JP3993957B2 - 光学箱の防塵構造 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光材料上をレーザービームで走査露光することにより潜像を形成する光学箱の防塵構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、写真フィルムに記録された画像を印画紙に記録するディジタルラボシステム等における書込みには、レーザービームを発生する光源を用いて印画紙を走査露光する画像露光装置が広く用いられている。
【０００３】
このような画像露光装置は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色のレーザービームを発生する光源を備えており、カラー画像データに基づいてＲ、Ｇ、Ｂ各色毎にレーザービームを変調し、該レーザビームをポリゴンミラー等の偏向器により主走査方向に偏向すると共に印画紙を副走査方向に搬送し、ｆθレンズ、シリンドリカルレンズ、平面ミラー、折り返しミラー等で構成された光学系を介して印画紙上を走査露光し、カラー画像を記録していた。
【０００４】
このような画像露光装置における走査光学系では、図１０に示すように、ポリゴンミラー２５０等の偏向器及び上記光学系２５２に埃等が付着することがないように、かかる偏向器及び光学系２５２を光学箱２５４の内部に配置していた。そして、この光学箱２５４の側面２５４Ａには出射窓２５６を設け、レーザビームを透過させていた。また、この出射窓２５６近傍にはダクト２５８が設けられており、このダクト２５８にはファン２６０が設けられていた。走査露光時には、このファン２６０によって、ダクト２５８内に空気流が送り込まれ、出射窓２５６等に埃が付着するのを阻止していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記した防塵機構では、出射窓に埃が付着するのは阻止できるものの、光学箱内部に配置されたポリゴンミラー等の偏向器及び光学系に埃が付着するのは阻止できなかった。ここで、印画紙等の画質の劣化を防止するためにも、偏向器及び光学系等に直接埃が付着するのを阻止する必要があった。
【０００６】
そこで、本発明は、光学箱内部への埃の侵入を防止できる光学箱の防塵構造を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の光学箱の防塵構造は、レーザビームを偏向する偏向手段と該偏向手段により偏向されたレーザビームを感光材料上へ収束させる光学系とを有するポリゴン部、を備えた光学箱に用いられ、前記光学箱に形成され、前記レーザビームを前記感光材料へ導く開口部と、前記光学箱内部に風を供給して加圧し、前記開口部を含む前記光学箱外部からの埃の侵入を阻止する加圧手段と、前記レーザビームを出射する光源部と、前記ポリゴン部から出射されたレーザビームを前記光学箱外部に出射する出射部と、を備えた光学箱の防塵構造において、前記光学箱は、第１の中壁、第２の中壁、及び第３の中壁によって、前記光源部を有する第１部屋、前記ポリゴン部を有する第２部屋、及び前記出射部を有する第３部屋に区画され、前記第１部屋は第１蓋で覆われ、前記第２部屋は第２蓋で覆われ、前記第３部屋は第３蓋で覆われるとともに、前記第２蓋が前記第２の中壁に掛かる部分へ前記第３蓋をオーバーラップさせ、前記第２蓋が前記第１の中壁に掛かる部分へ前記第１蓋をオーバーラップさせ、前記第３蓋が前記第３の中壁に掛かる部分へ前記第１蓋をオーバーラップさせたことを特徴とする。
【０００８】
この構成によれば、光学箱は、第１の中壁、第２の中壁、及び第３の中壁によって、光源部を有する第１部屋、ポリゴン部を有する第２部屋、及び出射部を有する第３部屋に区画される。第１部屋は第１蓋で覆われ、第２部屋は第２蓋で覆われ、第３部屋は第３蓋で覆われる。第２蓋が第２の中壁に掛かる部分には第３蓋がオーバーラップされる。第２蓋が第１の中壁に掛かる部分には第１蓋がオーバーラップされる。第３蓋が第３の中壁に掛かる部分には第１蓋がオーバーラップされる。走査露光時には、レーザビームが偏向手段により偏向される。偏向手段により偏向されたレーザビームは、光学系を透過して開口部を通過した後、感光材料上に収束される。
【０００９】
光学箱内部は加圧手段により風が供給され、光学箱内部が加圧されているため、開口部を含む光学箱外部からの埃の侵入が阻止される。ここで、光源部、ポリゴン部、出射部の密閉度に差が設けられているため、光源部、ポリゴン部、出射部のそれぞれに要求される密閉度に対応することができる。また、偏向手段や光学系には埃が付着することがなく、それぞれの機能を維持できる。
【００１０】
また、一般にポリゴン部は高レベルの密閉度が要求され、出射部は中レベルの密閉度が要求され、光源部は低レベルの密閉度が要求されるが、上記のように、光源部と、ポリゴン部と、出射部とは、それぞれの部屋により区画されており、第１蓋、第２蓋、第３蓋のオーバーラップによって各部屋内部の密閉度に差が設けられているので、上記要求に対応することができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の第１実施形態である光学箱の防塵構造について説明する。
【００１９】
一般に、光学箱１１（図３参照）はディジタルラボシステム１０に適用され、図１にそのディジタルラボシステム１０の概略構成が示されている。また、図２にはディジタルラボシステム１０の外観が示されている。そこで、まず、システム全体の概略構成を説明する。
【００２０】
図１に示すように、このディジタルラボシステム１０は、ラインＣＣＤスキャナ１２、画像処理部１４、レーザプリンタ部１６、及びプロセッサ部１８を含んで構成されており、ラインＣＣＤスキャナ１２と画像処理部１４は、図２に示す入力２０部に設けられており、レーザプリンタ部１６とプロセッサ部１８は、図２に示す出力部２２に設けられている。
【００２１】
ラインＣＣＤスキャナ１２は、ネガフィルムやリバーサルフィルム等の写真フィルムに記録されているフィルム画像を読取るためのものであり、例えば、１３５サイズの写真フィルム、１１０サイズの写真フィルム、及び透明な磁気層が形成された写真フィルム（２４０サイズの写真フィルム：所謂ＡＰＳフィルム）、１２０サイズ及び２２０サイズ（ブローニサイズ）の写真フィルムのフィルム画像を読取対象とすることができる。ラインＣＣＤスキャナ１２は、上記の読取対象のフィルム画像をラインＣＣＤで読取り、画像データを出力する。なお、上記のラインＣＣＤスキャナ１２に代えて、エリアＣＣＤによってフィルム画像を読取るエリアＣＣＤスキャナを設けてもよい。
【００２２】
画像処理部１４は、ラインＣＣＤスキャナ１２から出力された画像データ（スキャン画像データ）が入力されると共に、デジタルカメラでの撮影によって得られた画像データ、フィルム画像以外の原稿（例えば反射原稿等）をスキャナで読み取ることで得られた画像データ、コンピュータで生成された画像データ等（以下、これらをファイル画像データと総称する）を外部から出力する（例えば、メモリカード等の記録媒体を介して入力したり、通信回線を介して他の情報処理機器から入力する等）ことも可能なように構成されている。
【００２３】
画像処理部１４は、入力された画像データに対して各種の補正等の画像処理を行って、記録用画像データとしてレーザプリンタ部１６へ出力する。画像処理部１４は、画像処理を行った画像データを画像ファイルとして外部へ出力する（例えばメモリカード等の記録媒体に出力したり、通信回線を介して他の情報処理機器へ送信する等）ことも可能である。
【００２４】
レーザプリンタ部１６は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のレーザビームを発振するレーザ光源を備えており、画像処理部１４から入力された記録用画像データに応じて変調したレーザビームを印画紙に照射して、走査露光によって印画紙に画像を記録する。
【００２５】
プロセッサ部１８は、レーザプリンタ部１６で走査露光によって画像が記録された印画紙に対し、発色現像、漂白定着、水洗、乾燥の各処理を施す。これにより、印画紙上に画像が形成される。
【００２６】
次に、本発明の光学箱の防塵構造が適用されたレーザプリンタ部について説明する。
【００２７】
図３には、レーザプリンタ部１６の光学箱１１の構成が示されている。光学箱１１は、光源として３個のレーザ光源２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂを備えている。レーザ光源２４ＲはＲの波長（例えば、６８０ｎｍ）のレーザビーム（以下、Ｒレーザビームと称する）を射出する半導体レーザ（ＬＤ）で構成されている。また、レーザ光源２４Ｇは、ＬＤと、該ＬＤから射出されたレーザビームを１／２の波長のレーザビームに変換する波長変換素子（ＳＨＧ）から構成されており、ＳＨＧからＧの波長（例えば、５３２ｎｍ）のレーザビーム（以下、Ｇレーザビームと称する。）が射出されるようにＬＤの発振波長が定められている。同様に、レーザ光源２４ＢもＬＤとＳＨＧから構成されており、ＳＨＧからＢの波長（例えば、４７５ｎｍ）のレーザビーム（以下、Ｂレーザビーム）が射出されるようにＬＤの発振波長が定められている。なお、上記ＬＤに代えて固体レーザを射出してもよい。
【００２８】
レーザ光源２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂのレーザ射出側には、各々コリメータレンズ２６、音響光学変調素子（ＡＯＭ）２８が順に配置されている。ＡＯＭ２８は、各々入射されたレーザビームが音響光学媒質を透過するように配置されていると共に、各々ＡＯＭドライバ３０（図６）に接続されており、ＡＯＭドライバ３０から高周波信号が入力されると、音響光学媒質内を前記高周波信号に応じた超音波が伝搬し、音響光学媒質を透過するレーザビームに音響光学効果が作用して回折が生じ、前記高周波信号の振幅に応じた強度のレーザビームがＡＯＭ２８から回折光として射出される。
【００２９】
以上説明した各レーザ光源２４Ｇ、２４Ｒ、２４Ｂ、各コリメータレンズ２６及びＡＯＭ２８によって光源部２９が構成されている。この光源部２９は、光学箱１１の側壁６４と一体形成された第１の中壁４３で区画された第１の部屋４５に位置している。
【００３０】
ＡＯＭ２８の各々の回折光射出側に位置する第１の中壁４３であって、ＡＯＭ２８から射出されたＲレーザビーム、Ｇレーザビーム、Ｂレーザビーム各々の回折光に対応する位置には、円形の開孔が３箇所に形成されており、この開孔には、窓ガラス３２が嵌め込まれている。
【００３１】
また、第１の中壁４３を介してＡＯＭ２８と反対側には、ミラー３４が配置されている。このため、窓ガラス３２を透過した各レーザビームは、ミラー３４で反射される。ミラー３４の各レーザビーム射出側には、各々球面レンズ３８、シリンドリカルレンズ４０が配置されている。
【００３２】
上記ミラー３４、各球面レンズ３８及びシリンドリカルレンズ４０によって光学箱１１の反射部２７が構成されている。一方、光学箱１１には、光学箱１１の側壁６４と第１の中壁４３とを結ぶ第２の中壁４４が形成されており、さらに、この第２の中壁４４と光学箱１１の側壁６４とを結ぶ第３の中壁４９が形成されている。したがって、反射部２７は、第１の中壁４３、第２の中壁４４、及び第３の中壁４９とで区画された第２の部屋５１に位置している。なお、第２の中壁４４には、長方形状の開口が形成されており、この開口に窓ガラス４２が配置されている。
【００３３】
また、光学箱１１は、第１の中壁４３と第２の中壁４４とで区画された第３の部屋５３を備えている。この第３の部屋５３には、ＰＬＧ部（ポリゴン部）３６が位置しており、偏向手段としてのポリゴンミラー４６が配置されている。したがって、Ｒレーザビーム、Ｇレーザビーム、及びＢレーザビームは、各々窓ガラス３２を透過してミラー３４によって反射された後、球面レンズ３８、シリンドリカルレンズ４０及び窓ガラス４２を透過して、ポリゴンミラー４６の反射面上の略同一の位置に照射され、ポリゴンミラー４６で反射される。
【００３４】
また、ポリゴンミラー４６のレーザビーム射出側のＰＬＧ部３６には、ｆθレンズ４８、副走査方向にパワーを持つ面倒れ補正用のシリンドリカルレンズ５０が配置されている。また、ＰＬＧ部３６の底板の開口に中継基盤５２（図４参照、図３では省略）を取付け、この中継基盤５２にポリゴンミラー４６を駆動させるモータ４７からのハーネス（図示省略）と電力源からのハーネス（図示省略）とのコネクタ５８を接続し、ＰＬＧ部３６を密閉した状態で外部からモータ４７に電力を供給している。
【００３５】
なお、図４に示すように、ＰＬＧ部３６には、各レーザビームを射出する位置に対応してＬ字ブラケット６０が設けられている。このＬ字ブラケット６０は、スポンジ６８を介して第２の中壁４４に接触させてビス等の固着具により取付けられている。Ｌ字ブラケット６０には長手方向に開口（図示省略）が形成され、この開口を塞ぐようにガラス板６２が接着剤で取付けられている。なお、Ｌ字ブラケット６０は、ガラス板６２におけるレーザービームの正反射を避けるため、数度傾けてもよい。また、第２の中壁４４にはガラス板６２を透過した各レーザビームが後述するシリンダミラー７２に到達できるように、幅方向に長孔７４が形成されている。
【００３６】
また、光学箱１１は、第２の中壁４４と第３の中壁４９とで区画された第４の部屋５５を備えている。この第４の部屋５５は、印画紙１０４へ各レーザビームを出射する出射部としてのＣＹＭ部７６となっている。このＣＹＭ部７６には、シリンダミラー７２が配置されており、さらにシリンダミラー７２のレーザビーム射出側には折り返しミラー７８が配置されている。
【００３７】
シリンダミラー７２は、Ｌ字状に形成された板ばね８０により基台８２に固定されている。この板ばね８０の一端は、基台８２に取り付けられており、他端がシリンダミラー７２の上部を覆っており、シリンダミラー７２の防塵をも兼ねている。
【００３８】
なお、図３に示すように、ミラー３４、球面レンズ３８、シリンドリカルレンズ４０、ポリゴンミラー４６、ｆθレンズ４８、シリンドリカルレンズ５０、シリンダミラー７２、及び折返しミラー７８は、すべて側壁６４により囲まれており、いずれもファン１０２からの風の風道（図４の矢印Ｄ）から外れた位置（風による影響を受けない位置）に設けられている。
【００３９】
また、この側壁６４の上部は、３枚の小蓋で覆われている。具体的には、図６及び図７に示すように、ＰＬＧ部３６は第１の小蓋１５０で覆われている。この第１の小蓋１５０は平板で構成されており、側壁６４にスポンジ８３等のシール材を介して水密に取付けられている。また、図４に示すように、第１の小蓋１５０には組立て時に側壁６４と当接するリブ８５が形成されており、このリブ８５の高さを規定することによりスポンジ８３のつぶれ具合（つぶれ度）を規制している。このため、スポンジ８３が完全につぶれることがなく、ＰＬＧ部３６内部の防塵効果を向上させている。なお、ＰＬＧ部３６には高レベルの防塵性が要求されているため、第１の小蓋１５０は３枚の小蓋のうち一番下方に配置されている。
【００４０】
また、ＣＹＭ部７６は第２の小蓋１５２で覆われている。この第２の小蓋１５２の中央には、光学箱１１内部にファン１０２からの風を供給できるように風通孔１７０が形成されている。ＣＹＭ部７６は、ＰＬＧ部３６に次いで高いレベル（中レベル）の防塵性が要求されているため、第２の小蓋１５２の一部が第２の中壁４４上において第１の小蓋１５０とオーバラップして配置されている。また、第２の小蓋１５２の肉厚は、第１の小蓋１５０とオーバーラップする部位１５２Ａ以外において厚めに形成されている。これにより、第２の小蓋１５２と側壁６４との間に隙間が生じるのを防止している。
【００４１】
また、光源部２９及び反射部２７は第３の小蓋１５４で覆われている。一般に、光源部２９及び反射部２７は、ＣＹＭ部７６に次いで高いレベル（低レベル）の防塵性が要求されている。第３の小蓋１５４は、第１及び第２の中壁４３、４４上において第１の小蓋１５０とオーバラップして配置され、第３の中壁４９上において第２の小蓋１５２とオーバラップして配置されている。また、第３の小蓋１５４において、第１の小蓋１５２とオーバーラップする部位の肉厚は、第２の小蓋１５４とオーバラップする部位の肉厚よりも厚く形成されている。また、側壁６４と直接接触する部位の肉厚は、第１の小蓋１５０とオーバラップする部位の肉厚よりも厚く形成されている。これにより、第３の小蓋１５４と、側壁６４及び第１の小蓋１５０との間に隙間が生じるのを防止している。なお、この第３の小蓋１５４には、ハーネスを光学箱１１外部に導く穴（図示省略）が形成されている。
【００４２】
以上説明したように、光源部２９、ＰＬＧ部３６及びＣＹＭ部７６は、各部屋４５、５３、５５によりそれぞれ区画されており、この各部屋４５、５３、５５は上記説明した順序で設けられた各小蓋１５０、１５２、１５４により覆われているので、最下層に位置する第１の小蓋１５０で密閉されるＰＬＧ部３６の密閉度を最も高くすることができる。次いで、中層に位置する第２の蓋部１５２で密閉されるＣＹＭ部７６の密閉度を高くでき、次いで、最上層に位置する第３の小蓋１５４で密閉される光源部２９及び反射部２７の密閉度を高くすることができる。このため、各部屋４５、５３、５５の密閉度に差を設けることができ、上記要求に対応することができる。
【００４３】
また、図４及び図５に示すように、ＣＹＭ部７６の底部には、折返しミラー７８から射出されたレーザビームが通過可能な位置及びサイズの開口部８４が設けられ、開口部８４には図５の矢印Ｓ１方向に揺動可能なシャッタ８６が軸８８に取り付られている。また、このシャッタ８６には、該シャッタ８６に付着したゴミや埃等が拡散しないように、その内側８６Ｂにゴミ吸着テープ（図示しない）が貼り付けられている。
【００４４】
このシャッタ８６は上記開口部８４と略等しい形状で且つ略等しいサイズとされていると共に、シャッタ８６の他端部にはリンク９０を介してソレノイド９２のシャフト９４が連結されている。
【００４５】
本実施形態におけるシャッタ８６は、ソレノイド９２に通電していない場合に図４の破線で示す状態、すなわちシャッタ８６を閉じた状態（閉状態）とされ、ソレノイド９２に通電した場合に図４の実線で示す状態、すなわちシャッタ８６を開いた状態（開状態）とされる。従って、停電時にはシャッタ８６が閉状態となり、開口部８４からの埃の侵入を防止している。
【００４６】
なお、上記ソレノイド９２は、レーザプリンタ部１６の各部の制御を行う制御手段としてのプリンタ部制御回路９４（後述）に接続されており、ソレノイド９２はプリンタ部制御回路９４によって動作が制御される。
【００４７】
また、図４に示すように、第２の小蓋１５２の上部には、上蓋６６がスポンジ８３等のシール材を介して水密に取付けられている。また、上蓋６６には組立て時に第２の小蓋１５２と当接するリブ８５が形成されており、このリブ８５の高さを規定することによりスポンジ８３のつぶれ具合（つぶれ度）を規制している。このため、スポンジ８３が完全につぶれることがなく、ＣＹＭ部７６内部の防塵効果を向上させている。
【００４８】
また、上蓋６６には開孔１６０が形成されている。この開孔１６０の近傍には支持部１６２が形成されており、この支持部１６２には比較的目の粗い第１フィルタ９８の外枠が支持されている。なお、この第１フィルタ９８は、開孔１６０の真下に位置するように設定されている。また、上蓋６６には比較的目の細かい第２フィルタ１００が交換可能に設けられ、上記開孔１６０を覆っている。したがって、この第２フィルタ１００を交換する際に第１フィルタ９８によりＣＹＭ部７６内部への埃の侵入が阻止されている。なお、第１フィルタ９８と第２フィルタ１００とは、それぞれ段折り式の静電タイプのフィルタであり、この段折り方向が相互に直交するように、又は段折り方向が同じになるように配置されている。
【００４９】
なお、第１フィルタ９８の捕集効率は、ゴミ径０．３μｍに対し２〜６０％、ゴミ径０．５μｍに対し５〜７０％、ゴミ径１．０μｍに対し１０〜７５％となっている。また、第２フィルタ１００の捕集効率は、ゴミ径０．３、０．５、１．０μｍに対し５０〜９９％となっている。あるいは、第１フィルタ９８の捕集効率は、ゴミ径０．３、０．５、１．０μｍに対し５０〜９９％となっており、第２フィルタ１００の捕集効率は、ゴミ径０．３μｍに対し２〜６０％、ゴミ径０．５μｍに対し５〜７０％、ゴミ径１．０μｍに対し１０〜７５％となっている。
【００５０】
また、図４に示すように、第２フィルタ１００の上部には、これらのフィルタ９８、１００を介してＣＹＭ部７６内に風を送風する加圧手段としてのファン１０２が取付けられている。また、上蓋６６の上部にはファン１０２を取り囲むようにダクト１０１が設けられ、通気口を形成している。
【００５１】
なお、上記ファン１０２は、プリンタ部制御回路９４（後述）に接続されており、ファン１０２はプリンタ部制御回路９４によって動作が制御される。
【００５２】
また、上記光学箱１１は、所定のクリーン度クラスのクリーンルームで組立てられることが好ましい。ここで、クリーン度クラスとは、クリーンルーム中の空気清浄度を粒径別の粒子濃度の程度によって分けた等級である。クリーン度クラスは、１ｍ³の空気中に含まれる粒径０．１μｍの微粒子数を１０のべき乗で表したべき指数で表される。したがって、クリーン度クラスが小さくなる程、空気清浄度が高くなる。
【００５３】
このように、光学箱１１へのポリゴンミラー４６及び光学系等の取付け、各小蓋１５０、１５２、１５４及び上蓋６６の装着を所定のクリーンルームで行うことにより、光学箱１１の組立時において、ポリゴンミラー４６、光学系に埃が付着することがなく、また、光学箱１１内部に埃が侵入することがないので、より高い防塵性を確保できる。
【００５４】
具体的には、ＰＬＧ部３６ではクリーン度クラス１０００以下、ＣＹＭ部７６ではクリーン度クラス１００００〜１０００の範囲、光源部２９ではクリーン度クラス１００００以上が目標とされているため、ＰＬＧ部３６はクリーン度クラス１０００以下のクリーンルーム、ＣＹＭ部７６ではクリーン度クラス１００００〜１０００の範囲のクリーンルーム、光源部２９ではクリーン度クラス１００００以上のクリーンルームで組立てられることが好ましい。
【００５５】
図８には、レーザプリンタ部１６及びプロセッサ部１８の電気系の概略構成が示されている。レーザプリンタ部１６は画像データを記憶するフレームメモリ１０６を備えている。フレームメモリ１０６はＩ／Ｆ回路１０８を介して画像処理部１４に接続されており、画像処理部１４から入力された記録用画像データ（印画紙１０４に記録すべき画像の各画像毎のＲ、Ｇ、Ｂ濃度を表わす画像データ）はＩ／Ｆ回路１０８を介してフレームメモリ１０６に一旦記憶される。フレームメモリ１０６はＤ／Ａ変換器１１０を介して露光部１１２に接続されると共に、プリンタ部制御回路９４に接続されている。
【００５６】
露光部１１２は、前述のようにＬＤ（及びＳＨＧ）から成るレーザ光源２４を３個備えると共に、ＡＯＭ２８及びＡＯＭドライバ３０も３系統備えており、ポリゴンミラー４６、ポリゴンミラー４６を回転させるモータ４７、隔壁６４内に風を送風するファン１０２、シャッタ８６の開閉動作を行うソレノイド９２等を備えた主走査ユニット１１４が設けられている。露光部１１２はプリンタ部制御回路９４に接続されており、プリンタ部制御回路９４によって各部の動作が制御される。
【００５７】
プリンタ部制御回路９４にはプリンタ部ドライバ１１６が接続されており、プリンタ部ドライバ１１６には、露光部１１２に対して送風するファン１１８、レーザプリンタ部１６に装填されたマガジン（図示省略）に収納されている印画紙１０４をマガジンから引き出すためのマガジンモータ１２０が接続されている。また、プリンタ部制御回路９４には、印画紙１０４の裏面に文字等をプリントするバックプリント部１２２が接続されている。これらのファン１１８、マガジンモータ１２０、バックプリント部１２２はプリント部制御回路９４によって動作が制御される。
【００５８】
また、プリンタ部制御回路９４には、未露光の印画紙１０４が収納されるマガジンの着脱及びマガジンに収納されている印画紙１０４のサイズを検出するマガジンセンサ１２４、オペレータが各種の指示を入力するための操作盤１２６、プロセッサ部１８で現像等の処理が行われて可視化された画像の濃度を測定する濃度計１２８、プロセッサ部１８のプロセッサ部制御回路１３０が接続されている。
【００５９】
プロセッサ部制御回路１３０には、プロセッサ部１８の機体内の印画紙搬送経路を搬送される印画紙１０４の通過の検出や、処理槽内に貯留されている各種の処理液の液面位置の検出等を行う各種センサ１３２が接続されている。
【００６０】
また、プロセッサ部制御回路１３０には、現像等の処理が完了して機体外に排出された印画紙を所定のグループ毎に仕分するソータ１３４、処理槽内に補充液を補充する補充システム１３６、ローラ等の洗浄を行う自動洗浄システム１３８が接続されていると共に、プロセッサ部ドライバ１４０を介して、各種ポンプ／ソレノイド１４２が接続されている。これらのソータ１３４、補充システム１３６、自動洗浄システム１３８、及び各種ポンプ／ソレノイド１４２はプロセッサ部制御回路１３０によって作動が制御される。
【００６１】
次に、印画紙１０４へ画像の記録を行う場合のプリンタ部制御回路９４の作用を図９のフローチャートを参照して説明する。なお、図９は、印画紙１０４への画像の記録を行う場合にプリンタ部制御回路９４に設けられた図示しないＣＰＵによって実行される制御プログラムの概略フローチャートであり、該制御プログラムはプリンタ部制御回路９４に設けられた図示しないメモリに予め記憶されている。
【００６２】
図９のステップ２００では、画像処理部１４から入力された画像記録用パラメータに基づき、該記録用画像データに対して各種の補正を行って走査露光用画像データを生成し、フレームメモリ１０６に記憶する。
【００６３】
次のステップ２０２では、ソレノイド９２に通電することによりシャッタ８６を開状態とし、次のステップ２０４では、シャッタ８６を開状態として０．５〜３秒後にファン１０２の回転を開始することにより、ＣＹＭ部７６内部に０．２〜３．０ｍ／ｓの風を供給させる。したがって、シャッタ８６を開状態とした後で、ＣＹＭ部７６が加圧されるので、ＣＹＭ部７６の内部にシャッタ８６の内側に付着した埃が拡散することがない。
【００６４】
次のステップ２０８では、レーザ光源２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂからレーザビームを射出させ、さらに次のステップ２１０では、以下の手順により走査露光が行われる。
【００６５】
すなわち、上記ステップ２００において生成した走査露光用画像データをフレームメモリ１０６からＤ／Ａ変換器１１０を介してＡＯＭドライバ３０へ出力させる。これにより、走査露光用画像データがアナログ信号に変換されてＡＯＭドライバ３０に入力される。
【００６６】
ＡＯＭドライバ３０は、入力された各アナログ信号のレベルに応じてＡＯＭ２８に供給する超音波信号の振幅を変化させ、ＡＯＭ２８から回折光として射出されるレーザビームの強度をアナログ信号のレベル（すなわち、印画紙１０４に記録すべき画像の各画素のＲ濃度及びＧ濃度及びＢ濃度のいずれか）に応じて変調する。従って、３個のＡＯＭ２８からは印画紙１０４に記録すべき画像のＲ、Ｇ、Ｂ濃度に応じて強度変調されたＲ、Ｇ、Ｂのレーザビームが射出され、これらのレーザビームはミラー３４、球面レンズ３８、シリンドリカルレンズ４０、ポリゴンミラー４６、ｆθレンズ４８、シリンドリカルレンズ５０、シリンダミラー７２、及び折返しミラー７８を介して印画紙１０４に照射される。
【００６７】
そして、ポリゴンミラー４６の図３矢印Ａ方向の回転に伴って各レーザビームの照射位置が図３の矢印Ｂ方向に沿って走査されることにより主走査が行われ、印画紙１０４が図３の矢印Ｃ方向に沿って一定速度で搬送されることによりレーザビームの副走査が成され、走査露光によって印画紙１０４に潜像が記録される。
【００６８】
以上により走査露光が終了すると、次のステップ２１２では、ポリゴンミラー４６の回転、及び各レーザビームの射出を終了し、ファン１０２の回転を終了した後、０．５〜３秒後にソレノイド９２への通電を終了させてシャッタ８６を閉状態として、本制御プログラムを終了する。
【００６９】
なお、上記走査露光により潜像が記録された印画紙１０４はプロセッサ部１８へ送り込まれ、発色現像、漂白定着、水洗、乾燥の各処理が施される。これにより、印画紙１０４上に画像が形成される。
【００７０】
以上詳細に説明したように、本実施形態に係るレーザプリンタ部１６の光学箱の防塵構造は、レーザビームにより走査露光を行う際に、シャッタ８６を開状態とした後で、ファン１０２により光学箱１１内に区画されたＣＹＭ部７６内を加圧し、一方、走査露光終了時に、加圧を終了させてから、シャッタ８６を閉状態とさせることにより、シャッタ８６の裏側に付着した埃がＣＹＭ部７６内部に拡散することを防止することができる。この結果、ＣＹＭ部７６内に設けられた光学系を構成するレンズ、ミラー等の各素子への埃の付着を防止することができる。
【００７１】
また、本実施形態に係るレーザプリンタ部１６の光学箱の防塵構造は、特に、ポリゴンミラー４６が第１の中壁４３、第２の中壁４４で区画されており、かつ第１の小蓋１５０で完全密閉されているので、ポリゴンミラー４６を通常の環境において回転させた場合に、ミラー表面に曇りが生じるような回転速度（例えば、１０００回転／分以上）で回転させた場合でも、ミラー表面の曇りの発生を防止することができ、ミラー表面の汚染を防止することができる。
【００７２】
なお、本実施形態では、ＡＯＭ２８によりレーザビームの強度変調を行う場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、ＡＯＭ２８に代えて、電気光学変調素子（ＥＯＭ）、磁気光学変調素子（ＭＯＭ）を適用してレーザビームの強度変調を行う形態としてもよい。
【００７３】
また、本実施形態では、光学箱１１を４つの部屋４５、５１、５３、５５に別けたが、第１の部屋４５と第２の部屋５１とを区画する第１の中壁４３の区画部４３Ａ（図３参照）を無くし、第１の部屋４５と第２の部屋５１とを合わせて１つの部屋としてもよい。
【００７４】
【発明の効果】
本発明である光学箱の防塵構造によれば、開口部を含む光学箱外部から光学箱内部への埃の侵入を防止でき、光源部、ポリゴン部、出射部のそれぞれに要求される密閉度に対応することができる。
【００７５】
また、光源部、ポリゴン部及び出射部を各部屋で区画するとともに各蓋の一部をそれぞれオーバラップさせているので、ポリゴン部を高レベルの密閉度、出射部を中レベルの密閉度、光源部を低レベルの密閉度として、密閉度に差を設けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態に係る光学箱の防塵構造を適用したディジタルラボシステムの概略ブロック図である。
【図２】ディジタルラボシステムの外観図である。
【図３】本実施形態に係る光学箱の防塵構造の概略構成図である。
【図４】光学箱内に区画されたＰＬＧ部及びＣＹＭ部の断面図である。
【図５】本実施形態に係る光学箱の防塵構造の概略破断側面図である。
【図６】本実施形態に係る光学箱の防塵構造の組立図である。
【図７】本実施形態に係る光学箱の防塵構造の平面図である。
【図８】ディジタルラボシステムを構成するレーザプリンタ部及びプロセッサ部の電気系の概略構成を示すブロック図であある。
【図９】走査露光の際にプリンタ部制御回路で実行される制御プログラムの概略フローチャートである。
【図１０】従来技術である画像形成装置の概略構成図である。
【符号の説明】
１１ 光学箱
２９ 光源部
３６ ＰＬＧ部（ポリゴン部）
４５ 第１の部屋（部屋）
４６ ポリゴンミラー（偏向手段）
４８ ｆθレンズ（光学系）
５０ シリンドリカルレンズ（光学系）
５３ 第３の部屋（部屋）
５５ 第４の部屋（部屋）
７６ ＣＹＭ部（出射部）
８４ 開口部
８６ シャッタ（開閉手段）
９４ プリンタ部制御回路（制御手段）
１０２ ファン（加圧手段）
１０４ 印画紙（感光材料）

Claims (1)

1. レーザビームを偏向する偏向手段と該偏向手段により偏向されたレーザビームを感光材料上へ収束させる光学系とを有するポリゴン部、を備えた光学箱に用いられ、
   前記光学箱に形成され、前記レーザビームを前記感光材料へ導く開口部と、
   前記光学箱内部に風を供給して加圧し、前記開口部を含む前記光学箱外部からの埃の侵入を阻止する加圧手段と、
   前記レーザビームを出射する光源部と、
   前記ポリゴン部から出射されたレーザビームを前記光学箱外部に出射する出射部と、
   を備えた光学箱の防塵構造において、
   前記光学箱は、第１の中壁、第２の中壁、及び第３の中壁によって、前記光源部を有する第１部屋、前記ポリゴン部を有する第２部屋、及び前記出射部を有する第３部屋に区画され、
   前記第１部屋は第１蓋で覆われ、前記第２部屋は第２蓋で覆われ、前記第３部屋は第３蓋で覆われるとともに、
   前記第２蓋が前記第２の中壁に掛かる部分へ前記第３蓋をオーバーラップさせ、
   前記第２蓋が前記第１の中壁に掛かる部分へ前記第１蓋をオーバーラップさせ、
   前記第３蓋が前記第３の中壁に掛かる部分へ前記第１蓋をオーバーラップさせたことを特徴とする光学箱の防塵構造。

Images