JPH0378592B2 - - Google Patents

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JPH0378592B2
JPH0378592B2 JP57172600A JP17260082A JPH0378592B2 JP H0378592 B2 JPH0378592 B2 JP H0378592B2 JP 57172600 A JP57172600 A JP 57172600A JP 17260082 A JP17260082 A JP 17260082A JP H0378592 B2 JPH0378592 B2 JP H0378592B2
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JP
Japan
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magnetic field
circular
plane
permanent magnet
pole
Prior art date
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JP57172600A
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English (en)
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JPS5961763A (ja
Inventor
Takahisa Nishikawa
Kimifumi Suzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimazu Seisakusho KK
Mitsubishi Steel Magnetics KK
Original Assignee
Shimazu Seisakusho KK
Mitsubishi Steel Magnetics KK
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Priority to JP57172600A priority Critical patent/JPS5961763A/ja
Publication of JPS5961763A publication Critical patent/JPS5961763A/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/20Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
    • G01R33/28Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
    • G01R33/38Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
    • G01R33/383Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field using permanent magnets

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、均一磁界発生装置に関し、さらに
詳しくは、一対の円環形永久磁石により均一磁界
を発生させる装置に関する。
たとえば核磁気共鳴(NMR)映像装置におい
て均一な磁界を発生させることが必要であり。従
来このような均一磁界は特別に設計されたコイル
に電流を流すことにより発生させるのが一般的で
ある。
しかし、コイルに大電流(たとえば200A)を
定常的に流すために、ランニング・コストが高額
となり、また大規模な冷却システムを必要とする
欠点がある。
この発明は、上記欠点を解消すべくなされたも
ので、永久磁石を利用して磁界の大半または全部
を永久磁石に受けもたせることにより、定常的に
流す電流を減少するかまたは電力を全く使用しな
いようにし、ランニング・コストを少なくしかつ
大規模な冷却システムを不要としたものである。
以下、図面を参照して、この発明を詳細に説明
する。
第1図に示すように、軸1方向の一側面1a
にN極,他側面1bにS極を設けた円環形永久磁
石1と、同じく軸2方向の一側面2aにN極,
他側面2bにS極を設けた円環形永久磁石2と
を、同軸に、同方向を向けて、かつ間隔dをあけ
て対向させて設置し、間隔dを適当に調節する
と、これら一対の円環形永久磁石1,2間の空〓
付近に第2図に示すような磁界が生じそれは以下
に示すような特徴を持つている。(なお、第2図
で示している部分以外にも磁界を生じているが、
この発明には直接の関係がないので、省略してい
る。) () 空〓3の中央に位置し、軸1,2に
垂直な平面を考えると、この平面内の磁界3
0,31,32の大きさは軸1,2に近い
程大きく、方向は軸1,2に平行である。
() ()で述べた平面よりも上方に位置
し、軸1,2に垂直な平面を考えると、こ
の平面内の磁界10,11,12の大きさは軸
1,2に近い程大きく、方向は、軸1,
2から遠い程外向きになる。
() ()で述べた平面よりも下方に位置
し、軸1,2に垂直な平面を考えると、こ
の平面内の磁界20,21,22の大きさは軸
1,2に近い程大きく、方向は軸1,2
から遠い程内向きになる。
() 磁界30より磁界10,20の方が大き
く、磁界31より磁界11,21の方が大き
く、磁界32より磁界12,22の方が大き
い。
以上の特徴()〜()は、間隔dを変え
ることによつて異つたものとなり、かなり均一
磁界に近付けることができるが、充分均一な磁
界を形成することは困難である。
ところで、第3図に示すような円形ソレノイ
ド4に、図中矢印のごとく電流Iを流すと、第
4図に示すような磁界が生じる。(ただし、図
で、この発明と直接関係のない磁界は省略して
いる。) この磁界の特徴を列挙すると、 () ソレノイド4の内部空間7の中央に位置
し、軸4に垂直な平面を考えると、この平面
内の磁界40,41,42の大きさは軸4に
近い程小さく、方向は軸4に平行である。
() ()で述べた平面よりも上方に位置
し、軸4に垂直な平面を考えると、この平面
内の磁界50,51,52の大きさは軸4に
近い程小さく、方向は軸4から遠い程内向き
になる。
() ()で述べた平面よりも下方に位置
し、軸4に垂直な平面を考えると、この平面
内の磁界60,61,62の大きさは軸4に
近い程小さく、方向は軸4から遠い程外向き
になる。
() 磁界40より磁界50,60の方が小さ
く、磁界41より磁界51,61の方が小さ
く、磁界42より磁界52,62の方が小さ
い。
以上の特徴()〜()と、前記特徴()
〜()とを比較すると、互いに正反対の特徴で
あるから、これらを合成すれば互いに相補い合つ
て、全ての場所で磁界の大きさが等しくかつ方向
が軸に平行となる均一な磁界を形成できることが
分る。
第5図は、このようにして均一な磁界を形成す
る、この発明の均一磁界発生装置の一実施例であ
る。
この均一磁界発生装置15は、一対の円環形永
久磁石8,9を間隔dをあけて同軸に設置すると
共に、それら円環形永久磁石8,9のあいだの空
〓に同軸に円筒形ソレノイド10を設置したもの
である。ソレノイド10は、原理的には、軸方向
の長さがごく小さい単なる円形コイルでもよい。
或る程度の長さを持つた円筒ソレノイドと円形コ
イルとを含め、「円形ソレノイド」と呼ぶことに
する。間隔dは、間隔コントローラ11で永久磁
石ホルダ12,13を移動させることにより調節
可能である。また、円形ソレノイド10に流す電
流Iは、電流コントローラ14で調節可能であ
る。注意すべきことは、永久磁石8,9による磁
界の軸上の方向と、ソレノイド10による磁界
の軸上の方向とを一致させるように電流Iの方
向を決めるべきことである。第5図のソレノイド
10中に示した記号は、電流Iの方向をあらわし
ている。
この均一磁界発生装置15によれば、第5図中
0で示す空間において、均一磁界が得られ、定常
電流Iは従来に比べて著しく小さくてすむように
なる。
第6図は、第5図に示す装置15を実際に構成
して磁界を測定した結果を示すものである。図中
aは永久磁石8,9間の中央に位置する平面内の
データ、bはその中央平面より5mm下の平面内の
データ、cは前記中央平面より10mm下の平面内の
データ、dは前記中央平面より13mm下の平面内の
データ、eは前記中央平面より18mm下の平面内の
データ、fは前記中央平面より23mm下の平面内の
データである。この結果から判るように、軸か
ら半径3cm以内でかつ中央平面からその20mm下の
平面までの間の空間で、527.4ガウスの高磁界が
3×10-4の均一性で得られている。磁界の大きさ
は中央平面の上下で対称であるから、軸から半
径3cm以内でかつ中央平面からその20mm上の平面
までの間の空間でも同じ均一磁界が得られる。な
お、円環形永久磁石8,9は内径380mm,外形700
mm,高さ150mm,内部空間中央位置での磁界の強
さ500ガウスのものであり、間隔dは63mmであり、
円形ソレノイド10は内径370mm,外形407mm,高
さ60mm,巻数120のものであり、電流Iは18Aで
ある。
第7図は、この発明の他の実施例を模式的に示
すもので、前記実施例の円形ソレノイド10に代
えて、軸方向の一側面20aにN極,他側面2
0bにS極を有する円環形永久磁石20を用いた
ものである。円環形永久磁石20は単独では第4
図に示したと同様の磁界を形成するので、この装
置25によつても空間0に均一磁界を形成するこ
とができる。
第8図は、さらに他の実施例を模式的に示すも
ので、前記実施例の円環形永久磁石20に代え
て、円環形磁性体30を用いたものである。この
磁性体30は、下側の永久磁石9のN極から上側
の永久磁石8のS極へ向かう磁界によりあたかも
一側面30aにN極,他側面30bにS極をもつ
磁石のようにふるまうので、第7図の装置25と
同様に、この装置25によつても空間0の均一磁
界を形成することができる。
第9図は、また他の実施例を模式的に示すもの
で、第7図の実施例の円環形永久磁石20に代え
て、薄い円環形非磁性体43の上下に円環形永久
磁石41,42を積層してなる磁石アセンブリ4
0を用いたものである。円環形非磁性体43の厚
さを変えることで磁石アセンブリ40の磁界の調
整を容易に行える。
第10図は、さらにまた他の実施例を模式的に
示すもので、円環形永久磁石53の上下に円形ソ
レノイド51,52を積層してある。ソレノイド
51,52の電流を変えることで磁石アセンブリ
50の磁界の調整を容易に行える。
第11図はまた他の実施例を模式的に示すもの
で、円環形磁性体63の上下に円形ソレノイド6
1,62を配置してなる磁界補正部材60が円環
形永久磁石8,9の間の間隙の配置されている。
ソレノイド61,62の電流値,磁性体の厚さの
一方または両者を調整することにより、磁石アセ
ンブリ60の磁界を調整することができる。
第12図は、またさらに他の実施例を模式的に
示すもので、これは第5図に示すソレノイド10
の代えていわゆる差動巻きソレノイド70を用い
たものである。第12図のソレノイド70中の記
号は電流の向きを示している。
なお以上の各実施例において、円環状永久磁石
と磁界補正部材とは原則として互いに同軸に配置
されるが、つねに厳密に同軸関係に配置されなけ
ればならないものではなく、最良の補正結果を得
るため、磁石の磁束分布等に応じ、補正要素の一
部又は全部を同軸から多少ずらせて配置する場合
がある。
以上の説明から理解されるように、この発明
は、軸方向の一側面にN極,他側面にS極を有す
る一対の円環形永久磁石を同方向に向けて同軸に
かつ間隔をあけて設置すると共に、それら円環形
永久磁石間の空隙に同軸に円形ソレノイドや円環
形永久磁石や円環形磁性体やこれらを組合せた円
形磁界補正部材を設置し、その円形磁界補正部材
により前記円環形永久磁石の磁界を補正して均一
な磁界を形成可能としてなる均一磁界発生装置を
提供するものであつて、これにより電力消費量を
著しく減少させうるのでランニングコストを低減
でき、また小規模な冷却システムですむので装置
コストを低減でき、さらにメインテナンスも容易
になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は一対の円環形永久磁石の配置を示す斜
視図、第2図は第1図に示す一対の円環形永久磁
石による磁界を示す模式的断面図、第3図は円形
ソレノイドの斜視図、第4図は第3図に示す円形
ソレノイドによる磁界を示す模式的断面図、第5
図はこの発明の均一磁界発生装置の一実施例の構
成説明図、第6図は第5図に示す構成の装置によ
る磁界の強さの実験データのグラフ、第7図〜第
12図はこの発明の均一磁界発生装置の様々な実
施例の要部を示す模式的断面図である。 1,2,8,9……円環形永久磁石、1a,2
a,8a,9a……一側面、1b,2b,8b,
9b……他側面、1,2,4,……軸、
4,10,51,52,61,62,70……円
形ソレノイド、20,41,42,53……円環
形永久磁石、30,63……円環形磁性体、1
5,25,35,45,55,65,75……均
一磁界発生装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 軸方向の一側面にN極,他側面にS極を有す
    る一対の円環形永久磁石を同方向に向けてかつ間
    隔をあけて設置すると共に、それら円環形永久磁
    石間の空〓に円形磁界補正部材を設置し、その円
    形磁界補正部材により前記円環形永久磁石の磁界
    を補正して均一な磁界を形成可能としてなる均一
    磁界発生装置。 2 円形磁界補正部材が、円形ソレノイドである
    請求の範囲第1項記載の装置。 3 円形磁界補正部材が、軸方向の一側面にN
    極,他側面にS極を有する円環形永久磁石である
    請求の範囲第1項記載の装置。 4 円形磁界補正部材が、円環形磁性体である請
    求の範囲第1項記載の装置。 5 円形磁界補正部材が、円形ソレノイドと円環
    形永久磁石の組み合せからなる請求の範囲第1項
    記載の装置。 6 円形磁界補正部材が、円形ソレノイドと円環
    形磁性体の組み合せからなる請求の範囲第1項記
    載の装置。 7 円形磁界補正部材が、円環形永久磁石と円環
    形磁性体の組み合せからなる請求の範囲第1項記
    載の装置。
JP57172600A 1982-09-30 1982-09-30 均一磁界発生装置 Granted JPS5961763A (ja)

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JPS5961763A JPS5961763A (ja) 1984-04-09
JPH0378592B2 true JPH0378592B2 (ja) 1991-12-16

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