JP3937798B2 - 干渉計及び位置計測装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、干渉計及び位置計測装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図3は、光源として半導体レーザーを使用した従来の干渉計の概略構成を示す図である。半導体レーザー1aから射出された波長λのレーザー光束20は、コリメーターレンズ2aで平行光とされた後、偏光ビームスプリッター4に入射して測定光20aと参照光20bに分割される。光束20aは、1/4λ板5bを透過した後、集光レンズ6により被測定物7に集光される。一方、偏光ビームスプリッター4で反射された光束20bは、1/4λ板5aを透過した後、参照鏡8で反射される。被測定物7、参照鏡8で反射された両光束は、再び1/4λ板5b,5aをそれぞれ透過した後、測定光は偏光ビームスプリッター4で反射され、参照光は偏光ビームスプリッター4を透過して、それらは合波光束21となって1/4λ板5cに入射する。
【0003】
光束21はそれを構成する測定光及び参照光のうち測定光のみが変調されているので、1/4λ板5cを透過した光束は直線偏光の偏光方向が回転する。その後、光束は非偏光ビームスプリッター10に入射し光束22、23に分割される。その後、光束22、23は、それぞれ互いに45度光学軸を傾けた偏光板11a、11bを通過して光電センサー12a、12bに入射する。これにより、光電センサー12a、12bでは、互いに90度位相の異なる図4に示すようなサイン波信号(以後、一方をA相信号、他方をB相信号と呼ぶ)が生じる。被測定物7の変位に応じて光束21の偏光方向が回転するので、被測定物7の変位に応じて信号値が変化するλ/2を一周期とするサイン波信号が得られる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような干渉を利用した変位計は、例えば、回転している軸等を測定するために使用されうる。傷等の散乱部分にレーザー光を照射すると、その反射光に様々な位相の光束が混在することにより、これに起因してスペックルパターンが生じる。スペックルパターンとは、光の粒状パターンである。スペックルパターンと参照光とを干渉させた場合、複数のスペックルのそれぞれの干渉信号がランダムな位相を持つためにセンサー上の干渉光信号が平均化され、いわゆるドロップアウト状態になる。
【0005】
被検体物7の変位は、光電センサーからのA相、B相のサイン波信号をカウンターでカウントしたカウント値と、A相とB相の位相情報に基づいて計算されうる。したがって、ドロップアウト時には変位情報の計算に必要なカウント値が更新されないので、信号が復活するまでに被検物体7がカウンター作動距離以上の変位をしていると、その分は誤差となる。回転する軸では一回転ごとに同一部分でドロップアウトが生じ、また軸の挙動は回転に同期した軸ぶれが大部分を占めるため、ドロップアウト時に軸はほぼ同じ様な挙動を示す。よって、一回転ごとにドロップアウト時の誤差が累積され無限にずれていく。
【0006】
以上のように、回転体の測定では誤差が無限に累積していくという問題を抱えていた。
【0007】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、例えば、ドロップアウトに起因する誤差の発生を防止することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の側面は、測定光束を被検体物で反射させ、参照光束を参照鏡で反射させ、両反射光束を合波して合波光束とし、該合波光束より干渉光束を得る干渉光学系を有する干渉計に係り、第1、第2波長を含むレーザー光束を分割して、前記測定光束及び前記参照光束として、前記第1、第2波長をそれぞれ含む測定光束及び参照光束を生成する光学系と、前記第1、第2波長を含む干渉光束により前記第1、第2波長についてそれぞれ形成される第1、第2明暗パターンをそれぞれ電気信号に変換する第1、第2光電センサーとを備え、前記レーザー光束の可干渉距離をL、前記第1波長をλ1、前記第2波長をλ2としたときに、
λ1×{λ1÷(λ2−λ1)}/2≧L
を満たすことを特徴とする。
【0009】
本発明の好適な実施形態によれば、前記レーザー光束を形成するための光源は、2つのマルチモードレーザーを含みうる。
【0010】
本発明の好適な実施形態によれば、前記干渉計は、前記第1、第2光電センサーに前記第1、第2波長の光束をそれぞれ入射させるための第1、第2バンドパスフィルターを更に備えうる。
【0015】
本発明の位置計測装置は、上記の干渉計を利用して被検体物の位置を計測することを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態を説明する。
【0017】
[第1の実施の形態]
図1は、本発明の好適な実施の形態に係る、半導体レーザーを利用した干渉計(位置計測装置)の概略構成を示す図である。なお、図1において、図3と同様の構成要素には同一の符号が付されている。
【0018】
波長λ1のレーザー光を発生する半導体レーザー1aから射出されたレーザー光束20aは、コリメーターレンズ2aで平行光束にされた後、偏光ビームスプリット面3aを透過する。一方、波長λ2のレーザー光を発生する半導体レーザー1bは、偏光方向が半導体レーザー1aと垂直方向になるように設置されている。半導体レーザー1bから射出されたレーザー光束20bは、コリメーターレンズ2bで平行光束にされた後、偏光ビームスプリット面3aで反射される。偏光ビームスプリット面3aを透過した光束と偏光ビームスプリット面3aで反射された光束とは合波されλ1、λ2が混在する光束20となり、その後、偏光ビームスプリット面3bでP波とS波に分離される。偏光ビームスプリット面3bで反射された光束は、参照光束21となり1/4λ波長板を透過して反射ミラー4で反射される。一方、偏光ビームスプリット面3bを透過した光束は、測定光束22として1/4λ波長板5bを透過して集光レンズ6で集光されて被検物体7に照射される。このとき、測定光22は被検物体7の反射面に集光される。
【0019】
被検物体7の反射面で反射された光束22は、反射前と同一の光路を通ってビームスプリット面3bに入射し、今度は反射される。一方、参照光束21は、反射ミラー4で反射された後、反射前と同一の光路を通ってビームスプリット面3bに入射し、今度は透過して測定光と合波され光束23となる。光束23は、その後、非偏光ビームスプリッター8に入射し、反射光は光束24、透過光は光束25となる。
【0020】
ここで、光束22の集光点を参照光束21が反射される反射面4と波動光学的な等光路長になるように集光レンズ6のパワーを設定しておけば、半導体レーザーを使用した干渉計として最大の効果を発揮する。つまり、波面で考えると、被検物体7の反射面からの反射光と参照光としての反射面4からの帰り光とが、両方とも平行光として合波される。
【0021】
光束24は、波長λ1の光を透過するバンドパスフィルター13aを透過し、その透過光はλ1の情報のみを持つ。波長λ1の光束は、1/4λ板9aを透過することで直線偏光となり、偏光情報としての偏光方向は被検物体7の変位に基づいて回転する。偏光方向が回転する直線偏光の光束24は、非偏光ビームスプリッター10aで分割され、透過光は偏光板11aを透過し、反射光は偏光板11bを透過し、それぞれ光の明暗信号となって光電センサー12a、12bに入射し電気信号に変換される。電気信号は、被検物体7の反射面の1/2λ1分の移動を1周期とするサイン波となる。偏光板11a、11bは、それぞれ偏光軸が45度傾いて設置してあり、光電センサー12a、12bから出力されるサイン波の電気信号は、互いに90度位相が異なる信号(以後、一方をA相、他方をB相と呼ぶ)となる。
【0022】
一方、非偏光ビームスプリッター8を透過した光束25は、波長がλ2の光を透過するバンドパスフィルター13bを透過し、その透過光はλ2の情報のみを持つ。その透過光は、1/4λ板13bを透過し、光束24と同様に、非偏光ビームスプリッター10bで2分割された後、偏光板11c、11dをそれぞれ透過し光電センサー12c、12dに入射して電気信号に変換される。光電センサー12c、12dから出力される電気信号は、被検物体の1/2λ2分の移動を1周期とするサイン波となる。偏光板11c、11dは、それぞれ偏光軸が45度傾けて設置してあり、光電センサー12c、12dから出力されるA相、B相の電気信号は、互いに90度位相の異なるサイン信号となる。
【0023】
例えば20μmの軸ぶれをもって回転している直径4mmの軸であって0.5mm幅の傷や面欠陥があるものを測定する場合を考えると、0.5mm幅の傷で信号ドロップアウトが生じたときに、外周の約1/25の部分で信号が欠落することになる。これはドロップアウト中に軸の反射面(表面)が±約2μm変位する可能性を意味する。つまり、この場合、4μmの測定範囲において2波長λ1、λ2で得られる2つのサイン信号の位相が一致しないように該2波長λ1、λ2を設定することにより、ドロップアウトを生じても、ドロップアウトから回復した時点で再び正しい値で軸の反射面位置の測定が開始できることになる。
【0024】
より具体的には、幅4μmの測定範囲において、それぞれλ1、λ2の波長を持つ光より得られる2つのサイン信号の位相が重ならないように該λ1、λ2を(1)式を満たすように設定すれば、回転軸の面位置或いは軸ぶれを高精度に測定することができる。
【0025】
λ1×{λ1÷(λ2−λ1)}/2≧4μm ・・・(1)
例えば、2つの半導体レーザー1a、1bが発生するレーザー光の波長をλ1=650nm、λ2=680nmとすると、センサー12a、12bからは1周期が650/2=325nmのサイン波信号が出力され、センサー12c、12dからは1周期が680/2=340nmのサイン波信号が出力される。図2のa,bはセンサー12a、12bの出力信号波形の一例、図2のc、dはセンサー12c、12dの出力波形の一例である。センサー12a、12bの出力サイン波信号とセンサー12c、12dの出力サイン波信号の位相とが一致した状態になるのは±約6μm先であるので、(1)式を十分に満たし、20μmの軸ぶれをもって回転している直径4mmの軸であって0.5mm幅の傷を有するものであっても、その面位置の測定が可能であると言える。
【0026】
上記の軸の測定例は極端な例であり、通常の軸ぶれ測定では、軸径が直径4mmよりも大きく、しかも軸上に存在する傷が0.5mmよりも狭い。したがって、上記の波長の設定例は、ほぼあらゆる局面における回転軸の測定に対応することができる。
【0027】
以上のように、所定の測定範囲において2波長λ1、λ2で得られる2つのサイン信号(周期信号)の位相が一致しないように該2波長λ1、λ2を設定することにより、同一箇所で2つのサイン信号の双方がドロップアウトを生じることがないため、高精度で軸の面位置を測定することができる。
【0028】
[第2の実施の形態]
本発明の第2の実施の形態は、第1の実施の形態に記載した光学構成において光源1a、1bとしてそれぞれマルチモードの半導体レーザーを使用している他、波長λ1、λ2の設定が異なる。この実施の形態の干渉計は、2波長の光を利用して得られる2つのサイン信号の位相が、マルチモード半導体レーザーの可干渉距離範囲内で同一位相にならないように設定されている。つまり、マルチモード半導体レーザーの可干渉距離をLとすると、(2)式を満たせば、レーザー干渉変位計の測定範囲内において2波長λ1、λ2を利用して得られる2つのサイン波の位相が一致しない。したがって、回転軸の面位置或いは軸ぶれを高精度で測定することができる。
【0029】
λ1×{λ1÷(λ2−λ1)}/2≧L ・・・(2)
具体的には、マルチモードレーザーの可干渉距離を200μmとすると、λ1=650nm、λ2=652nmのとき、可干渉距離が200μmの範囲において2つのサイン信号の位相が一致した状態になることはない。
【0030】
【発明の効果】
本発明の干渉計及び位置計測装置によれば、例えば、ドロップアウトに起因する誤差の発生を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の好適な実施の形態の干渉計(位置計測装置)の概略構成を示す図である。
【図2】図1に示す干渉計(位置計測装置)の光電センサーの出力信号を概略的に示す図である。
【図3】従来の干渉計の概略構成を示す図である。
【図4】従来式の干渉計の光電センサーの出力信号の概略的に示す図である。
【符号の説明】
1a、1b 半導体レーザー
2a、2b コリメーターレンズ
3a、3b 偏光ビームスプリッター
5a、5b、5c、9a、9b 1/4λ板
6 集光レンズ
7 被検体物
8、10、10a、10b 非偏光ビームスプリッター
11a、11b、11c、11d 偏光板
12a、12b、12c、12d 光電センサー
20a、20b、20、21、22、23、24、25 光束
Claims (4)
- 測定光束を被検体物で反射させ、参照光束を参照鏡で反射させ、両反射光束を合波して合波光束とし、該合波光束より干渉光束を得る干渉光学系を有する干渉計であって、
第1、第2波長を含むレーザー光束を分割して、前記測定光束及び前記参照光束として、前記第1、第2波長をそれぞれ含む測定光束及び参照光束を生成する光学系と、
前記第1、第2波長を含む干渉光束により前記第1、第2波長についてそれぞれ形成される第1、第2明暗パターンをそれぞれ電気信号に変換する第1、第2光電センサーとを備え、
前記レーザー光束の可干渉距離をL、前記第1波長をλ1、前記第2波長をλ2としたときに、
λ1×{λ1÷(λ2−λ1)}/2≧L
を満たすことを特徴とする干渉計。 - 前記レーザー光束を形成するための光源が2つのマルチモードレーザーを含むことを特徴とする請求項1に記載の干渉計。
- 前記第1、第2光電センサーに前記第1、第2波長の光束をそれぞれ入射させるための第1、第2バンドパスフィルターを更に備えることを特徴とする請求項1に記載の干渉計。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の干渉計を有し、該干渉計を利用して被検体物の位置を計測することを特徴とする位置計測装置。
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