JP3773073B2 - 非球面形状測定装置及び方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、非球面により構成されるレンズ、ミラーなどの光学素子の表面形状を、高精度に測定するための非球面形状測定装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、光の干渉を利用した面形状測定では、フィゾー干渉計などを用いて、被検面の設計形状に対応した波面を有する測定光を形成し、その測定光の被検面からの反射光と参照光を干渉させることによって、被検面と測定光の波面の差を計測している。被検面が非球面形状の場合には、容易に非球面波が得られるゾーンプレートなどの回折光学素子あるいは回折光学素子とレンズの組み合わせが波面形成手段として用いられている。
上記のような面形状測定においては、被検面形状を高精度に知るには、被検面に入射させる測定光の波面形状を高精度に測定しておくか、或いは、あらかじめ他の測定手段によって高精度に形状測定された設計形状とほぼ一致した面を参照原器として、この参照原器と被検面の比較測定を行う必要がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、被検面が非球面形状の場合、非球面波面を高精度に測定することや、高精度に測定された非球面参照原器を得ることは困難であり、高精度な形状測定は困難であった。
そこで、本発明は、非球面形状の被検面の形状を高精度に測定する非球面形状測定装置及び方法を得ることを課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、光源からの一部の光を、参照面で反射させて参照光とし、他の一部の光を、波面形成手段を介して被検非球面で反射させて測定光とし、測定光を参照光と干渉させて干渉縞を形成し、干渉縞に基づいて被検面の面形状を測定する非球面形状測定装置において、波面形成手段は、回折光学素子あるいは回折光学素子とレンズ作用を有する光学系との組み合わせで構成され、回折光学素子は、波面形成手段全体として、被検面の面形状に対応した非球面波を発生する第1回折パターンと、非球面波を較正するための球面波を発生する第2回折パターンとを有し、第1回折パターン及び第2回折パターンは、回折光学素子の同一面に形成され、且つ同一の製造工程により形成され、第1及び第2パターンを用いて非球面波の波面形状を較正することを特徴とする非球面形状測定装置である。
【0005】
本発明は、また、回折光学素子あるいは回折光学素子とレンズ作用を有する光学系との組み合わせからなる波面形成手段を有する形状測定装置において、波面形成手段全体として、被検面の面形状に対応した非球面波を発生する第1回折パターンと球面波を発生する第2回折パターンとを有し、第1回折パターン及び第2回折パターンが、同一面に形成され、且つ同一の製造工程により形成された回折光学素子を用い、光源からの一部の光を、参照面で反射させて参照光とし、他の一部の光を、波面形成手段を介して被検面で反射させて測定光とし、測定光を参照光と干渉させて干渉縞を形成し、干渉縞に基づいて被検非球面の面形状と非球面波の波面形状との差を測定する工程と、被検面を基準球面に置き換えることにより、基準球面の面形状と球面波の波面形状との差を測定する工程と、基準球面の面形状と球面波の波面形状との差に基づいて、非球面波の波面形状を較正することにより、被検面の面形状を算出する工程と、からなる非球面形状測定方法である。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施例に係る非球面形状測定装置の配置図を図1に示す。
本実施例に係る非球面形状測定装置は、フィゾー干渉計によって構成されている。光源ユニット1から出射した直線偏光した光ビームLは、コリメータレンズ2で平行光に変換されて、偏光ビームスプリッター3に入射する。この光ビームLの偏光面は、偏光ビームスプリッター3で反射されるように選ばれている。
偏光ビームスプリッター3で反射された光ビームLは、1/4波長板4を経て、フィゾー部材5ヘ入射する。フィゾー部材5に入射した光ビームLは、フィゾー部材5の参照平面5aを透過する測定光LMと、参照平面5aで反射される参照光LRに分割される。
【0007】
測定光LMは、ゾーンプレート6へ入射し、ゾーンプレート6を透過して、被検非球面7に入射する。被検非球面7で反射された測定光LMは、ゾーンプレート6、及び1/4波長板4を順次経て、偏光ビームスプリッター3へ入射する。
一方、参照平面5aで反射された参照光LRも、測定光LMと同様に1/4波長板4を経て、偏光ビームスプリッター3へ入射する。
測定光LMと参照光LRは、1/4波長板を往復で2度透過し、偏光面が90度回転するため、偏光ビームスプリッター3を透過する。
偏光ビームスプリッター3を透過した測定光LMと参照光LRは、ビームエクスパンダー8でビーム径を変換され、2次元画像検出器9に入射する。
2次元画像検出器9では、入射した測定光LMと参照光LRによって形成される干渉縞が観察される。
なお、図1では、フィゾー部材5の参照平面5aは、ゾーンプレート6側に設けられているが、偏光ビームスプリッター3側に設けてもよい。
【0008】
本実施例に係る非球面形状測定装置に用いるゾーンプレート6の平面図を図2に示す。ゾーンプレート6には、パターンPa及びパターンPbが、同一面上に形成され、且つ同一の製造プロセスで形成されている。
なお、図1では、パターンPa及びパターンPbは、ゾーンプレート6の被検非球面7側の面上に形成しているが、フィゾー部材5側の面上に形成してもよい。
【0009】
図3(a)は、ゾーンプレート6のパターンPaにより回折された光ビームの状態を表す断面図であり、図3(b)は、パターンPbにより回折された光ビームの状態を表す断面図である。
パターンPaは、被検非球面7に対応した非球面波を発生させる回折パターンである。図3(a)に示したように、このパターンPaで回折された光ビームは、被検非球面7の設計形状に対して、垂直に入射するよう設計されている。
一方パターンPbは、パターンPaにより発生させた非球面波を較正するためのものであり、球面波を発生させる回折パターンである。図3(b)に示したように、このパターンPbで回折された光ビームは、所定の焦点位置Fに集光するように設計されている。
【0010】
本実施例に係る非球面形状測定装置を用いて、被検非球面7での非球面波の波面形状と、被検非球面の面形状との差を、次のように測定する。
先ず被検非球面7を光路内に挿入する。ゾーンプレート6から発生する非球面波と球面波のうち、球面波は被検非球面7に垂直に入射しないから、ゾーンプレート6に戻ったときの波面は球面波から大きくはずれ、したがって往路の光路から大きくはずれる。
他方、ゾーンプレート6から発生する非球面波は、被検非球面7の設計形状に対して垂直に入射するように設計されているから、被検非球面7で反射した後、往路の波面形状をほぼ維持して往路を逆進し、したがってほぼ平面波となって参照光LRと干渉する。
この干渉縞を解析することにより、被検非球面7の位置での非球面波の波面形状WAと、被検非球面の面形状WMとの差φTA=WA−WMを測定することができる。
【0011】
しかしながら、ゾーンプレート6に形成されるパターンPa、Pbには、ゾーンプレート6の製造過程において生じる、設計値からの誤差を含んでいる。このため、被検非球面7の位置での非球面波には、このパターンPaのパターン誤差に基づく波面形状誤差が存在する。すなわち、被検非球面7の位置での非球面波形状WAは、設計上の非球面波形状をW′A、波面形状誤差をWE1とすると、次式のように表される。
このため、非球面波形状WAを較正する必要がある。
【0012】
非球面波形状WAを較正するため、本実施例に係る非球面形状測定装置において、被検非球面7を、基準球面としての参照原器10に置き換える。
ゾーンプレート6のパターンPbによる回折光の焦点距離をf、参照原器10の曲率半径をrとして、ゾーンプレート6から距離f+rの位置に、参照球面10aが一致するように参照原器10を設置する。
【0013】
ゾーンプレート6から発生する非球面波と球面波のうち、非球面波は参照球面10aに垂直に入射しないから、ゾーンプレート6に戻ったときの波面は所定の非球面波から大きくはずれ、したがって往路の光路から大きくはずれる。
他方、ゾーンプレート6から発生する球面波は、参照球面10aに対して垂直に入射するように設計されているから、参照球面10aで反射した後、往路の波面形状をほぼ維持して往路を逆進し、したがってほぼ平面波となって参照光LRと干渉する。
この干渉縞を解析することにより、参照球面10aの位置での球面波の波面形状WBと、参照原器10の参照球面形状WSとの差φTB=WB−WSを測定することができる。参照球面形状WSは高精度に測定されているため、パターンPbで発生する球面波の波面形状WBを高精度で知ることができる。
前述したパターンPaによる非球面波の場合と同様に、パターンPbによる球面波は、パターンPbのパターン誤差に基づく波面形状誤差WE2を含んでいる。参照球面10aの位置における球面波形状をWB、設計上の球面波形状をW′Bとすると、次式により、球面波の波面形状誤差WE2を知ることができる。
【0014】
つぎに、パターンPaにより発生した非球面波に含まれる波面形状誤差WE1と、パターンPbにより発生した球面波に含まれる波面形状誤差WE2との関係について説明する。
ゾーンプレートは、パターン1周期に対して波長λの光路差が得られるものである。したがって、ゾーンプレート上のある位置でのパターン位置が、設計値からδだけずれた場合、その位置でのパターン周期の設計値をLとすると、得られた光路差の設計値からのずれ、すなわち、ゾーンプレート6上のある点で回折された光に対応する波面形状誤差WEは、次式のように表される。
【0015】
(3)式より、パターンPaの設計上のピッチをL1、そのパターンのずれ量をδ1とし、パターンPbの設計上のピッチをL2、そのパターンのずれ量をδ2とすると、ゾーンプレート6上の1点を透過する、非球面波の波面形状誤差WE1及び球面波の波面形状誤差WE2は、それぞれ以下のように表される。
【0016】
一方、ゾーンプレート6のパターンPa及びパターンPbは、同一面上に、且つ同一の製造プロセスで形成されている。したがって、パターンPa及びパターンPbが、ゾーンプレート6上に形成される際の製造条件は同一であるから、パターンPa及びパターンPbのパターンのずれ量δ1、δ2は、同じとみなすことができ、(4)式、(5)式より、以下の関係式が得られる。
【0017】
したがって、(2)式から得られた球面波の波面形状誤差WE2と、(6)式から、非球面波の波面形状誤差WE1を求めることができる。
これにより、(1)式から、ゾーンプレート6のパターンPaにより発生した、実際の非球面波形状WAを知ることができ、この非球面波形状WAと被検面形状WMとの差の測定値φTAにより、被検面7の面形状を高精度で測定することができる。
【0018】
本実施例では、図1のように参照平面5aと非球面波形成手段であるゾーンプレート6を用いたが、図4に示すように、球面波形成手段11と球面波形成手段で形成される球面波と同心の参照球面12を設け、球面波を被検非球面に対応した非球面波面に変換するゾーンプレート13を備えた構成としてもよい。
なお本実施例に係る非球面形状測定装置及び方法では、フィゾー干渉計を利用したが、トワイマン−グリーン干渉計を用いることも可能である。
【0019】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ゾーンプレートの第2の回折パターンから発生する球面波を高精度に測定し、第1の回折パターンから発生する非球面波を高精度に較正することによって、非球面形状の被検面の形状を高精度に測定することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る非球面形状測定装置の配置図
【図2】本実施例に係る非球面形状測定装置に用いるゾーンプレート6の平面図
【図3】(a)ゾーンプレート6のパターンPaにより回折された光ビームの状態を表す断面図、及び(b)パターンPbにより回折された光ビームの状態を表す断面図
【図4】非球面波形成手段を模式的に示した図
【符号の簡単な説明】
1…光源ユニット 2…コリメータレンズ
3…偏光ビームスプリッター 4…1/4波長板
5…フィゾー部材 5a…参照平面
6、13…ゾーンプレート 7…被検面
8…ビームエクスパンダー 9…2次元画像検出器
10…球面参照原器 10a、12…参照球面
11…球面波形成手段
Claims (4)
- 光源からの一部の光を、参照面で反射させて参照光とし、他の一部の光を、波面形成手段を介して被検非球面で反射させて測定光とし、該測定光を前記参照光と干渉させて干渉縞を形成し、該干渉縞に基づいて前記被検面の面形状を測定する非球面形状測定装置において、
前記波面形成手段は、回折光学素子で構成され、該回折光学素子は、前記被検面の面形状に対応した非球面波を発生する第1回折パターンと、前記非球面波を較正するための球面波を発生する第2回折パターンとを有し、前記第1回折パターン及び前記第2回折パターンは、前記回折光学素子の同一面に形成され、且つ同一の製造工程により形成され、前記第1及び第2パターンを用いて前記非球面波の波面形状を較正することを特徴とする非球面形状測定装置。 - 光源からの一部の光を、参照面で反射させて参照光とし、他の一部の光を、波面形成手段を介して被検非球面で反射させて測定光とし、該測定光を前記参照光と干渉させて干渉縞を形成し、該干渉縞に基づいて前記被検面の面形状を測定する非球面形状測定装置において、
前記波面形成手段は、回折光学素子とレンズ作用を有する光学系との組み合わせで構成され、前記回折光学素子は、前記レンズ作用を有する光学系との組み合わせで、前記被検面の面形状に対応した非球面波を発生する第1回折パターンと、前記非球面波を較正するための球面波を発生する第2回折パターンとを有し、前記第1回折パターン及び前記第2回折パターンは、前記回折光学素子の同一面に形成され、且つ同一の製造工程により形成され、前記第1及び第2パターンを用いて前記非球面波の波面形状を較正することを特徴とする非球面形状測定装置。 - 被検非球面の面形状に対応した非球面波を発生する第1回折パターンと、球面波を発生する第2回折パターンとを有し、前記第1回折パターン及び前記第2回折パターンが、同一面に形成され、且つ同一の製造工程により形成された回折光学素子を波面形成手段に用い、光源からの一部の光を、参照面で反射させて参照光とし、他の一部の光を、前記波面形成手段を介して前記被検面で反射させて測定光とし、該測定光を前記参照光と干渉させて干渉縞を形成し、該干渉縞に基づいて前記被検非球面の面形状と前記非球面波の波面形状との差を測定する工程と、前記被検面を基準球面に置き換えることにより、前記基準球面の面形状と前記球面波の波面形状との差を測定する工程と、前記基準球面の面形状と球面波の波面形状との前記差に基づいて、前記非球面波の波面形状を較正することにより、前記被検面の面形状を算出する工程と、からなる非球面形状測定方法。
- レンズ作用を有する光学系との組み合わせにおいて、被検非球面の面形状に対応した非球面波を発生する第1回折パターンと、球面波を発生する第2回折パターンとを有し、前記第1回折パターン及び前記第2回折パターンが、同一面に形成され、且つ同一の製造工程により形成された回折光学素子と、前記レンズ作用を有する光学系の組み合わせを波面形成手段に用い、光源からの一部の光を、参照面で反射させて参照光とし、他の一部の光を、前記波面形成手段を介して前記被検面で反射させて測定光とし、該測定光を前記参照光と干渉させて干渉縞を形成し、該干渉縞に基づいて前記被検非球面の面形状と前記非球面波の波面形状との差を測定する工程と、前記被検面を基準球面に置き換えることにより、前記基準球面の面形状と前記球面波の波面形状との差を測定する工程と、前記基準球面の面形状と球面波の波面形状との前記差に基づいて、前記非球面波の波面形状を較正することにより、前記被検面の面形状を算出する工程と、からなる非球面形状測定方法。
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