JP3983610B2 - 熱可塑性ポリウレタン発泡体およびそれからなる研磨パッド - Google Patents
熱可塑性ポリウレタン発泡体およびそれからなる研磨パッド Download PDFInfo
- Publication number
- JP3983610B2 JP3983610B2 JP2002192932A JP2002192932A JP3983610B2 JP 3983610 B2 JP3983610 B2 JP 3983610B2 JP 2002192932 A JP2002192932 A JP 2002192932A JP 2002192932 A JP2002192932 A JP 2002192932A JP 3983610 B2 JP3983610 B2 JP 3983610B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- foam
- polyurethane
- temperature
- hardness
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、均一な発泡構造を有するポリウレタン発泡体およびその製造方法並びに該発泡体よりなる研磨パッドに関する。本発明の研磨パッドは、半導体ウェハー等を高精度に、かつ高効率に研磨するための研磨用途に有用である。
【0002】
【従来の技術】
集積回路を形成するための基材として使用される半導体ウェハーの鏡面加工に用いられる研磨パッドとしては、一般的に、ベロア調やスエード調などの繊維と樹脂の複合材料、あるいは熱可塑性ポリウレタン樹脂を不織布に含浸させ湿式凝固させた、圧縮変形特性が大きく、比較的柔らかいシートが多用されていた。
【0003】
近年、半導体ウェハーは、高集積化、多層配線化に伴い、一層の高平坦化等の品質向上に加えて低価格化の要求が増々高まっている。それに伴い、研磨パッドに対しても、従来以上の平坦化を可能にする等の高機能化や長時間使用可能であることが要求されている。
【0004】
このような要求に対して、従来の比較的柔軟な不織布タイプの研磨パッドは、ウェハーとの接触性が良く、研磨スラリーの保持性も良好であるが、その柔軟性のために被研磨面の平坦化が十分でない。しかも、研磨スラリーや研磨屑が不織布の空隙に目詰まりし、これが原因でウェハー表面に傷を生じやすくなる傾向にある。また、研磨スラリーや研磨屑が目詰まりし易く、しかも空隙深くまで侵入しているため洗浄が困難であり、研磨パッドの使用時間が短いという問題点も有している。
【0005】
一方、高分子発泡体を使用した研磨パッドも知られており、不織布タイプの研磨パッドに比べて剛性が高いため、ウェハーの研磨等の平坦化を要求される用途によく使用されている。また、高分子発泡体を使用した研磨パッドは独立気泡構造であるため、研磨スラリーや研磨屑が不織布タイプの研磨パッドのように空隙の奥まで侵入しないので、研磨パッドの洗浄が比較的容易で長時間の使用にも耐えられるものである。特に耐摩耗性に優れることから、高分子発泡体としては発泡ポリウレタンがよく用いられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
発泡ポリウレタン製の研磨パッドは、通常、発泡ポリウレタンを適宜研削またはスライスすることにより製造されている。従来、研磨パッド用の発泡ポリウレタンは、2液硬化型ポリウレタンを用いて注型発泡硬化することによって製造されている(特開2000−178374号公報、特開2000−248034号公報、特開2001−89548号公報、特開平11−322878号公報などを参照)が、この方法では、反応・発泡の均一化が困難である上、得られる発泡ポリウレタンの高硬度化にも限界があった。また、従来の発泡ポリウレタン製の研磨パッドは、被研磨面の平坦性や平坦化効率等の研磨特性が変動することがあるが、もとになる発泡ポリウレタンにおける発泡構造のばらつきがその一因と考えられる。また、平坦化効率を高めるために、より硬度の高い研磨パッドが望まれている(〔「CMPのサイエンス」株式会社サイエンスフォーラム、1997年8月20日発行〕を参照)。
【0007】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、均一な発泡構造を有するポリウレタン発泡体であって、被研磨面の平坦性および平坦化効率の向上が達成でき、かつ研磨の作業中の温度変動に対して硬度変化が少ない研磨パッドとして有用なポリウレタン発泡体を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく検討を重ねた結果、本発明者らは、非反応性ガスを溶解させた特定の熱可塑性ポリウレタンを発泡させることにより、硬度が高く、しかも硬度の温度依存性が少なく、かつ均一で微細な発泡構造を有するポリウレタン発泡体が得られることを見出し、本発明を完成させた。
【0009】
すなわち、本発明は、数平均分子量が400〜2000である高分子ジオール、有機ジイソシアネートおよび50モル%以上が1,4−シクロヘキサンジメタノールである鎖伸長剤を反応させて得られる、イソシアネート基由来の窒素原子の含有率が6重量%以上であるポリウレタンに非反応性ガスを加圧条件下で溶解させた後、圧力を開放し、該ポリウレタンを軟化温度以上の温度で発泡させて得られる、密度が0.5〜1.0g/cm3、気泡サイズが5〜200μmであるポリウレタン発泡体を提供する。
【0011】
また、本発明は、上記のポリウレタン発泡体からなる研磨パッドを提供する。
【0012】
【発明の実施の形態】
本発明における熱可塑性ポリウレタンは、高分子ジオール、有機ジイソシアネートおよび50モル%以上が1,4−シクロヘキサンジメタノールである鎖伸長剤を反応させることにより得られる。
【0013】
高分子ジオールとしては、例えば、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオールなどが挙げられる。これらの高分子ジオールは単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でもポリエーテルジオールを使用することが好ましい。
【0014】
ポリエーテルジオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ(テトラメチレングリコール)、ポリ(メチルテトラメチレングリコール)などが挙げられる。これらのポリエーテルジオールは、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、ポリ(テトラメチレングリコール)を使用することが好ましい。
【0015】
ポリエステルジオールは、例えば、常法に従い、ジカルボン酸またはそのエステル、無水物などのエステル形成性誘導体と低分子ジオールとを直接エステル化反応またはエステル交換反応させることにより製造することができる。
【0016】
ポリエステルジオールを構成するジカルボン酸としては、例えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、2−メチルコハク酸、2−メチルアジピン酸、3−メチルアジピン酸、3−メチルペンタン二酸、2−メチルオクタン二酸、3,8−ジメチルデカン二酸、3,7−ジメチルデカン二酸等の炭素数4〜12の脂肪族ジカルボン酸;テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸等の芳香族ジカルボン酸などが挙げられる。これらのジカルボン酸は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0017】
ポリエステルジオールを構成する低分子ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール等の脂肪族ジオール;シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール等の脂環式ジオールなどを挙げることができる。これらの低分子ジオールは、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0018】
ポリカーボネートジオールとしては、低分子ジオールとジアルキルカーボネート、アルキレンカーボネートなどのカーボネート化合物との反応により得られるものを使用できる。ポリカーボネートジオールを構成する低分子ジオールとしては、ポリエステルジオールの構成成分として先に例示した低分子ジオールを用いることができる。また、ジアルキルカーボネートとしては、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどが挙げられる。さらに、アルキレンカーボネートとしてはエチレンカーボネートなどが挙げられる。
【0019】
高分子ジオールの数平均分子量は400〜2000の範囲内にあり、500〜1500の範囲内にあることが好ましい。この範囲内の数平均分子量を有する高分子ジオールを用いることにより、高硬度の熱可塑性ポリウレタンを良好に得ることができる。高分子ジオールの数平均分子量が2000を越える場合、押出成形または射出成形で成形する際に、成形機中で増粘現象を起こして不溶融物が発生し、成形運転を中断し内部を洗浄しなければならないことがある。一方、高分子ジオールの数平均分子量が400未満である場合、得られるポリウレタン発泡体の耐摩耗性が低下する傾向がある。なお、本明細書でいう高分子ジオールの数平均分子量は、いずれもJIS K 1557に準拠して測定した水酸基価に基づいて算出した数平均分子量を意味する。
【0020】
本発明における熱可塑性ポリウレタンの製造に用いられる有機ジイソシアネートとしては、通常の熱可塑性ポリウレタンの製造に従来から用いられている有機ジイソシアネートのいずれを使用してもよく、例えば、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなどを挙げることができる。これらの有機ジイソシアネートは単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートが、得られるポリウレタン発泡体の耐摩耗性などの点から好ましい。
【0021】
本発明における熱可塑性ポリウレタンの製造に用いられる鎖伸長剤は、1,4−シクロヘキサンジメタノールを50モル%以上含有していることを要する。鎖伸長剤に含まれる1,4−シクロヘキサンジメタノールの割合が50モル%より少ないと、得られる熱可塑性ポリウレタンの硬度の温度依存性が大きいので、ポリウレタン発泡体の硬度も温度依存性が大きくなり、研磨の作業中における被研磨面の平坦性の低下および研磨効率の低下が起こる。鎖伸長剤に含まれる1,4−シクロヘキサンジメタノールの割合は、70モル%以上であることが好ましい。
【0022】
本発明における熱可塑性ポリウレタンの製造に用いられる鎖伸長剤は、50モル%以下であれば、1,4−シクロヘキサンジメタノール以外の化合物を含有していてもよい。そのような化合物としては、通常の熱可塑性ポリウレタンの製造において従来から鎖伸長剤として使用されている化合物を使用することができるが、イソシアネート基と反応し得る活性水素原子を分子中に2個以上有する分子量300以下の低分子化合物を使用することが好ましく、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,4−ビス(β−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、1,4−シクロヘキサンジオール、ビス−(β−ヒドロキシエチル)テレフタレート、1,9−ノナンジオール等のジオール類などが挙げられる。これらの化合物は、1種類のものを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0023】
本発明のポリウレタン発泡体は、上記の高分子ジオール、有機ジイソシアネートおよび鎖伸長剤を反応させて得られる、イソシアネート基由来の窒素原子の含有率が6重量%以上の熱可塑性ポリウレタンを発泡させることにより得られ、密度が0.5〜1.0g/cm3 および気泡サイズが5〜200μmであることを満足する。
【0024】
ポリウレタン発泡体の密度が0.5g/cm3より小さいと、発泡体が柔らかくなり過ぎるため、被研磨面の平坦性が低下し、また研磨効率が低下する。一方、ポリウレタン発泡体の密度が1.0g/cm3より大きいと、研磨効率が低下する。ポリウレタン発泡体の密度は、被研磨面の平坦性の点から0.65〜0.85g/cm3の範囲内であることがより好ましい。
【0025】
また、ポリウレタン発泡体の気泡サイズが5μmより小さいと、研磨スラリーに含まれる研磨材が気泡に詰まりやすいため研磨効率が低下し、スクラッチ傷等の研磨不良が起こりやすくなる。一方、ポリウレタン発泡体の気泡サイズが200μmより大きいと、発泡体の表面平滑性が悪くなるため、研磨材の局在化、スクラッチ傷、オレンジピール傷等の研磨不良が起こりやすくなる。ポリウレタン発泡体の気泡サイズは、研磨材の保持性の観点から、20〜180μmの範囲内であることが好ましく、20〜150μmの範囲内であることがより好ましい。また、ポリウレタン発泡体の硬度(JIS−C硬度)が90より小さいと研磨効率が十分に向上せず本発明の目的が達成されない。ポリウレタン発泡体の硬度(JIS−C硬度)は、研磨効率の点から95以上であることが好ましく、97以上であることがより好ましい。
【0026】
上記した密度、気泡サイズおよび硬度を有するポリウレタン発泡体を得るために、熱可塑性ポリウレタンのイソシアネート基由来の窒素原子の含有率を6重量%以上にすることが必要である。ポリウレタン発泡体の硬度および耐摩耗性の観点から、熱可塑性ポリウレタンのイソシアネート基由来の窒素原子の含有率を6〜8.2重量%の範囲内とすることが好ましく、6.5〜7.5重量%の範囲内とすることがより好ましい。イソシアネート基由来の窒素原子の含有率が6重量%未満である熱可塑性ポリウレタンを用いた場合には、熱可塑性ポリウレタン自体の硬度が低過ぎるため、密度、気泡サイズ、硬度のすべてが上記の範囲内となるポリウレタン発泡体を得ることができない。
【0027】
研磨効率の向上のためには発泡体表面に存在する気泡数が多いほど良いが、一般に、気泡を多くすると発泡体の密度が低下し発泡体の硬度が低くなるため、研磨効率が低下する傾向にある。本発明においては、発泡体を構成するポリウレタンの硬度を高くすることによって、気泡を多くした際における発泡体の硬度の低下を防ぎ、研磨効率の向上を達成した。
【0028】
本発明では、70℃における貯蔵弾性率E’70が7×109dyn/cm2以上である熱可塑性ポリウレタンを使用することが好ましい。上記のような熱可塑性ポリウレタンを使用すると、研磨の作業中の温度変動に対して硬度変化が少ない発泡体を得ることができる。熱可塑性ポリウレタンの70℃における貯蔵弾性率E’70は、9×109dyn/cm2以上であることが好ましい。
また、熱可塑性ポリウレタンの0℃における貯蔵弾性率E’0と70℃における貯蔵弾性率E’70の比率(E’0/E’70)は1.8以下であることが好ましい。かかる条件を満足する熱可塑性ポリウレタンは、それ自身の硬度の温度依存性が小さいので、ポリウレタン発泡体の硬度も温度依存性が小さくなり、研磨の作業中における被研磨面の平坦性の低下および研磨効率の低下が抑制される。熱可塑性ポリウレタンの0℃における貯蔵弾性率E’0と70℃における貯蔵弾性率E’70との比率(E’0/E’70)は1.5以下であることがより好ましい。
【0029】
熱可塑性ポリウレタンを構成する上記の各成分の混合比率は、熱可塑性ポリウレタンに付与すべき物性、耐摩耗性などを考慮して適宜決定されるが、高分子ジオールおよび鎖伸長剤に含まれる活性水素原子1モルに対して、有機ジイソシアネートに含まれるイソシアネート基が0.95〜1.3モルとなる割合で各成分を使用することが好ましい。イソシアネート基の割合が0.95モルより低いと、得られる発泡体の機械的強度および耐摩耗性が低下し、1.3モルより高いと熱可塑性ポリウレタンの生産性、保存安定性が低下する傾向がある。
【0030】
熱可塑性ポリウレタンの製造方法は特に制限されず、前記の3成分を使用し、公知のウレタン化反応を利用して、プレポリマー法またはワンショット法のいずれの方法で製造してもよい。熱可塑性ポリウレタンは、実質的に溶剤の不存在下に溶融重合する方法によって製造することが好ましく、多軸スクリュー型押出機を用いて連続溶融重合する方法によって製造することがより好ましい。
【0031】
本発明のポリウレタン発泡体は、上記の熱可塑性ポリウレタンを発泡させることによって製造することができる。発泡に際しては、非反応性ガスを発泡剤として用いることが好ましい。非反応性ガスとは、熱可塑性ポリウレタンまたは該熱可塑性ポリウレタンを製造するための成分と反応しない気体を意味している。非反応性ガスとしては、例えば、窒素、二酸化炭素、アルゴン、ヘリウム等が挙げられる。これらのうちでも、熱可塑性ポリウレタンへの溶解性および製造コストの点から、二酸化炭素または窒素が好ましい。
【0032】
本発明のポリウレタン発泡体は、上記した熱可塑性ポリウレタンに上記の非反応性ガスを加圧条件下で溶解した後、圧力を開放し、前記ポリウレタンの軟化温度以上の温度で発泡させることにより製造することができる。ここで、非反応性ガスの溶解量は、均一な発泡構造を有する発泡体を得る観点から、溶解条件下における飽和量であることが望ましい。
【0033】
非反応性ガスを溶解する熱可塑性ポリウレタンとしてシート状成形体を用いると、均一な発泡構造を有する発泡体の製造が容易である点、研磨パッドとする際の工程が簡素化できる点などにおいて有利である。該シート状成形体としては、熱可塑性ポリウレタンを一軸押出成形機、二軸押出し成形機等の押出成形機または射出成形機を用いて成形したものが好ましい。シート状成形体の厚さは、発泡体の製造しやすさおよび非反応性ガスの溶解に要する時間の観点から0.8〜5mmの範囲内であることが好ましい。
【0034】
なお、熱可塑性樹脂またはその成形体に気体を溶解させ、次いで圧力を減少させることにより、発泡物品を製造する方法は、米国特許第4473665号明細書、特開平6−322168号公報、特開平8−11190号公報、特開平10−36547号公報、特開2000−169615号公報、特開2000−248101号公報などに開示されており、公知であるが、該製造方法を上記した特定の熱可塑性ポリウレタンの発泡体の製造に適用した例は知られていない。
【0035】
本発明におけるポリウレタン発泡体は、圧力が3〜15MPaの範囲内、温度が50〜160℃の範囲内に調整された耐圧容器内において、ポリウレタン成形体に非反応性ガスを溶解させ、熱可塑性ポリウレタンの軟化温度より低い温度で圧力を開放し、該成形体を熱可塑性ポリウレタンの軟化温度以上の温度に加熱して発泡させることにより製造することができる〔製造方法1〕。
【0036】
熱可塑性ポリウレタンの組成にもよるが、生成する気泡のサイズは、非反応性ガスの溶解量に依存する。非反応性ガスの溶解量は溶解時の圧力および温度により調整できる。非反応性ガスの溶解時の圧力が3MPa未満の場合は、非反応性ガスをポリウレタン成形体に飽和量溶解するのに長時間を要する。一方、非反応性ガスの溶解時の圧力が15MPaを越える場合、非反応性ガスの溶解に要する時間は短くなるが、溶解するガスの量が必要以上に多くなり、生成する気泡のサイズが著しく小さくなる。非反応性ガスの溶解時の圧力は、5〜14MPaの範囲内であることが好ましい。また、非反応性ガスの溶解時の温度が50℃未満の場合は、非反応性ガスをポリウレタン成形体に飽和量溶解するのに長時間を要する。一方、非反応性ガスの溶解時の温度が160℃を越える場合には、成形体が著しく変形したり、非反応性ガスの溶解量が著しく少なくなって、生成する気泡のサイズが大きくなり過ぎる。非反応性ガスの溶解時の温度は、80〜140℃の範囲内であることが好ましい。
【0037】
非反応性ガスを溶解した成形体において、圧力を開放した後の加熱温度がポリウレタンの軟化温度未満の場合には、気泡の生成や成長が不十分となる。非反応性ガスを溶解した成形体を加熱する温度は、生成する気泡のサイズおよび発泡体の強度の点から、ポリウレタンの軟化温度をT℃としたとき、(T+10)℃〜(T+40)℃の範囲内であることが好ましい。加熱発泡方法には制限はないが、非反応性ガスを溶解した成形体に熱が均一にかかる方法が、発泡構造の均一性確保の点で好ましい。加熱発泡方法としては、例えば、熱水、熱オイルバス、熱風、水蒸気等の熱媒中を通過させる方法などが挙げられる。
【0038】
また、本発明におけるポリウレタン発泡体は、圧力が5〜15MPaの範囲内、温度が100〜160℃の範囲内に調整された耐圧容器内において、ポリウレタン成形体に、非反応性ガスを溶解させ、加圧状態から大気圧へ圧力を開放して発泡させることによっても製造することができる〔製造方法2〕。
【0039】
熱可塑性ポリウレタンの組成にもよるが、生成する気泡のサイズは、非反応性ガスの溶解量に依存する。非反応性ガスの溶解量は溶解時の圧力および温度により調整できる。非反応性ガスの溶解時の圧力が5MPa未満の場合は、非反応性ガスをポリウレタン成形体に飽和量溶解するのに長時間を要する。一方、非反応性ガスの溶解時の圧力が15MPaを越える場合、非反応性ガスの溶解に要する時間は短くなるが、溶解するガスの量が必要以上に多くなり、生成する気泡のサイズが著しく小さくなる。非反応性ガスの溶解時の圧力は、7〜14MPaの範囲内であることが好ましい。また、非反応性ガスを溶解させ、圧力を開放して発泡させる際の温度が100℃未満の場合は、非反応性ガスを成形体に飽和量溶解させるのに長時間を要し、しかも気泡の生成や成長が十分ではない。一方、該温度が160℃を越える場合は、生成する気泡のサイズがばらつき、しかも得られる発泡体が変形する。発泡時の温度は、ポリウレタンの軟化温度をT℃としたとき、(T+20)℃〜(T+50)℃の範囲内であることが好ましい。
【0040】
また、本発明のポリウレタン発泡体は、溶融状態の熱可塑性ポリウレタンに、非反応性ガスを加圧下で溶解させた後、押出成形または射出成形することによっても製造することができる〔製造方法3および4〕。
【0041】
この時、該熱可塑性ポリウレタンを溶融させる温度は170〜250℃の範囲内であることが好ましい。該熱可塑性ポリウレタンを溶融させる温度が170℃に満たない場合は、実質的な可塑性が得られず、押出機シリンダー内部におけるスクリュー混練による熱可塑性ポリウレタンの融液化が困難となる場合がある。一方、該熱可塑性ポリウレタンを溶融させる温度が250℃を越える場合は、熱分解生成物、ゲル状物等の不溶融物が発生し、均一な発泡構造を有する発泡体が得られ難くなる場合がある。熱可塑性ポリウレタンを溶融させる温度は180〜240℃の範囲内であることが好ましい。
【0042】
また、非反応性ガスを溶融状態の熱可塑性ポリウレタン中に溶解させる時の圧力は3〜20MPaの範囲内であることが好ましく、5〜18MPaの範囲内であることがより好ましい。非反応性ガスを溶解させる時の圧力が3MPaに満たない場合は、溶融したポリウレタン中への非反応性ガスの溶解量が少なくなり、実質的に発泡体を得ることが難しくなる傾向がある。一方、非反応性ガスを溶解させる時の圧力が20MPaを越える場合には、得られる発泡体の気泡サイズが過度に小さくなる場合がある。
【0043】
ポリウレタン発泡体を押出成形により製造する場合、押出シリンダー内部で溶融状態の熱可塑性ポリウレタンと非反応性ガスとが混合され、押出シリンダー内部およびダイ内部では未発泡状態が保持されており、ダイ出口から大気圧中に押出されることにより発泡が生じるようにすることが重要である。押出シリンダー内部またはダイ内部で発泡すると、気泡サイズが大きくなり、均一で微細な発泡構造を有する発泡体を製造することが困難となる。従って、非反応性ガスは押出シリンダー中、好ましくは押出シリンダー中央部から注入され、注入された部分からダイ出口で熱可塑性ポリウレタンが大気中に押出されるまでの行程においては、発泡の生じない圧力が保たれていることが重要である。非反応性ガスが注入された部分からダイ出口までの圧力は、3〜20MPaの範囲内に保たれることが好ましい。また、熱可塑性ポリウレタンがダイから押出される時、非反応性ガスが溶解した溶融状態の熱可塑性ポリウレタンの粘度が低い場合には、気泡が巨大化したり破泡を生じたりする。均一で微細な発泡構造を有する発泡体を得るためには、非反応性ガスが溶解した溶融状態の熱可塑性ポリウレタンを実質的に押出しすることが可能な条件を採用することが好ましい。本発明におけるポリウレタン発泡体の製造においては、均一で微細な発泡構造を有する発泡体を得る観点から、ダイ出口での樹脂温度を170〜200℃の範囲内とすることが好ましい。
【0044】
ポリウレタン成形体はT−ダイ法、異形押出法、チューブ押出法などの一般的な押出成形法により製造することができる。中でも、T−ダイ法が、厚さの均一なシート状成形体を容易に製造することができる点で好ましい。
【0045】
ポリウレタン発泡体を射出成形法で製造する場合、射出シリンダー内部で発泡が生じると、気泡サイズが大きくなり、均一で微細な発泡構造を有する発泡体を製造することが困難となる。従って、非反応性ガスは射出シリンダー中、好ましくは射出シリンダー中央部から注入され、注入された部分から射出ノズルまでの行程においては、発泡を生じない圧力に保たれることが重要である。非反応性ガスが注入された部分から射出ノズルまでの圧力は、3〜20MPaの範囲内に保たれることが好ましい。
【0046】
非反応性ガスを溶解した溶融状態の熱可塑性ポリウレタンを射出成形する際、
▲1▼低速(射出中に圧力が発泡可能な圧力まで低下する射出速度)条件で射出することにより射出と同時に金型内部で発泡体を得る方法〔製造方法3〕;
▲2▼高速(射出中には発泡が生じない圧力が維持される射出速度)条件で射出し、圧力を保持したまま冷却することにより発泡の生じていない成形体を製造した後、該成形体を熱可塑性ポリウレタンの軟化温度以上の温度で加熱処理することにより発泡を生じさせ発泡体を得る方法〔製造方法4〕;
などを採用することができる。これらのなかでも特に均一な発泡構造を有する発泡体が得られ易い点から、高速条件で射出して得られる無発泡の成形体を加熱処理して発泡させる方法〔製造方法4〕がより好ましい。
【0047】
高速条件で射出を行う場合〔製造方法4〕、射出速度は、熱可塑性ポリウレタンの金型内への樹脂充填時間が0.5〜2.5秒の範囲内となるような速度であることが好ましい。また、未発泡成形体の加熱温度は150〜180℃の範囲内であることが好ましい。一方、低速条件で射出することにより射出と同時に金型内部で発泡体を得る場合〔製造方法3〕においては、射出速度は、熱可塑性ポリウレタンの金型内への樹脂充填時間が4〜10秒の範囲内となるような速度であることが好ましい。
【0048】
本発明の研磨パッドは、上記のようにして製造されたポリウレタン発泡体を、その表面に気泡が露出するように研削あるいはスライスして製造される。また、得られた研磨パッドに対し、さらに所定の形状に整える、表面加工を施す、クッション層となる素材と積層する等の加工を施すこともできる。
【0049】
本発明の研磨パッドは、それ自体公知の研磨スラリーと共に、ケミカルメカニカル研磨(Chemical Mechanical Polishing、以下CMPと略称することがある)に使用することができる。研磨スラリーは、例えば、水やオイル等の液状媒体;酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、炭化ケイ素等の研磨材;塩基、酸、界面活性剤などの成分を含有している。また、CMPを行うに際し、必要に応じ、研磨スラリーと共に、潤滑油、冷却剤などを併用してもよい。
【0050】
CMPは、公知のCMP用装置を使用し、研磨スラリーを介して被研磨面と研磨パッドを、加圧下、一定速度で、一定時間接触させることによって実施することができる。研磨の対象となる物品には特に制限はないが、例えば、水晶、シリコン、ガラス、光学基板、電子回路基板、多層配線基板、ハードディスクなどが挙げられる。
【0051】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。なお、実施例に記したポリウレタンおよびポリウレタン発泡体の物性評価は次の方法で実施した。
【0052】
発泡体の密度
JIS K 7112に準拠して、ポリウレタン発泡体の密度を測定した。
【0053】
発泡体の気泡サイズ
発泡体の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)により写真撮影し、一定面積内に存在する気泡数を数えて単位体積当たりの気泡数(気泡の数密度)を算出した。その値と上記で測定した発泡体の密度と熱可塑性ポリウレタンの密度とから、気泡が真球状であると仮定したときの平均気泡サイズを計算した。
【0054】
硬度
熱可塑性ポリウレタンの硬度: 射出成形によって作製した厚さ2mmのシートの硬度(JIS−D硬度)をJIS K 7311に準じて測定した。
ポリウレタン発泡体の硬度: JIS−C硬度をJIS K 7311に準じて測定した。
【0055】
軟化温度
厚さ2mmの射出成形シートを作製し、該シートを100℃で12時間熱処理した試験片を用いて、JIS K 7206に準じて測定荷重9.8N(1kgf)の条件下でビカット軟化温度を測定した。
【0056】
貯蔵弾性率
厚さ2mmの射出成形シートを作製し、該シートを90℃で5時間熱処理した試験片を用いて、動的粘弾性測定装置〔DVE−V4レオスペクトラー(商品名、(株)レオロジー社製)〕を使用して、所定温度における貯蔵弾性率を周波数11Hzで測定した。
【0057】
参考例1
数平均分子量500のポリ(3−メチルペンタンジオールアジペート)ジオール〔略号:PMPA〕、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(略号:MDI)および1,4−シクロヘキサンジメタノール(略号:CHDM)〔鎖伸長剤〕を、PMPA:MDI:CHDMのモル比が1:9.7:8.7(窒素原子の含有率:6.5重量%)となるような割合で用い、かつ、それらの合計供給量が300g/分になるようにして、定量ポンプにより同軸で回転する2軸押出機(30mmφ、L/D=36、シリンダー温度:75〜260℃)に連続的に供給して、連続溶融重合を行ってポリウレタンを製造した。生成したポリウレタンの溶融物をストランド状で水中に連続的に押出した後、ペレタイザーでペレット状に細断し、このペレットを70℃で5時間、更に90℃で5時間除湿乾燥することにより、硬度(JIS−D硬度)が84、軟化温度が95℃であるポリウレタン(以下、これをPU−1と略称する)を製造した。PU−1の70℃における貯蔵弾性率(E’70)は1.0×1010dyn/cm2であり、0℃における貯蔵弾性率(E’0)は1.4×1010dyn/cm2であった。両者の比率(E’0/E’70)は1.4であった。
【0058】
参考例2
数平均分子量500のポリ(ヘキサメチレンカーボネート)ジオール〔略号:PHC〕、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)及び1,4−シクロヘキサンジメタノール(CHDM)〔鎖伸長剤〕を使用して、PHC:MDI:CHDMのモル比が1:9.7:8.7(窒素原子の含有率:6.5重量%)となるような割合で使用したこと以外は参考例1と同様にして、硬度(JIS−D硬度)が85、軟化温度が110℃であるポリウレタン(以下、これをPU−2という)を製造した。PU−2の70℃における貯蔵弾性率(E’70)は1.5×1010dyn/cm2であり、0℃における貯蔵弾性率(E’0)は2.0×1010dyn/cm2であった。両者の比率(E’0/E’70)は1.3であった。
【0059】
参考例3
数平均分子量500のポリ(3−メチルペンタンジオールアジペート)ジオール〔PMPA〕、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、1,4−シクロヘキサンジメタノール(CHDM)〔鎖伸長剤〕と1,4−ブタンジオール(略号:BD)〔鎖伸長剤〕を使用して、PMPA:MDI:CHDM:BDのモル比が1:9.7:7.0:1.7(鎖伸長剤におけるCHDMの比率:80モル%、窒素原子の含有率:6.6重量%)となるような割合で使用したこと以外は参考例1と同様にして、硬度(JIS−D硬度)が83、軟化温度が90℃であるポリウレタン(以下、これをPU−3という)を製造した。PU−3の70℃における貯蔵弾性率(E’70)は8.8×109dyn/cm2であり、0℃における貯蔵弾性率(E’0)は1.5×1010dyn/cm2であった。両者の比率(E’0/E’70)は1.7であった。
【0060】
参考例4
数平均分子量500のポリ(ヘキサメチレンカーボネート)ジオール〔略号:PHC〕、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、1,4−シクロヘキサンジメタノール(CHDM)〔鎖伸長剤〕とプロパンジオール(略号:PD)〔鎖伸長剤〕を使用して、PHC:MDI:CHDM:PDのモル比が1:6.0:2.5:2.5(鎖伸長剤におけるCHDMの比率:50モル%、窒素原子の含有率:6.6重量%)となるような割合で使用したこと以外は参考例1と同様にして、硬度(JIS−D硬度)が85、軟化温度が100℃であるポリウレタン(以下、これをPU−4という)を製造した。PU−4の70℃における貯蔵弾性率(E’70)は1.6×1010dyn/cm2であり、0℃における貯蔵弾性率(E’0)は2.0×1010dyn/cm2であった。両者の比率(E’0/E’70)は1.25であった。
【0061】
参考例5
数平均分子量500のポリ(3−メチルペンタンジオールアジペート)ジオール〔PMPA〕、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、シクロヘキサンジメタノール(CHDM)〔鎖伸長剤〕と1,4−ブタンジオール(略号:BD)〔鎖伸長剤〕を使用して、PMPA:MDI:CHDM:BDのモル比が1:5.0:0.8:3.2(鎖伸長剤におけるCHDMの比率:20モル%、窒素原子の含有率:6.5重量%)となるような割合で使用したこと以外は参考例1と同様にして、硬度(JIS−D硬度)が83、軟化温度が120℃であるポリウレタン(以下、これをPU−5という)を製造した。PU−5の70℃における貯蔵弾性率(E’70)は6.8×109dyn/cm2であり、0℃における貯蔵弾性率(E’0)は2.0×1010dyn/cm2であった。両者の比率(E’0/E’70)は2.9であった。
【0062】
参考例6
数平均分子量1500のポリ(3−メチルペンタンジオールアジペート)ジオール〔PMPA〕、1,4−ブタンジオール(BD)〔鎖伸長剤〕および4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)を、PMPA:MDI:BDのモル比が1:5.5:4.5(窒素原子の含有率:4.7重量%)となるような割合で使用したこと以外は参考例1と同様にして、硬度(JIS−D硬度)が53、軟化温度が125℃、融解ピーク温度が190℃である熱可塑性ポリウレタン(以下、これをPU−6という)を製造した。PU−6の70℃における貯蔵弾性率(E’70)は3.8×108dyn/cm2であり、0℃における貯蔵弾性率(E’0)は1.1×1010dyn/cm2であった。両者の比率(E’0/E’70)は28.9であった。
【0063】
実施例1
ポリウレタン(PU−1)を単軸押出成形機(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度215〜230℃、ダイス温度230℃にて、T−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度110℃、圧力7MPaの条件下で5時間、二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素を1.6重量%(飽和量)含むガス溶解シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次に、得られたガス溶解シートを110℃のシリコンオイル中に3分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.70g/cm3、気泡サイズは20〜60μm、硬度(JIS−C硬度)が96であった。
得られた発泡体(シート状物)の表面を研削し、気泡を表面に露出させて、さらに格子状の溝を設けて研磨パッドとした。
【0064】
実施例2
ポリウレタン(PU−2)を単軸押出成形機(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度215〜230℃、ダイス温度230℃にて、T−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度110℃、圧力8MPaの条件下で5時間、二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素を2重量%(飽和量)を含むガス溶解シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次に、得られたガス溶解シートを130℃のシリコンオイル中に3分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.80g/cm3、気泡サイズは20〜50μm、硬度(JIS−C硬度)が96であった。
得られた発泡体(シート状物)の表面を研削して気泡を表面に露出させ、さらに格子状の溝を設けて、研磨パッドとした。
【0065】
実施例3
ポリウレタン(PU−3)を単軸押出成形機(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度215〜230℃、ダイス温度230℃にて、T−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度120℃、圧力7MPaの条件下で5時間、二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素を1.8重量%(飽和量)を含むガス溶解シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次に、得られたガス溶解シートを110℃のシリコンオイル中に3分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.68g/cm3、気泡サイズは30〜60μm、硬度(JIS−C硬度)が95であった。
【0066】
実施例4
ポリウレタン(PU−4)を単軸押出成形機(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度215〜230℃、ダイス温度230℃にて、T−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度120℃、圧力7MPaの条件下で5時間、二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素を1.9重量%(飽和量)を含むガス溶解シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次に、得られたガス溶解シートを120℃のシリコンオイル中に3分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.68g/cm3、気泡サイズは20〜60μm、硬度(JIS−C硬度)が94であった。
【0067】
実施例5
ポリウレタン(PU−1)を射出成形機に仕込み、シリンダー温度215〜230℃、ノズル温度230℃、金型温度50℃で、厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度110℃、圧力8MPaの条件下で5時間、二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素を1.8重量%(飽和量)を含むガス溶解シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次に、得られたガス溶解シートを110℃のシリコンオイル中に3分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.70g/cm3、気泡サイズは20〜50μm、硬度(JIS−C硬度)が96であった。
【0068】
比較例1
ポリウレタン(PU−5)を単軸押出成形機(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度180〜230℃、ダイス温度230℃にて、T−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度120℃、圧力8MPaの条件下で5時間、二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素を1.8重量%(飽和量)を含むガス溶解シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次に、得られたガス溶解シートを130℃のシリコンオイル中に3分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.73g/cm3、気泡サイズは20〜40μm、硬度(JIS−C硬度)が93であった。得られた発泡体(シート状物)の表面を研削し、気泡を表面に露出させて、さらに格子状の溝を設けて研磨パッドとした。このウレタンの70℃における貯蔵弾性率(E’70)と0℃における貯蔵弾性率(E’0)の比率(E’0/E’70)が2.9であるため、硬度の温度変化が大きい研磨パッドであった。
【0069】
比較例2
熱可塑性ポリウレタン(PU−5)を単軸押出成形機(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度180〜210℃、ダイス温度210℃にて、T−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度50℃、圧力8MPaの条件下で5時間、二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素を7.5重量%(飽和量)を含むガス溶解シートを得た。室温まで冷却した後、圧力を常圧とし、ガス溶解シートを耐圧容器から取り出した。次に、得られたガス溶解シートを140℃のシリコンオイル中に3分間浸漬した後に取り出し、室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.70g/cm3、気泡サイズは20〜40μm、硬度(JIS−C硬度)が38であった。
【0070】
実施例6
ポリウレタン(PU−1)を単軸押出成形機(65mmφ)に仕込み、シリンダー温度215〜225℃、ダイス温度225℃にて、T−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmのシートを成形した。次に、得られたシート(5cm×10cm)を耐圧容器に入れ、温度160℃、圧力7MPaの条件下で5時間、二酸化炭素を溶解させ、次いで、温度を160℃に保ったまま10分間で常圧まで圧力を低下させて、発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.75g/cm3、気泡サイズは20〜60μm、硬度(JIS−C硬度)が97であった。
【0071】
実施例7
ポリウレタン(PU−1)を単軸押出機(50mmφ、L/D=28)に供給し、シリンダー温度210〜225℃で溶融させるのと同時にシリンダー中間部より二酸化炭素を圧力15MPaで注入し、混練後、180℃に調温された40cm幅のT−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、成形と同時に発泡を行い、厚さ2mmの発泡シートを製造した。この際のシートの引き取り速度は0.5m/分であった。得られた発泡体の密度は0.75g/cm3、気泡サイズは20〜60μm、硬度(JIS−C硬度)は97であった。
得られた発泡体(シート状物)の表面を研削し、気泡を表面に露出させて、研磨パッドとした。
【0072】
実施例8
ポリウレタン(PU−2)を単軸押出機(50mmφ、L/D=28)に供給し、シリンダー温度210〜225℃で溶融させるのと同時にシリンダー中間部より二酸化炭素を圧力10MPaで注入、混練後、180℃に調温された40cm幅のT−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmの発泡シートを製造した。この際のシートの引き取り速度は0.5m/分であった。得られた発泡体の密度は0.80g/cm3、気泡サイズは40〜80μm、硬度(JIS−C硬度)は99であった。
【0073】
実施例9
ポリウレタン(PU−3)を単軸押出機(50mmφ、L/D=28)に供給し、シリンダー温度210〜225℃で溶融させるのと同時にシリンダー中間部より二酸化炭素を圧力8MPaで注入、混練後、180℃に調温された40cm幅のT−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmの発泡シートを製造した。この際のシートの引き取り速度は0.5m/分であった。得られた発泡体の密度は0.78g/cm3、気泡サイズは30〜80μm、硬度(JIS−C硬度)は99であった。
【0074】
比較例3
熱可塑性ポリウレタン(PU−6)を単軸押出機(50mmΦ、L/D=28)に供給し、シリンダー温度210〜225℃で溶融させるのと同時にシリンダー中間部より二酸化炭素を圧力15MPaで注入、混練後、180℃に調温された40cm幅のT−ダイより押出し、60℃に調温したギャップ間隔1.8mmのロールを通過させて、厚さ2mmの発泡シートを製造した。この際のシートの引き取り速度は0.5m/分であった。得られた発泡体の密度は0.70g/cm3、気泡サイズは20〜40μm、硬度(JIS−C硬度)は38であった。
【0075】
実施例10
熱可塑性ポリウレタン(PU−1)を射出成形機に供給し、シリンダー温度210〜225℃で溶融させるのと同時にシリンダー中間部より二酸化炭素を圧力10MPaで注入、混練した後、50℃に調温された金型中に40cm3/秒の充填速度(充填時間:1.25秒)で注型し、室温まで冷却した後、金型を開放して、厚さ2mmの未発泡シートを製造した。次に得られたシートを110℃のシリコンオイル中に3分間浸漬した後、室温まで冷却して発泡体を得た。得られた発泡体の密度は0.85g/cm3、気泡サイズは40〜80μm、硬度(JIS−C硬度)は97であった。
【0076】
【発明の効果】
本発明によれば、均一な発泡構造を有するポリウレタン発泡体およびその製造方法並びに該発泡体よりなる研磨パッドが提供される。本発明の研磨パッドは、ケミカルメカニカル研磨に有用であり、半導体ウェハー等を高精度に、かつ高効率に研磨することを目的として使用することができる。本発明の研磨パッドは、特に、被研磨面の平坦性、平坦化効率の向上が達成でき、かつ研磨の作業中の温度変動に対して硬度変化が少ない。
【0077】
本発明の発泡体は、均一な発泡構造を有していることから、大型の研磨パッドとした場合でも均質な研磨特性を発揮することができる。また、大型の研磨パッドとして、複数の物品を同時に研磨することも可能であり、しかも、その際、得られた研磨後の物品間での品質のばらつきが少ない。従って、半導体等、CMPを利用して研磨が行われる製品の生産性の向上にも寄与する。
Claims (5)
- 数平均分子量が400〜2000である高分子ジオール、有機ジイソシアネートおよび50モル%以上が1,4−シクロヘキサンジメタノールである鎖伸長剤を反応させて得られる、イソシアネート基由来の窒素原子の含有率が6重量%以上であるポリウレタンに非反応性ガスを加圧条件下で溶解させた後、圧力を開放し、該ポリウレタンを軟化温度以上の温度で発泡させて得られる、密度が0.5〜1.0g/cm3、気泡サイズが5〜200μmであるポリウレタン発泡体。
- 非反応性ガスが二酸化炭素または窒素である請求項1記載の発泡体。
- ポリウレタンの70℃における貯蔵弾性率E’70が7×109dyn/cm2以上である請求項1または2に記載の発泡体。
- ポリウレタンの0℃における貯蔵弾性率E’0と70℃における貯蔵弾性率E’70の比率(E’0/E’70)が1.8以下である請求項1から3のいずれか1項に記載の発泡体。
- 請求項1から4のいずれか1項の発泡体からなる研磨パッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002192932A JP3983610B2 (ja) | 2002-07-02 | 2002-07-02 | 熱可塑性ポリウレタン発泡体およびそれからなる研磨パッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002192932A JP3983610B2 (ja) | 2002-07-02 | 2002-07-02 | 熱可塑性ポリウレタン発泡体およびそれからなる研磨パッド |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004035669A JP2004035669A (ja) | 2004-02-05 |
JP2004035669A5 JP2004035669A5 (ja) | 2005-06-23 |
JP3983610B2 true JP3983610B2 (ja) | 2007-09-26 |
Family
ID=31702021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002192932A Expired - Lifetime JP3983610B2 (ja) | 2002-07-02 | 2002-07-02 | 熱可塑性ポリウレタン発泡体およびそれからなる研磨パッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3983610B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012141328A1 (ja) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
WO2012141327A1 (ja) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
WO2012141329A1 (ja) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
WO2013058183A1 (ja) | 2011-10-18 | 2013-04-25 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050171224A1 (en) * | 2004-02-03 | 2005-08-04 | Kulp Mary J. | Polyurethane polishing pad |
JP4701066B2 (ja) * | 2005-01-25 | 2011-06-15 | 東レ株式会社 | ポリウレタンフォームおよびその製造方法 |
JP4950564B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2012-06-13 | 株式会社クラレ | 高分子材料、それから得られる発泡体およびこれらを用いた研磨パッド |
JP4994894B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2012-08-08 | 株式会社クラレ | 樹脂発泡体およびそれからなる研磨パッド |
JP5716293B2 (ja) * | 2010-05-19 | 2015-05-13 | 東洋紡株式会社 | 脂肪族ポリエステルポリウレタン |
JP5629749B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-11-26 | 東洋ゴム工業株式会社 | 研磨パッドの製造方法 |
CN104830047B (zh) * | 2014-05-09 | 2017-10-24 | 晋江国盛新材料科技有限公司 | 利用彩色tpu发泡粒子、片材制备成型体、薄片的方法 |
CN107000157B (zh) * | 2014-11-28 | 2019-12-13 | 株式会社可乐丽 | 抛光层用成型体及抛光垫 |
JP6438833B2 (ja) * | 2015-04-27 | 2018-12-19 | 株式会社クラレ | シート、シートを用いた研磨パッド、及びシートの製造方法 |
JP2016202817A (ja) * | 2015-04-28 | 2016-12-08 | 株式会社大都製作所 | 遊技用媒体研磨材 |
-
2002
- 2002-07-02 JP JP2002192932A patent/JP3983610B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012141328A1 (ja) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
WO2012141327A1 (ja) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
WO2012141329A1 (ja) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
KR20140035374A (ko) | 2011-04-15 | 2014-03-21 | 후지보홀딩스가부시끼가이샤 | 연마 패드 및 그의 제조 방법 |
KR20140035375A (ko) | 2011-04-15 | 2014-03-21 | 후지보홀딩스가부시끼가이샤 | 연마 패드 및 그의 제조 방법 |
US9011212B2 (en) | 2011-04-15 | 2015-04-21 | Fujibo Holdings, Inc. | Polishing pad and manufacturing method therefor |
US9381612B2 (en) | 2011-04-15 | 2016-07-05 | Fujibo Holdings, Inc. | Polishing pad and manufacturing method therefor |
US10065286B2 (en) | 2011-04-15 | 2018-09-04 | Fujibo Holdings, Inc. | Polishing pad and manufacturing method therefor |
WO2013058183A1 (ja) | 2011-10-18 | 2013-04-25 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド及びその製造方法 |
KR20140075795A (ko) | 2011-10-18 | 2014-06-19 | 후지보홀딩스가부시끼가이샤 | 연마 패드 및 그의 제조 방법 |
US9149905B2 (en) | 2011-10-18 | 2015-10-06 | Fujibo Holdings, Inc. | Polishing pad and method for producing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004035669A (ja) | 2004-02-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6979701B2 (en) | Thermoplastic polyurethane foam, process for production thereof and polishing pads made of the foam | |
JP5193595B2 (ja) | 高分子材料、それから得られる発泡体及びこれらを用いた研磨パッド | |
JP3983610B2 (ja) | 熱可塑性ポリウレタン発泡体およびそれからなる研磨パッド | |
CN107000157B (zh) | 抛光层用成型体及抛光垫 | |
JP3649385B2 (ja) | 熱可塑性エラストマー微孔質発泡体、その製造方法および研磨シート | |
JP4115124B2 (ja) | 熱可塑性ポリウレタン発泡体およびその製造方法並びに該発泡体からなる研磨パッド | |
JP4994894B2 (ja) | 樹脂発泡体およびそれからなる研磨パッド | |
JP2008184597A (ja) | 研磨パッドの製造方法 | |
JP2007091898A (ja) | 樹脂発泡体及びこれを用いた研磨パッド | |
JP4950564B2 (ja) | 高分子材料、それから得られる発泡体およびこれらを用いた研磨パッド | |
JP4994807B2 (ja) | 発泡体の製造方法 | |
JP4474208B2 (ja) | 樹脂発泡体およびそれからなる研磨パッド | |
JP2004123975A (ja) | ポリウレタン発泡体およびそれからなる研磨パッド | |
CN112423933B (zh) | 抛光层用聚氨酯、抛光层及抛光垫 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040928 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040928 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070612 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070704 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100713 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3983610 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110713 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120713 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130713 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140713 Year of fee payment: 7 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |