JPH05296722A - 測定装置 - Google Patents

測定装置

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JPH05296722A
JPH05296722A JP4101319A JP10131992A JPH05296722A JP H05296722 A JPH05296722 A JP H05296722A JP 4101319 A JP4101319 A JP 4101319A JP 10131992 A JP10131992 A JP 10131992A JP H05296722 A JPH05296722 A JP H05296722A
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diffracted light
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 偏光ビームスプリッタを用いて光束分離を行
ない、回折格子で回折させた後に再び偏光ビームスプリ
ッタで合波して光源側とは別の方向に出射する装置で、
出射方向設定の為のλ/4板を挿入する事による構成の
複雑化、光量減少を防止する。 【構成】 コーナーキューブCCを、P波とS波の1回
回折光が反射して回折格子に再入射して発生した2回回
折光が、偏光ビームスプリッタPBSの、それぞれの出
射側とは反対側に入射する様に配置した。これによりλ
/4板なしに、偏光ビームスプリッタPBSで光源側と
は別方向に合波光束を出射できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は回折格子を用いて物体の
微小な変位までも測定可能とする測長装置である。
【0002】
【従来の技術】回折格子にレーザー光を入射し、この時
発生する回折光同志を干渉させ、この干渉光の強度が回
折格子の移動に応じて周期的に変化する事を利用して、
干渉光検出信号から回折格子の移動量を検出する、いわ
ゆる格子干渉測長装置は、その検出精度の高さ、小型構
成から、計測装置、製造装置等に幅広く用いられてい
る。
【0003】従来の格子干渉測長としては以下の様なも
のが知られている。レーザー光源からの光を偏光ビーム
スプリッタでP波とS波に分離し、それぞれを回折格子
に入射している。そしてそれぞれから発生する回折光を
反射手段で再度回折格子に入射させ、それぞれの2回目
の回折光が最初の入射光路を逆行して再び偏光ビームス
プリッタに入射する様にしている。
【0004】この時各光路中にはλ/4板が挿入されて
おり、それぞれの光束は、2回回折して偏光ビームスプ
リッタにもどってくる時にはP波がS波に、S波はP波
に変換されている。従って、偏光ビームスプリッタにも
どって来た2光束は、偏光ビームスプリッタによってレ
ーザー光源とは反対側方向に出射される。この出射した
2光束を検光子を通過させて干渉させ、光検出器によっ
て検出する事により、回折格子の移動量を検出してい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来例では1
つの偏光ビームスプリッタにより2つのビームの分離と
合波を行なっている。この為光源から偏光ビームスプリ
ッタへの入射方向と、2回回折光の偏光ビームスプリッ
タから光検出器への出射方向とを異ならせる為にλ/4
板を光路中に挿入している。
【0006】本発明は上述従来例に鑑み、偏光ビームス
プリッタの様な光束分離手段によって光束の合波を行な
う形態の測定装置において、上述のλ/4板の様な光束
の出射方向を決定する為の部材なしに装置を構成する事
を可能にして、構成の簡素化、光量の減少防止を実現す
る測定装置を提供する事を第1の目的とする。
【0007】これとは別に本発明はヘテロダイン法を用
いた格子干渉型の測定装置において、参照信号を発生す
る為の2光束ができるだけ変位検出用の信号を発生する
為の2光束と同じ光路を経由して、空気ゆらぎ、光学部
品の不均質性等の測定誤差要因を相殺できる様にした測
定装置を提供する事を第2の目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上述の第1の目的を達成
する為本発明は、回折格子との間の相対移動を検出する
測定装置において、光束発生手段と、該光束発生手段か
らの光束の内第一の光束成分を第一の側に透過し第二の
光束成分を第二の側に反射する機能を有する光束分割手
段と、前記回折格子からの回折光を再び前記回折格子に
入射させるための光偏向手段と、前記回折格子からの回
折光の干渉を検出する事により前記回折格子の相対移動
を検出するための検出手段とを有し、前記光偏向手段は
前記光束分割手段からの第一の光束成分が前記回折格子
に入射して発生した回折光を再び前記回折格子に入射さ
せて発生した二回回折光を前記光束分割手段の前記第二
の側に入射させ、且つ前記光束分割手段からの第二の高
速成分が前記回折格子に入射して発生した回折光を再び
回折格子に入射させて発生した二回回折光を前記光束分
割手段の前記第一の側に入射させ、前記光束分割手段は
前記第一の側に入射した第二の光束成分の二回回折光を
反射し且つ前記第二の側に入射した第一の光束成分の二
回回折光を透過する事によって両二回回折光を合波し、
前記検出手段は前記光束分割手段からの合波された光束
の干渉を検出する様にしている。
【0009】又本発明は、回折格子との間の相対移動を
検出する測定装置において、第一の周波数を有する第一
の光束成分と第二の周波数を有する第二の光束成分を含
む光束を発生する光束発生手段と、該光束発生手段から
の光束の干渉を検出して参照信号を得るための参照側検
出手段と、該光束発生手段からの光束の内第一の光束成
分を第一の側に透過し第二の光束成分を第二の側に反射
する機能を有する光束分割手段と、前記回折格子からの
回折光を再び前記回折格子に入射させるための光偏向手
段と、前記回折格子からの回折光の干渉を検出する事に
より前記回折格子の相対移動の検出用の検出信号を得る
ための測定側検出手段とを有し、前記光偏向手段は前記
光束分割手段からの第一の光束成分が前記回折格子に入
射して発生した回折光を再び前記回折格子に入射させて
発生した二回回折光を前記光束分割手段の前記第二の側
に入射させ、且つ前記光束分割手段からの第二の光束成
分が前記回折格子に入射して発生した回折光を再び前記
回折格子に入射させて発生した二回回折光を前記光束分
割手段の前記第一の側に入射させ、前記光束分割手段は
前記第一の側に入射した第二の光束成分の二回回折光を
反射し且つ前記第二の側に入射した第一の光束成分の二
回回折光を透過する事によって両二回回折光を合波し、
前記測定側検出手段は前記光束分割手段からの合波され
た光束の干渉を検出し、前記参照側検出手段で得られた
参照信号と前記測定側検出手段から得られた検出信号と
の位相差から前記回折格子の相対移動が検出される様に
している。
【0010】更に、前述の第2の目的を達成する為に本
発明は、回折格子との間の相対移動を検出する測定装置
において、光束発生手段と、該光束発生手段からの光束
が前記回折格子に入射して発生した第一の回折光を再び
前記回折格子に入射させると共に該光束発生手段からの
光束が前記回折格子に入射して発生した第一の回折光と
は回折次数の異なる第二の回折光を再び前記回折格子に
入射させる為の光偏光手段と、前記光偏光手段から前記
回折格子に再入射した第一及び第二の回折光それぞれよ
り発生する、前回の回折とは次数の絶対値が等しく符号
が異なる二回回折光同士の干渉を検出する参照側検出手
段と、前記光偏向手段から前記回折格子に再入射した第
一及び第二の回折光それぞれより発生する、前記参照側
検出手段の検出すべき二回回折光とは異なる二回回折光
同士の干渉を検出する測定側検出手段と、を有し、前記
参照側検出手段で得られた参照信号と前記測定側検出手
段から得られた検出信号との位相差から前記回折格子の
相対移動が検出される様にしている。
【0011】
【実施例】以下図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。
【0012】図1において、まずゼーマンレーザー、も
しくは2つの直交する直線偏光の周波数がそのビート信
号が電気的に観測可能な程度に異なるような2周波数の
レーザー光を発生する光源LSからの光をミラーMを経
由して図に示すような偏光ビームスプリッタユニット
(PBSユニット)PBSUに入射させる。
【0013】このPBSユニットは中央が偏光ビームス
プリッターPBSになっているため、点P1で、透過す
るP波と反射するS波に分かれる。2つの直線偏光は、
このPBSユニットPBSUを出射した後それぞれ点P
2、P3で回折格子GSに入射する。このとき、点P2
でのP波の+1次回折光と点P3でのS波の−1次回折
光が回折格子GSに対して垂直に出射され、コーナーキ
ューブプリズムCCで反射して戻って来る光がそれぞれ
回折格子GS上の点P3,P2で回折されるように光源
からの光線の角度を調整する。
【0014】点P2でのP波の+1次回折光(回折1回
目)はコーナーキューブプリズムCCにより反射し、点
P3で回折格子GSに垂直に入射する。このうち、2回
回折光の片方(+1次回折光)は点P4でミラーM2に
より全反射する。点P5で再び偏光ビームスプリッター
PBSに入射するが、P波であるので透過し(即ち光源
LSとは反対側に出射する)、PBSユニットを出て偏
光フィルターPF1を通って受光素子PD1へ入射す
る。点P3より発生するもう一方の2回回折光(−1次
回折光)もP波であり、点P1でPBSを透過してPF
2を通ってPD2へ入射する。
【0015】一方、点P3でのS波の−1次回折光(回
折1回目)はコーナーキューブプリズムCCにより反射
し、点P2で回折格子GSに垂直に入射する。このう
ち、2回回折光の片方(−1次回折光)は点P6でミラ
ーM1により全反射する。点P5で再び偏光ビームスプ
リッターPBSに入射すると、S波であるので反射する
(即ち、これも光源LSとは反対側に出射する)。また
同時にこのP5で前述したP波(2回+1次回折した光
束)と合波し、偏光フィルターPF1を通過して受光素
子PD1に入射する。点P2でのもう一方の2回回折光
(+1次回折光)もS波であるので点P1で偏光ビーム
スプリッタPBSで反射し、このとき前述したP波(最
初に+1次回折し、次に−1次回折した光束)と合波し
て、偏光フィルターPF2を通過して受光素子PD2に
入射する。
【0016】受光素子PD1,PD2で得られる信号
は、2つの光の周波数差を周波数とする光ヘテロダイン
信号である。このとき、偏光フィルターPF1,PF2
の偏光方位は偏光面を揃えて干渉させるため、P波とS
波の偏光面に対して45°の傾きの方向である。
【0017】P波の周波数をf1とし、ω1=2πf1
すると回折格子入射前のP波は、 u1=aexp{i(ω1t)} と表される。一方、S波の周波数をf2とし、ω2=2π
2とすると回折格子入射前のS波は、 u2=bexp{i(ω2t)} と表される。
【0018】点P1→P2→コーナーキューブCC→P
3→P4→P5と通って受光素子PD1に入射するP波
の光(2回+1次回折された光束)はP2で回折する際
に、回折格子GSの移動量xに対する位相δが加算さ
れ、P3で再び位相δが加算されるため、受光素子PD
1に入射するP波の光は、 u′1=a′exp{i(ω1t+2δ)} と表される。一方、点P1→P2→コーナーキューブC
C→P3→P1と通過して、受光素子PD2に入射する
P波(最初に+1次回折され、次に−1次回折された光
束)は、点P2で回折する際に位相δが加算されるが、
点P3での回折で位相δが減算されるため、 u″1=a″exp{i(ω1t)} で表される。
【0019】S波に関しては、点P1→P3→コーナー
キューブCC→P2→P6→P5と通って受光素子PD
1に入射する光(2回−1次回折された光束)は、P3
とP2の2点で回折の際に回折格子GSの移動量xに対
する位相δが減算されるので、 u′2=b′exp{i(ω2t−2δ)} と表される。一方、点P1→P3→コーナーキューブC
C→P2→P1と通過して、受光素子PD2に入射する
S波(最初に−1次回折され、次に+1次回折された光
束)は点P3で位相δが減算され、点P2で位相δが加
算されるので、 u″2=b″exp{i(ω2t)} である。
【0020】以上より、受光素子PD1で得られる光ヘ
テロダイン信号(これを検出信号とする)は、光電変換
の後、 IPD1=a′2+b′2+2a′b′cos{(ω1−ω2)t+4δ} であり、受光素子PD2で得られる光ヘテロダイン信号
(これを参照信号とする)は、光電変換の後、 IPD2=a″2+b″2+2a″b″cos{(ω1−ω2)t} となる。これらの周波数は、f1とf2の差に等しく、回
折格子の移動に対し位相に4δだけ差ができる。回折格
子GSの格子定数をdとすると、GSの移動量xに対し
て1回の回折で回折光に加減される位相δは、 δ=2πx/d であるので、IPD1とIPD2の位相差4δを位相差検出器
PDDによって検出するとGSの移動量xが求められ
る。回折格子の格子定数d=1.6[μm]とすると2
π[rad]の位相差が検出された場合、
【0021】
【外1】 より、x=0.4[μm]移動したことがわかる。
【0022】この様に、偏光ビームスプリッタを透過し
たP波の回折光をコーナーキューブによって偏向し、回
折格子に再入射した光の2回目回折光が再び偏光ビーム
スプリッタに最初と同じ側から入射している。同様に偏
光ビームスプリッタを反射したS波の回折光をコーナー
キューブによって偏向し、回折格子に再入射した光の2
回目回折光が再び偏光ビームスプリッタに最初と逆側か
ら入射している。これによって最終的にPBSユニット
から出射する2光束は光源方向とは異なる方向に出射し
ている。この様にしてλ/4板等を必要とせずに光源と
は異なる方向に出射する構成を達成している。
【0023】又この装置では検出信号を形成する2光束
のそれぞれと、参照信号を形成する2光束のそれぞれ
は、2回目の回折が行なわれるまでは同一光路を経由す
る様になっており、途中に空気のゆらぎや光学部品の不
均質性等の誤差要因が発生しても、最終的に両信号に同
じ影響を与えて、その影響を相殺する様にしている。
【0024】図2は反射回折光を用いた構成による実施
例である。前記実施例と同様に僅かに異なる2周波数f
1,f2の偏光面が互いに直交しているような2波長のレ
ーザー光を発生する光源LSからの光を入射し、PBS
ユニットPBSU2内の偏光ビームスプリッターPBS
により、点P1でP波とS波に分け、それぞれ点P2,
P3で回折格子GSに入射する。このとき点P2での+
1次(反射)回折光と点P3での−1次(反射)回折光
がGSに対して垂直に出射するように入射光の角度を調
整する。これらの回折光はコーナーキューブプリズムC
Cによってそれぞれ点P3,P2に戻され再び回折す
る。
【0025】2度目の回折をした光は、点P4,P6で
ミラーM1,M2により反射され、点P5で偏光ビーム
スプリッタPBSにより光源方向とは別方向に出射かつ
合波され、偏光フィルターPF1を通って受光素子PD
1に入射する(同じ次数で2度回折された)ものと、点
P1で光源方向とは別方向に出射かつ合波して偏光フィ
ルターPF2を通って、受光素子PD2に入射する(1
度目と2度目で異なる次数で回折された)ものがある。
受光素子PD1,PD2の前の偏光フィルターPF1,
PF2の偏光方位は2つの光の偏光面を揃えて干渉させ
るためP波とS波に対して45°の傾きを持つ方向であ
る。
【0026】P波の周波数をf1とし、ω1=2πf1
すると、回折格子入射前のP波は u1=aexp{i(ω1t)} と表される。点P1→P2→コーナーキューブCC→P
3→P4→P5を通って受光素子PD1に入射する(2
回+1次回折された)光は、回折格子GSの移動量xに
よる位相δが2回加算され、 u′1=a′exp{i(ω1t+2δ)} と表される。一方、点P1→P2→コーナーキューブC
C→P3→P1と通って受光素子PD2に入射する(+
1次回折され、−1次回折された)光は、点P2で位相
δが加算されるが点P3で位相δが減算されるため、 u″1=a″exp{i(ω1t)} と表される。
【0027】S波の周波数をf2とし、ω2=2πf2
すると、回折格子入射前のS波は u2=bexp{i(ω2t)} と表される。点P1→P3→コーナーキューブCC→P
2→P6→P5を通って受光素子PD1に入射する(2
回−1次回折された)光は、回折格子GSの移動量xに
よる位相δが2回減算され、 u′2=b′exp{i(ω2t−2δ)} と表される。一方、点P1→P3→コーナーキューブC
C→P2→P1を通って受光素子PD2に入射する(−
1次回折され、+1次回折された)光は、点P3で位相
δが減算されるが点P2で位相δが加算されるため、 u″2=b″exp{i(ω2t)} と表される。
【0028】受光素子PD1で得られる光ヘテロダイン
信号(検出信号)は、u′1,u′2より光電変換の後、 IPD1=a′2+b′2+2a′b′cos{(ω1−ω2)t+4δ} であり、受光素子PD2で得られる光ヘテロダイン信号
(参照信号)は、u″1,u″2より光電変換の後、 IPD2=a″2+b″2+2a″b″cos{(ω1−ω2)t} となる。IPD1,IPD2の周波数は、f1,f2の差で、回
折格子の移動に伴いS位差は4δだけずれる。回折格子
GSの格子定数をd,GSの移動量をxとすると、1回
の回折で回折光に加減される位相δは、 δ=2πx/d であるので、IPD1とIPD2を位相差検出器に入力し、位
相差4δを検出すると、回折格子GSの移動量xが計算
できる。
【0029】図3は前述の2つの実施例と異なり、2周
波数を用いずに直線偏光の傾きから位相差を検出する方
式による実施例である。従来例としては、特開昭58−
191907に挙げられたものがある。直線偏光したレ
ーザー光を発生する光源LS′からの光を、偏光面がP
BSユニットPBSU3中の偏光ビームスプリッターP
BSへの入射面に対して45°の傾きを持つように位相
差板WPを挿入する。P波とS波は前述の図1の実施例
の検出信号を発生する為の2光束と同様な光路を作り、
回折格子の移動量xに対する位相差の情報を持ってPB
Sの点P5に至る。ここで二つの光線は合波し、その後
結晶方向がPBSの入射面に対して45°の傾きを持つ
λ/4板WQを通過する。この位相差板によって出てき
た直線偏光は回折格子の移動量に応じて偏光面が回転す
るようになる。これをビームスプリッターBSによって
2光線に分離する。受光素子PD1とPD2の前には偏
光方位が互いに45°の傾きを持つ2つの偏光板PF1
とPF2がそれぞれおいてある。回折格子GSが一定の
速度でx方向に変位をするときの受光素子PD1,PD
2で得られる信号は図4の(a),(b)に示す通りで
ある。すなわち回折格子が一定の速度で一方向に変位す
るときには偏光面は回転する。6a,6bの前の偏光板
は互いに45°傾いているので回折格子が一定の速度で
変位すると、光電変換された強度信号の位相は図4
(a),(b)に示したR,Sのように90°位相がず
れたものとなる。従ってこの2つの信号を(c),
(d)に示すように2値化し、その立ち上りと立ち下が
りのタイミングで(e)に示すようにパルスを発生さ
せ、その数を計数することによって回折格子1の移動量
を計測できる。また、その計数時には回折格子1の移動
方向を考慮して、加算又は減算かを決定すればよい。
【0030】ここまでの3つの実施例に関しては、偏光
ビームスプリッターPBSによって偏光成分が分離され
てから直接回折格子に入射したが、後述する図5の点線
の光路のようにPBSによって分離された後、まず全反
射ミラーによって反射してから回折格子に入射しても同
様の効果が得られる。
【0031】図5は図1、2の実施例に比較して分解能
を2倍にするものである。
【0032】2波長の偏光面が直交している光束を発生
する光源LSからの光をハーフミラーHMで2本にわ
け、一つの光は図1に示した実施例における検出信号を
発生する為の2光束と同様な光路を通る。P波の周波数
をf1として、ω1=2πf1とし、S波の周波数をf2
して、ω1=2πf1とすると、回折格子の位相δが回折
の際に加減され、受光素子PD1へ入射するP波(2回
+1次回折された光束)は、 u′1=a′exp{i(ω1t+2δ)} で表され、S波(2回−1次回折された光束)は、 u′2=b′exp{i(ω2t−2δ)} と表される。従って、受光素子PD1で得られる光ヘテ
ロダイン信号は光電変換の後、 IPD1=a′2+b′2+2a′b′cos{(ω1−ω2)t+4δ) } である。
【0033】HMで分かれたもう一方の光は、ミラーM
を経て図5の点線のように光学系を通り、回折格子の位
相が回折時に加減され、受光素子PD2へ入射する。即
ち偏光ビームスプリッタPBSで分離されてから合波さ
れるまで点線に示すP波、S波は、それぞれ実線で示す
P波、S波の光路を逆行する光路を略進行して、合波後
に受光素子PD2に向かう。ただしこの光をPBSユニ
ットに入射するとき、実線で示される光が受光素子PD
2に混入しないように光路を少しずらし、かつ受光素子
PD2の前にピンホールHPを前に挿入してある。(受
光素子PD1の前にも破線で示す光が入射しない様同様
なピンホールHPを挿入してある。)波線のP波(2回
−1次回折された光)は、 u″1=a″exp{i(ω1t+2δ)} で表され、同様に波線のS波(2回+1次回折された
光)は、 u″2=b″exp{i(ω2t−2δ)} と表されるので、受光素子PD2で得られる光ヘテロダ
イン信号は光電変換の後、 IPD2=a″2+b″2+2a″b″cos{(ω1−ω2)t+4δ)} である。
【0034】PD1とPD2の信号は周波数は同じで、
回折格子の移動に伴い位相に8δの差ができる。ここで
回折格子GSの移動に伴って1回の回折で各回折光に加
減される位相は、格子定数をdとして、 δ=2πx/d と表されるので位相差検出器PDDで検出される位相差
から格子の変位が計算できる。本実施例においては前述
の図1、2の実施例での位相差4δと比較して回折格子
の所定移動量に対する発生位相差が8δと2倍になって
いる。
【0035】この2倍分解能方式は、図2のようにコー
ナーキューブを回折格子のPBSユニット側にPBSユ
ニットに密着させて置く構成により反射型回折格子でも
可能となる。
【0036】図6は更に別の実施例である。
【0037】図6において、光源LSから出射される光
は入射面内の偏光成分と入射面に垂直な偏光成分とで、
光電変換後にそのビートが電気的に検出可能な程度に周
波数が異なる2周波数光である。光源から出た光はまず
ハーフミラーHMで2本の光に分離される。HMで反射
された光は受光素子PD2で光電変換される。その際に
偏光成分をそろえて互いに干渉するように偏光方向が4
5度であるような偏光板PF2が受光素子PD2の前に
挿入されている。受光素子PD2で得られる信号は2つ
の光の周波数差を周波数とするビート信号である。
【0038】一方、ハーフミラーHMを透過した光は中
央に偏光ビームスプリッターPBS、両側に2枚の全反
射ミラーM1,M2をもつPBSユニットPBSUに入
射する。偏光ビームスプリッターPBSに入射した光は
P偏光とS偏光に分離され、それぞれ点P2、P3で回
折格子GSに入射する。PBSユニットに入射する光は
点P2、P3からの回折光が格子から垂直に出射するよ
うにPBSユニットに入射する。2本の回折光はコーナ
ーキューブCCで反射され、点P3からの光は点P2
へ、点P2からの光は点P3へ入射するように設定す
る。再び回折格子に入射された光は一回目の回折次数と
同じ次数で回折をすると、P偏光は全反射ミラーM2の
点P4、S偏光は全反射ミラーM1で点P6で反射され
る。その後P偏光はPBSの点P5で透過し、S偏光は
同じ点P5で反射されて受光素子PG1に入射する。そ
の際に偏光成分がそろえて互いに干渉するように偏光方
向が45度であるような偏光板PF1が受光素子PD1
の前に挿入されている。受光素子PD1で光電変換後に
得られる信号は2周波数の差を周波数とするビート信号
であり、その位相には回折格子の位相が加えられてい
る。
【0039】受光素子PD1とPD2の信号を位相差検
出器PDDに入力することによって2つのビート信号の
位相差が検出されるがこの位相差は回折格子の変位量に
相当するので回折格子のピッチと位相差から以下のよう
に格子の変位が測定できる。
【0040】1回の回折で各回折光に加減される位相δ
は、回折格子の格子定数をd、変位量をxとしたとき、 δ=2πx/d と表され、検出される2つのビート信号の位相差は4δ
であるので、変位量xはx=dδ/4×2πである。
【0041】図7は図6の実施例を反射回折光を用いて
構成した実施例である。前記実施例と同様に僅かに異な
る2周波数f1,f2の偏光面が互いに直交しているよう
な2波長のレーザー光を発生する光源LSからの光をハ
ーフミラーHMで2つに分離し、一方の光は偏光フィル
ターPF2を通って受光素子PD2へ入射し、光電変換
されてそのビート信号が検出される。
【0042】もう一方の光は、図2に示した実施例にお
ける検出信号を発生するための2光束と同様な光路を通
る。即ちPBSユニットPBSU5内の偏光ビームスプ
リッターPBSにより、点P1でP波とS波に分け、そ
れぞれ点P2,P3で回折格子GSに入射する。このと
き点P2での+1次反射回折光と点P3での−1次反射
回折光がGSに対して垂直に出射するように入射光の角
度を調整する。これらの回折光はコーナーキューブプリ
ズムCCによってそれぞれ点P3,P2に戻され再び同
じ次数の回折をする。2度目の回折をした光は、点P
4,P6でミラーM1,M2により反射され、点P5で
偏光ビームスプリッターPBSにより光源とは別方向に
出射かつ合波され、偏光フィルターPF1を通って受光
素子PD1に入射する。PD1,PD2の前の偏光フィ
ルターPF1,PF2の偏光方位は2つの異なる周波数
の偏光の偏光面を揃えて干渉させるためP波とS波に対
して45°の傾きを持つ方向である。
【0043】P波の周波数をf1とし、ω1=2πf1
すると、回折格子入射前のP波は u1=aexp{i(ω1t)} で表される。S波の周波数をf2とし、ω2=2πf2
すると、回折格子入射前のS波は u2=bexp{i(ω2t)} と表される。
【0044】点P1→P2→コーナーキューブCC→P
3→P4→P5を通って受光素子PD1に入射する(2
回+1次反射回折された)光は、回折格子GSの移動量
xによる位相δが2回加算され、 u′1=a′exp{i(ω1t+2δ)} で表される。点P1→P3→コーナーキューブCC→P
2→P6→P5を通って受光素子PD1に入射する(2
回−1次反射回折された)光は、回折格子GSの移動量
xによる位相δが2回減算され、 u′2=b′exp{i(ω2t−2δ)} と表される。
【0045】ハーフミラーHMで反射された光には位相
の変化はないので、P波は u″1=a″exp{i(ω1t)} で表され、S波は、 u″2=b″exp{i(ω2t)} と表される受光素子PD1で得られる光ヘテロダイン信
号(検出信号)は、u′1,u′2より光電変換の後、 IPD1=a′2+b′2+2a′b′cos{(ω1−ω2)t+4δ)} であり、受光素子PD2で得られる光ヘテロダイン信号
(参照信号)は、u″,u″より光電変換の後、 IPD2=a″2+b″2+2a″b″cos{(ω1−ω2))t} となる。IPD1,IPD2の周波数はf1,f2の差で、回折
格子の移動に伴い位相差は4δだけずれている。回折格
子GSの格子定数をd,GSの移動量をxとすると、1
回の回折で回折光に加減される位相はδは δ=2πx/d であるので、IPD1とIPD2を位相差検出器に入力し、位
相差4δを検出すると、回折格子GSの移動量xが計算
できる。
【0046】図1,2,3,4,6,7に示した実施例
はいずれも、光源LSからPBSユニットに入射した光
は偏光ビームスプリッターPBSによって偏光成分が分
離されてから直接回折格子に入射したが、以下に述べる
図8に示す実施例は光源LSからPBSユニットPBS
Uに入射した光は偏光ビームスプリッターPBSによっ
て偏光成分が分離されて2光束に分かれてからそれぞれ
全反射ミラーM1,M2で反射された後に回折格子に入
射する実施例である。
【0047】ハーフミラーHMで反射された光は図7の
実施例における参照信号を発生するための2光束と同様
なので、図8の受光素子のPD2は図7の実施例の受光
素子PD2と同じ光ヘテロダイン信号を得る。また、H
Mを透過してPBSユニットPBSUに入射する光は、
図5に示した実施例における波線で示したP波、S波と
同様な光路を通るため、図8の受光素子PD1で得られ
る光ヘテロダイン信号(検出信号)は図5の受光素子P
D2で得られる光ヘテロダイン信号と同様な式で表され
る。したがって、図8の受光素子PD2の光ヘテロダイ
ン信号(参照信号)とPD1の光ヘテロダイン信号(検
出信号)は位相に4δのずれがあり、これを位相差検出
装置PDDで検出することにより、回折格子の変位量が
計算できる。
【0048】
【発明の効果】以上述べてきた様に第1の目的に対応し
た本発明によれば、装置の簡素化かつ光量の損失防止が
可能になった。
【0049】又、第2の目的に対応した本発明によれ
ば、空気ゆらぎや光学部品の不均質性等の影響を減少さ
せた装置構成が可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基本的な光学系及び位相差検出系を示
すものである。
【図2】本発明を反射型回折格子を用いた場合に応用し
た実施例を示す。
【図3】本発明を2波長レーザーを用いずに直線偏光の
偏光面の傾きを利用して格子の変位を測定する場合に応
用した実施例を示す。
【図4】図3の測長装置の検出器による信号とその処理
の過程を示す図である。
【図5】本発明を用いて2倍分解能を得る方式の実施例
を示す。
【図6】本発明の更に別の実施例を示す。
【図7】本発明の更に別の実施例を示す。
【図8】本発明の更に別の実施例を示す。
【符号の説明】
LS 光源 Mミラー HMハーフミラー PBS 偏光ビームスプリッター GS 回折格子 PF1,PF2 偏光フィルター PD1,PD2 受光素子 CC コーナーキューブプリズム WQ位相差板(λ/4板) BS ビームスプリッター WP位相差板 HMハーフミラー PDD 位相差検出器

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回折格子との間の相対移動を検出する測
    定装置において、光束発生手段と、該光束発生手段から
    の光束の内第一の光束成分を第一の側に透過し第二の光
    束成分を第二の側に反射する機能を有する光束分割手段
    と、前記回折格子からの回折光を再び前記回折格子に入
    射させるための光偏向手段と、前記回折格子からの回折
    光の干渉を検出する事により前記回折格子の相対移動を
    検出するための検出手段とを有し、前記光偏向手段は前
    記光束分割手段からの第一の光束成分が前記回折格子に
    入射して発生した回折光を再び前記回折格子に入射させ
    て発生した二回回折光を前記光束分割手段の前記第二の
    側に入射させ、且つ前記光束分割手段からの第二の高速
    成分が前記回折格子に入射して発生した回折光を再び回
    折格子に入射させて発生した二回回折光を前記光束分割
    手段の前記第一の側に入射させ、前記光束分割手段は前
    記第一の側に入射した第二の光束成分の二回回折光を反
    射し且つ前記第二の側に入射した第一の光束成分の二回
    回折光を透過する事によって両二回回折光を合波し、前
    記検出手段は前記光束分割手段からの合波された光束の
    干渉を検出する事を特徴とする測定装置。
  2. 【請求項2】 回折格子との間の相対移動を検出する測
    定装置において、第一の周波数を有する第一の光束成分
    と第二の周波数を有する第二の光束成分を含む光束を発
    生する光束発生手段と、該光束発生手段からの光束の干
    渉を検出して参照信号を得るための参照側検出手段と、
    該光束発生手段からの光束の内第一の光束成分を第一の
    側に透過し第二の光束成分を第二の側に反射する機能を
    有する光束分割手段と、前記回折格子からの回折光を再
    び前記回折格子に入射させるための光偏向手段と、前記
    回折格子からの回折光の干渉を検出する事により前記回
    折格子の相対移動の検出用の検出信号を得るための測定
    側検出手段とを有し、前記光偏向手段は前記光束分割手
    段からの第一の光束成分が前記回折格子に入射して発生
    した回折光を再び前記回折格子に入射させて発生した二
    回回折光を前記光束分割手段の前記第二の側に入射さ
    せ、且つ前記光束分割手段からの第二の光束成分が前記
    回折格子に入射して発生した回折光を再び前記回折格子
    に入射させて発生した二回回折光を前記光束分割手段の
    前記第一の側に入射させ、前記光束分割手段は前記第一
    の側に入射した第二の光束成分の二回回折光を反射し且
    つ前記第二の側に入射した第一の光束成分の二回回折光
    を透過する事によって両二回回折光を合波し、前記測定
    側検出手段は前記光束分割手段からの合波された光束の
    干渉を検出し、前記参照側検出手段で得られた参照信号
    と前記測定側検出手段から得られた検出信号との位相差
    から前記回折格子の相対移動が検出される事を特徴とす
    る測定装置。
  3. 【請求項3】 前記第一及び第二の光束成分は互いに偏
    光方向が直交し、前記光束分割手段は偏光ビームスプリ
    ッタを有する事を特徴とする請求項1乃至2に記載の測
    定装置。
  4. 【請求項4】 前記光偏光手段は単一のコーナーキュー
    ブによって前記第一及び第二の光束成分の回折光を前記
    回折格子にそれぞれ再入射させる事を特徴とする請求項
    1乃至3に記載の測定装置。
  5. 【請求項5】 前記光偏光手段は前記第一及び第二の光
    束成分の回折光を、同一光路を互いに逆方向に進行させ
    る事を特徴とする請求項1乃至4に記載の測定装置。
  6. 【請求項6】 回折格子との間の相対移動を検出する測
    定装置において、光束発生手段と、該光束発生手段から
    の光束が前記回折格子に入射して発生した第一の回折光
    を再び前記回折格子に入射させると共に該光束発生手段
    からの光束が前記回折格子に入射して発生した第一の回
    折光とは回折次数の異なる第二の回折光を再び前記回折
    格子に入射させる為の光偏光手段と、前記光偏光手段か
    ら前記回折格子に再入射した第一及び第二の回折光それ
    ぞれより発生する、前回の回折とは次数の絶対値が等し
    く符号が異なる二回回折光同士の干渉を検出する参照側
    検出手段と、前記光偏向手段から前記回折格子に再入射
    した第一及び第二の回折光それぞれより発生する、前記
    参照側検出手段の検出すべき二回回折光とは異なる二回
    回折光同士の干渉を検出する測定側検出手段と、を有
    し、前記参照側検出手段で得られた参照信号と前記測定
    側検出手段から得られた検出信号との位相差から前記回
    折格子の相対移動が検出される事を特徴とする測定装
    置。
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