 - Google Patents

ケトン化合物の酸化触媒 Download PDF

Info

Publication number
JP4081270B2
JP4081270B2 JP2001391285A JP2001391285A JP4081270B2 JP 4081270 B2 JP4081270 B2 JP 4081270B2 JP 2001391285 A JP2001391285 A JP 2001391285A JP 2001391285 A JP2001391285 A JP 2001391285A JP 4081270 B2 JP4081270 B2 JP 4081270B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phase
compound
catalyst
hydrogen peroxide
ketone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001391285A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003190804A (ja
JP2003190804A5 (ja
Inventor
條二 錦戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Corp
Noguchi Inst
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
Noguchi Inst
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Corp, Noguchi Inst filed Critical Asahi Kasei Corp
Priority to JP2001391285A priority Critical patent/JP4081270B2/ja
Publication of JP2003190804A publication Critical patent/JP2003190804A/ja
Publication of JP2003190804A5 publication Critical patent/JP2003190804A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4081270B2 publication Critical patent/JP4081270B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/584Recycling of catalysts

Landscapes

  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ケトン化合物の過酸化水素による酸化反応に用いるルイス酸触媒およびその組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】
ケトン化合物をエステル化合物またはラクトン化合物へ変換する酸化反応はバイヤービリガー反応として知られている。一般には、過酸または過酸化水素による酸化方法等が知られている。過酸は安全性の問題があり、使用が制限される。一方、過酸化水素は、高濃度水溶液では爆発の危険をともなうが、30%程度の濃度では爆発の危険も少なく、かつ、酸化後は水になり、環境に優しい酸化剤である。
【0003】
過酸化水素による酸化には酸触媒等が一般に使用されるが、エステル、特にラクトンでは、水の影響による副反応生成物が問題となる。反応系から水を除去しながら反応させる方法も提案されているが(特開平8−59649号公報)、過酸化水素の高濃度化にともなう爆発の危険の問題を抱えていた。さらにルイス酸による、シクロヘキサノンからε−カプロラクトンの過酸化水素酸化が知られているが、この方法は低収率であった(特開2000−256348号公報)。
【0004】
さらに、酸化触媒をリサイクル再使用できることも環境問題を含めて工業的には重要な課題である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ケトン化合物の過酸化水素水による酸化反応に用いる触媒として、優れた活性を有し、高選択性を有する触媒およびリサイクル可能な触媒組成物を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、ケトン化合物から、環境にやさしい過酸化水素水を酸化剤に用いて、エステルまたはラクトン化合物を製造するに際し、高活性、かつ、高選択性を有する触媒を鋭意検討した結果、ルイス酸として活性の高いスルホスン酸の錫塩、スルホニルイミドの錫塩およびスルホニルメチドの錫塩を見出し、さらには、前記の触媒と、フッ素化化合物媒体(A)と、非フッ素化化合物媒体(B)との共存下に酸化反応を行うことにより、ルイス酸触媒の活性低下もなく、ルイス酸触媒をリサイクル使用できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
1) ケトン化合物の過酸化水素による酸化反応に用いる触媒であって、下記式(1)、(2)および(3)で示されるルイス酸触媒から選ばれた少なくとも1種からなることを特徴とするケトン化合物の酸化触媒。
(RSOSn (1)
[(RSON]Sn (2)
[(RSOC]Sn (3)
(式中、Rは、炭素数2以上の全フッ素置換炭化水素基、nは2または4)
2) ケトン化合物の過酸化水素による酸化反応に用いる触媒組成物であって、請求項1記載の酸化触媒と、全フッ素置換炭化水素およびそれが部分置換された炭化水素から選ばれた少なくとも1種のフッ素化化合物媒体(A)と、前記フッ素化化合物媒体(A)と相分離する非フッ素化化合物媒体(B)とを包含することを特徴とするケトン化合物の酸化触媒組成物。
【0008】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で触媒として用いられる、下記式(1)、(2)および(3)で示される化合物は、各々、スルホン酸の錫塩、スルホニルイミドの錫塩、スルホニルメチドの錫塩である。
(RSOSn (1)
[(RSON]Sn (2)
[(RSOC]Sn (3)
(式中、Rは、炭素数2以上の全フッ素置換炭化水素基、nは2または4)
式中、Rは、炭素数2以上、好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは4〜15、最も好ましくは6〜12の範囲の、全フッ素置換炭化水素基である。
【0009】
全フッ素置換炭化水素基は、炭化水素基に結合している水素原子の全てがフッ素元素で置換された炭化水素基であって、炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。
全フッ素置換炭化水素基の具体例としては、パーフルオロエチル基、パーフルオロプルピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロウンデシル基、パーフルオロトリデシル基、パーフルオロテトラデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロヘキサデシル基、パーフルオロオクタデシル基、パーフルオロノナデシル基、パーフルオロエイコシル基等が挙げられる。
【0012】
なお、一般式(1)、(2)および(3)の各化合物中のRf基は、すべて同じであってもよいし、複数の種類のRf基から構成されていてもよい。錫は、2価または4価のものが使用される。
本発明のルイス酸触媒は、塩化アルミニウム、四塩化チタン、三フッ化ホウ素等の従来のルイス酸に比べて高活性である。本発明においては、反応活性の点から式(2)および(3)で表されるルイス酸触媒が好ましい。
【0013】
本発明のフッ素化化合物媒体(A)とは、全フッ素置換炭化水素またはそれが部分置換された炭化水素である。
全フッ素置換炭化水素は、炭化水素に結合している水素原子の全てがフッ素元素で置換された炭化水素であって、炭化水素としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素等が挙げられる。
全フッ素置換炭化水素の例としては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタン、パーフルオロノナン、パーフルオロデカン、パーフルオロウンデカン、パーフルオロドデカン、パーフルオロシクロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロデカリン等を挙げることができる。
【0014】
全フッ素置換炭化水素が部分置換された炭化水素としては、全フッ素置換炭化水素のフッ素原子の一部が水素原子や塩素原子で置換されたもの、全フッ素置換炭化水素の骨格に酸素原子や窒素原子、さらには炭素―炭素二重結合を含んだ構造、またはそれらの構造を組み合わせた構造等が例示される。全フッ素置換炭化水素が部分置換された炭化水素中における、前記の置換基(または置換構造)の数は、もとの全フッ素置換炭化水素中のフッ素原子の数に対して、好ましくは30%以下、より好ましくは20%以下、最も好ましくは10%以下である。
【0015】
全フッ素置換炭化水素が部分置換された炭化水素の例としては、パーフルオロー2−ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリエチルアミン、パーフルオロー5−メチルー3,6−ジオキサノナン、2H−パーフルオロー5−メチルー3,6−ジオキサノナン、パーフルオロー2,3,5−トリメチルヘキセン等が挙げられる。
全フッ素置換炭化水素とそれが部分置換された炭化水素を較べた場合、使用条件にもよるが、触媒相と生成物相の分離性の点から、全フッ素置換炭化水素溶媒の方が好ましい場合が多い。全フッ素置換炭化水素およびそれが部分置換された炭化水素の性状としては、使用条件下で液体であれば制約は無いが、好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、最も好ましくは炭素数6〜15の範囲のものが使用される。
【0016】
フッ素化化合物媒体(A)は、上記の各種媒体を単独で用いても、混合して用いてもよい。
本発明に用いられる非フッ素化化合物媒体(B)は、前記のフッ素化化合物媒体(A)と相分離する非フッ素化化合物媒体(以下、非フッ素化化合物媒体(B)、という)であれば、限定されるものではない。
このような媒体としては、脂肪族または脂環式炭化水素、フッ素以外のハロゲン化脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、フッ素以外のハロゲン化芳香族炭化水素、エステル化合物、エーテル化合物等が挙げられる。
【0017】
脂肪族または脂環式炭化水素としては、通常、炭素数5〜20、好ましくは5〜16の脂肪族炭化水素、より好ましく炭素数7以上、最も好ましくは炭素数8〜16の直鎖状化合物もしくは分岐状化合物、または炭素数5〜16の環式化合物が用いられる。このような化合物として、例えば、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ドデカン、nヘキサデカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等を挙げることができる。
【0018】
フッ素以外のハロゲン化脂肪族炭化水素としては、室温で液状であれば、炭素数およびハロゲンの置換数には限定はないが、好ましくは炭素数1〜10のハロゲン化脂肪族炭化水素が用いられる。このような化合物として、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジブロムエタン等が挙げられる。
芳香族炭化水素としては、炭素数6〜15の芳香族炭化水素が好ましい。このような化合物として、例えば、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼンのアルキル基置換ベンゼン等を挙げることができる。
【0019】
フッ素以外のハロゲン化芳香族炭化水素としては、ハロゲンの置換数に特に限定はないが、好ましくは炭素数6〜10のハロゲン化芳香族炭化水素が用いられる。このような化合物として、例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、クロロトルエン等を挙げることができる。
エステル化合物として、エステル基のカルボニルの炭素を除いた炭素数5〜20、一般には飽和炭化水素を含む炭素数5〜16のエステル化合物も用いられるが、好ましくは直鎖状化合物もしくは分岐状化合物、または環式化合物の飽和炭化水素もしくは芳香族炭化水素を含む炭素数6以上、より好ましくは炭素数7〜16のエステル化合物が用いられる。
【0020】
このような化合物として、例えば酢酸n−ブチル、酢酸iso−ブチル、酢酸tert−ブチル、酢酸n−ペンチル、酢酸iso−ペンチル、酢酸n−ヘキシル、酢酸n−ヘプチル、酢酸n−オクチル、酢酸n−ノニル、酢酸n−デシル、酢酸n−ドデシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸n−ブチル、プロピオン酸iso−ブチル、プロピオン酸tert−ブチル、プロピオン酸n−ペンチル、プロピオン酸iso−ペンチル、プロピオン酸n−ヘキシル、プロピオン酸n−ヘプチル、プルピオン酸n−オクチル、プロピオン酸n−ノニル、プロピオン酸n−デシル、プロピオン酸n−ドデシル、プロピオン酸シクロヘキシル、プロピオン酸ベンジル、酪酸n−プロピル、酪酸n−ブチル、酪酸iso−ブチル、酪酸tert−ブチル、酪酸n−ペンチル、酪酸iso−ペンチル、酪酸n−ヘキシル、酪酸n−ヘプチル、酪酸n−オクチル、酪酸n−ノニル、酪酸n−デシル、酪酸n−ドデシル、酪酸シクロヘキシル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル等を挙げることができる。
【0021】
エーテル化合物として、炭素数3〜15の直鎖状または分岐状の飽和炭化水素を有するものも用いられる。この飽和炭化水素は、好ましくは炭素数4以上、より好ましくは炭素数6〜15である。
エーテル化合物として、その他に、炭素数4以上の環状のエーテル化合物、炭素数6以上の芳香族炭化水素を含むエーテル化合物が用いられる。このような化合物として、例えば、ジプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジヘプチルエーテル、ジオクチルエーテル、ジオキサン、フラン、アニソール等が挙げられる。
【0022】
非フッ素化化合物媒体として、上記のような化合物が、単独または混合して用られる。
使用する媒体の種類により異なるが、フッ素化化合物媒体(A)と、非フッ素化化合物媒体(B)の体積比は、(A):(B)=5:95〜95:5、好ましくは(A):(B)=10:90〜90:10、より好ましくは(A):(B)=30:70〜70:30である。
【0023】
本発明で使用するルイス酸触媒は、ケトン化合物の過酸化水素酸化反応に対して高活性触媒であり、かつ、過酸化水素水の濃度が30質量%程度においても、高活性を維持し、かつ、高選択率で反応が進行する。
一方、本発明で使用するルイス酸触媒は、極性部を有する特異な金属錯体であるため、全フッ素あるいは多フッ素置換の炭化水素および酸素もしくは窒素を含む炭化水素から選ばれる少なくとも1種のフッ素化化合物媒体(A)には難溶性である。しかしながら、本発明の触媒は、反応原料を含む求核性試薬、非フッ素化化合物媒体(B)の存在下にフッ素化化合物媒体(A)に溶解する。そして、反応後、反応溶液を静置すると生成物を含む非フッ素化化合物媒体(B)からなる相と触媒を含むフッ素化化合物媒体(A)とからなる相に容易に分離する。したがって、反応後に生成物相を相分離して、ルイス酸触媒をリサイクル再使用することが可能である。
【0024】
ルイス酸触媒反応の原料化合物として用いられるケトン化合物としては、飽和もしくは不飽和の、直鎖もしくは分岐の脂肪族ケトン、脂環式ケトン、芳香族ケトン等が挙げられる。
脂肪族ケトンとしては、炭素数が3〜30、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジブチルケトン、ジペンチルケトン、ジヘキシルケトン、ジオクチルケトン等が挙げられる。脂環式ケトンとしては炭素数が5〜20、例えば、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン等が挙げられる。芳香族ケトンとしては、炭素数6〜20、例えばアセトフェノン、フェニルエチルケトン、フェニルプロピルケトン、フェニルブチルケトン、フェニルヘキシルケトン、フェニルヘプチルケトン、フェニルオクチルケトン等が挙げられる。
【0025】
本発明のルイス酸を用いる際には、ルイス酸触媒の量が、反応基質に対して 0.0001〜1倍モル、好ましくは0.001〜0.2倍モルとなるように使用することができる。本発明のルイス酸を用いて反応をおこなう際の反応温度は、通常、200℃゜以下が多用され、好ましくは−50〜170℃、より好ましくは−10〜100℃である。反応時間は、使用するルイス酸の反応基質に対する添加量および反応温度により異なるが、数分間から72時間が好ましい。
【0026】
酸化剤として用いる過酸化水素としては、通常用いられる10〜60質量%の過酸化水素水を用いることができるが、安全性の面から、好ましくは40質量%以下、より好ましくは30質量%以下の過酸化水素が用いられる。過酸化水素はケトン化合物に対して、0.1〜2倍モル、好ましくは0.3〜1.5倍モル、より好ましくは0.5〜1.2倍が用いられる。
本発明で用いられる上記ルイス酸触媒は、次のようにして製造することができる。
【0027】
式(1)に含まれるパーフルオロアルキルスルホン酸の錫塩は、例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸と、錫の炭酸塩、酸化物、水酸化物および酢酸塩、ハロゲン化物から選ばれた化合物とを、有機溶媒中で室温〜100℃の温度範囲で反応させる。その後、有機溶媒を加熱または減圧下留去し、合成することができる。
式(2)に含まれるビス(パーフルオロアルキルスルホニル)イミドの錫塩は、例えば、ビス(パーフルオロアルキルスルホニル)イミドと、錫の炭酸塩、酸化物、水酸化物および酢酸塩、ハロゲン化物から選ばれた化合物とを、有機溶媒中で室温〜100℃の温度範囲で反応させる。その後、有機溶媒を加熱または減圧下留去し、合成することができる。
【0028】
式(3)に含まれるトリス(パーフルオロアルキルスルホニル)メチドの錫塩は、例えば、トリス(パーフルオロアキルスルホニル)メチドと、錫の炭酸塩、酸化物、水酸化物および酢酸塩、ハロゲン化物から選ばれた化合物とを、有機溶媒中で室温〜100℃の温度範囲で反応させ、その後、有機溶媒を加熱または減圧下留去し、合成することができる。
トリス(パーフルオロアキルスルホニル)メチドの合成は、米国特許第5554664号明細書に記載の方法にしたがって行うことができ、例えば、メチルマグネシウムクロライドのテトラヒドロフラン溶液にパーフルオロアルキルスルホニルフルオライドを添加し、反応させる。その後、硫酸で処理し、次に炭酸セシウムでセシウム塩として単離する。このセシウム塩を硫酸で処理し、プロトン酸とすることにより得られる。
【0030】
【発明の実施の形態】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら制限を受けるものではない。
【0031】
【合成例1】
<パーフルオロオクタンスルホン酸の錫塩の合成>
パーフルオロオクタンスルホン酸5.0gをアセトニトリル20mlに溶解させた溶液に、酢酸錫(4価)0.89gを添加し、50℃で10時間反応させた。その後、50℃、1〜10mmHgで減圧濃縮乾燥し、さらに90℃、0.01mmHgで24時間乾燥した。その結果、白色固体のパーフルオロオクタンスルホン酸の錫塩4.91gが得られた。
【0032】
【合成例2】
<ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミドの錫塩の合成>
ビストリメチルシリルアミドナトリウム塩とパーフルオロオクタンスルホニルフルオライドより合成したビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド5.0gをアセトニトリル30mlに溶解させた溶液に、酢酸錫(4価)0.45gを添加し、60℃で10時間反応させた。その後、50℃、1mmHg〜10mmHgで減圧濃縮乾燥し、さらに90℃、0.01mmHgで24時間乾燥した。その結果、白色固体のビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミドの錫塩4.83gが得られた。
【0033】
【合成例3】
<トリス(パーフルオロオクタンスルホニル)メチドの錫塩の合成>
トリス(パーフルオロオクタンスルホニル)メチド5.0gをアセトニトリル30mlに溶解させた溶液に酢酸錫(4価)0.30gを添加し、60℃で10時間反応させた。その後、50℃、1mmHg〜10mmHgで減圧濃縮乾燥し、さらに90℃、0.01mmHgで24時間乾燥した。その結果、白色固体のトリス(パーフルオロオクタンスルホニル)メチドの錫塩4.79gが得られた。
【0034】
【実施例1】
アダマンタノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.8mmolを、パーフルオロメチルシクロヘキサン1.5mlおよびジクロロエタン1.5mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩をアダマンタノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジクロロエタン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
【0035】
アダマンタノンのラクトン体は収率75%で、選択率は98%であった。下相のパーフルオロメチルシクロヘキサン相には、プラズマ発光分析の結果、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩の錫が99%以上存在していた。
【0036】
【実施例2】
アダマンタノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.8mmolを、パーフルオロオクタン2.0mlおよびジクロロエタン1.5mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩をアダマンタノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジクロロエタン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
【0037】
アダマンタノンのラクトン体は収率76%で、選択率は98%であった。下相のパーフルオロオクタン相には、プラズマ発光分析の結果、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩の錫が99%以上存在していた。
【0038】
【実施例3】
アダマンタノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.5mmolを、パーフルオロオクタン2.0mlおよびジクロロエタン1.5mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[トリス(パーフルオロオクタンスルホニル)メチド]錫塩をアダマンタノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジクロロエタン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
【0039】
アダマンタノンのラクトン体は収率50%で、選択率は100%であった。下相のパーフルオロオクタン相には、プラズマ発光分析の結果、テトラキス[トリス(パーフルオロオクタンスルホニル)メチド]錫塩の錫が99%以上存在していた。
【0040】
【実施例4】
アダマンタノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.5mmolを、パーフルオロオクタン2.0mlおよびトルエン1.5mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩をアダマンタノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のトルエン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
【0041】
アダマンタノンのラクトン体は収率44%で、選択率は100%であった。下相のパーフルオロオクタン相にはプラズマ発光分析の結果、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩の錫が99%以上存在していた。
【0042】
【実施例5】
シクロヘキサノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.6mmolを、パーフルオロメチルシクロヘキサン2.0mlおよびジオキサン1.0mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩をシクロヘキサノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジオキサン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
【0043】
ε−カプロラクトンの収率は50%で、選択率は100%であった。下相のパーフルオロメチルシクロヘキサン相には、プラズマ発光分析の結果、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩の錫が99%以上存在していた。
【0044】
【実施例6】
シクロヘキサノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.5mmolを、パーフルオロデカリン2.0mlおよびジオキサン1.0mlからなる溶液中に加え、触媒としてテトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩をシクロヘキサノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジオキサン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
【0045】
ε−カプロラクトンの収率は48%で、選択率は100%であった。下相のパーフルオロオクタン相には、プラズマ発光分析の結果、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩の錫が99%以上存在していた。
【0046】
【実施例7】
シクロヘキサノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.5mmolを、パーフルオロデカリン2.0mlおよびジオキサン1.0mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[トリス(パーフルオロオクタンスルホニル)メチド]錫塩をシクロヘキサノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジオキサン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
【0047】
ε−カプロラクトンの収率は48%で、選択率は100%であった。下相のパーフルオロデカリン相には、プラズマ発光分析の結果、テトラキス[トリス(パーフルオロオクタンスルホニル)メチド]錫塩の錫が99%以上が存在していた。
【0048】
【実施例8】
シクロヘキサノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.6mmolを、パーフルオロメチルシクロヘキサン2.0mlおよびジオキサン1.0mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩をシクロヘキサノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジオキサン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。ε−カプロラクトンの収率は50%で、選択率は100%であった。
【0049】
上相のジオキサン相を相分離し、下相のパーフルオロメチルシクロヘキサン相にシクロヘキサノン1mmol、過酸化水素水(濃度33質量%)0.6mmolおよびジオキサン1.0mlを加え、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。上相のジオキサン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。ε−カプロラクトンの収率は50%で、選択率は100%であった。
同様の操作を2回繰り返しおこなった。その結果、ε−カプロラクトンの収率は3回目は収率50%、選択率は100%で、4回目は収率49%、選択率100%であり、活性低下も無く、ルイス酸のリサイクル化が可能になった。
【0050】
【実施例9】
アダマンタノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.8mmolを、パーフルオロメチルシクロヘキサン2.0mlおよびジクロロエタン1.0mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[トリス(パーフルオロオクタンスルホニル)アミド]錫塩をアダマンタノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジクロロエタン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。アダマンタノンのラクトン体の収率は75%で、選択率は97%であった。
【0051】
上相のジクロロエタン相を相分離し、下相のパーフルオロメチルシクロヘキサン相にアダマンタノン1mmol、過酸化水素水(濃度33質量%)0.8mmolおよびジクロロエタン1.0mlを加え、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。上相のジクロロエタン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
アダマンタノンのラクトン体の収率は76%で、選択率は96%であった。同様の操作を2回繰り返しおこなった。その結果、アダマンタノンのラクトン体の3回目は収率77%、選択率は96%で、4回目は収率77%、選択率98%であり、活性低下も無く、ルイス酸のリサイクル化が可能になった。
【0052】
【実施例10】
n−ジブチルケトン1mmolおよび過酸化水素(濃度33質量%)1.1mmolを、パーフルオロメチルシクロヘキサン2.0mlおよびジクロロエタン2.0mlからなる溶液中に加え、触媒として、テトラキス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩をn−ジブチルケトンに対して1mol%添加した。その後、80℃にて6時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のジクロロエタン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。その結果、n−ジブチルケトンのエステル体の収率は75%で、選択率は98%であった。
【0053】
【実施例11】
アダマンタノン1mmolおよび過酸化水素水(濃度33質量%)0.5mmolを、パーフルオロオクタン2.0mlおよびトルエン1.5mlからなる溶液中に加え、触媒として、ビス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩をアダマンタノンに対して1mol%添加した。その後、25℃にて1時間撹拌しながら反応をおこなった。静置後、上相のトルエン相をガスクロマトグラフにて定量分析をおこなった。
【0054】
アダマンタノンのラクトン体は収率40%で、選択率は89%であった。下相のパーフルオロオクタン相にはプラズマ発光分析の結果、ビス[ビス(パーフルオロオクタンスルホニル)イミド]錫塩の錫が99%以上存在していた。
【0055】
【発明の効果】
本発明で使用するルイス酸触媒は、ケトン化合物の過酸化水素酸化反応に対して高活性、かつ、高選択性触媒であり、過酸化水素水の濃度が30質量%程度においても、高活性を維持する。
また、反応終了後に生成物相を相分離して、ルイス酸触媒をリサイクル再使用することが可能である。

Claims (2)

  1. ケトン化合物の過酸化水素による酸化反応に用いる触媒であって、下記式(1)、(2)および(3)で示されるルイス酸触媒から選ばれた少なくとも1種からなることを特徴とするケトン化合物の酸化触媒。
    (RSOSn (1)
    [(RSON]Sn (2)
    [(RSOC]Sn (3)
    (式中、Rは、炭素数2以上の全フッ素置換炭化水素基、nは2または4)
  2. ケトン化合物の過酸化水素による酸化反応に用いる触媒組成物であって、請求項1記載の酸化触媒と、全フッ素置換炭化水素およびそれが部分置換された炭化水素から選ばれた少なくとも1種のフッ素化化合物媒体(A)と、前記フッ素化化合物媒体(A)と相分離する非フッ素化化合物媒体(B)とを包含することを特徴とするケトン化合物の酸化触媒組成物。
JP2001391285A 2001-12-25 2001-12-25 ケトン化合物の酸化触媒 Expired - Fee Related JP4081270B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001391285A JP4081270B2 (ja) 2001-12-25 2001-12-25 ケトン化合物の酸化触媒

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001391285A JP4081270B2 (ja) 2001-12-25 2001-12-25 ケトン化合物の酸化触媒

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003190804A JP2003190804A (ja) 2003-07-08
JP2003190804A5 JP2003190804A5 (ja) 2005-08-04
JP4081270B2 true JP4081270B2 (ja) 2008-04-23

Family

ID=27598921

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001391285A Expired - Fee Related JP4081270B2 (ja) 2001-12-25 2001-12-25 ケトン化合物の酸化触媒

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4081270B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4902840B2 (ja) * 2005-06-20 2012-03-21 公益財団法人野口研究所 ルイス酸性フルオラススタノキサン触媒
US8853426B2 (en) 2010-11-02 2014-10-07 National University Corporation Nagoya University Method for manufacturing ester

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003190804A (ja) 2003-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3357608B2 (ja) アミノスルファートリフルオリドによるフッ素化方法
JP6899371B2 (ja) 化合物のフッ素化方法
Smart et al. Stable perfluoroalkyl carbanion salts
JP5426880B2 (ja) 5−フルオロ−1,3−ジアルキル−1h−ピラゾール−4−カルボニルフルオリドの製造方法
KR100436787B1 (ko) 치환된디플루오로메틸기를하나이상의친전자성작용기를함유하는화합물상에그라프팅하기위한시약및방법
England Fluoroketenes. 11. Synthesis and chemistry of a perfluoroacylketene and related compounds containing a perfluoroisopropyl sulfide group
US6861544B1 (en) Fluorous tin compounds an methods of using fluorous tin compounds
JP4081270B2 (ja) ケトン化合物の酸化触媒
JPH08319244A (ja) オキシスルフィド含有弗素含有有機誘導体の合成のための試薬及び方法
JP4081269B2 (ja) ルイス酸触媒
JP4119371B2 (ja) ルイス酸触媒含有組成物
JP4234307B2 (ja) 酸触媒組成物
JP5853772B2 (ja) α,α−ジフルオロ芳香族化合物の製造方法
JP4318803B2 (ja) ビス(パーフルオロアルキルスルホニル)メタンの製造方法
JP2001328954A (ja) 水系媒体中での反応
US6403849B1 (en) Method for purifying perfluorocarbons
JP2003334449A (ja) ルイス酸触媒組成物
JP2002320858A (ja) ルイス酸触媒組成物
JP3135659B2 (ja) ペルフルオロ−オキシアジリジンの製造法
JP4234461B2 (ja) 固定化ルイス酸触媒
JP2003159530A (ja) ルイス酸触媒組成物
JP2003326173A (ja) ルイス酸触媒組成物
WO2005014514A1 (ja) 4-ヒドロキシジフェニルエーテルの製造方法
JP2001039896A (ja) ルイス酸触媒組成物
JP2005103511A (ja) 固定化酸触媒

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041217

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041217

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041220

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070912

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070918

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20071116

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20071121

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080205

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080208

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215

Year of fee payment: 3

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215

Year of fee payment: 3

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120215

Year of fee payment: 4

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120215

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130215

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140215

Year of fee payment: 6

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees