JP2000229459A

JP2000229459A - 光学箱の防塵構造

Info

Publication number: JP2000229459A
Application number: JP11345820A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Kondo; 潔近藤; Naritoshi Inoue; 斉逸井上
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-12-09
Filing date: 1999-12-06
Publication date: 2000-08-22
Anticipated expiration: 2019-12-06
Also published as: JP3993957B2

Abstract

(57)【要約】【課題】光学箱内部への埃の侵入を防止できる光学箱の
防塵構造を得る。【解決手段】光学箱１１のポリゴンミラー４６でレーザ
ビームが偏向された後、光学系を透過して開口部８４か
ら光学箱１１外部に出ていき、印画紙１０４上に到達す
る。ここで、ポリゴンミラー４６や光学系に埃等が付着
すると、機能が低下するため、光学箱１１には防塵性が
要求される。そこで、ファン１０２を設け、光学箱１１
内部に風を供給して光学箱１１内部を加圧することによ
り、光学箱１１外部から光学箱１１内部に埃が侵入する
のを阻止できるので、ポリゴンミラー４６や光学系に埃
等が付着するのを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料上をレー
ザービームで走査露光することにより潜像を形成する光
学箱の防塵構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、写真フィルムに記録された画像を
印画紙に記録するディジタルラボシステム等における書
込みには、レーザービームを発生する光源を用いて印画
紙を走査露光する画像露光装置が広く用いられている。

【０００３】このような画像露光装置は、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の各色のレーザービームを発生する光
源を備えており、カラー画像データに基づいてＲ、Ｇ、
Ｂ各色毎にレーザービームを変調し、該レーザビームを
ポリゴンミラー等の偏向器により主走査方向に偏向する
と共に印画紙を副走査方向に搬送し、ｆθレンズ、シリ
ンドリカルレンズ、平面ミラー、折り返しミラー等で構
成された光学系を介して印画紙上を走査露光し、カラー
画像を記録していた。

【０００４】このような画像露光装置における走査光学
系では、図１０に示すように、ポリゴンミラー２５０等
の偏向器及び上記光学系２５２に埃等が付着することが
ないように、かかる偏向器及び光学系２５２を光学箱２
５４の内部に配置していた。そして、この光学箱２５４
の側面２５４Ａには出射窓２５６を設け、レーザビーム
を透過させていた。また、この出射窓２５６近傍にはダ
クト２５８が設けられており、このダクト２５８にはフ
ァン２６０が設けられていた。走査露光時には、このフ
ァン２６０によって、ダクト２５８内に空気流が送り込
まれ、出射窓２５６等に埃が付着するのを阻止してい
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した防塵
機構では、出射窓に埃が付着するのは阻止できるもの
の、光学箱内部に配置されたポリゴンミラー等の偏向器
及び光学系に埃が付着するのは阻止できなかった。ここ
で、印画紙等の画質の劣化を防止するためにも、偏向器
及び光学系等に直接埃が付着するのを阻止する必要があ
った。

【０００６】そこで、本発明は、光学箱内部への埃の侵
入を防止できる光学箱の防塵構造を提供することを課題
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の光学箱
の防塵構造は、レーザビームを偏向する偏向手段と偏向
手段により偏向されたレーザビームを感光材料上へ収束
させる光学系とを有するポリゴン部、を備えた光学箱に
用いられ、光学箱に形成され、レーザビームを感光材料
へ導く開口部と、光学箱内部に風を供給して加圧し、開
口部を含む光学箱外部からの埃の侵入を阻止する加圧手
段を備えたことを特徴とする。

【０００８】この構成によれば、走査露光時には、レー
ザビームが偏向手段により偏向される。偏向手段により
偏向されたレーザビームは、光学系を透過して開口部を
通過した後、感光材料上に収束される。

【０００９】ここで、光学箱内部は加圧手段により風が
供給され、光学箱内部が加圧されている。このため、開
口部を含む光学箱外部からの埃の侵入を阻止することが
できる。この結果、偏向手段や光学系には埃が付着する
ことがなく、それぞれの機能を維持できる。

【００１０】請求項２に記載の光学箱の防塵構造は、開
口部を開閉する開閉手段と、レーザビームで走査露光す
る際に、開閉手段により開口部を開状態にした後、加圧
手段により前記光学箱内部を加圧し、走査露光が終了し
たときに、加圧手段を停止し、その後開閉手段により開
口部を閉状態にする制御手段と、を備えたことを特徴と
する。

【００１１】この構成によれば、開口部から光学箱内部
への埃の侵入を防止する必要があるため、開口部には開
閉手段が設けられている。この開口部は、通常時（走査
露光をしない状態）では、開閉手段により閉状態とされ
ている。

【００１２】そして、レーザビームの感光材料上への走
査露光の際には、レーザビームを感光材料上へ導くため
に、開閉手段により開口部が開状態とされる。その後、
制御手段により加圧手段が制御され、光学箱内部が加圧
される。

【００１３】一方、レーザビームによる感光材料への走
査露光が終了すると、制御手段により加圧手段が停止さ
れた後、開閉手段により開口部が閉状態とされる。

【００１４】このように、走査露光時には、開閉手段で
開口部を開状態とした後、光学箱内部を加圧し、走査露
光終了時には、加圧を停止した後、開口部を閉状態とす
ることにより、開口部を常に開状態として光学箱内部が
加圧されるので、開閉手段の内側に付着した埃等が光学
箱の内部に拡散することを防止できる。

【００１５】また、請求項３に記載の光学箱の防塵構造
は、レーザビームを出射する光源部と、ポリゴン部と、
ポリゴン部から出射されたレーザビームを光学箱外部に
出射する出射部と、をそれぞれ区画する部屋内部の密閉
度に差を設けたことを特徴とする。

【００１６】この構成によれば、光源部と、ポリゴン部
と、出射部とは、それぞれの部屋により区画されてお
り、各部屋内部の密閉度に差が設けられている。

【００１７】ここで、一般にポリゴン部は高レベルの密
閉度が要求され、出射部は中レベルの密閉度が要求さ
れ、光源部は低レベルの密閉度が要求されるが、各部屋
の密閉度に差を設けることにより、上記要求に対応する
ことができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の第１実施形態である光学箱の防塵構造について説明
する。

【００１９】一般に、光学箱１１（図３参照）はディジ
タルラボシステム１０に適用され、図１にそのディジタ
ルラボシステム１０の概略構成が示されている。また、
図２にはディジタルラボシステム１０の外観が示されて
いる。そこで、まず、システム全体の概略構成を説明す
る。

【００２０】図１に示すように、このディジタルラボシ
ステム１０は、ラインＣＣＤスキャナ１２、画像処理部
１４、レーザプリンタ部１６、及びプロセッサ部１８を
含んで構成されており、ラインＣＣＤスキャナ１２と画
像処理部１４は、図２に示す入力２０部に設けられてお
り、レーザプリンタ部１６とプロセッサ部１８は、図２
に示す出力部２２に設けられている。

【００２１】ラインＣＣＤスキャナ１２は、ネガフィル
ムやリバーサルフィルム等の写真フィルムに記録されて
いるフィルム画像を読取るためのものであり、例えば、
１３５サイズの写真フィルム、１１０サイズの写真フィ
ルム、及び透明な磁気層が形成された写真フィルム（２
４０サイズの写真フィルム：所謂ＡＰＳフィルム）、１
２０サイズ及び２２０サイズ（ブローニサイズ）の写真
フィルムのフィルム画像を読取対象とすることができ
る。ラインＣＣＤスキャナ１２は、上記の読取対象のフ
ィルム画像をラインＣＣＤで読取り、画像データを出力
する。なお、上記のラインＣＣＤスキャナ１２に代え
て、エリアＣＣＤによってフィルム画像を読取るエリア
ＣＣＤスキャナを設けてもよい。

【００２２】画像処理部１４は、ラインＣＣＤスキャナ
１２から出力された画像データ（スキャン画像データ）
が入力されると共に、デジタルカメラでの撮影によって
得られた画像データ、フィルム画像以外の原稿（例えば
反射原稿等）をスキャナで読み取ることで得られた画像
データ、コンピュータで生成された画像データ等（以
下、これらをファイル画像データと総称する）を外部か
ら出力する（例えば、メモリカード等の記録媒体を介し
て入力したり、通信回線を介して他の情報処理機器から
入力する等）ことも可能なように構成されている。

【００２３】画像処理部１４は、入力された画像データ
に対して各種の補正等の画像処理を行って、記録用画像
データとしてレーザプリンタ部１６へ出力する。画像処
理部１４は、画像処理を行った画像データを画像ファイ
ルとして外部へ出力する（例えばメモリカード等の記録
媒体に出力したり、通信回線を介して他の情報処理機器
へ送信する等）ことも可能である。

【００２４】レーザプリンタ部１６は、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）のレーザビームを発振するレーザ光源
を備えており、画像処理部１４から入力された記録用画
像データに応じて変調したレーザビームを印画紙に照射
して、走査露光によって印画紙に画像を記録する。

【００２５】プロセッサ部１８は、レーザプリンタ部１
６で走査露光によって画像が記録された印画紙に対し、
発色現像、漂白定着、水洗、乾燥の各処理を施す。これ
により、印画紙上に画像が形成される。

【００２６】次に、本発明の光学箱の防塵構造が適用さ
れたレーザプリンタ部について説明する。

【００２７】図３には、レーザプリンタ部１６の光学箱
１１の構成が示されている。光学箱１１は、光源として
３個のレーザ光源２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂを備えてい
る。レーザ光源２４ＲはＲの波長（例えば、６８０ｎ
ｍ）のレーザビーム（以下、Ｒレーザビームと称する）
を射出する半導体レーザ（ＬＤ）で構成されている。ま
た、レーザ光源２４Ｇは、ＬＤと、該ＬＤから射出され
たレーザビームを１／２の波長のレーザビームに変換す
る波長変換素子（ＳＨＧ）から構成されており、ＳＨＧ
からＧの波長（例えば、５３２ｎｍ）のレーザビーム
（以下、Ｇレーザビームと称する。）が射出されるよう
にＬＤの発振波長が定められている。同様に、レーザ光
源２４ＢもＬＤとＳＨＧから構成されており、ＳＨＧか
らＢの波長（例えば、４７５ｎｍ）のレーザビーム（以
下、Ｂレーザビーム）が射出されるようにＬＤの発振波
長が定められている。なお、上記ＬＤに代えて固体レー
ザを射出してもよい。

【００２８】レーザ光源２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂのレー
ザ射出側には、各々コリメータレンズ２６、音響光学変
調素子（ＡＯＭ）２８が順に配置されている。ＡＯＭ２
８は、各々入射されたレーザビームが音響光学媒質を透
過するように配置されていると共に、各々ＡＯＭドライ
バ３０（図６）に接続されており、ＡＯＭドライバ３０
から高周波信号が入力されると、音響光学媒質内を前記
高周波信号に応じた超音波が伝搬し、音響光学媒質を透
過するレーザビームに音響光学効果が作用して回折が生
じ、前記高周波信号の振幅に応じた強度のレーザビーム
がＡＯＭ２８から回折光として射出される。

【００２９】以上説明した各レーザ光源２４Ｇ、２４
Ｒ、２４Ｂ、各コリメータレンズ２６及びＡＯＭ２８に
よって光源部２９が構成されている。この光源部２９
は、光学箱１１の側壁６４と一体形成された第１の中壁
４３で区画された第１の部屋４５に位置している。

【００３０】ＡＯＭ２８の各々の回折光射出側に位置す
る第１の中壁４３であって、ＡＯＭ２８から射出された
Ｒレーザビーム、Ｇレーザビーム、Ｂレーザビーム各々
の回折光に対応する位置には、円形の開孔が３箇所に形
成されており、この開孔には、窓ガラス３２が嵌め込ま
れている。

【００３１】また、第１の中壁４３を介してＡＯＭ２８
と反対側には、ミラー３４が配置されている。このた
め、窓ガラス３２を透過した各レーザビームは、ミラー
３４で反射される。ミラー３４の各レーザビーム射出側
には、各々球面レンズ３８、シリンドリカルレンズ４０
が配置されている。

【００３２】上記ミラー３４、各球面レンズ３８及びシ
リンドリカルレンズ４０によって光学箱１１の反射部２
７が構成されている。一方、光学箱１１には、光学箱１
１の側壁６４と第１の中壁４３とを結ぶ第２の中壁４４
が形成されており、さらに、この第２の中壁４４と光学
箱１１の側壁６４とを結ぶ第３の中壁４９が形成されて
いる。したがって、反射部２７は、第１の中壁４３、第
２の中壁４４、及び第３の中壁４９とで区画された第２
の部屋５１に位置している。なお、第２の中壁４４に
は、長方形状の開口が形成されており、この開口に窓ガ
ラス４２が配置されている。

【００３３】また、光学箱１１は、第１の中壁４３と第
２の中壁４４とで区画された第３の部屋５３を備えてい
る。この第３の部屋５３には、ＰＬＧ部（ポリゴン部）
３６が位置しており、偏向手段としてのポリゴンミラー
４６が配置されている。したがって、Ｒレーザビーム、
Ｇレーザビーム、及びＢレーザビームは、各々窓ガラス
３２を透過してミラー３４によって反射された後、球面
レンズ３８、シリンドリカルレンズ４０及び窓ガラス４
２を透過して、ポリゴンミラー４６の反射面上の略同一
の位置に照射され、ポリゴンミラー４６で反射される。

【００３４】また、ポリゴンミラー４６のレーザビーム
射出側のＰＬＧ部３６には、ｆθレンズ４８、副走査方
向にパワーを持つ面倒れ補正用のシリンドリカルレンズ
５０が配置されている。また、ＰＬＧ部３６の底板の開
口に中継基盤５２（図４参照、図３では省略）を取付
け、この中継基盤５２にポリゴンミラー４６を駆動させ
るモータ４７からのハーネス（図示省略）と電力源から
のハーネス（図示省略）とのコネクタ５８を接続し、Ｐ
ＬＧ部３６を密閉した状態で外部からモータ４７に電力
を供給している。

【００３５】なお、図４に示すように、ＰＬＧ部３６に
は、各レーザビームを射出する位置に対応してＬ字ブラ
ケット６０が設けられている。このＬ字ブラケット６０
は、スポンジ６８を介して第２の中壁４４に接触させて
ビス等の固着具により取付けられている。Ｌ字ブラケッ
ト６０には長手方向に開口（図示省略）が形成され、こ
の開口を塞ぐようにガラス板６２が接着剤で取付けられ
ている。なお、Ｌ字ブラケット６０は、ガラス板６２に
おけるレーザービームの正反射を避けるため、数度傾け
てもよい。また、第２の中壁４４にはガラス板６２を透
過した各レーザビームが後述するシリンダミラー７２に
到達できるように、幅方向に長孔７４が形成されてい
る。

【００３６】また、光学箱１１は、第２の中壁４４と第
３の中壁４９とで区画された第４の部屋５５を備えてい
る。この第４の部屋５５は、印画紙１０４へ各レーザビ
ームを出射する出射部としてのＣＹＭ部７６となってい
る。このＣＹＭ部７６には、シリンダミラー７２が配置
されており、さらにシリンダミラー７２のレーザビーム
射出側には折り返しミラー７８が配置されている。

【００３７】シリンダミラー７２は、Ｌ字状に形成され
た板ばね８０により基台８２に固定されている。この板
ばね８０の一端は、基台８２に取り付けられており、他
端がシリンダミラー７２の上部を覆っており、シリンダ
ミラー７２の防塵をも兼ねている。

【００３８】なお、図３に示すように、ミラー３４、球
面レンズ３８、シリンドリカルレンズ４０、ポリゴンミ
ラー４６、ｆθレンズ４８、シリンドリカルレンズ５
０、シリンダミラー７２、及び折返しミラー７８は、す
べて側壁６４により囲まれており、いずれもファン１０
２からの風の風道（図４の矢印Ｄ）から外れた位置（風
による影響を受けない位置）に設けられている。

【００３９】また、この側壁６４の上部は、３枚の小蓋
で覆われている。具体的には、図６及び図７に示すよう
に、ＰＬＧ部３６は第１の小蓋１５０で覆われている。
この第１の小蓋１５０は平板で構成されており、側壁６
４にスポンジ８３等のシール材を介して水密に取付けら
れている。また、図４に示すように、第１の小蓋１５０
には組立て時に側壁６４と当接するリブ８５が形成され
ており、このリブ８５の高さを規定することによりスポ
ンジ８３のつぶれ具合（つぶれ度）を規制している。こ
のため、スポンジ８３が完全につぶれることがなく、Ｐ
ＬＧ部３６内部の防塵効果を向上させている。なお、Ｐ
ＬＧ部３６には高レベルの防塵性が要求されているた
め、第１の小蓋１５０は３枚の小蓋のうち一番下方に配
置されている。

【００４０】また、ＣＹＭ部７６は第２の小蓋１５２で
覆われている。この第２の小蓋１５２の中央には、光学
箱１１内部にファン１０２からの風を供給できるように
風通孔１７０が形成されている。ＣＹＭ部７６は、ＰＬ
Ｇ部３６に次いで高いレベル（中レベル）の防塵性が要
求されているため、第２の小蓋１５２の一部が第２の中
壁４４上において第１の小蓋１５０とオーバラップして
配置されている。また、第２の小蓋１５２の肉厚は、第
１の小蓋１５０とオーバーラップする部位１５２Ａ以外
において厚めに形成されている。これにより、第２の小
蓋１５２と側壁６４との間に隙間が生じるのを防止して
いる。

【００４１】また、光源部２９及び反射部２７は第３の
小蓋１５４で覆われている。一般に、光源部２９及び反
射部２７は、ＣＹＭ部７６に次いで高いレベル（低レベ
ル）の防塵性が要求されている。第３の小蓋１５４は、
第１及び第２の中壁４３、４４上において第１の小蓋１
５０とオーバラップして配置され、第３の中壁４９上に
おいて第２の小蓋１５２とオーバラップして配置されて
いる。また、第３の小蓋１５４において、第１の小蓋１
５２とオーバーラップする部位の肉厚は、第２の小蓋１
５４とオーバラップする部位の肉厚よりも厚く形成され
ている。また、側壁６４と直接接触する部位の肉厚は、
第１の小蓋１５０とオーバラップする部位の肉厚よりも
厚く形成されている。これにより、第３の小蓋１５４
と、側壁６４及び第１の小蓋１５０との間に隙間が生じ
るのを防止している。なお、この第３の小蓋１５４に
は、ハーネスを光学箱１１外部に導く穴（図示省略）が
形成されている。

【００４２】以上説明したように、光源部２９、ＰＬＧ
部３６及びＣＹＭ部７６は、各部屋４５、５３、５５に
よりそれぞれ区画されており、この各部屋４５、５３、
５５は上記説明した順序で設けられた各小蓋１５０、１
５２、１５４により覆われているので、最下層に位置す
る第１の小蓋１５０で密閉されるＰＬＧ部３６の密閉度
を最も高くすることができる。次いで、中層に位置する
第２の蓋部１５２で密閉されるＣＹＭ部７６の密閉度を
高くでき、次いで、最上層に位置する第３の小蓋１５４
で密閉される光源部２９及び反射部２７の密閉度を高く
することができる。このため、各部屋４５、５３、５５
の密閉度に差を設けることができ、上記要求に対応する
ことができる。

【００４３】また、図４及び図５に示すように、ＣＹＭ
部７６の底部には、折返しミラー７８から射出されたレ
ーザビームが通過可能な位置及びサイズの開口部８４が
設けられ、開口部８４には図５の矢印Ｓ１方向に揺動可
能なシャッタ８６が軸８８に取り付られている。また、
このシャッタ８６には、該シャッタ８６に付着したゴミ
や埃等が拡散しないように、その内側８６Ｂにゴミ吸着
テープ（図示しない）が貼り付けられている。

【００４４】このシャッタ８６は上記開口部８４と略等
しい形状で且つ略等しいサイズとされていると共に、シ
ャッタ８６の他端部にはリンク９０を介してソレノイド
９２のシャフト９４が連結されている。

【００４５】本実施形態におけるシャッタ８６は、ソレ
ノイド９２に通電していない場合に図４の破線で示す状
態、すなわちシャッタ８６を閉じた状態（閉状態）とさ
れ、ソレノイド９２に通電した場合に図４の実線で示す
状態、すなわちシャッタ８６を開いた状態（開状態）と
される。従って、停電時にはシャッタ８６が閉状態とな
り、開口部８４からの埃の侵入を防止している。

【００４６】なお、上記ソレノイド９２は、レーザプリ
ンタ部１６の各部の制御を行う制御手段としてのプリン
タ部制御回路９４（後述）に接続されており、ソレノイ
ド９２はプリンタ部制御回路９４によって動作が制御さ
れる。

【００４７】また、図４に示すように、第２の小蓋１５
２の上部には、上蓋６６がスポンジ８３等のシール材を
介して水密に取付けられている。また、上蓋６６には組
立て時に第２の小蓋１５２と当接するリブ８５が形成さ
れており、このリブ８５の高さを規定することによりス
ポンジ８３のつぶれ具合（つぶれ度）を規制している。
このため、スポンジ８３が完全につぶれることがなく、
ＣＹＭ部７６内部の防塵効果を向上させている。

【００４８】また、上蓋６６には開孔１６０が形成され
ている。この開孔１６０の近傍には支持部１６２が形成
されており、この支持部１６２には比較的目の粗い第１
フィルタ９８の外枠が支持されている。なお、この第１
フィルタ９８は、開孔１６０の真下に位置するように設
定されている。また、上蓋６６には比較的目の細かい第
２フィルタ１００が交換可能に設けられ、上記開孔１６
０を覆っている。したがって、この第２フィルタ１００
を交換する際に第１フィルタ９８によりＣＹＭ部７６内
部への埃の侵入が阻止されている。なお、第１フィルタ
９８と第２フィルタ１００とは、それぞれ段折り式の静
電タイプのフィルタであり、この段折り方向が相互に直
交するように、又は段折り方向が同じになるように配置
されている。

【００４９】なお、第１フィルタ９８の捕集効率は、ゴ
ミ径０．３μｍに対し２〜６０％、ゴミ径０．５μｍに
対し５〜７０％、ゴミ径１．０μｍに対し１０〜７５％
となっている。また、第２フィルタ１００の捕集効率
は、ゴミ径０．３、０．５、１．０μｍに対し５０〜９
９％となっている。あるいは、第１フィルタ９８の捕集
効率は、ゴミ径０．３、０．５、１．０μｍに対し５０
〜９９％となっており、第２フィルタ１００の捕集効率
は、ゴミ径０．３μｍに対し２〜６０％、ゴミ径０．５
μｍに対し５〜７０％、ゴミ径１．０μｍに対し１０〜
７５％となっている。

【００５０】また、図４に示すように、第２フィルタ１
００の上部には、これらのフィルタ９８、１００を介し
てＣＹＭ部７６内に風を送風する加圧手段としてのファ
ン１０２が取付けられている。また、上蓋６６の上部に
はファン１０２を取り囲むようにダクト１０１が設けら
れ、通気口を形成している。

【００５１】なお、上記ファン１０２は、プリンタ部制
御回路９４（後述）に接続されており、ファン１０２は
プリンタ部制御回路９４によって動作が制御される。

【００５２】また、上記光学箱１１は、所定のクリーン
度クラスのクリーンルームで組立てられることが好まし
い。ここで、クリーン度クラスとは、クリーンルーム中
の空気清浄度を粒径別の粒子濃度の程度によって分けた
等級である。クリーン度クラスは、１ｍ³の空気中に含
まれる粒径０．１μｍの微粒子数を１０のべき乗で表し
たべき指数で表される。したがって、クリーン度クラス
が小さくなる程、空気清浄度が高くなる。

【００５３】このように、光学箱１１へのポリゴンミラ
ー４６及び光学系等の取付け、各小蓋１５０、１５２、
１５４及び上蓋６６の装着を所定のクリーンルームで行
うことにより、光学箱１１の組立時において、ポリゴン
ミラー４６、光学系に埃が付着することがなく、また、
光学箱１１内部に埃が侵入することがないので、より高
い防塵性を確保できる。

【００５４】具体的には、ＰＬＧ部３６ではクリーン度
クラス１０００以下、ＣＹＭ部７６ではクリーン度クラ
ス１００００〜１０００の範囲、光源部２９ではクリー
ン度クラス１００００以上が目標とされているため、Ｐ
ＬＧ部３６はクリーン度クラス１０００以下のクリーン
ルーム、ＣＹＭ部７６ではクリーン度クラス１００００
〜１０００の範囲のクリーンルーム、光源部２９ではク
リーン度クラス１００００以上のクリーンルームで組立
てられることが好ましい。

【００５５】図８には、レーザプリンタ部１６及びプロ
セッサ部１８の電気系の概略構成が示されている。レー
ザプリンタ部１６は画像データを記憶するフレームメモ
リ１０６を備えている。フレームメモリ１０６はＩ／Ｆ
回路１０８を介して画像処理部１４に接続されており、
画像処理部１４から入力された記録用画像データ（印画
紙１０４に記録すべき画像の各画像毎のＲ、Ｇ、Ｂ濃度
を表わす画像データ）はＩ／Ｆ回路１０８を介してフレ
ームメモリ１０６に一旦記憶される。フレームメモリ１
０６はＤ／Ａ変換器１１０を介して露光部１１２に接続
されると共に、プリンタ部制御回路９４に接続されてい
る。

【００５６】露光部１１２は、前述のようにＬＤ（及び
ＳＨＧ）から成るレーザ光源２４を３個備えると共に、
ＡＯＭ２８及びＡＯＭドライバ３０も３系統備えてお
り、ポリゴンミラー４６、ポリゴンミラー４６を回転さ
せるモータ４７、隔壁６４内に風を送風するファン１０
２、シャッタ８６の開閉動作を行うソレノイド９２等を
備えた主走査ユニット１１４が設けられている。露光部
１１２はプリンタ部制御回路９４に接続されており、プ
リンタ部制御回路９４によって各部の動作が制御され
る。

【００５７】プリンタ部制御回路９４にはプリンタ部ド
ライバ１１６が接続されており、プリンタ部ドライバ１
１６には、露光部１１２に対して送風するファン１１
８、レーザプリンタ部１６に装填されたマガジン（図示
省略）に収納されている印画紙１０４をマガジンから引
き出すためのマガジンモータ１２０が接続されている。
また、プリンタ部制御回路９４には、印画紙１０４の裏
面に文字等をプリントするバックプリント部１２２が接
続されている。これらのファン１１８、マガジンモータ
１２０、バックプリント部１２２はプリント部制御回路
９４によって動作が制御される。

【００５８】また、プリンタ部制御回路９４には、未露
光の印画紙１０４が収納されるマガジンの着脱及びマガ
ジンに収納されている印画紙１０４のサイズを検出する
マガジンセンサ１２４、オペレータが各種の指示を入力
するための操作盤１２６、プロセッサ部１８で現像等の
処理が行われて可視化された画像の濃度を測定する濃度
計１２８、プロセッサ部１８のプロセッサ部制御回路１
３０が接続されている。

【００５９】プロセッサ部制御回路１３０には、プロセ
ッサ部１８の機体内の印画紙搬送経路を搬送される印画
紙１０４の通過の検出や、処理槽内に貯留されている各
種の処理液の液面位置の検出等を行う各種センサ１３２
が接続されている。

【００６０】また、プロセッサ部制御回路１３０には、
現像等の処理が完了して機体外に排出された印画紙を所
定のグループ毎に仕分するソータ１３４、処理槽内に補
充液を補充する補充システム１３６、ローラ等の洗浄を
行う自動洗浄システム１３８が接続されていると共に、
プロセッサ部ドライバ１４０を介して、各種ポンプ／ソ
レノイド１４２が接続されている。これらのソータ１３
４、補充システム１３６、自動洗浄システム１３８、及
び各種ポンプ／ソレノイド１４２はプロセッサ部制御回
路１３０によって作動が制御される。

【００６１】次に、印画紙１０４へ画像の記録を行う場
合のプリンタ部制御回路９４の作用を図９のフローチャ
ートを参照して説明する。なお、図９は、印画紙１０４
への画像の記録を行う場合にプリンタ部制御回路９４に
設けられた図示しないＣＰＵによって実行される制御プ
ログラムの概略フローチャートであり、該制御プログラ
ムはプリンタ部制御回路９４に設けられた図示しないメ
モリに予め記憶されている。

【００６２】図９のステップ２００では、画像処理部１
４から入力された画像記録用パラメータに基づき、該記
録用画像データに対して各種の補正を行って走査露光用
画像データを生成し、フレームメモリ１０６に記憶す
る。

【００６３】次のステップ２０２では、ソレノイド９２
に通電することによりシャッタ８６を開状態とし、次の
ステップ２０４では、シャッタ８６を開状態として０．
５〜３秒後にファン１０２の回転を開始することによ
り、ＣＹＭ部７６内部に０．２〜３．０ｍ／ｓの風を供
給させる。したがって、シャッタ８６を開状態とした後
で、ＣＹＭ部７６が加圧されるので、ＣＹＭ部７６の内
部にシャッタ８６の内側に付着した埃が拡散することが
ない。

【００６４】次のステップ２０８では、レーザ光源２４
Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂからレーザビームを射出させ、さら
に次のステップ２１０では、以下の手順により走査露光
が行われる。

【００６５】すなわち、上記ステップ２００において生
成した走査露光用画像データをフレームメモリ１０６か
らＤ／Ａ変換器１１０を介してＡＯＭドライバ３０へ出
力させる。これにより、走査露光用画像データがアナロ
グ信号に変換されてＡＯＭドライバ３０に入力される。

【００６６】ＡＯＭドライバ３０は、入力された各アナ
ログ信号のレベルに応じてＡＯＭ２８に供給する超音波
信号の振幅を変化させ、ＡＯＭ２８から回折光として射
出されるレーザビームの強度をアナログ信号のレベル
（すなわち、印画紙１０４に記録すべき画像の各画素の
Ｒ濃度及びＧ濃度及びＢ濃度のいずれか）に応じて変調
する。従って、３個のＡＯＭ２８からは印画紙１０４に
記録すべき画像のＲ、Ｇ、Ｂ濃度に応じて強度変調され
たＲ、Ｇ、Ｂのレーザビームが射出され、これらのレー
ザビームはミラー３４、球面レンズ３８、シリンドリカ
ルレンズ４０、ポリゴンミラー４６、ｆθレンズ４８、
シリンドリカルレンズ５０、シリンダミラー７２、及び
折返しミラー７８を介して印画紙１０４に照射される。

【００６７】そして、ポリゴンミラー４６の図３矢印Ａ
方向の回転に伴って各レーザビームの照射位置が図３の
矢印Ｂ方向に沿って走査されることにより主走査が行わ
れ、印画紙１０４が図３の矢印Ｃ方向に沿って一定速度
で搬送されることによりレーザビームの副走査が成さ
れ、走査露光によって印画紙１０４に潜像が記録され
る。

【００６８】以上により走査露光が終了すると、次のス
テップ２１２では、ポリゴンミラー４６の回転、及び各
レーザビームの射出を終了し、ファン１０２の回転を終
了した後、０．５〜３秒後にソレノイド９２への通電を
終了させてシャッタ８６を閉状態として、本制御プログ
ラムを終了する。

【００６９】なお、上記走査露光により潜像が記録され
た印画紙１０４はプロセッサ部１８へ送り込まれ、発色
現像、漂白定着、水洗、乾燥の各処理が施される。これ
により、印画紙１０４上に画像が形成される。

【００７０】以上詳細に説明したように、本実施形態に
係るレーザプリンタ部１６の光学箱の防塵構造は、レー
ザビームにより走査露光を行う際に、シャッタ８６を開
状態とした後で、ファン１０２により光学箱１１内に区
画されたＣＹＭ部７６内を加圧し、一方、走査露光終了
時に、加圧を終了させてから、シャッタ８６を閉状態と
させることにより、シャッタ８６の裏側に付着した埃が
ＣＹＭ部７６内部に拡散することを防止することができ
る。この結果、ＣＹＭ部７６内に設けられた光学系を構
成するレンズ、ミラー等の各素子への埃の付着を防止す
ることができる。

【００７１】また、本実施形態に係るレーザプリンタ部
１６の光学箱の防塵構造は、特に、ポリゴンミラー４６
が第１の中壁４３、第２の中壁４４で区画されており、
かつ第１の小蓋１５０で完全密閉されているので、ポリ
ゴンミラー４６を通常の環境において回転させた場合
に、ミラー表面に曇りが生じるような回転速度（例え
ば、１０００回転／分以上）で回転させた場合でも、ミ
ラー表面の曇りの発生を防止することができ、ミラー表
面の汚染を防止することができる。

【００７２】なお、本実施形態では、ＡＯＭ２８により
レーザビームの強度変調を行う場合について説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、
ＡＯＭ２８に代えて、電気光学変調素子（ＥＯＭ）、磁
気光学変調素子（ＭＯＭ）を適用してレーザビームの強
度変調を行う形態としてもよい。

【００７３】また、本実施形態では、光学箱１１を４つ
の部屋４５、５１、５３、５５に別けたが、第１の部屋
４５と第２の部屋５１とを区画する第１の中壁４３の区
画部４３Ａ（図３参照）を無くし、第１の部屋４５と第
２の部屋５１とを合わせて１つの部屋としてもよい。

【００７４】

【発明の効果】本発明である光学箱の防塵構造によれ
ば、開口部を含む光学箱外部から光学箱内部への埃の侵
入を防止できる。

【００７５】また、開閉手段の裏側に付着した埃が出射
部内部に拡散することを防止することができる。このた
め、出射部内に設けられたレンズ、ミラー等への埃の付
着を防止することができる。

【００７６】さらに、光源部、ポリゴン部及び出射部を
各部屋で区画するとともに、各小蓋の一部をそれぞれオ
ーバラップさせて配置されているので、密閉度に差を設
けることができ、光源部、ポリゴン部、出射部のそれぞ
れに要求される密閉度に対応することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施形態に係る光学箱の防塵構造を適用した
ディジタルラボシステムの概略ブロック図である。

【図２】ディジタルラボシステムの外観図である。

【図３】本実施形態に係る光学箱の防塵構造の概略構成
図である。

【図４】光学箱内に区画されたＰＬＧ部及びＣＹＭ部の
断面図である。

【図５】本実施形態に係る光学箱の防塵構造の概略破断
側面図である。

【図６】本実施形態に係る光学箱の防塵構造の組立図で
ある。

【図７】本実施形態に係る光学箱の防塵構造の平面図で
ある。

【図８】ディジタルラボシステムを構成するレーザプリ
ンタ部及びプロセッサ部の電気系の概略構成を示すブロ
ック図であある。

【図９】走査露光の際にプリンタ部制御回路で実行され
る制御プログラムの概略フローチャートである。

【図１０】従来技術である画像形成装置の概略構成図で
ある。

【符号の説明】

１１光学箱２９光源部３６ＰＬＧ部（ポリゴン部）４５第１の部屋（部屋）４６ポリゴンミラー（偏向手段）４８ｆθレンズ（光学系）５０シリンドリカルレンズ（光学系）５３第３の部屋（部屋）５５第４の部屋（部屋）７６ＣＹＭ部（出射部）８４開口部８６シャッタ（開閉手段）９４プリンタ部制御回路（制御手段）１０２ファン（加圧手段）１０４印画紙（感光材料）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザビームを偏向する偏向手段と該偏
向手段により偏向されたレーザビームを感光材料上へ収
束させる光学系とを有するポリゴン部、を備えた光学箱
に用いられ、前記光学箱に形成され、前記レーザビームを前記感光材
料へ導く開口部と、前記光学箱内部に風を供給して加圧し、前記開口部を含
む前記光学箱外部からの埃の侵入を阻止する加圧手段を
備えたことを特徴とする光学箱の防塵構造。
【請求項２】前記開口部を開閉する開閉手段と、前記レーザビームで走査露光する際に、前記開閉手段に
より前記開口部を開状態にした後、前記加圧手段により
前記光学箱内部を加圧し、前記走査露光が終了したとき
に、前記加圧手段を停止し、その後前記開閉手段により
前記開口部を閉状態にする制御手段と、を備えたことを特徴とする請求項１に記載の光学箱の防
塵構造。
【請求項３】前記レーザビームを出射する光源部と、
前記ポリゴン部と、該ポリゴン部から出射されたレーザ
ビームを前記光学箱外部に出射する出射部とを、それぞ
れ区画する部屋内部の密閉度に差を設けたことを特徴と
する請求項１又は２に記載の光学箱の防塵構造。