JP4037815B2 - レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置 - Google Patents

レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4037815B2
JP4037815B2 JP2003336594A JP2003336594A JP4037815B2 JP 4037815 B2 JP4037815 B2 JP 4037815B2 JP 2003336594 A JP2003336594 A JP 2003336594A JP 2003336594 A JP2003336594 A JP 2003336594A JP 4037815 B2 JP4037815 B2 JP 4037815B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser diode
laser
electrode
heat sink
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003336594A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005108907A (ja
Inventor
光 古宇田
久弥 高橋
秀之 小野
祐三 池田
正樹 常包
寿則 石田
恵一 窪田
Original Assignee
オムロンレーザーフロント株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by オムロンレーザーフロント株式会社 filed Critical オムロンレーザーフロント株式会社
Priority to JP2003336594A priority Critical patent/JP4037815B2/ja
Priority to US10/942,809 priority patent/US7154926B2/en
Priority to DE602004003196T priority patent/DE602004003196T2/de
Priority to EP04022431A priority patent/EP1519458B1/en
Priority to KR1020040077104A priority patent/KR20050031428A/ko
Priority to TW093129282A priority patent/TW200515666A/zh
Priority to CNA200410083217XA priority patent/CN1604410A/zh
Publication of JP2005108907A publication Critical patent/JP2005108907A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4037815B2 publication Critical patent/JP4037815B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0235Method for mounting laser chips
    • H01S5/02355Fixing laser chips on mounts
    • H01S5/02365Fixing laser chips on mounts by clamping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02407Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling
    • H01S5/02423Liquid cooling, e.g. a liquid cools a mount of the laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/0014Measuring characteristics or properties thereof
    • H01S5/0021Degradation or life time measurements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0233Mounting configuration of laser chips
    • H01S5/02345Wire-bonding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0235Method for mounting laser chips
    • H01S5/02355Fixing laser chips on mounts
    • H01S5/0237Fixing laser chips on mounts by soldering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02476Heat spreaders, i.e. improving heat flow between laser chip and heat dissipating elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4018Lasers electrically in series
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

本発明は、レーザダイオードを内蔵したモジュール、そのモジュールを搭載したレーザ装置、及びレーザ加工装置に関する。
固体レーザの励起用の光源及びレーザ光による加工用の光源に、高出力のレーザダイオードが使用されている。レーザダイオードを発光させるための電気エネルギから光エネルギへの変換効率は高くても50%程度である。このため、レーザダイオードからレーザ光を出射する際に、レーザ光の光出力と同等以上の熱がレーザダイオードで発生する。例えば、50Wの光を発生するレーザダイオードは50W以上の熱を発生することになる。レーザダイオードの温度が上昇すると、電気から光への変換効率は低下し、発光寿命も短くなってしまう。また、温度により発振波長がシフトしてしまうので、励起光現に用いる場合はレーザダイオードの温度上昇が支障となる。このため、レーザダイオードは発生した熱による温度上昇を抑制する手段を講じることが必須となる。
このレーザダイオードを内蔵したモジュールは、主として、レーザダイオード、レーザダイオードを冷却するためのヒートシンク、レーザダイオードに通電するための電極の3つの部材から構成されている。ヒートシンクは、レーザダイオードの電極を兼ねる場合が多い。
近年、金属等の材料の溶接及び溶断、穴あけ、並びにアニールを効率よく行うための光源用として、高出力のレーザ光を発生することができるレーザダイオードモジュールが求められている。このニーズに応えるために、レーザダイオードの高出力化が進んでいる。この高出力化の手段として、レーザ光を発生する活性領域をひとつのチップの中に横方向に並べて形成したレーザダイオードバーが開発されている。
図19はこのレーザダイオードバー101を示す斜視図である。このレーザダイオードバー101の大きさは、一般的に10mm(幅)×(1.0〜1.5)mm(共振器長)×(100〜150)μm(厚さ)程度である。このレーザダイオードバー101の上下面は電極面104であり、このレーザダイオードバーの側面の一方がレーザ光を出力する発光面102となっている。この発光面102の上に、発光領域103が幅方向に一列に配置されており、この発光領域102の個数及び幅は必要な出力により最適化されて設計される。電流は上下の電極面104を介して注入され、発光領域103が発光する。出力は10Wから100W程度のものが市販されている。レーザダイオードバーを形成するための基板として、ガリウム砒素(GaAs)が主として使用されている。
次に、従来の高出力光を発生するレーザダイオードを実装したレーザダイオードモジュールについて説明する。図20は特許文献1に示されているレーザダイオードバーを実装したモジュールを示す。このモジュールは、ヒートシンクにレーザダイオードを実装したものを、縦方向に積層した積層体201である。モジュールの基本構成は、下部電極を兼ねる水冷のヒートシンク202にレーザダイオードバー203がソルダー層を介して実装されており、レーザダイオードの上部電極と、ヒートシンク202との絶縁のために設けられたラバーシート204上に設置された金属シート205は、ボンディングワイヤー206で配線されている。各層のヒートシンク202には冷却水通路207を通して冷却水が供給される。ボンディングワイヤーの代わりに、リボンボンディング、金属板、又は金属フィルムが配線として用いられる場合もある。また、従来、レーザダイオードとヒートシンクとの間に、レーザダイオードと同程度の熱膨張率を持った基板を設けたタイプのモジュールも提案されている。
図21は特許文献2に開示されたレーザダイオードモジュールを示す。レーザダイオード301を、このレーザダイオード301と同程度の熱膨張率を有する端子板302、304で挟み、レーザダイオードの上面とレーザダイオードの下面をハードソルダー層303,305で固定し、下部の端子板302はヒートシンク308に弾性接着剤又はソフトソルダー層306により固定されている。上下の端子板302、304にはリード端子307が接続されており、このリード端子で電気配線される。端子板302とレーザダイオード301は同程度の熱膨張率を持っているため、レーザダイオードの温度が上下変動しても接合界面に劣化が生じることは無く、また、端子板302の下面とヒートシンク308との間の熱膨張率差は弾性接着剤又はソフトソルダー層306で緩和されるため、接合部分の冷却性能の劣化を抑制することが可能となることが示されている。レーザダイオードの側面には鏡面層310(レーザ発光の反射膜)が設けられている。ヒートシンク308には冷却体311が設けられ、その冷却媒体案内部312には冷却水314が導かれており、これにより、レーザダイオードが冷却される。
図22は特許文献3に開示されたレーザモジュール401を示す。レーザダイオード第1面415は第1のソルダー402で吸熱体407の内面403に固定され、レーザダイオード第2面416は第2のソルダー404で蓋408の内面405に固定されていて、レーザダイオードは吸熱体407と蓋408との間にサンドイッチされている。吸熱体407の底面406は蓄熱体に接続されており、レーザダイオードは吸熱体の熱伝導により冷却される。吸熱体407と蓋408は塑性変形が可能な金属からなり、吸熱体の外面409、蓋の外面410及び蓋の下面417は堅固なパッケージ体に実装されていないので、レーザダイオードモジュール401が熱膨張で反っても、それに吸熱体407及び蓋408の形状は追随するため、歪みは生じず、接合界面の冷却性能の劣化は生じないことが示されている。レーザダイオードの放出面411は吸熱体407の頂面413及び蓋の上端414と同じ面上にある。吸熱体の上部外面には、いくつかのモジュールを並べて接合する際にソルダーを供給するための溝418が形成されている。
図23は、特許文献4に開示されたレーザダイオードモジュールの構造を示す。このモジュールは、上部電極を兼ねる固定部501と、ヒートシンク及び下部電極を兼ねるベース502との間に、複数のレーザダイオードと熱消散シートを交互に挟んだレーザダイオードスタック503が設置されており、レーザダイオードスタック503と固定部501との間にはバネ504が介装されて、レーザダイオードスタック503が固定部501とベース502との間にばね504を介して挟まれている。なお、特許文献4には、バネ504の代わりにネジを用いることも示されている。上下の電極(固定部501,ベース502)は絶縁シート505で絶縁されている。このモジュールの特徴は、レーザダイオードと熱消散シート、及び上下の電極との間にソルダーを用いないことであり、電気的接触は上下方向からのばね504による押圧だけで行われている。熱消散シートはSi、SiC、又は銅タングステンが使用されており、レーザダイオードの素材であるGaAs基板よりも熱伝導率の良いものが選択されている。この従来技術の構造はソルダーを用いないため、組み立てが容易であり、100μsのパルスでレーザ発振する場合が例として示されている。
特開平10−209531 特開平9−129986 特開平10−41580 特表平10−507318
上記の特許文献1〜4に開示されている従来の技術は、レーザダイオードモジュールから出力される平均パワーが10W未満であれば、問題は生じない。しかし、平均パワーが20W以上の高出力レーザダイオードバーの場合は、出力が徐々に低下してしまい、最終的には電極が断線してしまうような不具合が生じる確率が高くなってしまう。特に、レーザダイオードの発振光を数秒間隔程度のオン−オフを繰り返して用いる場合に、出力低下、断線、発振波長のシフトの不具合の発生確率が高くなり、寿命が短くなるという問題点が顕在化している。これらの課題を解決するめには、モジュール中のレーザダイオードを長時間安定して冷却することが必要であり、そのためには、レーザダイオードの冷却に関連した以下の3つの問題点を改善しなければならない。
(1)ヒートシンクとレーザダイオードを接合するソルダー層の変質
(2)レーザダイオードと上部電極の接点の変質
(3)レーザダイオードの反り及び変形
(1)の問題点を詳細に説明する。従来、レーザダイオード又はレーザダイオードが実装されたレーザダイオードと同等の熱膨張率を持ったサブマウント基板は、ソフトソルダーを使用してヒートシンクに実装されている。このソフトソルダーは実装界面の金属、例えば金と合金化することによって、ヒートシンクとレーザダイオード又はサブマウント基板に接合する。この合金化された相はグレイン化しており、合金化されていないソフトソルダー層の中に散在する。この合金化相と、合金化されていないソフトソルダー層は熱膨張率が異なる。レーザダイオードを所定のパワーでオンした時のレーザダイオードの温度をT1、オフした時の温度をT2とした場合、レーザダイオードの温度は最大でT1とT2との間を上下する。温度の上下が繰り返されると、この合金化相とソフトソルダー相との界面の歪みが大きくなり、その界面に微視的なクラックが生じる。このクラックが生じた場所は熱抵抗が高くなるので、局所的に温度が上昇する。温度が上昇すると、ソフトソルダー中への実装界面の金属原子の拡散が加速し、合金化したグレインの成長又は金属拡散で生じるカーケンドール効果によるボイドの発生確率も高くなる。これらのクラック又はボイドの成長がソルダー層全体の熱抵抗をさらに高くしてしまい、レーザダイオードの温度が上昇して出力が低下するとともに、発振波長もシフトしてしまう。最終的には、接合部分に大きなクラックが生じる。クラック又はボイドが成長してくると、レーザダイオード又はレーザダイオードを実装したサブマウントは、ソフトソルダー層でヒートシンクに接合していることができなくなり、一部が剥がれてしまう。一部が剥がれると、剥がれた部分の温度が上昇して周辺の合金化及び金属拡散をさらに促進し、剥がれる部分を大きくすると共に、更にチップの温度が上昇するため、ソフトソルダーは融解して流れ落ちたり、酸化したりして、ヒートシンクと絶縁された状態になってしまう場合もある。図21に示した従来のモジュールでは、このソフトソルダー層の変質を抑制するための手段が無い。図23の従来技術のように、ソルダーを使用しないモジュールの場合は、ソルダー部分の劣化は無いので(1)の問題は生じないが、ソルダー無しで圧力を加えただけでは、平均パワーが10W以上の連続する光を出力するために必要なヒートシンクとレーザダイオードとの間の低熱抵抗を得ることは極めて困難である。
次に、(2)の問題を詳細に説明する。レーザダイオードのオン−オフが頻繁に繰り返されると、レーザダイオード上部の電極面との接合部分は、(1)の場合と同様の理由で、温度が上下変動する。レーザダイオードの上部電極の配線は、従来、図20のように、主としてボンディングワイヤー又はボンディングリボンにより接続され、又は、板電極がソルダーで融着又は熱圧着されて接続されている。レーザダイオードの上部電極と同一素材のボンディングワイヤ又はリボンを使用した場合、合金は存在しないが、接続の際に、瞬間的に融解固化する影響で、固化した部分は結晶方位が異なるグレインのマトリックスが存在する、また、ソルダーを使用した場合は、表面金属との合金化により合金化したグレインが存在する。この接続部分は歪みが大きく、温度が上下変動することにより、熱膨張の異方性又は違いにより、グレイン界面にクラックが入り、最終的に断線してしまう。接続部分の歪み又はクラックの増加に伴う電気抵抗の増加で、接続部分に熱が発生してしまうこともある。電極に部分的な剥がれが生じると、残った接続部分へ電流が集中するため、接続部分の負荷が更に増して熱が発生し、最終的に殆ど全ての電極の接合部分が剥がれてしまう場合もある。
次に、(3)の問題点について詳細に説明する。レーザダイオードはGaAsを基板に使用して、その基板上に成膜することにより形成される。成膜は基板の片面にしかされていないため、レーザダイオードには厚さ方向の組成の対象性が無い。そのため、厚さ方向に僅かではあるが、熱膨張率の差があるため、レーザダイオードに反りが生じてしまうことがある。特に、図19に示したレーザダイオードバーの場合は共振器長と幅の比が大きいので、長さの長い幅方向に反りやすい傾向にある。実装時にレーザダイオードの反りは無くても、レーザ光出力中に温度が上昇して反りを生じさせる力が大きくなる。そうすると、レーザダイオードと、ヒートシンク又はサブマウントとの接合界面にクラックが生じ、熱的に断絶した部分が生じてレーザダイオードは加熱されてしまう。その結果として、(1)及び(2)の問題が生じてしまう場合がある。図22の従来技術のように、高出力のレーザダイオードが塑性変形可能な吸熱体と蓋に挟まれ、吸熱体の底面から冷却する場合、レーザダイオードの反りは許容されるが、吸熱体による熱伝導方式の冷却では20W以上の熱を冷却することは極めて困難である。また、レーザダイオードが反ってしまうと、出力される光の方向も変化してしまうので、応用上の問題が生じてしまう。
以上のように、レーザダイオードモジュールからの平均出力が高出力になると、従来のレーザダイオードモジュールの構造及び実装形態では、長期的に安定した出力を得ることが難しくなる。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、レーザ光を長期的に安定して出力することができるレーザダイオードモジュール、そのレーザダイオードモジュールを使用したレーザ装置、及びレーザ加工装置を提供することを目的とする。
本発明に係るレーザダイオードモジュールは、レーザダイオードと、このレーザダイオードの両電極面に夫々第1のソルダー層を介して接合された第1の基板及び第2の基板と、前記第1の基板に第2のソルダー層を介して接合されたヒートシンクと、このヒートシンクに対して所定間隔に配置された押さえ電極と、前記第2の基板と前記押さえ電極との間にその軸方向を前記第2の基板に平行にして設けられたコイル電極と、を有し、前記押さえ電極及び前記コイル電極により前記コイル電極が前記第2の基板に押圧されることを特徴とする。
このレーザダイオードモジュールにおいて、例えば、前記押さえ電極は前記ヒートシンクに対し絶縁性スペーサを介して所定の間隔で固定されており、前記コイル電極が弾性的に変形することにより前記コイル電極が前記第2の基板に押圧されることを特徴とする。
また、前記コイル電極は、コイル素線の周面に、金膜が被覆されていることが好ましい。更に、前記第1の基板及び第2の基板は、前記レーザダイオードの前記電極面の全域で接合されていることが好ましい。
前記第1のソルダー層は、例えば、Au,Ag,Al,Si,Geからなる群から選択された元素を主成分とするハードソルダーを使用したものであり、前記第2のソルダー層は、Pb,Sn,In,Sb,Biからなる群から選択された元素を主成分とするソフトソルダーを使用したものであり、前記ハードソルダーは、前記ソフトソルダーよりも、融点が高いことを特徴とする。
前記レーザダイオードの前記第1及び第2の基板との間の接合面には金膜が被覆されており、前記第1及び第2の基板の前記レーザダイオードとの間の接合面に金膜が被覆されていて、前記第1のソルダー層は、AuSn合金からなるハードソルダーを使用したものであることが好ましい。
例えば、前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面には、夫々第1の金属膜が形成されており、前記第1の金属膜と、前記第2のソルダー層との界面に合金相が形成されている。
また、前記第2のソルダー層は、その表面に前記合金相が形成された後に、前記前記第1の基板と前記ヒートシンクとの間の熱膨張の差により生じる歪みを緩和するのに十分な厚さになるように、前記合金相と合金化されずに残存する前記第2のソルダー層との比率が制御されていることが好ましい。
更に、例えば、前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面には、夫々金膜が形成されており、前記第2のソルダー層は、Inからなるソフトソルダーを使用したものである。この場合に、例えば、前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面に形成された金膜と、前記第2のソルダー層のIn層との間で、前記In層に前記金膜の金が拡散して合金相が形成されている。そして、前記In層は、その表面に前記合金相が形成された後に、前記第1の基板と前記ヒートシンクとの間の熱膨張の差により生じる歪みを緩和するのに十分な厚さになるように、前記合金相と合金化されずに残存する前記In層との比率が制御されていることが好ましい。更にまた、例えば、前記レーザダイオードはGaAs基板上に形成されており、前記第1及び第2の基板は銅タングステン合金により形成されている。
更にまた、本発明は、前記レーザダイオードモジュールが2個以上横方向に並んでいるアレイ状のレーザダイオードモジュールであって、前記押さえ電極の前記コイル電極上の部分ではない部分が、隣接するレーザダイオードモジュールのヒートシンクに接続されているように構成することもできる。
また、本発明に係るレーザ装置は、前記レーザダイオードモジュールを固体レーザ結晶の励起光源に使用することを特徴とする。
また、本発明に係るレーザ加工装置は、上述のレーザダイオードモジュールを内蔵したレーザ装置と、このレーザ装置から発生する光を誘導するための光ファイバーと、光ファイバーから出力する光を集光するためのレンズと、所定の位置に集光されたレーザ光を照射する照射系とを有することを特徴とする。
本発明は上述の従来技術の課題(1)乃至(3)を以下のようにして解決する。
(1)ヒートシンクとレーザダイオードとを接合するソルダー層の変質
接合時に界面の金属とソフトソルダーとの合金化で形成されたグレインが原因で、その後のレーザダイオードの発光中にクラック又はボイドが発生するが、このクラック又はボイドの発生を抑制して、ソフトソルダーの役割であるヒートシンクとレーザダイオードの熱膨張の違いを緩和するための可塑性を維持させ、ソフトソルダー層の高熱抵抗化を抑制する。
(2)レーザダイオードと上部電極の接点の変質
上部電極として接触型のコイル電極を使用することにより、レーザダイオードのサンドイッチ体と電極界面との歪みを緩和する。
(3)レーザダイオードの反り及び変形
レーザダイオードの上下をレーザダイオードと同程度の熱膨張率を持った基板2枚でサンドイッチすることにより、反り及び変形を抑制する。
上記(1)、(2)、(3)の課題を解決するための手段による効果には相関があるため、以下に上記手段による効果を関連させながら説明する。
(1)の課題であるヒートシンクとレーザダイオードを接合するソルダー層の変質を抑制し、熱膨張率差を緩和するための層としての機能を維持するためには、第1に、実装時に接合表面の金属とソフトソルダーが合金化する割合を抑制することである。実装後に合金化していないソフトソルダー部分を長期間残存させることにより、応力緩和層としての機能を維持できる。合金化の割合はレーザダイオードを実装前のヒートシンク上のソフトソルダー層の厚さで制御することが可能である。接触する表面の金属の種類と、実装する温度、融解時間の実装条件を固定し、ソフトソルダー層の実装前の厚さをパラメータとして、図10に示すようにソフトソルダー層の厚さとモジュールの故障確率を調べることで、ソフトソルダーの必要な厚さを規定することができる。
第2に、レーザダイオードの出力中に、ソフトソルダー層中で生じる合金化したグレインの成長及び新たな生成を抑制し、クラックやボイドの発生を抑制することである。そのためには、ソフトソルダー層中に微視的なクラック及びボイドが発生することを抑制し、また微視的なクラック及びボイドが発生してしまっても、それらの成長を抑制することが必要である。レーザダイオードの実装面をヒートシンクに押し付けることで、ソルダー層の熱抵抗を維持することが可能となり、もし、微視的なボイド及びクラックが発生しても、その空間にソフトソルダーが入り込んで熱抵抗の上昇を抑制してくれるため、グレイン、クラック及びボイドの成長は抑制され、結果的に安定した接合界面を維持することができる。押し付ける圧力を実装面全体にわたり均一にすることで、面内全体にわたり劣化の抑制が均一化される。
以上に述べたように、(1)の問題を解決するためには、レーザダイオードをヒートシンクに均一な力で押し付けて、ソフトソルダー層の劣化を抑制することが重要であるが、レーザダイオードを、直接ソフトソルダーを介してヒートシンクに押し付けると、レーザダイオードは割れてしまう。また、レーザダイオードの面全体を均一に加圧することは困難である。そこで、レーザダイオードの上下に、レーザダイオードよりも押し付ける力に耐えることができるサブマウント基板を設ければ、レーザダイオードを保護することが可能となる。サブマウント基板には、レーザダイオードの熱膨張率と同程度の熱膨張率のものを選択する。また、サブマウント基板の大きさは、レーザダイオードの大きさと同程度以上のものを使用し、ハードソルダーを用いてレーザダイオードの上下電極面前面をサブマウント基板と接合してサンドイッチ構造に実装する。このとき、レーザダイオードから発生する光がサブマウント基板にぶつからないような配置でサンドイッチする。上下のサブマウント基板は熱膨張時の対称性を良好にする観点から、同じ大きさであることが望ましい。サブマウント基板は、レーザダイオードが温度変化で反ってしまう力に対して変形することが無い厚さにする。この構造をとることで、レーザダイオードが発光して熱膨張しても、サブマウント基板も同じように熱膨張するため接合界面の歪みは殆ど無く、レーザダイオードの反りも抑制されるため、(3)の課題も解決される。また、レーザダイオードで発生する熱が上下のサブマウント基板に分散されるため、温度均一性もよくなり、発振波長の安定性もよい。このサンドイッチ体は構造的に外部から力を加えても変形しない。
このサンドイッチ体をソフトソルダーによりヒートシンクに実装する。その後、サンドイッチ体のヒートシンク側の面全体を均一な力で上部からヒートシンク面に対して垂直な力で押しつけるために、金属線を螺旋状に巻くことで得られるコイルを用いる。コイル電極の長さをサンドイッチ体の長手方向の長さとほぼ一致させ、サンドイッチ体の長手方向のほぼ中心線に沿って垂直にヒートシンクに押し付けることで、サンドイッチ体の実装面の均一な加圧が可能となる。
コイルを上部電極として使用することにより、(2)の課題であるレーザダイオードと上部電極の接点の変質の問題も解決することが可能である。その理由を以下に述べる。コイル電極は径方向に適度な弾力性を持っている。ソフトソルダー層中の合金化が進んでソフトソルダー部分の平均密度が変化しソフトソルダー層が僅かに薄くなっても、その変化する可能性のある厚さ分だけの弾力性を有することにより、サンドイッチ体を継続してヒートシンクに押し付けることが可能となる。また、サンドイッチ体又はソフトソルダー部分が熱膨張等により厚さが増した場合にも、コイルの巻き径が変形することで、必要以上に押し付ける力が加わることは無い。押し付ける力の限度はコイル電極の塑性限界(変形して形が元に戻らない力)以内の強さとなる。このコイルの塑性限界の力に耐えるサブマウント基板を用いれば、サンドイッチ体はコイルを押さえる力で変形することは無い。
コイルの弾力性は材質、線の径、及び巻き径等を変更することにより調整できる。コイルにはレーザダイオードを発光させるために必要な電流を流すのに必要な接触面積を保持するため、コイルに用いる金属ワイヤーの太さを制御してサンドイッチ体及び押さえ電極との接点の面積を確保する。コイルとコイルが接触するサブマウント基板及びコイル押さえ電極は接触しているだけで融着されていない。そのため、レーザダイオードがオン−オフして温度が上下しても歪み応力の蓄積による接合部分が劣化することは無く、断線も生じない。なお、コイル押さえ電極は銅等の金属で剛性の有る構造で作製する。
コイル電極を用いたレーザダイオードモジュールの場合、レーザダイオードの不具合、又はソルダー層の不具合でレーザダイオードが異常発熱し、レーザダイオードの故障と共に、ソフトソルダーが融解したりする場合でも、電流が流れなくなることは無い。これは、レーザダイオードモジュールを横方向に並べたアレイモジュールに本発明を適用した場合に極めて有効となるので、その理由を説明する。通常、アレイモジュールのうち1個のレーザダイオードモジュールに不具合が生じて電気回路の一部がオープンになった場合、アレイモジュールの全てのレーザダイオードの発振は停止する。しかし、コイル電極を使用した場合、常にレーザダイオードはサブマウントを介して下部電極であるヒートシンクに押し付けられているので、電気回路はオープンになることはない。その結果、1個のモジュールに不具合が生じても、他のモジュールは発光し続ける。このため、本発明のアレイレーザダイオードモジュールを用いたレーザ装置、及び、レーザ加工装置の動作はモジュール電極の断線が原因で突然停止することは無く、信頼性が高いレーザ装置及びレーザ加工装置を実現する。また、コイル電極はサンドイッチ体にも押さえ電極にも溶着しないので、故障した1モジュールだけの交換が容易であり、メンテナンス性の高いレーザ装置及びレーザ加工装置が実現される。また、コイルの押さえ電極を、隣のモジュールとの電気的な接続を兼ねることで、電極間を絶縁するためのスペーサが必要なくなるので、部品コスト及び組み立てコストが低減される。
なお、本発明のハードソルダーとは、Au,Ag,Al,Si,Geを主成分とするソルダー、ソフトソルダーとは、Pb、Sn、In、Sb、Biを主成分とするソルダーと定義する。また、本発明では、ハードソルダーの融点はソフトソルダーよりも高いものを使用する必要がある。
本レーザダイオードモジュールの第1の効果は、高出力のレーザダイオードバーを冷却するためのヒートシンクとの接合領域における熱抵抗の経時変化を抑制できることにある。特に、レーザダイオードのオン−オフが頻繁に行われてレーザダイオードの温度の上昇下降が激しい分野に適用する場合でも、接合界面の熱抵抗の変化を長期間にわたって抑制することが可能となるため、安定したレーザ光出力が可能となる。また、電気から光への変換効率が高い状態を長期間にわたって保つことが可能となり、レーザダイオードの寿命を延ばすことができる。
第2の効果は、コイル電極はレーザダイオード、サブマウント基板及び押さえ電極のいずれにも融着されていないので、容易に低コストで組み立てすることが可能となることにある。
第3の効果は、本モジュールを横方向に並べたアレイモジュールに関し、コイルの押さえ電極が隣のモジュールとの電気的な接続を兼ね、コイル電極と隣のヒートシンクだけに接続されていることにより、モジュールの組立に絶縁材料を必要としなくなるため、部品点数が大幅に削減され、低コストで高性能なアレイレーザダイオードモジュールが実現されることにある。
第4の効果は、本モジュールを直列に配線した場合、アレイ中のひとつのモジュールのレーザダイオードが故障しても、電気回路がオープンになることが無いので、このモジュールを内蔵したレーザ装置及びレーザ加工装置はオープンによる故障が無い。その結果、長期信頼性及びランニングコスト低減に優れたレーザ装置及びレーザ加工装置を提供することが可能となる。
次に、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施の形態に係るレーザダイオードモジュールを示す模式図である。レーザダイオード601の上下の電極面とサブマウント基板602はハードソルダー603で接合されている。このサンドイッチ体604をヒートシンク605にソフトソルダー606で接合してある。接合前のソフトソルダー層606の厚さの制御により、接合後にサンドイッチ体604とヒートシンク605の熱膨張差を緩和できるように接合界面金属とソフトソルダーとの合金化された相の割合が調整されている。上部電極として金属のワイヤーを密着巻きしたコイル電極607を用い、このコイルは押さえ電極608のV字の部分で位置が固定される。コイル電極607及びサンドイッチ体604はヒートシンク605と押さえ電極608との間に挟まれている。ヒートシンク605と押さえ電極608との絶縁は絶縁スペーサ609で行っている。コイル電極607を押え電極608で押す力は、コイル電極607が塑性変形しない範囲となるように絶縁スペーサ609の厚さで調整されている。絶縁された止めネジ610により、ヒートシンク605と押さえ電極608は固定されている。ヒートシンク605及び押さえ電極608には電流を流すための端子線611が接続されている。
図2はコイル電極607の例として円形の金属線を密着巻きしたものを示す。コイル素線の表面には金膜を被覆することが望ましい。図3に示すように、コイル電極607のコイル径802と、このコイル電極607が変形されて、塑性変形を開始するときの直径803との間の可動範囲804が、コイル電極607が弾性的に変形できる範囲である。このコイル電極607がコイルの半径方向に弾力性を示す可動範囲804内で、コイル電極607を加圧すれば、加圧をやめることによりコイル電極607は元の径801に戻ることができる。図1のモジュールはコイルの径の変化が可変範囲804内となるように変形するように、上部から押さえ電極608で押し付けられている。なお、コイル電極607は、レーザダイオードの長手方向と同程度の長さを有している。
次に、図1の第1の実施の形態に係るレーザダイオードモジュールの製造方法について説明する。先ず、レーザダイオードの上下電極面に金属膜、例えば金を成膜する。サブマウント基板602はGaAs基板により製造されたレーザダイオードの熱膨張率(5.6〜6.2ppm/K)と同程度の熱膨張率を有する材料、例えば銅タングステンを使用し、レーザダイオードの上下電極部分の面積と同等以上の面積に加工する。サブマウント基板602の表面にも金属膜、例えば金を成膜する。サブマウント基板602の片面には、レーザダイオード601を実装するための例えば金錫からなるハードソルダー603を成膜する。
そして、図7に示すように、ハードソルダー603を成膜した側のサブマウント基板602の面でレーザダイオード601の上下面を挟み込み、ハードソルダー603の融点まで加熱することで、サブマウント基板602にサンドイッチされたレーザダイオードのサンドイッチ体604を作製する。
次に、図8に示すように、このサンドイッチ体604を、ヒートシンク605に接合する。ヒートシンク605は、例えば銅を主な組成として内部に水路が形成されている水冷タイプのものを使用することができる。ヒートシンク605の表面には、例えば金膜が成膜されている。図8のように、サンドイッチ体604を実装するヒートシンク605の面に、予めソフトソルダー606として、例えばInの蒸着膜を成膜しておく。そして、ヒートシンク605を加熱してInを融解し、サンドイッチ体604を接合する。
図9は接合前後のInソルダー層界面の拡大図を示す。ヒートシンク605の表面の金属1402上に成膜されたソフトソルダー606は2枚のサブマウント基板602とレーザダイオードで構成されるサンドイッチ体604の下部接合表面のサブマウント基板上金属1405との間に挟まれて実装される。ソフトソルダー606の温度が融点まで上昇すると、先ずソフトソルダー606に表面金属が拡散して合金を形成した領域1406が形成される。その後、ソフトソルダー606を融解させて温度を保持することにより、合金化されたグレインはソルダー層全体に分散され、ソルダー層を固化した後は、ソルダー層全体に合金化されたグレインが分散された領域1407が形成される。
次に、図1に示すように、コイル電極607をサンドイッチ体604の上部に置き、絶縁スペーサー609をヒートシンク605の上に置く。例えば銅で形成され表面に金が成膜された押さえ電極608でコイル電極607を押さえ、絶縁された止めネジ610でスペーサーを介してヒートシンク605に固定することにより、本実施形態のモジュールが完成する。
図4は本発明の第2の実施の形態に係るレーザダイオードモジュールを横方向に並べたアレイモジュールを示す斜視図である。図5は図4の渡り押さえ電極901を取り出して示す斜視図、図6は、図4のアレイレーザモジュールのA−A′線による断面図を示す。上部のコイル電極903を固定してサブマウント基板904で挟まれたレーザダイオード905のサンドイッチ体906を押さえるための渡り押さえ電極901は、隣のモジュールのヒートシンク902にしか接続されておらず、止めネジ907で固定されている。図4の最も右側の渡り押さえ電極901は固定台908に固定され、端子線909に接続されている。各モジュールには上部電極と下部電極との間を絶縁するための材料は必要としない。そして、渡り押さえ電極901のヒートシンク接触部分の高さ1002を調整することにより、コイル電極を押す力を調整することが可能な構造となっている。ひとつのヒートシンクに接触している別々の渡り押さえ電極901はコイル電極903とヒートシンク902に接触しており、ヒートシンク902に接触している渡り押さえ電極901は止めネジ907によりヒートシンク902に固定されている。ヒートシンク902側から供給された電流はソフトソルダー1105を介してサンドイッチ体905中のレーザダイオード905に通電される。渡り押さえ電極901におけるコイル電極903の上部は、隣のヒートシンク902に接続される。
図4に示したアレイモジュールも、図7、13と同様に、レーザダイオードのサンドイッチ体を作製した後にヒートシンクに実装し、サンドイッチ体上にコイルバネを置いた後に剛性のある渡り押さえ電極901で押さえてネジ907によりネジ止めすることにより製造できる。また、渡り押さえ電極901を固定するためのネジ907は絶縁する必要は無く、通常のネジでヒートシンク902に固定することができる。
なお、サブマウント基板は、銅タングステン以外の素材として、銅モリブデン、モリブデン等、熱膨張率がGaAs基板の値(5.6〜6.2ppm/K)と±20%以内で一致し、電気抵抗が低く、熱伝導率の高い材料を用いることができる。
ハードソルダーには、金錫合金以外にAu,Ag,Al,Si,Geを主成分とするソルダーを用いることができる。また、ソフトソルダーにはIn以外に、Pb、Sn、In、Sb、Biを主成分とするソルダーを用いることができる。モジュールに用いるソフトソルダーとハードソルダーの融点については、ハードソルダーの方が融点が高いことが必要である。また、ソルダー層とは、ソルダーで接合する両物質との間の2界面間の領域を示し、ソルダーが表面金属の拡散により生じた合金相のグレインと混在した領域も含む。即ち、ソルダー層としてInを使用して実装した場合、ソルダー層は以下に示すように変化する。先ず、実装前は、Inだけで形成される層である。次に、実装の初期には、接合界面近傍に、表面金属の金と反応していないInの相の中に、Inと金とが反応して生じた合金のグレイン(結晶粒)が点在する層が形成され、中央のInのみからなる層とで、3層構造となる。そして、所定の時間経過後は、Inの相全体に、合金化した結晶粒が点在した層となる。
ヒートシンクとしては、内部に水路が形成してある水冷式のもの以外に、ペルチエ素子を用いたもの、ヒートパイプ方式のもの、及び熱伝導型のもの等がある。
コイル電極の素材は銅を主成分にしたもので密着巻きが適しているが、径方向に少なくてもソフトソルダー層の変質による厚さの変化及びサンドイッチ体の熱膨張等による厚さの変化を合計した厚さの変化量の最大値以上に弾力性があり、電気伝導性が銅及び銅の化合物と同程度のものであれば良い。また、所定の電流を流すための接点が確保できれば、コイルは密着巻きで無くても良い。コイル素線の表面は金の膜で覆われていることが望ましいが、金膜以外にも空気中で腐食しにくい金属であれば代替が可能である。
押さえ電極608は、コイル電極607を押さえる部分として、V字の溝が形成されているが、この押さえる部分としては、V字溝以外に、半円の溝又は台形の溝等種々の形状がある。本モジュールはレーザダイオードバーを主な適用用途として説明しているが、発光領域が1個のレーザダイオードでも有効である。
サブマウント基板、ヒートシンク、コイル電極、押さえ電極の表面は、腐食に強い金以外に、ニッケル膜等の腐食に強い金属膜を用いることができる。ニッケルの場合は、ソルダーと合金が形成しにくいので、通常は密着性の点で問題が生じる。しかし、コイル電極で界面が押さえつけられている場合は、化学反応的な密着性が弱くても、物理的に密着性を保つことが可能であるため、界面の熱抵抗を保つことが可能となる。
次に、本発明の効果を示すために、本発明の範囲に入る実施例と本発明から外れる比較例の特性について、説明する。幅10mm、共振器長1.2mm、厚さ100μmの50Wの出力が可能なレーザダイオードアレイバーと、幅10mm、長さ1.2mm、厚さ0.15mmのCuWでできたサブマウント基板を用意した。レーザダイオードの上下の電極面の最表面に金膜を1μm形成した。また、サブマウント基板には最表面に金メッキを両面とも1μm成膜し、片面には金錫ソルダーを2μm成膜した。レーザダイオードバーの上下面に金錫ソルダーの面を向けた2枚のサブマウント基板で前記レーザダイオードバーの発光面の面位置がサブマウント基板と一致するようにレーザダイオードバーをサンドイッチした後、金錫ソルダーの融解温度まで温度を上昇させてレーザダイオードをサブマウント基板に接合し、レーザダイオードをサブマウント基板でサンドイッチしたサンドイッチ体を作製した。ヒートシンクは銅を母体として内部に水路が形成してある水冷式のもので、縦25mm、横12mm、厚さ2.0mmのものを用いた。ヒートシンクの最表面には金膜が1μm成膜されている。サンドイッチ体をこのヒートシンクに実装する面に、ソフトソルダーとしてIn膜をサブマウント基板の面積と同じ10×1.2mmの領域に1μmから10μmまで1μm間隔で蒸着したものをそれぞれ用意した。この蒸着面上にサンドイッチ体を乗せた後、ヒートシンクの温度をInが融解する温度まで上昇させ、所定の時間保持した後に、冷却して、サンドイッチ体をヒートシンクに接合した。ヒートシンクに実装されたサンドイッチ体の上部に、外径が1.5mmで0.2mmの太さの銅線を密着巻きした長さ10mmのコイル表面に金メッキを施したコイル電極を置き、上部から銅で形成して表面に金メッキを施した押さえ電極で押さえ、窒化アルミ製の絶縁スペーサを介してセラミックネジでヒートシンクに固定した。コイル電極の直径の塑性変形しない可変範囲は30μmであったため、コイルの径を約20μm程度つぶれるようにスペーサの厚さを調整した。このようにして作製したレーザダイオードモジュールの寿命試験を行った。試験の条件としては、モジュールから50Wの連続光を0.5秒間隔でオン−オフさせて3000時間ランニングさせた場合の、In膜ソルダーの厚さとモジュールが故障する確率を調べた。
その結果を図10に示す。図10は横軸にIn膜厚をとり、縦軸に故障確率をとって両者の関係を示すグラフ図である。故障とは、出力が初期出力に対して20%以上低下した場合、又は電極の少なくても一部に断線が生じた場合を示す。Inと接触するヒートシンクとサブマウント基板の表面に金が1μm成膜されている場合、In膜ソルダーの厚さを5μm以上成膜してサンドイッチ体を成膜することで、故障確率を製品化の目安となる0.1%以下にすることができた。この結果は、上記で説明したモジュールの構成及び実装条件で、銅タングステン製のサブマウントと銅製のヒートシンクの熱膨張率の差による歪みをInソルダー層が緩和するために必要なIn層の厚さは5μm以上であることを示す。
次に、本発明のモジュール(実施例)と従来のモジュール(比較例)の出力特性を比較した。従来のモジュールには、銅タングステンのサブマウント上にハードソルダーでレーザダイオードバーが実装され、ソフトソルダーでヒートシンク上に実装され、通常のボンディングワイヤーを用いて上部電極を形成しているものを用いた。
図11は両モジュールに電流を流し、出力変化を比較した結果を示す。図11において、横軸は電流(A)、縦軸は出力(W)である。コイル電極を用いた場合の方が約10%の出力向上が見られた。これは、上部からコイル電極で押さえているため、ソフトソルダー層の熱抵抗がボンディングワイヤーの電極を用いた場合と比較して低くなったためである。
図12はこの2つのモジュールに約60Aの電流を流して50Wの出力を1秒間のインターバルでオン−オフを繰り返した場合の出力変動を1万時間測定した結果を示す。図12において、横軸は時間(時)、縦軸は出力(W)である。本発明の実施例のモジュールは、1万時間経過後の出力低下率は10%であったが、従来のモジュールは出力が徐々に低下した後、1000時間経過したときに、数本のワイヤーに断線が生じて出力が急激に低下したため、評価を中断した。
故障した従来のモジュールを観察すると、図13に示すように、レーザダイオードバー1801の端部分が反っていて、ボンディングワイヤ1807に断線が発生しており、その下部のハードソルダー層1803との実装界面が剥がれてしまっていた。このはがれ1802部分の下部のヒートシンク1804とサブマウント基板1805との界面のソフトソルダー層1806の部分も観察した。
その結果を、図14の断面図に示す。インジウムソルダー層1901にはクラック1902と、ボイド1903と、剥がれ1904とが生じていることが判明した。また、金インジウム合金のグレイン1905は実装直後よりも成長していた。一方、本発明のモジュールのインジウムソルダー層は、1万時間経過しても、巨視的なクラック及びボイドは無く、金インジウムの状態変化はわずかであった。
実施例1と同様の部材を使用し、ヒートシンクのみ、最表面にニッケル膜を1μm厚で成膜したものを使用し、In膜の厚さを1μmから10μmまで変化させて、レーザダイオードモジュールの寿命試験を実施例1と同様に実施した。図10と同じ実験を行った結果、Inの厚さが3μm以上の場合に、0.1%以下の故障確率となった。これは、ニッケルの場合は、Inとの合金化が進みにくいため、金の場合よりもInソルダーが薄くても信頼性が得られるためである。また、図12と同じ実験を行った結果、64Aの電流を流したときに50Wの出力が得られ、接合界面の熱抵抗は金の場合と比較して僅かに大きいことがわかった、しかし、金膜の場合と同様に1万時間の出力低下率は約10%であり、実用上、問題がないことがわかった。
図15は本発明の実施例3のアレイレーザモジュールを示す斜視図である。このアレイレーザモジュールは、実施例1で作製したモジュールを横方向に5個並べたものである。ヒートシンク2001に実装されたレーザダイオードバーとサブマウント基板で形成されるサンドイッチ体2002及びコイル電極2003は実施例1と同様のものを使用し、同じソフトソルダーを用いてサンドイッチ体2002をヒートシンク2001に実装した。5個のヒートシンクに水を流すための絶縁材料で形成されたホルダー2004を作製し、各ヒートシンクをホルダーの所定の位置に固定した。そして、各渡り押さえ電極2005を図15に示すように配置した。4個の渡り押さえ電極は同じ形状のものを用い、左端はヒートシンクと電極端子2007を結ぶための渡り押さえ電極2005を使用し、右端はヒートシンクの後ろにある電極端子2007をヒートシンクに接触しないように渡すことが可能な渡り押さえ電極を使用した。各ヒートシンクへの水の供給は、ホルダー2004の横の冷却水導入口から行う。アレイモジュール全体を電極露出防止及びコイル電極の均等押し付け化のために絶縁材料で形成した押さえ板2009をかぶせて、止めネジ2010で電極に形成したネジ穴を通してホルダー2004に固定した。このアレイモジュールを用いて、実施例1と同様に1個あたりの出力を50Wとして合計250Wの出力の長期ランニング実験を行った結果、本実施例の場合は、1万時間にわたり出力変動が10%以内であった。
また、図16は、250Wでランニングを開始してから500時間経過後、1個のレーザダイオードモジュールを故意に加熱してレーザダイオードモジュールを故障させる実験を試みた結果を示す。1個のレーザダイオードは活性層の温度が上昇して電流のリークパスが生じ、発光しなくなったが、電極はショートすることがなく、電流は流れ続けた。そのため、アレイ中の他のレーザダイオードモジュールには電流は継続して流れるので、発振は継続し、約200Wの出力が得られた。そこで、スタートしてから2000時間後に、更にもう一つのレーザダイオードモジュールを同様に故意に故障させたところ、出力は約140W程度となったが、その後他の3個のモジュールは図16のように4000時間まで安定して出力することを確認した。その後、故障した2個のレーザダイオードモジュールを、ヒートシンクに実装したサンドイッチ体の部分だけを交換して再出力させたところ、レーザの出力は240Wに復活した。このモジュールはヒートシンクとサンドイッチ体以外は溶接されていないので容易に交換することが可能であり、交換に要した時間は10分であった。
図17は、本発明の実施例4のレーザ装置を示す斜視図である。このレーザ装置は、実施例3で作製した250W出力の5連のモジュール2201を2個使用したものである。アレイレーザダイオードモジュール2201から発生する光の波長はヒートシンクに流す水温により、ネオジウムの吸収波長である808nmに調整した。直径が5mmで長さが10cmのネオジウムが1%ドープされたNd:YAGレーザロッド2202をその両側から、モジュール2201からの出力レーザ光で励起した。この励起光全てがレーザロッド2202に照射されるように、モジュール2201をレーザロッド2202に近接して配置した。808nmの光はYAGロッド2202中のNdに吸収され、波長が1064nmの光が出力ミラー2003とリアミラー2004との間を共振し、これにより、レーザロッド2202から300Wの出力光2005が得られた。このYAGレーザの出力を、レーザモジュール2201の0.5秒間のインターバルによりオン−オフさせて長期ランニング試験を行ったところ、YAGレーザの出力は1万時間にわたり出力を継続し、1万時間後の出力は270Wで低下率は10%以下となった。この程度の出力低下はレーザダイオードに流す電流値を上げることにより回復が可能であるため、装置の仕様としては問題が無い。従来の上部電極にボンディングワイヤー又は板電極を用いた250Wの5連モジュール2個で励起したレーザ装置で同じランニング試験を試みたところ、500時間程度でレーザモジュールに故障が生じ、発振しなくなってしまった。原因を調べたところ5連モジュールの中の1個のレーザダイオードバーの上部電極部に断線が生じていた。
図18は、本発明の実施例5のレーザ装置を示す図である。レーザ装置2301は実施例4で作製したものであり、アレイレーザダイオードモジュール2201と、Nd:YAGレーザロッド2202と、出力ミラー2203と、リアミラー2204とを含むものである。レーザ装置2301から発生するレーザ光2302を光ファイバー2303に結合し、この光ファイバー2303の端部に対物レンズ2304を接合した。そして、厚さが1mmの1対の鉄板2305を突き合わせ、この突き合わせ面からなる溶接線2306に、対物レンズ2304によりレーザ光2302を集光照射し、この溶接線2306に沿ってレーザ光2302スキャンさせることにより、2枚の鉄板2305を溶接した。複数箇所の溶接を効率良く行うためには、レーザ光の出力をオン−オフさせることが重要となる。本実施例のレーザダイオードモジュールはオン−オフさせても長時間安定した動作が可能であり、仮に1個のレーザダイオードバーに不具合が生じても、断線することなく動作するので、本実施例のモジュールを搭載したレーザ加工装置は長期間安定した溶接が可能となる。従来の高出力レーザダイオードモジュールは、オン−オフで長時間安定して動作できないので、従来のモジュールを使用したレーザ装置を搭載したレーザ加工装置は、レーザ装置から発生する光を物理的なシャッターを使用してオン−オフさせていた。しかし、レーザ光が高出力化するに伴い、シャッターの耐熱性、反射光の影響及びシャッタースピードの点で問題点が生じ、その対策に多大のコストを要し、シャッターでのオン−オフは限界に近づいていた。
本発明の第1実施形態に係るレーザダイオードモジュールを示す正面図である。 同じくそのレーザダイオードモジュールに使用するコイル電極を示す斜視図である。 同じくそのレーザダイオードモジュールに使用するコイル電極の可変範囲を示す模式図である。 本発明の第2実施形態に係るレーザダイオードモジュールを示す斜視図である。 同じくそのレーザダイオードモジュールに使用する渡り押さえ電極を取り出して示す斜視図である。 図4のA−A′線による断面図である。 同じくそのレーザダイオードモジュールにおいて、レーザダイオードが第1のソルダー層を介して2枚のサブマウント基板に接合されたサンドイッチ体を形成する方法を示す図である。 図6に示したサンドイッチ体をヒートシンクに第2のソルダー層を使用して実装する方法を示す図である。 第2のソルダー層によりサブマウント基板をヒートシンクに実装する際の実装前と実装後の状態を示す断面図である。 第2のソルダーにインジウムを使用したモジュールをランニング試験した場合のインジウムの膜厚と故障確率との関係を示すグラフ図である。 本発明のレーザダイオードモジュールと従来のボンディングワイヤーを使用したレーザダイオードモジュールに電流を流したときの電流と光出力との関係を示すグラフ図である。 本発明のレーザダイオードモジュールと従来のボンディングワイヤーを使用したレーザダイオードモジュールの出力の経時変化を示すグラフ図である。 従来の方法であるボンディングワイヤーを用いて上部の電極を形成したレーザダイオードモジュールのランニング評価後の状態をモジュールの光を出力する面から見た図である。 従来の発明のモジュールで、図13の剥がれがあった部分の下部のソフトソルダー領域の断面図である。 本発明のレーザダイオードモジュールの第2の実装形態で5個のレーザダイオードモジュールをアレイ化したものの斜視図である。 本発明のアレイレーザダイオードモジュールでアレイ中のレーザダイオードを故意に故障させた場合のアレイモジュールの出力の経時変化を示すグラフ図である。 本発明のレーザダイオードモジュールを励起光源に用いたレーザ装置の模式図である。 本発明のレーザダイオードモジュールを励起光源に使用したレーザ装置から出力されるレーザ光によるレーザ溶接装置を示す模式図である。 従来のレーザダイオードバーを示す斜視図である。 ボンディングワイヤーを上部電極に用いている縦方向にスタックされた従来のレーザダイオードモジュールを示す斜視図である。 2枚の端子板に第1のソルダーで接合されたレーザダイオードを冷却体に第2のソルダーで接合した従来のレーザダイオードモジュールを示す正面図である。 塑性変形が可能な吸熱体と蓋で挟まれた従来のレーザダイオードモジュールを示す平面図である。 レーザダイオードと熱消散シートを、ソルダーを用いずに交互にスタックしたものを固定部に固定されたバネでベースに押さえつけた従来のレーザダイオードモジュールを示す平面図である。
符号の説明
101 電極
102 発光面
103 発光領域
104 電極面
201 積層体
202 冷却ヒートシンク
203 レーザダイオードバー
204 ラバーシート
205 金属シート
206 ボンディングワイヤー
207 冷却水通路
301 レーザダイオード
302 端子板
303 ハードソルダー
304 端子板
305 ハードソルダー
306 ソフトソルダー・弾性接着剤
307 リード端子
308 ヒートシンク
309 側面
310 鏡面層
311 冷却体
312 冷却媒体案内部
313 端子板下部
314 冷却水
401 レーザダイオードモジュール
402 第一のソルダー
403 吸熱体の内面
404 第2のソルダー
405 蓋の内面
406 吸熱体の底面
407 吸熱体
408 蓋
409 吸熱体の外面
410 蓋の外面
411 放出面
412 反射面
413 吸熱体の頂面
414 蓋の上端
415 レーザダイオード第1面
416 レーザダイオード第2面
417 蓋の下面
501 固定部
502 ベース
503 レーザダイオードスタック
504 バネ
505 絶縁シート
601 レーザダイオード
602 サブマウント基板
603 ハードソルダー層
604 サンドイッチ体
605 ヒートシンク
606 ソフトソルダー層
607 コイル電極
608 押さえ電極
609 絶縁スペーサ
610 止めネジ
611 端子線
802 コイル径
803 塑性変形が開始するときのコイル径
804 可動範囲
901 渡り押さえ電極
902 ヒートシンク
903 コイル電極
904 サブマウント
905 レーザダイオード
906 サンドイッチ体
907 止めネジ
908 固定台
909 端子線
1002 高さ
1405 サブマウント基板上金属
1406 ソフトソルダー層に表面金属が拡散して合金を形成した層
1407 ソフトソルダー層全体に合金化されたグレインが分散された層
1801 レーザダイオードバー
1802 はがれ
1803 ハードソルダー
1804 ヒートシンク
1805 サブマウント基板
1806 ソフトソルダー
1807 ボンディングワイヤー
1901 インジウムソルダー実装部分
1902 クラック
1903 ボイド
1904 はがれ
1905 InAu合金グレイン
2001 ヒートシンク
2002 サンドイッチ体
2003 コイル電極
2004 ホルダー
2005 渡り押さえ電極
2006 渡り電極
2007 電極端子
2008 冷却水導入口
2009 押さえ板
2010 止めネジ
2011 ネジ穴
2201 アレイレーザダイオードモジュール
2202 Nd:YAGレーザロッド
2203 ファイバー
2204 リアミラー
2205 出力光
2301 レーザ装置
2302 レーザ光
2303 ファイバー
2304 対物レンズ
2305 鉄板
2306 界面

Claims (15)

  1. レーザダイオードと、このレーザダイオードの両電極面に夫々第1のソルダー層を介して接合された第1の基板及び第2の基板と、前記第1の基板に第2のソルダー層を介して接合されたヒートシンクと、このヒートシンクに対して所定間隔に配置された押さえ電極と、前記第2の基板と前記押さえ電極との間にその軸方向を前記第2の基板に平行にして設けられたコイル電極と、を有し、前記押さえ電極及び前記コイル電極により前記コイル電極が前記第2の基板に押圧されることを特徴とするレーザダイオードモジュール。
  2. 前記押さえ電極は前記ヒートシンクに対し絶縁性スペーサを介して所定の間隔で固定されており、前記コイル電極が弾性的に変形することにより前記コイル電極が前記第2の基板に押圧されることを特徴とする請求項1に記載のレーザダイオードモジュール。
  3. 前記コイル電極は、コイル素線の周面に、金膜が被覆されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザダイオードモジュール。
  4. 前記第1の基板及び第2の基板は、前記レーザダイオードの前記電極面の全域で接合されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の、レーザダイオードモジュール。
  5. 前記第1のソルダー層は、Au,Ag,Al,Si,Geからなる群から選択された元素を主成分とするハードソルダーを使用したものであり、前記第2のソルダー層は、Pb,Sn,In,Sb,Biからなる群から選択された元素を主成分とするソフトソルダーを使用したものであり、前記ハードソルダーは、前記ソフトソルダーよりも、融点が高いことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュール。
  6. 前記レーザダイオードの前記第1及び第2の基板との間の接合面には金膜が被覆されており、前記第1及び第2の基板の前記レーザダイオードとの間の接合面に金膜が被覆されていて、前記第1のソルダー層は、AuSn合金からなるハードソルダーを使用したものであることを特徴とする請求項5に記載のレーザダイオードモジュール。
  7. 前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面には、夫々第1の金属膜が形成されており、前記第1の金属膜と、前記第2のソルダー層との界面に合金相が形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュール。
  8. 前記第2のソルダー層は、その表面に前記合金相が形成された後に、前記前記第1の基板と前記ヒートシンクとの間の熱膨張の差により生じる歪みを緩和するのに十分な厚さになるように、前記合金相と合金化されずに残存する前記第2のソルダー層との比率が制御されていることを特徴とする請求項7に記載のレーザダイオードモジュール。
  9. 前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面には、夫々金膜が形成されており、前記第2のソルダー層は、Inからなるソフトソルダーを使用したものであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュール。
  10. 前記ヒートシンクと前記第1の基板との対向面に形成された金膜と、前記第2のソルダー層のIn層との間で、前記In層に前記金膜の金が拡散して合金相が形成されていることを特徴とする請求項9に記載のレーザダイオードモジュール。
  11. 前記In層は、その表面に前記合金相が形成された後に、前記第1の基板と前記ヒートシンクとの間の熱膨張の差により生じる歪みを緩和するのに十分な厚さになるように、前記合金相と合金化されずに残存する前記In層との比率が制御されていることを特徴とする請求項10に記載のレーザダイオードモジュール。
  12. 前記レーザダイオードはGaAs基板上に形成されており、前記第1及び第2の基板は銅タングステン合金により形成されていることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュール。
  13. 請求項1乃至12のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュールが2個以上横方向に並んでいるアレイ状のレーザダイオードモジュールであって、前記押さえ電極の前記コイル電極上の部分ではない部分が、隣接するレーザダイオードモジュールのヒートシンクに接続されていることを特徴とするアレイ状のレーザダイオードモジュール。
  14. 請求項1乃至13のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュールを固体レーザ結晶の励起光源に使用することを特徴とするレーザ装置。
  15. 請求項1乃至13のいずれか1項に記載のレーザダイオードモジュールを内蔵したレーザ装置と、このレーザ装置から発生する光を誘導するための光ファイバーと、光ファイバーから出力する光を集光するためのレンズと、所定の位置に集光されたレーザ光を照射する照射系とを有することを特徴とするレーザ加工装置。
JP2003336594A 2003-09-29 2003-09-29 レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置 Expired - Fee Related JP4037815B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003336594A JP4037815B2 (ja) 2003-09-29 2003-09-29 レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置
US10/942,809 US7154926B2 (en) 2003-09-29 2004-09-17 Laser diode module, laser apparatus and laser processing apparatus
EP04022431A EP1519458B1 (en) 2003-09-29 2004-09-21 Laser diode module, laser apparatus and laser processing apparatus
DE602004003196T DE602004003196T2 (de) 2003-09-29 2004-09-21 Laserdiodenmodul, Laservorrichtung und Laserbearbeitungsvorrichtung
KR1020040077104A KR20050031428A (ko) 2003-09-29 2004-09-24 레이저 다이오드 모듈, 레이저 장치 및 레이저 가공장치
TW093129282A TW200515666A (en) 2003-09-29 2004-09-27 Laser diode module, laser apparatus and laser processing apparatus
CNA200410083217XA CN1604410A (zh) 2003-09-29 2004-09-29 激光二级管模块、激光器设备和激光加工设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003336594A JP4037815B2 (ja) 2003-09-29 2003-09-29 レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005108907A JP2005108907A (ja) 2005-04-21
JP4037815B2 true JP4037815B2 (ja) 2008-01-23

Family

ID=34191541

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003336594A Expired - Fee Related JP4037815B2 (ja) 2003-09-29 2003-09-29 レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7154926B2 (ja)
EP (1) EP1519458B1 (ja)
JP (1) JP4037815B2 (ja)
KR (1) KR20050031428A (ja)
CN (1) CN1604410A (ja)
DE (1) DE602004003196T2 (ja)
TW (1) TW200515666A (ja)

Families Citing this family (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4600733B2 (ja) * 2004-07-12 2010-12-15 ソニー株式会社 半導体レーザ装置およびその製造方法
JP4659564B2 (ja) * 2005-09-02 2011-03-30 浜松ホトニクス株式会社 半導体レーザモジュール、半導体レーザスタック及び半導体レーザモジュールの製造方法
US20070115617A1 (en) * 2005-11-22 2007-05-24 Nlight Photonics Corporation Modular assembly utilizing laser diode subassemblies with winged mounting blocks
US7420996B2 (en) * 2005-11-22 2008-09-02 Nlight Photonics Corporation Modular diode laser assembly
US7586963B2 (en) * 2005-11-22 2009-09-08 Nlight Photonics Corporation Modular diode laser assembly
US7443895B2 (en) * 2005-11-22 2008-10-28 Nlight Photonics Corporation Modular diode laser assembly
US7436868B2 (en) * 2005-11-22 2008-10-14 Nlight Photonics Corporation Modular diode laser assembly
WO2008105064A1 (ja) * 2007-02-27 2008-09-04 Hamamatsu Photonics K.K. 半導体レーザモジュール、半導体レーザスタック及び半導体レーザモジュールの製造方法
JP2009076730A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Sharp Corp 窒化物半導体レーザ装置
DE102007062044A1 (de) * 2007-12-21 2009-06-25 Osram Opto Semiconductors Gmbh Halbleiterlaservorrichtung
WO2010131498A1 (ja) * 2009-05-12 2010-11-18 三菱電機株式会社 レーザダイオード素子
DE102009026413A1 (de) * 2009-05-22 2010-11-25 Robert Bosch Gmbh Halbleiterlasermodul und Herstellungsverfahren hierfür
WO2010146652A1 (ja) 2009-06-15 2010-12-23 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 光モジュール
DE102009045181B4 (de) * 2009-09-30 2020-07-09 Infineon Technologies Ag Leistungshalbleitermodul
US8509036B2 (en) * 2010-12-09 2013-08-13 Tdk Corporation Method of burn-in testing for thermally assisted head
RU2455739C2 (ru) * 2010-03-19 2012-07-10 Владимир Александрович Филоненко Линейка лазерных диодов
DE102010042087A1 (de) * 2010-10-06 2012-04-12 Jenoptik Laser Gmbh Lasermodul mit einer Laserdiodeneinheit und einem Kühler
DE102011009018A1 (de) * 2011-01-20 2012-08-09 Betewis GmbH Klemmtechnik für horizontale Montage von Laser-Dioden-Barren
JP6038889B2 (ja) * 2011-05-02 2016-12-07 アイピージー フォトニクス コーポレーション レーザベースのマーキングの方法及び装置
JP2012248812A (ja) * 2011-05-31 2012-12-13 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体光集積素子の製造方法
US8681829B2 (en) * 2011-08-29 2014-03-25 Intellectual Light, Inc. Compression mount for semiconductor devices, and method
CN102570291B (zh) * 2011-12-20 2014-10-08 西安炬光科技有限公司 一种传导制冷型高功率半导体激光器及其制备方法
CN103203565B (zh) * 2012-01-12 2016-02-03 郑州大学 用于大功率半导体激光器列阵及叠阵的耐高温焊料
US8866041B2 (en) * 2012-04-12 2014-10-21 Tdk Corporation Apparatus and method of manufacturing laser diode unit utilizing submount bar
US8483249B1 (en) * 2012-04-16 2013-07-09 Coherent, Inc. Diode-laser bar package
CN102709807A (zh) * 2012-04-18 2012-10-03 徐靖中 以SiC晶片作为一级热沉的单发射腔半导体激光器
US8804781B2 (en) * 2012-10-29 2014-08-12 Coherent, Inc. Macro channel water-cooled heat-sink for diode-laser bars
US8804782B2 (en) 2012-10-29 2014-08-12 Coherent, Inc. Macro-channel water-cooled heat-sink for diode-laser bars
US9001856B1 (en) * 2014-03-20 2015-04-07 Coherent, Inc. Diode laser bar mounted on a copper heat-sink
CN106134018A (zh) * 2014-03-31 2016-11-16 Ipg光子公司 高功率激光二极管封装方法和激光二极管模块
US10431955B2 (en) * 2014-04-25 2019-10-01 Lmd Power Of Light Corp Laser core having conductive mass electrical connection
TWI558946B (zh) * 2014-12-10 2016-11-21 鄭博文 光源系統
DE102014018821B4 (de) * 2014-12-19 2019-07-25 Jenoptik Optical Systems Gmbh Diodenlaserbefestigung
US9843164B2 (en) 2015-01-27 2017-12-12 TeraDiode, Inc. Solder sealing in high-power laser devices
US10044171B2 (en) * 2015-01-27 2018-08-07 TeraDiode, Inc. Solder-creep management in high-power laser devices
US10297976B2 (en) * 2015-05-19 2019-05-21 Ii-Vi Laser Enterprise Gmbh Low thermal resistance, stress-controlled diode laser assemblies
JP6576137B2 (ja) * 2015-07-21 2019-09-18 浜松ホトニクス株式会社 半導体レーザ装置及び半導体レーザ装置の製造方法
CN105576489A (zh) * 2016-02-22 2016-05-11 西安炬光科技股份有限公司 一种新型模块化的半导体激光器侧泵模块
JP2018113377A (ja) * 2017-01-12 2018-07-19 三菱電機株式会社 レーザー光源装置
JP2018200924A (ja) * 2017-05-25 2018-12-20 富士通株式会社 光モジュール
KR20240017108A (ko) * 2017-06-13 2024-02-06 누부루 인크. 매우 조밀한 파장 빔 조합 레이저 시스템
WO2019009172A1 (ja) * 2017-07-07 2019-01-10 パナソニックIpマネジメント株式会社 半導体レーザ装置
WO2019094314A1 (en) * 2017-11-07 2019-05-16 Dermal Photonics Corporation Self-aligning laser assembly
CN107800028A (zh) * 2017-11-28 2018-03-13 武汉锐科光纤激光技术股份有限公司 一种针对高功率泵浦源的冷却结构
US11710942B2 (en) * 2017-12-13 2023-07-25 Sony Corporation Method of manufacturing light-emitting module, light-emitting module, and device
US11121526B2 (en) * 2018-05-24 2021-09-14 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Exchangeable laser resonator modules with angular adjustment
DE102018210142A1 (de) * 2018-06-21 2019-12-24 Trumpf Photonics, Inc. Diodenlaseranordnung und Verfahren zum Herstellen einer Diodenlaseranordnung
DE102018210141A1 (de) 2018-06-21 2019-12-24 Trumpf Photonics, Inc. Diodenlaseranordnung und Verfahren zur Herstellung einer Diodenlaseranordnung
EP3671861A1 (en) * 2018-12-17 2020-06-24 Nexperia B.V. Semiconductor device and electrical contact
US20230122836A1 (en) * 2020-04-16 2023-04-20 Sergey GULAK Temperature regulating device assembly for a semiconductor laser
US20230253757A1 (en) * 2020-08-19 2023-08-10 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor laser module
CN112821185B (zh) * 2020-12-31 2022-03-29 中国电子科技集团公司第十三研究所 半导体激光器及半导体激光器侧泵模块
CN113208253B (zh) * 2021-04-30 2023-12-19 深圳市中诺通讯有限公司 一种保护套和保护套控制数码产品的方法
US11557874B2 (en) * 2021-05-18 2023-01-17 Trumpf Photonics, Inc. Double-sided cooling of laser diodes
US11876343B2 (en) 2021-05-18 2024-01-16 Trumpf Photonics, Inc. Laser diode packaging platforms

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4792884A (en) * 1987-10-19 1988-12-20 Prince Corporation Illuminated vanity mirror visor
GB2215125B (en) * 1988-02-22 1991-04-24 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device
FR2736764B1 (fr) 1995-07-13 1997-08-08 Thomson Csf Source laser a semiconducteurs
DE19536463C2 (de) 1995-09-29 2002-02-07 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Herstellen einer Mehrzahl von Laserdiodenbauelementen
US5898211A (en) 1996-04-30 1999-04-27 Cutting Edge Optronics, Inc. Laser diode package with heat sink
JP3816194B2 (ja) 1996-11-22 2006-08-30 ファナック株式会社 冷却装置、光源装置、面発光装置、およびその製造方法
US6205160B1 (en) * 1998-09-24 2001-03-20 Branson Ultrasonics Corporation Laser diode array
US6266353B1 (en) * 1999-07-30 2001-07-24 The Regents Of The University Of California Monolithic laser diode array with one metalized sidewall
US6700913B2 (en) * 2001-05-29 2004-03-02 Northrop Grumman Corporation Low cost high integrity diode laser array
EP1263045A1 (en) * 2001-06-01 2002-12-04 ABB Schweiz AG High power semiconductor module
EP1318545A1 (de) * 2001-12-06 2003-06-11 Abb Research Ltd. Leistungshalbleiter-Submodul und Leistungshalbleiter-Modul
US6895027B2 (en) * 2002-01-29 2005-05-17 Spectra-Physics CTE compensation of semiconductor laser bars

Also Published As

Publication number Publication date
US20050069266A1 (en) 2005-03-31
US7154926B2 (en) 2006-12-26
JP2005108907A (ja) 2005-04-21
DE602004003196D1 (de) 2006-12-28
CN1604410A (zh) 2005-04-06
EP1519458A3 (en) 2005-06-22
KR20050031428A (ko) 2005-04-06
TW200515666A (en) 2005-05-01
DE602004003196T2 (de) 2007-09-27
EP1519458A2 (en) 2005-03-30
EP1519458B1 (en) 2006-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4037815B2 (ja) レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置
KR101142561B1 (ko) 레이저 광원 모듈
US7724791B2 (en) Method of manufacturing laser diode packages and arrays
JP2002261376A (ja) 半導体発光装置
JP4514376B2 (ja) 窒化物半導体レーザ装置
JP2006344743A (ja) 半導体レーザ装置
CN112585825A (zh) 二极管激光器组件和用于制造二极管激光器组件的方法
JP4811629B2 (ja) 半導体レーザ装置
JP2012222130A (ja) 半導体レーザ装置
JP2008205326A (ja) サブマウント及びこれを用いた半導体装置
JP2008172141A (ja) レーザダイオード素子
JP2004349595A (ja) 窒化物半導体レーザ装置およびその製造方法
JP2006294805A (ja) 半導体レーザ装置
JP4543651B2 (ja) ヒートシンク並びにヒートシンクを備えた光源装置
JP2007129162A (ja) 半導体レーザ装置および半導体レーザ素子
JP4978579B2 (ja) 半導体レーザ装置の製造方法及び半導体レーザ装置
JPS60157284A (ja) 半導体装置
JP4609700B2 (ja) 半導体レーザ装置
JP2006032498A (ja) 半導体レーザ装置
JP2004047675A (ja) 窒化物半導体レーザ素子及びそれを搭載した装置とその製造方法
JP2017079285A (ja) レーザ光源装置
JP2008060180A (ja) 半導体レーザ装置
JP2009206390A (ja) 半導体レーザ装置、ヒートシンク、および半導体レーザ装置の製造方法
JPH10190130A (ja) 半導体レーザ装置
JPH07263788A (ja) 半導体レーザ装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20070115

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071010

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071023

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071101

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109

Year of fee payment: 3

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109

Year of fee payment: 3

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111109

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121109

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees