JP4004661B2

JP4004661B2 - 磁気共鳴イメージング装置

Info

Publication number: JP4004661B2
Application number: JP27428298A
Authority: JP
Inventors: 武八尾
Original assignee: Hitachi Medical Corp
Current assignee: Hitachi Healthcare Manufacturing Ltd
Priority date: 1998-09-11
Filing date: 1998-09-11
Publication date: 2007-11-07
Anticipated expiration: 2018-09-11
Also published as: JP2000083921A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気共鳴イメージング装置（以下、ＭＲＩ装置という）に係り、特に開放度の高い、高効率の傾斜磁場コイルを備えたＭＲＩ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の分離型磁石を備えたＭＲＩ装置では、その分離型磁石は上下方向または水平方向に撮影空間を挾むように配置された１対の対称な構造の磁石によって構成されている。これに併せて、傾斜磁場コイルも上下方向また水平方向に対称な１対の傾斜磁場コイルが使用されている。例えば、上下方向に対称に配置された永久磁石を磁場発生装置として用いた場合の例が特開平２−２４６９２７号公報に、また核スピントモグラフィー用勾配コイルの例が特開平９−１７３３１９号公報に、詳細に開示されている。
【０００３】
上記の公知例のように、上下方向に１対の磁石を配置した従来のＭＲＩ装置では、撮影時の被検体周辺の装置の断面図は図６に示す如くなっている。図６において、撮影領域（撮影空間）７を挾んで上下方向に上側磁場発生ユニット１と下側磁場発生ユニット２が対称に配置され、その内側に上側傾斜磁場コイルユニット３と下側傾斜磁場コイルユニット４が対称に配置されている。また、各々の傾斜磁場コイルユニット３，４は主コイル５とシールドコイル６とから構成され、主コイル５とシールドコイル６の間隔ｄ１，ｄ２はほぼ同一寸法となっている。
【０００４】
上記の如き配置において、被検体（図示せず）をテーブル８に載置して撮影領域７の中心部に挿入すると、撮影領域７の上側の空間は開放度の観点から見て被検体にとって十分な高さが必要となり、上側傾斜磁場コイルユニット３の厚さはできるだけ薄い方がよく、また、テーブル８の下側の空間（図示の間隔ｄ３の部分）は被検体の開放度に寄与せず、無駄な空間となっている。
【０００５】
上記の如く、従来のＭＲＩ装置においては、被検体の上部および下部の空間において、それぞれの空間に対する要求が異なるにも拘らず、上下の傾斜磁場コイルユニット３，４が同一の構造になっているために、開放度およびコイルの効率が損なわれていたものである。例えば、図６において、主コイル５とシールドコイル６との間隔ｄ１とｄ２を同じにしたために、テーブル８の下側の間隔ｄ３の空間が無駄な空間となっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記の如く、従来のＭＲＩ装置では、傾斜磁場コイルを対称な１対のコイルで構成したことにより、ＭＲＩ装置の開放度および傾斜磁場コイルの効率を損ねているので、本発明では、被検体の開放度およびコイルの効率を高めた傾斜磁場コイルを具備するＭＲＩ装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明のＭＲＩ装置は、撮影領域を挾んで対向して配置され、該撮影領域に均一磁場を形成する一対の磁場発生手段と、前記撮影領域を挾んで前記磁場発生手段とほぼ同じ方向に対向して配置された一対の傾斜磁場発生手段とを具備するＭＲＩ装置において、前記一対の傾斜磁場発生手段が前記撮影領域を基準にして非対称に構成されている（請求項１）。
【０００８】
この構成では、傾斜磁場発生手段を撮影領域を基準にして非対称にして、ＭＲＩ装置の開放度および傾斜磁場発生手段の効率を高めている。ＭＲＩ装置では、被検体がテーブルに載置された状態で撮影領域に挿入されるため、被検体にとっての開放度という観点から見て、上側の空間の価値は高いが、下側の空間の価値は低い。従って、傾斜磁場発生手段も被検体の上側に広い空間を創出できるような上下非対称配置のものが有効である。また、傾斜磁場発生手段の効率は、その構成要素として主コイルとシールドコイルを有する場合には、両コイルの間隔を拡げることにより効率を上げることができるので、下側の空間を有効活用して、下側の傾斜磁場発生手段の効率を上げることができる。
【０００９】
本発明のＭＲＩ装置では更に、前記傾斜磁場発生手段のうちの一方の傾斜磁場発生手段の構造および／または寸法が、他方のものと異なる（請求項２）。
【００１０】
この構成では、傾斜磁場発生手段の構造および寸法のうちの少なくとも１つに非対称性を持たせて、被検体の開放度の向上，傾斜磁場発生手段の効率の向上を図っている。ここで、傾斜磁場発生手段の構造としては、各傾斜磁場発生手段の配置，これを構成するコイルの構造，コイルを構成するコイル巻き線の構造，コイル巻き線に流す電流値などが含まれ、傾斜磁場発生手段の寸法としては、外径，厚さ，構成要素としての主コイルとシールドコイルとの間隔などが含まれる。
【００１１】
本発明のＭＲＩ装置では更に、前記一対の傾斜磁場発生手段のうちの一方の傾斜磁場発生手段の外径が他方の外径と異なる（請求項３）。
【００１２】
この構成では、傾斜磁場発生手段の外径を小さくすることにより、被検体の開放度を向上させることができる。また、開放型水平磁場方式のＭＲＩ装置の場合、対向する磁場発生手段の外径がそれぞれ異なるものがあり、この磁場発生手段と組み合わせる傾斜磁場発生手段としては、磁場発生手段の外径に合わせて外径を非対称にすることは有効である。この場合にも、傾斜磁場発生手段の外径の非対称を補正するために、構造の非対称を組み合わせることが必要である。
【００１３】
本発明のＭＲＩ装置では更に、前記一対の傾斜磁場発生手段がほぼ平板状に巻いたコイルを具備し、一方の傾斜磁場発生手段のコイル巻き線密度が他方のものと異なる（請求項４）。
【００１４】
この構成は、傾斜磁場発生手段を構成する平板状コイルのコイル巻き線密度に非対称性を持たせたものである。コイル巻き線密度を高くすることにより、撮影領域に発生する傾斜磁場の磁場強度を増すことができるので、傾斜磁場発生手段を撮影領域から離して配置した場合にこれを適用することにより、撮影領域の傾斜磁場を適正値に維持することができる。
【００１５】
本発明のＭＲＩ装置では更に、前記一対の傾斜磁場発生手段は互いに逆向きの磁場を発生する主コイルとシールドコイルとの組合せから成るアクティブシールド型の傾斜磁場コイルであり、一方の傾斜磁場コイルの主コイルとシールドコイルとの間隔が他方の傾斜磁場コイルの主コイルトシールドコイルとの間隔と異なる（請求項５）。
【００１６】
この構成では、傾斜磁場発生手段が撮影領域に傾斜磁場を発生する主コイルと、主コイルから漏洩磁場を防ぐシールドコイルとから成り、一方の傾斜磁場コイルの主コイルとシールドコイルの間隔を他方のものより狭めて、被検体の開放度を高めるための空間を創出している。
【００１７】
本発明のＭＲＩ装置では更に、一方の傾斜磁場コイルの主コイルが前記撮影領域から離れて配置され、他方の傾斜磁場コイルの主コイルが前記撮影領域に近接して配置されている（請求項６）。
【００１８】
この構成では、被検体の開放度が主コイルを撮影領域から離して配置した側では増加し、主コイルを撮影領域に近接して配置した側では減少するので、傾斜磁場発生手段の主コイルと撮影領域との距離の非対称性は被検体の開放度の必要に応じて決めることになる。
【００１９】
本発明のＭＲＩ装置では更に、前記一対の磁場発生手段および前記一対の傾斜磁場発生手段が前記撮影領域を挾んで上下方向に対向して配置されている（請求項７）。
【００２０】
この構成は、開放型垂直磁場方式のＭＲＩ装置に対応するのもである。垂直磁場方式の場合、被検体がテーブルに載置された状態で撮影領域に挿入されるので、被検体の上側の空間を拡げるために、上側の傾斜磁場発生手段を撮影領域から離れた位置に配置するなどして、被検体の開放度を向上させることができる。また、下側の傾斜磁場発生手段については、テーブルの下部の空間を有効活用して、傾斜磁場発生手段の効率を高めることができる。
【００２１】
本発明のＭＲＩ装置では更に、前記一対の磁場発生手段および前記一対の傾斜磁場発生手段が前記撮影領域を挾んで水平方向に対向して配置されている（請求項８）。
【００２２】
この構成は、開放型水平磁場方式のＭＲＩ装置に対応するものである。対称型の磁場発生手段を有するＭＲＩ装置では、垂直磁場方式と同様であるが、非対称型の磁場発生手段を有するＭＲＩ装置では、磁場発生手段の非対称な形状に合わせて、傾斜磁場発生手段の構造，寸法を撮影領域の中心を基準にして非対称に構成することにより、被検体の開放度，傾斜磁場発生手段の効率を向上することができる。
【００２３】
本発明のＭＲＩ装置では更に、撮影領域を挾んで対向して配置され、該撮影領域に均一磁場を生成する一対の磁場発生手段と、前記磁場発生手段の内側に配置され、前記撮影領域に傾斜磁場を生成する傾斜磁場発生手段とを具備するＭＲＩ装置において、前記傾斜磁場発生手段が前記一対の磁場発生手段のうちの一方の磁場発生手段の側にのみ配置されている（請求項９）。
【００２４】
この構成では、通常一対で設置される傾斜磁場発生手段のうちの一方の傾斜磁場発生手段を削除し、傾斜磁場発生手段の非対称性を徹底したものである。この結果、傾斜磁場発生手段を削除した側については、その分だけ空間が拡がり、被検体の開放度が向上する。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を添付図面に基づき具体的に説明する。
図１に本発明のＭＲＩ装置の第１の実施例の要部を示す。本実施例は撮影領域７に均一な磁場を発生させる垂直磁場方式のＭＲＩ装置である。撮影領域７を挾んで上下方向に上側磁場発生ユニット１と下側磁場発生ユニット２が対向して配置され、撮影領域７に均一な磁場を作っている。また、上側磁場発生ユニット１の下部および下側磁場発生ユニット２の上部には、上側傾斜磁場コイルユニット２１および下側傾斜磁場コイルユニット２２が配置されている。
【００２６】
上下の磁場発生ユニット１，２としては、従来技術である永久磁石や超電導磁石などを用いることができる。また、鉄などの強磁性体により磁束を誘導して、均一磁場発生の手段として用いることもできる。
【００２７】
上下の傾斜磁場コイルユニット２１，２２は、渦巻状コイル，同心円コイルまたはそれらの組合せから成り、傾斜した磁場を撮影領域７に発生させる。本実施例においては、傾斜磁場コイルユニット２１，２２としてアクティブシールド型のものを用い、主コイル２３，２５とシールドコイル２４，２６とに互いに逆向きの電流を流すことにより、中央の撮影領域７に傾斜した磁場を発生させると共に、上側磁場発生ユニット１および下側磁場発生ユニット２の側への漏洩磁場を低減し、磁場発生ユニット１，２にて発生する渦電流を低減させている。
【００２８】
更に、本実施例では、上側傾斜磁場コイルユニット２１の主コイル２３とシールドコイル２４との間の間隔ｄ１と下側傾斜磁場コイルユニット２２の主コイル２５とシールドコイル２６との間の間隔ｄ２に関し、間隔ｄ１を狭くし、間隔ｄ２を広くしている。このように間隔ｄ１とｄ２の間に差異を設けることにより、被検体に対する開放性を改善し、傾斜磁場コイルユニットの効率向上を図ることができる。
【００２９】
通常、撮影領域７の上側では、撮影領域７と上側傾斜磁場コイル２１の主コイル２３との間の空間は、撮影に直接使用されることはないが、この空間が無いかまたは狭い場合には極めて閉塞的な感じを被検体に与えるので、閉所恐怖症の被検体を撮影することが困難となる。また、術者が被検体に対し何らかの施術または操作を行う場合、例えば、被検体へのカテーテルの挿管や、術者の刺激に対する被検体の反応を診る場合などには、上記の空間にて術者が被検体に対してアクセスすることになり、撮影領域７の上部の空間はＭＲＩ装置の使い方に大きく係わり、製品としての価値に直接結び付く要素となる。
【００３０】
従って、本実施例では、上側傾斜磁場コイルユニット２１の主コイル２３とシールドコイル２４の間隔ｄ１を狭くしたことにより、撮影領域７の上側の空間を拡げることができ、上記の効果を上げることができる。
【００３１】
また、撮影領域７の下側では、撮影領域７と下側傾斜磁場コイルユニット２２の主コイル２５との間に、被検体を載せたテーブル８が置かれるが、テーブル８の下側の領域は撮影領域７の上側の空間と比べて利用できる用途が少なく、空間的にみて余裕がある。このテーブル８の下側の余裕空間を有効に利用するため、本実施例では、下側傾斜磁場コイルユニット２２の主コイル２５をテーブル８に近接して配置することにより、下側傾斜磁場コイルユニット２２の主コイル２５とシールドコイル２６との間隔ｄ２を拡げたものである。一般的に、傾斜磁場コイルユニットの主コイルとシールドコイルの組合せによって傾斜磁場を発生する場合、主コイルとシールドコイルとの間隔ｄ１，ｄ２と磁場の効率はほぼ比例関係にある。従って、下側傾斜磁場コイルユニット２２については、主コイル２５とシールドコイル２６との間隔ｄ２を広くとることにより効率の良い傾斜磁場コイルユニットにすることができる。
【００３２】
図２に、本実施例の傾斜磁場コイルユニット２１，２２に用いられる平板状アクティブシールド型コイルのコイルパターンの一例を示す。図示のものはＸ軸方向の主コイル（２３Ｘ，２５Ｘ）に対応するコイルパターンの例である。中心線（Ｙ軸）３１の左右に２個の対称な形状のコイルパターン３２，３３が配列されている。Ｚ軸方向の主コイルに対応するコイルパターンとしては、本実施例では１個のパターンが中心に配列されている。これらのコイルパターンは渦巻状または同心円状に作られており、公知のものと同様のパターンである。シールドコイルのパターンは主コイルとほぼ相似形で、主コイルを覆うように一まわり大きめに作られている。
【００３３】
図３は、本実施例の傾斜磁場コイルユニット２１，２２を撮影領域７の上下に配置した例である。傾斜磁場コイルユニット２１，２２は通常Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸の３軸方向の傾斜磁場を発生する３組の傾斜磁場コイルから成るが、その中のＸ軸方向のものを図３（ａ）に、Ｚ軸方向のものを図３（ｂ）に示す。Ｙ軸方向のものは、Ｘ軸方向のものとほぼ同じパターンで作られ、Ｘ軸方向のものと直交するように配置される。図示の傾斜磁場コイルのパターンは簡略化してあるが、実際には図２に示す如くコイル線材が高密度に配置されている。これらのコイルパターンは公知のものと同様のものである。
【００３４】
図３（ａ）において、上下方向がＺ軸方向、左右方向がＸ軸方向で、Ｘ軸方向の傾斜磁場を作るアクティブシールド型傾斜磁場コイル２１Ｘ，２２Ｘが上下方向に配置されている。本実施例の傾斜磁場コイル２１Ｘ，２２Ｘはそれぞれ撮影領域７に近い側に配置された主コイル２３Ｘ，２５Ｘと撮影領域７から遠い側に配置されたシールドコイル２４Ｘ，２６Ｘとから構成される。図示の主コイル２３Ｘ，２５Ｘおよびシールドコイル２４Ｘ，２６Ｘには円板状の基板上に最適化された２個の同心円状のコイルが形成され、電流が通じられている。
【００３５】
Ｘ軸方向の傾斜磁場コイル２１Ｘ，２２Ｘの主コイル２３Ｘ，２５Ｘおよびシールドコイル２４Ｘ，２６Ｘは４個とも図２または図３（ａ）に示した如く中心線の左右に配置された２個のコイルパターンから構成される。Ｘ軸方向の傾斜磁場を発生する際に主コイル２３Ｘ，２５Ｘの２個のコイルパターンに流す電流の向きはそれぞれ逆向きになっている。例えば、図２において、右側のコイルパターン３２に左まわりの電流を流すときには、左側のコイルパターン３３には右まわりの電流を流すことになる。また、上側の主コイル２３Ｘと下側の主コイル２５Ｘとでは、同じ位置にあるコイルパターンについては同じ向きの電流を流す。その結果、撮影領域７に所望のＸ軸方向の傾斜磁場が得られる。また、シールドコイル２４Ｘ，２６Ｘは、主コイル２３Ｘ，２５Ｘが傾斜磁場コイルの外側に発生した不要な磁場をシールドするのに必要な逆向きの磁場を作る。このため、シールドコイル２４Ｘ，２６Ｘの各コイルパターンに流す電流の向きは、主コイル２３Ｘ，２５Ｘの対応する位置にあるコイルパターンに流す電流の向きとは逆向きにする。
【００３６】
主コイル２３Ｘ，２５Ｘとシールドコイル２４Ｘ，２６Ｘとは、上記の如くそれぞれについて最適化されたパターンを使用しているが、両者を比較すると、（１）主コイルにはシールドコイルよりも多くの電流量（電流密度に相当）が通電されること、（２）主コイルの面積はシールドコイルより小さく作られていること、（３）主コイルとシールドコイルとはそれぞれ逆向きの電流が流れること、などの相違点がある。上記の主コイルとシールドコイルとの電流密度の差異については、それぞれのコイル導体に流れる電流値に差異を設ける場合もあるが、多くの場合は主コイルの巻き線密度をシールドコイルよりも高くして巻き数を増し、主コイルとシールドコイルの巻き線を直列に接続することにより電流密度に差異を設けている。
【００３７】
図３（ａ）において、本実施例のＸ軸方向傾斜磁場コイル２１Ｘ，２２Ｘでは、上側傾斜磁場コイル２１Ｘの主コイル２３Ｘとシールドコイル２４Ｘの間隔ｄ１は従来のものより狭く、下側傾斜磁場コイル２２Ｘの主コイル２５Ｘとシールドコイル２６Ｘの間隔ｄ２は従来のものより広く設定され、上側傾斜磁場コイル２１Ｘと下側傾斜磁場コイルとは、撮影領域７に対し、非対称に配置されている。
【００３８】
撮影領域７を基準にした場合、上側傾斜磁場コイル２１Ｘの主コイル２３Ｘは撮影領域７から離れた位置に配置されるので、主コイル２３Ｘによって撮影領域７に生成される磁場が低下するので、主コイル２３Ｘに通電する電流の電流密度を大きくして、撮影領域７の傾斜磁場が適正値になるように補正する。また、下側傾斜磁場コイル２２Ｘの主コイル２５Ｘは撮影領域７に近い位置に配置されるので、主コイル２５Ｘによって撮影領域７に生成される磁場が上昇するので、主コイル２５Ｘに通電する電流の電流密度を小さくして、撮影領域７の傾斜磁場が適正値になるように補正する。その結果、撮影領域７内にはＸ座標に比例したＸ軸方向の傾斜磁場が生成される。
【００３９】
次に、上側傾斜磁場コイル２１Ｘのシールドコイル２４Ｘは主コイル２３Ｘに近接して配置されているので、シールド効果を上げるために、シールドコイル２４Ｘに通電する電流の電流密度を大きくする。また、下側傾斜磁場コイル２２Ｘのシールドコイル２６Ｘは主コイル２５Ｘから離れて配置されているので、シールドコイル２６Ｘに通電する電流の電流密度を小さくする。
【００４０】
上記において、各コイルの電流密度は、各コイルの巻き線の密度、すなわち巻き線の粗密、および各コイルの巻き線に流す電流値に依存するので、各コイルの電流密度を制御するためには、各コイルの巻き線密度または電流値、あるいは巻き線密度と電流値の両方を制御すればよい。
【００４１】
図３（ｂ）においては、Ｚ軸方向の傾斜磁場を作るアクティブシールド型傾斜磁場コイル２１Ｚ，２２Ｚが上下方向に配置されている。方向は上下方向がＺ軸方向である。Ｚ軸方向の傾斜磁場コイル２１Ｚ，２２Ｚは主コイル，シールドコイルとも、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の主コイル，シールドコイルと組で重ねて配置されている。このため、上側傾斜磁場コイル２１Ｚの主コイル２３Ｚは撮影領域７から離れて配置され、下側傾斜磁場コイル２２Ｚの主コイル２４Ｚは撮影領域７に近付けて配置されている。
【００４２】
Ｚ軸方向の傾斜磁場コイル２１Ｚ，２２Ｚは、主コイル２３Ｚ，２５Ｚ，シールドコイル２４Ｚ，２６ＺともＺ軸に対称なコイルパターンで作られている。すなわち、円板状の基板上に最適化された１個の同心円状のコイルパターンが形成され、電流が通じられている。主コイル２３Ｚ，２５Ｚおよびシールドコイル２４Ｚ，２６Ｚへの電流の流し方、両コイルの関係、すなわち通電する電流量（電流密度に相当），面積，電流の向きについては、上記のＸ軸方向の傾斜磁場コイルの場合とほぼ同様である。主コイル２３Ｚと２５Ｚとは、それぞれ１個のコイルパターンに電流を流すことにより、撮影領域７内にＺ座標に比例したＺ軸方向の傾斜磁場を生成している。
【００４３】
また、Ｚ軸方向の傾斜磁場コイル２１Ｚ、２２Ｚについても、撮影領域７に対して非対称に配置しているので、Ｘ軸方向の傾斜磁場コイル２１Ｘ、２２Ｘの場合と同様に、各コイルの電流密度を制御して、撮影領域７の傾斜磁場が適正値となり、傾斜磁場コイルの外側の漏洩磁場をシールドするように補正している。
【００４４】
図４に本発明のＭＲＩ装置の第２の実施例の要部を示す。本実施例は開放型の水平磁場方式のＭＲＩ装置で、中央の撮影領域７に対して左右に１対の磁場発生ユニット、左側磁場発生ユニット４１と右側磁場発生ユニット４２が配置されている。この磁場発生ユニットの場合、右側磁場発生ユニット４２の外径が左側磁場発生ユニット４１の外径よりも小さく作られている。図示では、被検体を載置したテーブル８の撮影領域７への挿入を、紙面に垂直な方向から行うようにしているが、一対の磁場発生ユニットの中央部の一方または両方に穴を設けても良く、その場合にはこの穴を用いて被検体を左または右方向から撮影領域７に挿入することができる。このような構造のＭＲＩ装置の磁石の例は、特開平９−１１７４３６号公報に開示されている。
【００４５】
本実施例において、傾斜磁場コイルユニットは、左右の磁場発生ユニットの外径に合わせて構成されている。外径の大きい左側磁場発生ユニット４１に対しては外径の大きい左側傾斜磁場コイルユニット４３が、外径の小さい右側磁場発生ユニット４２に対しては外径の小さい右側傾斜磁場コイルユニット４４が、中央の撮影領域７を挾んでそれぞれ配置されている。左側傾斜磁場コイルユニット４３は大径の主コイル４５とシールドコイル４６とから構成され、右側傾斜磁場コイルユニット４４は小径の主コイル４７とシールドコイル４８とから構成されている。
【００４６】
本実施例においても、第１の実施例の場合と同様に、傾斜磁場コイルユニット４３，４４のシールドコイル４６，４８は対応する主コイル４５，４７に比し、大きい面積を有するが、コイルパターンの電流密度を小さく設定している。また、主コイル４５，４７，シールドコイル４６，４８とも、Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸の３軸方向のコイルを有し、これらのコイルは第１の実施例と同様に構成されている。
【００４７】
次に、本実施例の場合のコイルへの電流の流し方について説明する。右側傾斜磁場コイルユニット４４の主コイル４７については左側のものに比べてその外径が小さくなるので、撮影領域７に発生する磁場を高めるために、主コイル４７のコイルパターンに流す電流密度が大きくなるように制御する。電流密度を大きくするためには、第１の実施例の場合と同様に、コイルパターンに流す電流値を大きくするか、コイルパターンの巻き線密度を増加する。シールドコイル４８については、その外径が主コイル４７と同様に小径で、かつ主コイル４７に近接して配置されているので、シールド効果を高めるためにシールドコイル４８のコイルパターンに流す電流密度が大きくなるように制御する。左側傾斜磁場コイルユニット４３については、その外径は右側のものに比べて大きいが、従来品と比べて大差ないので、主コイル４５およびシールドコイル４７の電流密度は従来品と同等で良い。また、この外径が従来品と比べて大きくなる場合には、主コイル４５およびシールドコイル４７の電流密度が小さくなるように制御すればよい。
【００４８】
図５には、本実施例の傾斜磁場コイルユニットによって作られる傾斜磁場の磁束の流れ図を参考のために示す。図５（ａ）はＸ軸の傾斜磁場の例，図５（ｂ）はＺ軸方向の傾斜磁場の例である。図５（ａ）において、Ｘ軸方向の傾斜磁場コイルユニットは水平方向（Ｚ軸方向）に配置されている。撮影領域７の左側には、外径の大きい左側傾斜磁場コイルユニット４３の主コイル４５Ｘとシールドコイル４６Ｘが配置され、撮影領域７の右側には、外径の小さい右側傾斜磁場コイルユニット４４の主コイル４７Ｘとシールドコイル４８Ｘが配置されている。黒い三角印５１は磁束の流れを示しており、撮影領域７内には上下方向（Ｘ軸方向）にＸ座標に比例した傾斜磁場が生成されている。
【００４９】
図５（ｂ）においても、Ｚ軸方向の傾斜磁場コイルユニットが水平方向（Ｚ軸方向）に配置されている。撮影領域７の左側には外径の大きい左側傾斜磁場コイルユニット４３の主コイル４５Ｚとシールドコイル４６Ｚが配置され、撮影領域７の右側には外径の小さい右側傾斜磁場コイルユニット４４の主コイル４７Ｚとシールドコイル４８Ｚが配置されている。撮影領域７内には左右方向（Ｚ軸方向）にＺ座標に比例した傾斜磁場が生成されている。
【００５０】
上記の如く、傾斜磁場コイルユニット４３，４４を磁場発生ユニット４１，４２の外径に合わせて作ることにより、磁石によって作られる開放的な空間を減らすことなく、撮影領域７に傾斜磁場を発生させることができるので、被検体に対し、よりアクセス性の高い水平磁場方式のＭＲＩ装置を提供することができる。
【００５１】
また、第２の実施例の如き磁場発生ユニットの配列の場合、撮影領域７が大径の左側磁場発生ユニット４１に近接して形成される傾向にあるので、小径の右側磁場発生ユニット４２に対して配置される右側傾斜磁場コイルユニット４４を省いて、撮影領域７に近い左側傾斜磁場コイルユニット４３のみで撮影領域７に傾斜磁場を作ることも可能である。この場合には、右側の空間が拡がり開放度が改善される。このような構成は第１の実施例の如き垂直磁場方式の場合に可能で、上側の磁場発生ユニットが小径の場合などに有効である。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明した如く、本発明のＭＲＩ装置によれば、撮影領域の両側に配置した傾斜磁場発生手段を非対称に構成したことにより、撮影領域に挿入される被検体の開放度の向上が図られ、また、傾斜磁場発生手段の磁場発生効率の向上が図られる。
【００５３】
本発明における非対称傾斜磁場発生手段を開放型垂直磁場方式のＭＲＩ装置と組み合わせた場合には、上側の傾斜磁場発生手段を撮影領域から離れた位置に配置することにより、被検体の上側の空間が拡がることにより被検体の開放性が向上する。また、下側の傾斜磁場発生手段については、それを構成する主コイルを撮影領域に近接して配置して、シールドコイルとの間隔を拡げることにより、傾斜磁場の発生効率を向上することができる。
【００５４】
また、本発明における非対称傾斜磁場発生手段を開放型水平磁場方式のＭＲＩ装置、例えば非対称な磁場発生手段を具備するＭＲＩ装置と組み合わせた場合には、本発明の傾斜磁場発生手段は、寸法的な非対称性により、磁場発生手段に寸法的に適合して被検体の開放性を改善し、かつ構造的な非対称により、撮影領域に適正な傾斜磁場を生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のＭＲＩ装置の第１の実施例の要部。
【図２】本実施例の傾斜磁場コイルユニットに用いられる平板状アクティブシールド型コイルのコイルパターンの一例。
【図３】本実施例の傾斜磁場コイルユニットを撮影領域の上下に配置した例。
【図４】本発明のＭＲＩ装置の第２の実施例の要部。
【図５】本実施例の傾斜磁場コイルユニットによって作られる傾斜磁場の磁束の流れ図。
【図６】従来のＭＲＩ装置の要部。
【符号の説明】
１上側磁場発生ユニット
２下側磁場発生ユニット
３，２１上側傾斜磁場コイルユニット
４，２２下側傾斜磁場コイルユニット
５，２３，２３Ｘ，２３Ｚ，２５，２５Ｘ，２５Ｚ，４５，４５Ｘ，４５Ｚ，４７，４７Ｘ，４７Ｚ主コイル
６，２４，２４Ｘ，２４Ｚ，２６，２６Ｘ，２６Ｚ，４６，４６Ｘ，４６Ｚ，４８，４８Ｘ，４８Ｚシールドコイル
７撮影領域
８テーブル
３１中心線（Ｙ軸）
３２右側コイルパターン
３３左側コイルパターン
４１左側磁場発生ユニット
４２右側磁場発生ユニット
４３左側傾斜磁場コイルユニット
４４右側傾斜磁場コイルユニット
５１磁束

Claims

撮影領域を挾んで対向して配置され、該撮影領域に均一磁場を生成する一対の磁場発生手段と、前記撮影領域を挾んで前記磁場発生手段とほぼ同じ方向に対向して配置された一対の傾斜磁場発生手段とを具備する磁気共鳴イメージング装置において、前記一対の傾斜磁場発生手段が前記撮影領域を基準にして非対称に構成されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
請求項１記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記一対の傾斜磁場発生手段のうちの一方の傾斜磁場発生手段の構造および／または寸法が、他方のものと異なることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
請求項２記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記一対の傾斜磁場発生手段のうちの一方の傾斜磁場発生手段の外径が他方の外径と異なることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
請求項２および３記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記一対の傾斜磁場発生手段がほぼ平板状に巻いたコイルを具備し、一方の傾斜磁場発生手段のコイル巻き線密度が他方のものと異なることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
請求項２乃至４記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記一対の傾斜磁場発生手段は互いに逆向きの磁場を発生する主コイルとシールドコイルとの組合せから成るアクティブシールド型の傾斜磁場コイルであり、一方の傾斜磁場コイルの主コイルとシールドコイルとの間隔が他方の傾斜磁場コイルの主コイルトシールドコイルとの間隔と異なることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
請求項５記載の磁気共鳴イメージング装置において、一方の傾斜磁場コイルの主コイルが前記撮影領域から離れて配置され、他方の傾斜磁場コイルの主コイルが前記撮影領域に近接して配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
請求項１乃至６記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記一対の磁場発生手段および前記一対の傾斜磁場発生手段が前記撮影領域を挾んで上下方向に対向して配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
請求項１乃至６記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記一対の磁場発生手段および前記一対の傾斜磁場発生手段が前記撮影領域を挾んで水平方向に対向して配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
撮影領域を挾んで対向して配置され、該撮影領域に均一磁場を生成する一対の磁場発生手段と、前記磁場発生手段の内側に配置され、前記撮影領域に傾斜磁場を生成する傾斜磁場発生手段とを具備する磁気共鳴イメージング装置において、前記傾斜磁場発生手段が前記一対の磁場発生手段のうちの一方の磁場発生手段の側にのみ配置されていることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。